CN110087784B - 异物除去装置和异物除去方法 - Google Patents
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Abstract
本发明提供一种即使是薄膜状的片状体也能够稳定地除去异物的异物除去装置。异物除去装置包括具有喷出缝(112)的清洁头(10),将从喷出缝(112)以规定的动作流速喷出的流体喷向片状体(W)的表面而从该片状体(W)的表面除去异物,该异物除去装置构成为具有:头部设置机构(20、30a、30b),其在来自喷出缝(112)的流体的流速比所述动作流速小的状态下,将清洁头(10)设置在规定的动作位置处;以及旋转机构(21),其在清洁头(10)被设置在所述动作位置后,在从喷出缝(112)使流体以所述动作流速喷出的状态下,维持清洁头(10)与片状体(W)的表面相对的状态,并同时使清洁头(10)与片状体(W)相对旋转。
Description
技术领域
本发明涉及向一片片的单独的薄膜、片材或板等一片的片状体的表面喷射空气等流体而从该片状体的表面除去异物的异物除去装置和异物除去方法。
背景技术
以往,已知有专利文献1所记载的除尘装置(异物除去装置)。该除尘装置具有图1A所示的结构的清洁头10(除尘头)。在该清洁头10上设有第1空气吸引室12、空气喷出室11和第2空气吸引室13,第1空气吸引室12和第2空气吸引室13以夹着空气喷出室11的方式形成为一列。第1空气吸引室12和第2空气吸引室13分别通过连通孔121、131与未图示的吸气泵连接。通过该吸气泵对于第1空气吸引室12和第2空气吸引室13的吸气作用,第1空气吸引室12和第2空气吸引室13内被减压。另外,空气喷出室11通过连通孔111与未图示的空气泵(正压泵)连接。通过该空气泵向空气喷出室11的空气送入作用,空气喷出室11内被加压。
一并参照图1A和图1B,在清洁头10中,在空气喷出室11部分形成有规定长度的喷出缝112,在第1空气吸引室121和第2空气吸引室13的各自的部分以与喷出缝112平行的方式形成有规定长度的吸引缝122、132。通过上述空气泵对空气喷出室11内的加压而从喷出缝112喷出空气,通过上述吸气泵对第1空气吸引室12和第2空气吸引室13内的减压而使得空气通过吸引缝122、132被导入第1吸气室12和第2吸气室13。形成于第1空气吸引室12和第2空气吸引室13的各自的部分的吸引缝122、132的流路形成为朝向外侧向喷出缝112侧倾斜。由此,从喷出缝112喷出的气流容易被导入两侧的吸引缝122、132。另外,吸引缝122、132的流路也可以不如上所述地倾斜,而是与喷出缝112的流路同样地垂直形成。
在该异物除去装置中,作为异物除去对象的、一片片的单独的玻璃基板W的一片(片状体)被载置在搬送工作台15上,通过搬送工作台15向规定方向D的移动,一片玻璃基板W向该方向D移动。上述那样的结构的清洁头10以如下方式配置在搬送工作台15的上方:在与玻璃基板W之间形成规定的间隙,并且喷出缝112和两个吸引缝122、132与搬送工作台15对置(参照图1A)。另外,清洁头10以如下的方式配置:喷出缝112和两个吸引缝122、132与输送工作台15的移动方向D(玻璃基板W的搬送方向)垂直,并且第1空气吸引室12位于比第2空气吸引室13靠搬送方向D的上游侧的位置处(参照图1B)。
在清洁头10中,通过上述空气泵和上述吸气泵的动作,在从空气喷出室11的喷出缝112喷出空气且通过两个吸气缝122和132向空气吸引室12、13吸入空气的状态下,搬送工作台15向方向D移动。载置在移动的搬送工作台15上的玻璃基板W(片状体)在通过清洁头10的下方时,会由于从喷出缝112喷出的空气将玻璃基板W的表面的异物(尘埃、灰尘等)卷起,该卷起的异物由于通过吸气缝122、132的空气的导入而被吸入到空气吸引室12、13中(参照图1A)。由此,玻璃基板W的表面的异物被除去,其表面被清洁。
在先技术文献
专利文献
专利文献1:日本特开2005-296809号公报
发明内容
发明所要解决的课题
但是,近年来,对于精细化的柔性显示器的薄膜状(片状)的基材、需要异物混入措施的电池的薄膜状(片状)的电极和薄膜状(片状)的绝缘体等的片状膜(片状片)的异物除去,希望使用上述的清洁头10。在该情况下,作为异物除去对象的片状膜(片状片)比较轻薄,因此,例如图2A和图2B所示,在片状膜W的下游侧边缘部分即将通过设置在清洁头10的空气喷出室11上的喷出缝112的下方之前,有可能由于从喷出缝112喷出的空气而使其下游侧边缘部分卷起。另外,表面被喷射喷出空气而移动的片状膜W的上游侧边缘部分例如图3A和图3B所示那样,在刚刚通过清洁头10的喷出缝112的下方之后,就有可能由于从喷出缝112喷出空气而使其上游侧边缘部分卷起。若这样移动的片状膜W的下游侧边缘部分或上游侧边缘部分卷起,则有可能无法进行片状膜的适当的搬送,进而有可能无法进行适当的异物除去。
因此,考虑在搬送工作台15上形成多个吸气孔,使载置在搬送工作台15上的片状膜W预先吸附在搬送工作台15上。但是,在该情况下,如果为了将片状膜W可靠地吸附在搬送工作台15上而增大通过各吸气孔吸引量,则可能出现在片状膜W上产生与吸气孔对应的吸附痕迹、或产生损伤这样的新的问题。
另外,可以考虑通过降低空气喷出室11的内压而降低从喷出缝112喷出的空气的流速、以及增大清洁头10与片状膜W之间的间隙来降低吹向片状膜W的表面的空气的压力。但是,在这些情况下,也会产生异物除去的效果降低这样的新的问题。
