JP6504890B2 - 異物除去装置、異物除去方法および剥離装置 - Google Patents
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Description
<異物除去装置の全体構成>
まず、第1の実施形態に係る異物除去装置の全体構成について図1および図2を参照して説明する。図1は、第1の実施形態に係る異物除去装置の構成を示す模式側面図である。また、図2は、第1の実施形態に係る異物除去装置の構成を示す模式平面図である。なお、以下においては、位置関係を明確にするために、互いに直交するX軸方向、Y軸方向およびZ軸方向を規定し、Z軸正方向を鉛直上向き方向とする。
次に、異物除去装置70が備える検出部71の構成について図3および図4を参照して説明する。図3は、検出部71の構成を示す模式側面図である。また、図4は、図3に示すH部の模式拡大図である。
次に、除去部72の構成について図5を参照して説明する。図5は、除去部72の構成を示す模式断面図である。図5に示すように、除去部72は、吸着パッド81aに対して流体を噴出する噴出部721と、噴出部721から噴出された流体を吸引する吸引部722とを備える。
次に、異物除去装置70の具体的動作について図7を参照して説明する。図7は、異物除去装置70が実行する異物除去処理の処理手順を示すフローチャートである。なお、図7に示す各処理手順は、制御部61が異物除去装置70および吸着保持部80を制御することにより実行される。
次に、第2の実施形態に係る異物検出方法について図8を参照して説明する。図8は、第2の実施形態に係る異物検出方法の説明図である。
次に、第3の実施形態に係る異物検出方法について図11および図12を参照して説明する。図11は、初期画像取得処理の処理手順を示すフローチャートである。図12は、変形例に係る異物検出処理の処理手順を示すフローチャートである。
次に、第4の実施形態に係る除去部の構成について図13を参照して説明する。図13は、第4の実施形態に係る除去部の構成を示す模式断面図である。
次に、第5の実施形態に係る異物除去装置70Bについて図14および図15を参照して説明する。図14は、第5の実施形態に係る異物除去装置の構成を示す模式側面図である。図15は、プレ吸引部の構成を示す模式断面図である。
次に、上述した異物除去装置を備える剥離装置の構成について図16および図17を参照して説明する。図16は、第6の実施形態に係る剥離装置の構成を示す模式平面図である。また、図17は、ダイシングフレームに保持された重合基板の模式側面図である。なお、ここでは、一例として、剥離装置が第1の実施形態に係る異物除去装置70を備える場合の例を示す。
次に、異物除去装置を備える剥離装置の他の構成例について図18および図19を参照して説明する。図18および図19は、第7の実施形態に係る剥離装置の構成を示す模式側面図である。
上述した各実施形態では、移動機構75を用いて検出部71および除去部72を移動させる場合の例について説明した。しかし、これに限ったものではなく、検出部71および除去部72を吸着パッド81a,111aの径以上の長さとすれば、検出部71および除去部72を移動させなくても、回転機構83あるいは回転昇降機構140を用いて吸着パッド81a,111aを回転させることで、吸着パッド81a,111aの全面に対して異物Pの検出および除去を行うことができる。
V 空隙
FL フィルム
70 異物除去装置
71 検出部
72 除去部
73 プレ吸引部
74 支持部材
75 移動機構
76 支柱部材
77 回転昇降機構
80 吸着保持部
81 本体部
81a 吸着パッド
82 支柱部材
83 回転機構
711 投光部
712 受光部
721 噴出部
722 吸引部
Claims (6)
- 基板を吸着保持する吸着保持部の回転可能な保持面に付着した異物を検出する検出部と、
前記保持面に対して気体および液体の何れか一方を選択的に噴出する噴出部を備え、前記保持面に付着した異物を前記噴出部を用いて除去する除去部と、
前記検出部および前記除去部を往復移動させる移動機構と、
前記除去部および前記移動機構を制御する制御部と
を備え、
前記制御部は、
前記噴出部から気体を噴出させながら初回の前記往復移動を行わせるとともに、当該往復移動における前記検出部の検出結果に基づいて前記異物の除去残渣が有ると判定した場合に、前記噴出部から液体を噴出させながら2回目の前記往復移動を行わせることを特徴とする異物除去装置。 - 前記検出部は、前記往復移動の往路における進行方向の前方に配置され、
前記除去部は、前記進行方向の後方に配置され、
前記制御部は、
前記往復移動の往路において、前記保持面から前記除去部までの距離を超える高さの異物が前記検出部によって検出された場合に、前記移動機構による前記検出部および前記除去部の移動を停止すること
を特徴とする請求項1に記載の異物除去装置。 - 前記移動機構は、
前記検出部および前記除去部を前記吸着保持部の外周部および中央部間で往復移動させるものであって、前記吸着保持部の中央部における前記検出部および前記除去部の移動速度を前記吸着保持部の外周部における移動速度よりも速くすること
を特徴とする請求項1または2に記載の異物除去装置。 - 基板を吸着保持する吸着保持部の回転可能な保持面に付着した異物を検出する検出部と、
前記保持面に付着した異物を流体を用いて除去する除去部と、
前記検出部および前記除去部を前記吸着保持部の外周部および中央部間で往復移動させるものであって、前記往復移動の往路における進行方向の前方に前記検出部が配置され、前記進行方向の後方に前記除去部が配置される移動機構と、
前記往復移動の復路における前記検出部の検出結果を除去後異物情報として取得し、取得した前記除去後異物情報に基づいて、前記異物の除去残渣の有無を判定する制御部と
を備え、
前記制御部は、
前記往復移動の往路における前記検出部の検出結果を初期異物情報として取得し、取得した前記初期異物情報に基づき、前記往復移動の復路における前記移動機構による前記検出部および前記除去部の移動速度を