本发明就是鉴于这些情况而完成的,其提供一种即使作为异物除去对象的片状体为薄膜状或片状,也不会使异物除去的效果降低,不需要较强的吸附固定的结构就能够在稳定的状态下除去异物的异物除去装置和异物除去方法。
用于解决课题的手段
本发明的异物除去装置包括具有喷出流体的规定长度的喷出缝的清洁头,在使该清洁头与片状体相对移动的同时,将从所述喷出缝以规定的动作流速喷出的流体喷向所述片状体的表面而从该片状体的表面除去异物,该异物除去装置构成为具有:头部设置机构,其在从所述喷出缝喷出的流体的流速比所述动作流速小的状态下,将所述清洁头设置在与所述片状体的表面相对的规定的动作位置处;以及旋转机构,其在所述清洁头被设置在所述动作位置后,在从所述喷出缝以所述动作流速喷出流体的状态下,维持使所述清洁头与所述片状体的表面相对的状态,同时使所述清洁头与所述片状体相对旋转。
根据这样结构,首先,在从喷出缝喷出的流体的流速比规定的动作流速小的状态下,清洁头被设置在与片状体的表面相对的动作位置处。由此,在将清洁头设置于动作位置时,能够使从喷出缝喷出的流体作用于片状体上的力比较小。之后,在从喷出缝以规定的动作流速喷出流体的状态下,维持住清洁头与片状体的表面相对的状态,并且同时清洁头和片状体相对旋转。在该清洁头和片状体相对旋转的状态下,从清洁头的喷出缝以所述动作流速喷出的流体被喷射到片状体的表面。由此,利用该喷射出的流体,片状体能够在受到被按压的力的同时,从其表面上除去异物。
在本发明的异物除去装置中,还可以构成为,在所述头部设置机构将所述清洁头设置在所述动作位置时,从所述喷出缝喷出的流体的流速被设定为零。
根据这样的结构,在来自喷出缝的流体的流速为零、即流体未从喷出缝喷出的状态下,清洁头被设置在与片状体的表面相对的动作位置处。因此,在清洁头被设置在动作位置时,能够消除从喷出缝喷出的流体作用于片状体上的力。
在本发明的异物除去装置中,还可以构成为,所述头部设置机构在所述喷出缝从其一端依次横切所述片状体的边缘线而进入该片状体的方向上使所述清洁头相对于所述片状体移动而设置在所述动作位置处。
通过这样的结构,在清洁头被设置在动作位置时,清洁头在线状的喷出缝从其一端依次横切片状体的边缘线进入该片状体的方向上相对于上述片状体移动,因此能够极力减小从喷出缝喷出的流体对片状体的边缘线部分施加的影响。由此,能够极力减小喷起片状体的边缘线部分的力。
本发明的异物除去装置包括具有喷出流体的规定长度的喷出缝的清洁头,在使该清洁头与片状体相对移动的同时,将从所述喷出缝以规定的动作流速喷出的流体喷向所述片状体的表面而从该片状体的表面除去异物,该异物除去装置具有:头部设置机构,其在从所述喷出缝以所述动作流速喷出流体的状态下,在所述喷出缝从其一端依次横切所述片状体的边缘线而进入该片状体的方向上使所述清洁头相对于所述片状体移动而设置在与该片状体的表面相对的规定的动作位置处;以及旋转机构,其在所述清洁头被设置在所述动作位置后,维持从所述喷出缝以所述动作流速喷出流体的状态,同时使所述清洁头与所述片状体相对旋转。
通过这样的结构,首先,在从喷出缝以规定的动作流速喷出流体的状态下,在清洁头被设置在与片状体的表面相对的规定的动作位置时,清洁头在线状的喷出缝从其一端依次横切片状体的边缘线进入该片状体的方向上相对于上述片状体移动。由此,能够极力减小从喷出缝喷出的流体对片状体的边缘线部分带来的影响,其结果是,能够极力减小喷起片状体的力。然后,在维持从喷出缝以所述动作流速喷出流体的状态的同时,设置在与片状体的表面相对的动作位置上的清洁头和片状体相对旋转。在该清洁头和片状体相对旋转的状态下,从清洁头的喷出缝以所述动作流速喷出的流体被喷射到片状体的表面。由此,利用该喷射出的流体,片状体能够在受到被按压的力的同时,从其表面上除去异物。
在本发明的异物除去装置中,还可以构成为,所述头部设置机构在所述喷出缝从其一端依次沿直角横切所述片状体的边缘线而进入该片状体的方向上使所述清洁头移动。
通过这样的结构,能够进一步减小从线状的喷出缝喷出的流体对片状体的边缘线部分带来的影响。
另外,在上述的各异物除去装置中,在将清洁头设置在与片状体的表面相对的动作位置时,所述头部设置机构可以使清洁头移动,也可以使片状体移动,还可以使清洁头和片状体双方移动。
另外,上述旋转机构也可以在维持使清洁头与片状体相对的状态的同时使清洁头旋转,也可以使片状体旋转,还可以使清洁头和片状体双方旋转。
本发明的异物除去方法在使具有喷出流体的规定长度的喷出缝的清洁头与片状体相对移动的同时,将从所述喷出缝以规定的动作流速喷出的流体喷向所述片状体的表面而从该片状体的表面除去异物,该异物除去方法具有:头部设置步骤,在从所述喷出缝喷出的流体的流速比所述动作流速小的状态下,将所述清洁头设置在与所述片状体的表面相对的规定的动作位置处;以及旋转步骤,在所述清洁头被设置在所述动作位置后,在从所述喷出缝以所述动作流速喷出流体的状态下,维持使所述清洁头与所述片状体的表面面对的状态,同时使所述清洁头与所述片状体相对旋转。
另外,本发明的异物除去方法在使具有喷出流体的规定长度的喷出缝的清洁头与片状体相对移动的同时,将从所述喷出缝以规定的动作流速喷出的流体喷向所述片状体的表面而从该片状体的表面除去异物,该异物除去方法具有:头部设置步骤,在从所述喷出缝以所述动作流速喷出流体的状态下,在所述喷出缝从其一端依次横切所述片状体的边缘线而进入该片状体的方向上使所述清洁头移动,将该清洁头设置在与所述片状体的表面相对的规定的动作位置处;以及旋转步骤,在所述清洁头被设置在所述动作位置后,维持从所述喷出缝以所述动作流速喷出流体的状态,同时使所述清洁头与所述片状体相对旋转。
发明效果
根据本发明的异物除去装置和异物除去方法,即使作为异物除去对象的片状体为薄膜状或片状,也不会使异物除去的效果降低,不需要较强的吸附固定的结构就能够在稳定的状态下除去异物。
附图说明
图1A示出了清洁头的基本结构,并且是表示以往的异物除去装置中的该清洁头与由搬送工作台搬送的片状体的相对位置关系的剖视图。
图1B是示出现有的异物除去装置中的清洁头与由搬送工作台搬送的片状体的相对位置关系的俯视图。
图2A是示出片状体的下游侧边缘部分通过清洁头的喷出缝的下方时的状态例的剖视图。
图2B是示出由于从清洁头的喷出缝喷出的空气而受到影响的片状体的下游侧边缘部分的状态例的俯视图。
图3A是示出片状体的上游侧边缘部分通过清洁头的喷出缝的下方时的状态例的剖视图。
图3B是示出由于从清洁头的喷出缝喷出的空气而受到影响的片状体的上游侧边缘部分的状态例的俯视图。
图4A是示出本发明的第1实施方式的异物除去装置的结构的侧视图。
图4B是示出本发明的第1实施方式的异物除去装置的结构的俯视图。
图5A是示出在图4A和图4B所示的异物除去装置中,由搬送工作台搬送片状膜的状态的侧视图。
图5B是示出在图4A和图4B所示的异物除去装置中,由搬送工作台搬送片状膜的状态的俯视图。
图6A是示出在图4A和图4B所示的异物除去装置中,移动的片状膜与清洁头的相对位置关系(其一)的俯视图。
图6B是示出在图4A和图4B所示的异物除去装置中,移动的片状膜与清洁头的相对位置关系(其二)的俯视图。
图6C是示出在图4A和图4B所示的异物除去装置中,移动的片状膜与清洁头的相对位置关系(其三:清洁头被设置在动作位置的状态)的俯视图。
图7A是示出在图4A和图4B所示的异物除去装置中,清洁头被设置在动作位置处的状态的侧视图。
图7B是示出在图4A和图4B所示的异物除去装置中,清洁头被设置在动作位置处的状态的俯视图。
图8A是放大示出在图4A和图4B所示的异物除去装置中,清洁头被设置在动作位置的状态下的清洁头与片状膜的相对位置关系的俯视图。
图8B是示出在图4A和图4B所示的异物除去装置中,在清洁头被设置在动作位置处的状态下,载置有片状膜的转台旋转的状态的俯视图。
图9A是放大示出在图4A和图4B所示的异物除去装置中,清洁头被设置在动作位置的状态下的喷出缝和2个吸引缝与片状膜的相对位置关系的俯视图。
图9B是示出在图4A和图4B所示的异物除去装置中,设置在动作位置的清洁头与载置在旋转的转台上的片状膜的相对位置关系的俯视图。
图10是示出在图4A和图4B所示的异物除去装置中,除去异物后的片状膜从转台被排出的状态的俯视图。
图11A是示出本发明的第2实施方式的异物除去装置的结构的侧视图。
图11B是示出本发明的第2实施方式的异物除去装置的结构的俯视图。
图12是示出在图11A和图11B所示的异物除去装置中,清洁头被设置在动作位置处的状态的俯视图。
图13A是放大示出在图11A和图11B所示的异物除去装置中,清洁头被设置在动作位置的状态下的清洁头与片状膜的相对位置关系的俯视图。
图13B是示出在图11A和图11B所示的异物除去装置中,在清洁头被设置在动作位置处的状态下,载置有片状膜的转台旋转的状态的俯视图。
图14是示出在图11A和图11B所示的异物除去装置中,除去异物后的片状膜从转台被排出的状态的俯视图。
图15A是示出本发明的第3实施方式的异物除去装置的结构的侧视图。
图15B是示出本发明的第3实施方式的异物除去装置的结构的俯视图。
图16A是示出在图15A和图15B所示的异物除去装置中,清洁头被设置在第1动作位置处的状态的侧视图。
图16B是示出在图15A和图15B所示的异物除去装置中,清洁头被设置在第1动作位置处的状态的俯视图。
图17是示出在图15A和图15B所示的异物除去装置中,在清洁头被设置在第1动作位置处的状态下,载置有片状膜的第1转台旋转的状态的俯视图。
图18是示出在图15A和图15B所示的异物除去装置中,除去异物后的片状膜从第1转台被排出的状态的俯视图。
图19是示出在图15A和图15B所示的异物除去装置中,在清洁头被设置在第2动作位置处的状态下,载置有片状膜的第2转台旋转的状态以及向第2状态投入新的片状膜的状态的俯视图。
图20示出在图15A和图15B所示的异物除去装置中,清洁头被设置在第1动作位置的状态、以及除去异物后的片状膜从第2转台被排出的状态的俯视图。
具体实施方式
以下,使用附图对本发明的实施方式进行说明。
本发明的第1实施方式的异物除去装置如图4A和图4B所示那样构成。另外,图4A是示出异物除去装置的结构的侧视图,图4B是示出异物除去装置的结构的俯视图。该异物除去装置例如以柔性显示器的薄膜状的基材、需要异物混入措施的电池的薄膜状的电极以及薄膜状的绝缘体等的片状膜作为异物除去的对象。
在图4A和图4B中,该异物输送装置具有清洁头10、搬送托架20、旋转机构21和2根导轨30a、30b。在平行配置的2根导轨30a、30b上设置有可往复移动的搬送托架20。搬送托架20由未图示的搬送驱动机构而在两根导轨30a、30b上在投入、排出位置(图4A和图4B所示的位置)与头部设置位置(后述的图7A和图7B所示的位置)之间往复移动。在搬送托架20内设置有旋转机构21。旋转机构21具有:圆盘状的转台211,其表面从搬送托架20的表面露出;以及驱动部212(包括马达等),其使转台211以该轴为中心旋转。在转台211的表面上形成有多个吸气孔,载置在转台211上的作为异物除去对象的片状膜W被吸附固定。
清洁头10具有与上述的图1A所示的结构相同的结构,第1空气吸引室12、空气喷出室11和第2空气吸引室13以由第1空气吸引室12和第2空气吸引室13夹着空气喷出室11的方式形成为一列。相对于空气喷出室11形成有规定长度的喷出缝112,吸引缝122,132相对于第1空气吸引室12和第2空气吸引室13分别与喷出缝112平行地形成。并且,空气泵对空气喷出室11内的加压而从喷出缝112喷出空气,通过吸气泵对第1空气吸引室12和第2空气吸引室13内的减压而使得空气通过吸引缝122、132被导入第1吸气室12和第2吸气室13。
搬送托架20的移动方向上的转台211和清洁头10的位置关系为如下的关系:在搬送托架20位于投入、排出位置时,转台211和清洁头10在其移动方向上以规定间隔配置,在搬送托架20位于头部设置位置(参照图7A和图7B)时,清洁头10位于转台211的正上方的位置。转台211和清洁头10分别位于搬送托架20的宽度方向(与移动方向垂直的方向)的中心。清洁头10使喷出缝112和两个吸气缝122、132朝向搬送托架20飞表面,并且这些喷出缝112和两个吸气缝122、132以与搬送托架20的移动方向平行的方式配置。另外,清洁头10在搬送托架20位于头部设置位置(参照图7A和图7B)时,以与载置在转台211上的片状膜W之间形成规定的间隙(例如1mm~5mm左右)的方式与搬送托架20相对。另外,虽然省略了图示,然而设置有投入、排出机构,其在搬送托架20处于投入、排出位置的状态下,将作为异物除去的对象的片状膜W投入到转台211(参照图4B),并将除去了异物的片状膜W从转台211排出(参照后述的图10)。
另外,搬送托架20的上述搬送驱动机构、旋转机构21的驱动部212和投入、排出机构、以及用于对清洁头10的空气喷出室11进行加压的空气泵和用于对第1空气吸引室12和第2空气吸引室13进行减压的吸气泵的各自的动作均由未图示控制装置控制。
具有上述结构的异物除去装置以如下方式动作。
如图4A和图4B所示,在搬送托架20位于投入、排出位置时,由投入、排出机构(省略图示)以规定的姿态将片状膜W投入到转台211上。片状膜W被载置于转台211的中央部并被吸引固定。此时,从转台211离开的清洁头10已经处于与除去异物时同样地从喷出缝112以规定的动作流速喷出空气的状态。另外,此时,清洁头10也处于通过两个吸引缝122、132吸引空气的状态。另外,通过控制清洁头10的空气喷出室11内的压力(加压状态),控制从喷出缝112喷出的空气的流速,通过控制第1空气吸引室12和第2空气吸引室内13的压力(减压状态),从而控制通过两个吸引缝122、132的空气的吸引力。
在上述的状态下,搬送托架20在两个轨道30a、30b上向头部设置位置(参照图7A和图7B)移动。
如图5A和图5B所示,在片状膜W与搬送托架20一起朝向头部设置位置沿方向D移动时,清洁头10在片状膜W的上方向进入片状膜W内的方向相对移动。在该过程中,以动作流速喷出空气的线状的喷出缝112如在图5B和图6A、图6B及图6C中放大示出的那样,从其一端依次以直角横切片状膜W的边缘线而向进入片状膜W的方向移动。然后,当搬送托架20移动到头部设置位置并停止时,如图7A和图7B所示,清洁头10位于转盘211(片状膜W)的正上方,被设置在动作位置处(头部设置步骤)。另外,在导轨30a、30b上从投入、排出位置移动到头部设置位置的搬送托架20对应于将从喷出缝112以动作流速喷出空气的状态的清洁头10设置在动作位置的头部设置机构。
在该异物除去装置中,如上所述在清洁头10被设置在动作位置(参照图7A和图7B)时,清洁头10在线状的喷出缝112从其一端依次以直角横切片状膜W的边缘线而进入片状膜W的方向上相对于片状膜W移动(参照图6A、图6B、图6C)。此时,线状的喷出缝112相对于片状膜W的边缘线而如图6A、图6B、图6C所示,以在一点Pe交叉的方式移动。因此,即使从喷出缝112以与除去异物的情况相同的动作流速喷出空气,从喷出缝112喷出的空气也仅会喷射到与片状膜W的边缘线部分的上述一点Pe对应的有限的范围内,从喷出缝112喷出的空气对片状膜W的边缘线部分带来的影响较小。其结果是,在清洁头10被设置在动作位置时,由从喷出缝112喷出的空气顶起片状膜W的边缘线部分的力变小,即使载置在转台211上的片状膜W的吸附固定力小,片状膜W也不会从边缘线部分卷起,片状膜W在转台211上维持稳定的姿态。
接着,如与图7A和图7B一起在图8A中放大示出的那样,当清洁头10被设置在转台211的正上方的动作位置时,通过旋转机构21的驱动部212的动作而如图8B所示,转台211向规定的方向A旋转(旋转步骤)。此时,从清洁头10的喷出缝112以动作流速喷出空气,并且维持从两个吸引缝122、132吸引空气的状态。这样,在清洁头10和吸附固定在转台211上的片状膜W相对旋转的过程中,从清洁头10的喷出缝112以所述动作流速喷出的空气被吹向片状膜W的表面。然后,利用该喷出的空气将片状膜W的表面的异物(尘埃、灰尘等)卷起,利用通过了两个吸引缝122、132的空气的吸入而将该卷起的异物吸引到空气吸引室12、13中(参照图1A的状态)。由此,片状膜W的表面的异物被除去,其表面被清洁。
在该异物除去装置中,如图9A所示,设置在动作位置上的清洁头10处于如下的状态:线状的喷出缝112在一点Pe1与吸附固定在转台211上的片状膜W的1个边缘线交叉,并且在一点Pe2和片状膜W的与该边缘线相对的边缘线交叉。而且,通过转台211的旋转,即使在清洁头10和片状膜W相对旋转的状态下,清洁头10也会维持线状的喷出缝112在一点Pe1与片状膜W的1个边缘线交叉,并且在一点Pe2与片状膜W的与该边缘线相对的边缘线交叉的状态。因此,在清洁头10和片状膜W相对旋转的过程中,片状膜W一边受到被从喷出缝112喷出的空气按压的力,一边从其表面被除去异物。而且,由于片状膜W的各边缘线部分仅在与一点Pe1、Pe2对应的有限的范围内喷出空气,因此从喷出缝112喷出的空气对片状膜W的边缘线部分带来的影响极小,片状膜W不会从边缘线部分卷起,片状膜W在转台211上维持稳定的姿态。
在从位于动作位置的清洁头10的喷出缝112以动作流速喷出空气,并且通过两个吸引缝122、132吸引空气的状态下,当转台211旋转规定次数(半旋转以上)而向片状膜W的整个表面喷出空气时,转台211的旋转停止。然后,搬送托架20从头部设置位置(参照图7A和图7B)移动到原来的投入、排出位置。如图10所示,当搬送托架20移动到投入、排除位置并停止时,转盘211上的片状膜W的吸附固定被解除,除去异物后的片状膜W通过投入、排出机构而从转台211排出并被收纳在规定的壳体等中。以后,按照同样的步骤(参照图4A、图4B、图5A、图5B、图7A、图7B、图8A、图8B、图10),逐片地进行从片状膜W表面除去异物的处理。
根据上述那样的本发明的第1实施方式的异物除去装置,即使在从清洁头10的喷出缝112以规定的动作流速喷出空气的状态下,在将清洁头10设置在动作位置(参照图7A和图7B)时、以及在使清洁头10与片状膜W相对旋转(参照图8B)时的任一种情况下,从喷出缝112喷出的空气对片状膜W的边缘线部分的影响都较小。因此,不会降低异物除去的效果,即使将片状膜W相对于转台211的吸附固定的力设定得较大,也能够在使片状膜W在转台211上稳定的状态下从其表面除去异物。
另外,在上述的异物除去装置中,在将清洁头112设置在动作位置时,从喷出缝112喷出的空气的流速被维持为在异物除去中使用的动作流速,因此不需要切换喷出缝112的流速,能够高效地进行从片状膜W表面除去异物的处理。
另外,在将清洁头112设置在动作位置时,能够使从喷出缝112喷出的空气的流速比在异物除去中使用的动作流速小,或者能够使空气不从喷出缝112喷出(将流速设定为零)。在该情况下,能够进一步减小转台211对片状膜W吸附固定的力,更适合于对薄且软的片状膜W除去异物。
本发明的第2实施方式的异物除去装置如图11A和图11B所示那样构成。另外,图11A是示出异物除去装置的结构的侧视图,图11B是示出异物除去装置的结构的俯视图。
如图11A和图11B所示,该异物除去装置与上述第1实施方式的异物除去装置(参照图4A及图4B)的不同之处在于,以喷出缝112和两个吸引缝122、132在与搬送托架20的移动方向垂直的方向上延伸的方式配置清洁头10。关于在2个导轨30a、30b上在投入、排出位置与头部设置位置之间往复移动的搬送托架20和设置在搬送托架20上的旋转机构21(转台211、驱动部212)与上述第1实施方式的异物除去装置相同。
在该异物除去装置中,向位于投入、排出位置的搬送托架20的转台211投入异物除去的片状膜W,当片状膜W被吸附固定在转台211上时(参照图11A、图11B),搬送托架20从投入、排出位置向头部设置位置移动。此时,清洁头10没有从喷出缝112喷出空气(喷出空气的流速为零),也没有进行通过吸引缝122、132的吸引。这样,在清洁头10不动作的状态下,当移动的搬送托架20到达头部设置位置时,如图12所示,清洁头10被设置在转盘211的正上方的动作位置处(头部设置步骤)。
在该异物除去装置中,清洁头10在被设置于动作位置时,由于没有从喷出缝112喷出空气,因此吸附固定在转台211上的片状膜W不会受到喷出空气的影响。因此,即使对片状膜W的吸附固定的力较小,也不会产生边缘部分的卷起,能够在转台211上维持稳定的姿态。
接着,如与图12一起在图13A中放大示出的那样,当清洁头10被设置在转台211的正上方的动作位置时,通过旋转机构21的驱动部212的动作而如图13B所示,转台211向规定的方向A旋转(旋转步骤)。此时,从清洁头10的喷出缝112以规定的动作流速喷出空气,并且通过两个吸引缝122、132吸引空气。由此,与上述第1实施方式的异物除去装置(参照图8A、图8B、图9A、图9B)同样地,从清洁头10的喷出缝112以上述动作流速喷出的空气被吹向与转台211一起旋转的片状膜W的表面。然后,利用该喷出的空气将片状膜W的表面的异物(尘埃、灰尘等)卷起,利用通过了两个吸引缝122、132的空气的吸入而将该卷起的异物吸引到空气吸引室12、13中(参照图1A的状态)。由此,片状膜W的表面的异物被除去,其表面被清洁。
这样,在从清洁头10的喷出缝112以动作流速喷出的气体喷向旋转的片状膜W的过程中,与上述第1实施方式的异物除去装置同样地,由于片状膜W的各边缘线部分仅在与1点对应的有限的范围内喷出空气,因此从喷出缝112喷出的空气对片状膜W的边缘线部分带来的影响极小,片状膜W不会从边缘线部分卷起,片状膜W在转台211上维持稳定的姿态。
当转台211旋转规定次数而片状膜W的表面的异物除去的处理结束时,位于头部设置位置的搬送托架20返回到投入、排出位置。并且,转盘211上的片状膜W的吸附固定被解除,如图14所示,除去异物后的片状膜W通过投入、排出机构而从转台211排出并被收纳在规定的壳体等中。以后,按照同样的步骤(参照图11A、图11B、图12、图13A、图13B、图14),逐片地进行从片状膜W的表面除去异物的处理。
根据上述的本发明的第2实施方式的异物除去装置,由于不从清洁头10的喷出缝112喷出空气而是将清洁头10设置在动作位置处,因此在吸附固定于转台10上的片状膜W的边缘线部分通过清洁头10的喷出缝112的下方时,该边缘线部分不会受到喷出空气的影响。另外,在使清洁头10与片状膜W相对旋转(参照图13B)时,也与上述第1实施方式的异物除去装置的情况相同,从喷出缝112喷出的空气对片状膜W的边缘线部分的影响较小。因此,不会降低异物除去的效果,即使将片状膜W相对于转台211的吸附固定的力设定得较大,也能够在使片状膜W在转台211上稳定的状态下从其表面除去异物。
另外,在第2实施方式的异物除去装置中,在将清洁头10设置在动作位置(参照图12、图13A)时,没有从喷出缝112喷出空气(流速为零),但并不限定于此。也可以从喷出缝112以比动作流速小的规定的流速喷出空气。即使在这种情况下,在将清洁头10设置在动作位置时,也能够使从喷出缝112喷出的空气作用于片状膜W上的力比较小,因此通过在片状膜W上不产生吸附痕迹的范围内适当地调整转台211上的吸附固定的强度,能够稳定地维持片状膜W的姿态。
本发明的第3实施方式的异物除去装置如图15A和图15B所示那样构成。另外,图15A是示出异物除去装置的结构的侧视图,图15B是示出异物除去装置的结构的俯视图。
如图15A和图15B所示,该异物除去装置与上述的第1实施方式的异物除去装置(参见图4A和图4B)和第2实施方式的异物除去装置(参见图11A和图11B)的不同之处在于,在搬送托架20上设置有第1旋转机构21和第2旋转机构22这两个旋转机构。搬送托架20在两个导轨30a、30b上往复移动的结构与第1实施方式和第2实施方式中的各自的异物除去装置相同。
在该异物除去装置中,第1旋转机构21的第1转台211和第2旋转机构22的第2转台221在搬送托架20上沿着其移动方向以规定间隔配置。第1转台211通过第1驱动部212而旋转,第2转台221通过第2驱动部222而旋转。这些第1驱动部212和第2驱动部222由上述的控制装置控制。第1转台211的表面和第2转台221的表面从搬送托架20的表面露出。
搬送托架20在两个导轨30a、30b上在第1位置(图15A和图15B所示位置)与第2位置(后述的图16A和图16所示的位置)之间往复移动。清洁头10被配置为在搬送托架20位于第1位置时(参照图15A和图15B)位于第2转台221的正上方的位置,当搬送托架20位于第2位置时(图16A和图16B)位于第1转台211的正上方的位置。另外,清洁头10与第1实施方式的异物除去装置(参照图4A和图4B)同样,分别配置成线状的喷出缝112和两个吸引缝122、132与搬送托架20的搬送方向平行地延伸。另外,在设置于搬送托架20的上方的清洁头10与吸附固定于各转台211、221上的片状膜W之间形成规定的间隙(例如,1mm~5mm左右)。
从清洁头10的喷出缝112以在异物除去中使用的动作流速喷出空气,并且维持通过两个吸引缝122、132吸引空气的状态,同时上述异物除去装置如下进行动作。
如图15A和图15B所示,当搬送托架20位于第1位置时,由投入、排出机构将作为异物除去对象的片状膜W1投入到第1转台211上,片状膜W1被载置于第1转台211上并被吸附固定。这样,在片状膜W1被吸附固定在第1转台211上状态下,搬送托架20移动,如图16A和图16B所示,在到达第2位置时停止。当搬送托架20位于第2位置时,清洁头10位于第1转台211的正上方,并被设置在第1动作位置。此时,由其他的投入排出机构将作为异物除去对象的其他的片状膜W2投入到第2转台221上,各个片状膜W2被载置并吸附固定在第2转台221上。
在该状态下,如图17所示,第1转台211旋转。通过该第1转台211的旋转,设置在第1动作位置上的清洁头10和吸附固定在第1转台211上的片状膜W1相对旋转,在该过程中,从清洁头10喷出缝112以动作流速喷出的空气被吹向片状膜W1的表面,片状膜W1的表面的异物被除去。
当第1转台211旋转规定次数而对片状膜W1的异物除去的处理结束时,搬送托架20返回到第1位置。当搬送托架20位于第1位置时,如图18所示,由投入、排出机构从第1转台211排出已除去异物的片状膜W1,并将其收纳在规定的壳体等中。另一方面,当搬送托架20返到第1位置时,清洁头10位于第2转台221的正上方,并被设置在第2动作位置。
当清洁头10被设置在第2动作位置时,如图19所示,第2转台221旋转。通过该第2转台221的旋转,设置在第2动作位置上的清洁头10和吸附固定在第2转台221上的片状膜W2相对旋转,在该过程中,从清洁头10喷出缝112以动作流速喷出的空气被吹向片状膜W2的表面,片状膜W2的表面的异物被除去。
如上所述,在从第1转台211排出已除去异物的片状膜W1(参照图18)后,在通过设置在第2动作位置上的清洁头10而结束了在旋转的第2转台221上吸附固定的片状膜W2的异物除去的处理之前的期间内的适当定时,如图19所示,向第1转台211投入新的片状膜W3,该新的片状膜W3被吸附固定在第1转台211上。
之后,搬送托架20从图19所示的第1位置移动到图20所示的第2位置。这样,当搬送托架20位于第2位置时,如图20所示,由投入、排出机构从第2转台221排出已除去异物的片状膜W2,并将其收纳在规定的壳体等中。并且,清洁头10位于第1转台211的正上方,并被设置在第1动作位置。然后,与上述同样地,吸附固定在由清洁头10旋转的第1转台211上的片状膜W3的表面的异物被除去。
以后,按照同样的步骤(参照图16A、图16B、图17、图18、图19、图20),在搬送托架20在第1位置和第2位置往复移动的过程中,利用单一的清洁头10对交替投入到第1转台211和第2转台221的片状膜W进行异物除去,从第1转台211和第2转台221交替地排出该异物除去后的片状膜W。
根据本发明第3实施方式的异物除去装置,利用单一的清洁头10对交替投入到第1转台211和第2转台221上的片状膜W进行异物除去的处理,并且从第1转台211和第2转台221交替地排出已除去异物的片状膜W,因此能够更有效地进行对片状膜W的异物除去的处理。
而且,与本发明的第1实施方式的异物除去装置同样地,即使在从清洁头10的喷出缝112以规定的动作流速喷出空气的状态下,在将清洁头10设置在第1动作位置(参照图16A和图16B)和第2动作位置(参照图18)时、以及在使清洁头10与片状膜W相对旋转(参照图17和图19)时的任一种情况下,从喷出缝112喷出的空气对片状膜W的边缘线部分的影响都较小。因此,不会降低异物除去的效果,即使将片状膜W相对于各转台211、221的吸附固定的力设定得较大,也能够在使片状膜W在各转台211、221上稳定的状态下从其表面除去异物。
另外,该第3实施方式中的设置两个旋转机构的结构应用于第1实施方式的异物除去装置,也可以应用于第2实施方式的异物除去装置。
在上述各实施方式的异物除去装置中,可以固定片状膜W而使清洁头10往复运动,或者也可以使片状膜W和清洁头10双方往复移动。另外,同样地,也可以固定片状膜W而使清洁头10旋转,或者也可以使片状膜W和清洁头10双方旋转。
异物对象的片状体并不限定于薄膜状的结构(片状膜),也可以是比薄膜状的结构厚的片状的结构(片状片),还可以是比片状的结构更厚的板状的结构(片状板)。
只要在清洁头10上至少形成有喷出缝112即可,可以形成有多个喷出缝,也可以除了喷出缝之外还仅形成一条吸引缝,还可以不形成吸引缝。另外,在清洁头10中形成有一个或多个喷出缝和一个或多个吸引缝的情况下,对于它们的配置也没有特别限定。例如,在上述的清洁头10中,也可以通过由两个喷出缝夹持一个吸引缝的方式形成各缝。
从喷出缝112喷出的流体不限于空气,也可以是其他气体,在作为清洗玻璃基板等的片状基板的异物除去装置的清洗装置等中,也可以是水或清洗液等液体。
以上,对本发明的若干实施方式和各部分的变形例进行了说明,但这些实施方式和各部分的变形例是作为一例而提示的,并非用于限定发明范围。上述的这些新的实施方式能够以其他各种方式实施,在不脱离实用新型的精神的范围内,能够进行各种省略、置换、变更。这些实施方式及其变形包含在发明的范围和主旨中,并且包含在权利要求书所记载的发明中。
产业上的可利用性
以上,本发明的异物除去装置和异物除去方法作为如下的异物除去装置和异物除去方法是有用的:即使作为异物除去的对象的片状体为薄膜状或片状,也不会使异物除去的效果降低,具有不需要较强的吸附固定的结构就能够在稳定的状态下除去异物的效果,通过向一片片的单独的薄膜、片材或板等一片的片状体的表面喷射空气等流体而从该片状体的表面除去异物。
标号说明
10:清洁头;11:空气喷出室;12:第1空气吸引室;13:第2空气吸引室;111、121、131:贯通孔;112:喷出缝;122、132:吸引缝;20:搬送托架;21:旋转机构;211:转台;212:驱动部;30a、30b:导轨。
Claims (10)
1.一种异物除去装置,其包括具有喷出气体的规定长度的喷出缝和规定长度的吸引缝的清洁头,在使该清洁头与薄膜状或者片状的片状体相对移动的同时,在通过所述吸引缝吸引气体的状态下将从所述喷出缝以规定的动作流速喷出的气体喷向所述片状体的表面而从该片状体的表面除去异物,
该异物除去装置具有:
头部设置机构,其在从所述喷出缝喷出的气体的流速比所述动作流速小的状态下,将所述清洁头设置在与所述片状体的表面相对的规定的动作位置处;以及
旋转机构,其在所述清洁头被设置在所述动作位置后,在从所述喷出缝以所述动作流速喷出气体并且通过所述吸引缝吸引气体的状态下,维持使所述清洁头与所述片状体的表面相对的状态,同时使所述清洁头与所述片状体相对旋转。
2.根据权利要求1所述的异物除去装置,其中,
在所述头部设置机构将所述清洁头设置在所述动作位置时,从所述喷出缝喷出的气体的流速被设定为零。
3.根据权利要求1所述的异物除去装置,其中,
所述头部设置机构在所述喷出缝从其一端依次横切所述片状体的边缘线而进入该片状体的方向上使所述清洁头相对于所述片状体移动而设置在所述动作位置处。
4.一种异物除去装置,其包括具有喷出气体的规定长度的喷出缝和规定长度的吸引缝的清洁头,在使该清洁头与薄膜状或者片状的片状体相对移动的同时,在通过所述吸引缝吸引气体的状态下将从所述喷出缝以规定的动作流速喷出的气体喷向所述片状体的表面而从该片状体的表面除去异物,
该异物除去装置具有:
头部设置机构,其在从所述喷出缝以所述动作流速喷出气体的状态下,在所述喷出缝从其一端依次横切所述片状体的边缘线而进入该片状体的方向上使所述清洁头相对于所述片状体移动而设置在与该片状体的表面相对的规定的动作位置处;以及
旋转机构,其在所述清洁头被设置在所述动作位置后,维持从所述喷出缝以所述动作流速喷出气体并且通过所述吸引缝吸引气体的状态,同时使所述清洁头与所述片状体相对旋转。
5.根据权利要求4所述的异物除去装置,其中,
所述头部设置机构在所述喷出缝从其一端依次沿直角横切所述片状体的边缘线而进入该片状体的方向上使所述清洁头移动。
6.根据权利要求1至5中的任意一项所述的异物除去装置,其中,
所述旋转机构具有使所述片状体相对于静止的所述清洁头旋转的片状体旋转机构。
7.一种异物除去方法,在使具有喷出气体的规定长度的喷出缝和规定长度的吸引缝的清洁头与薄膜状或者片状的片状体相对移动的同时,在通过所述吸引缝吸引气体的状态下将从所述喷出缝以规定的动作流速喷出的气体喷向所述片状体的表面而从该片状体的表面除去异物,
该异物除去方法具有:
头部设置步骤,在从所述喷出缝喷出的气体的流速比所述动作流速小的状态下,将所述清洁头设置在与所述片状体的表面相对的规定的动作位置处;以及
旋转步骤,在所述清洁头被设置在所述动作位置后,在从所述喷出缝以所述动作流速喷出气体并且通过所述吸引缝吸引气体的状态下,维持使所述清洁头与所述片状体的表面面对的状态,同时使所述清洁头与所述片状体相对旋转。
8.根据权利要求7所述的异物除去方法,其中,
在所述头部设置步骤中所述清洁头被设置在所述动作位置时,从所述喷出缝喷出的气体的流速被设定为零。
9.一种异物除去方法,在使具有喷出气体的规定长度的喷出缝和规定长度的吸引缝的清洁头与薄膜状或者片状的片状体相对移动的同时,在通过所述吸引缝吸引气体的状态下将从所述喷出缝以规定的动作流速喷出的气体喷向所述片状体的表面而从该片状体的表面除去异物,
该异物除去方法具有:
头部设置步骤,在从所述喷出缝以所述动作流速喷出气体的状态下,在所述喷出缝从其一端依次横切所述片状体的边缘线而进入该片状体的方向上使所述清洁头移动,将该清洁头设置在与所述片状体的表面相对的规定的动作位置处;以及
旋转步骤,在所述清洁头被设置在所述动作位置后,维持从所述喷出缝以所述动作流速喷出气体并且通过所述吸引缝吸引气体的状态,同时使所述清洁头与所述片状体相对旋转。
10.根据权利要求9所述的异物除去方法,其中,
在所述头部设置步骤中,在所述喷出缝从其一端依次沿直角横切所述片状体的边缘线而进入该片状体的方向上使所述清洁头移动。
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2016-255096 | 2016-12-28 | ||
JP2016255096A JP6975953B2 (ja) | 2016-12-28 | 2016-12-28 | 異物除去装置及び異物除去方法 |
PCT/JP2017/045465 WO2018123715A1 (ja) | 2016-12-28 | 2017-12-19 | 異物除去装置及び異物除去方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
CN110087784A CN110087784A (zh) | 2019-08-02 |
CN110087784B true CN110087784B (zh) | 2022-03-18 |
Family
ID=62708125
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
CN201780078289.0A Active CN110087784B (zh) | 2016-12-28 | 2017-12-19 | 异物除去装置和异物除去方法 |
Country Status (5)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP6975953B2 (zh) |
KR (1) | KR102157973B1 (zh) |
CN (1) | CN110087784B (zh) |
TW (1) | TWI668056B (zh) |
WO (1) | WO2018123715A1 (zh) |
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US11318509B2 (en) * | 2017-11-06 | 2022-05-03 | Air Systems Design, Inc. | Dust hood |
CN110963564B (zh) * | 2019-12-19 | 2020-08-18 | 浙江海盐力源环保科技股份有限公司 | 一种工业废水中去除重金属离子的处理设备 |
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KR102157973B1 (ko) | 2020-09-18 |
CN110087784A (zh) | 2019-08-02 |
KR20190089182A (ko) | 2019-07-30 |
JP6975953B2 (ja) | 2021-12-01 |
WO2018123715A1 (ja) | 2018-07-05 |
TWI668056B (zh) | 2019-08-11 |
TW201829079A (zh) | 2018-08-16 |
JP2018103153A (ja) | 2018-07-05 |
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PB01 | Publication | ||
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SE01 | Entry into force of request for substantive examination | ||
SE01 | Entry into force of request for substantive examination | ||
GR01 | Patent grant | ||
GR01 | Patent grant |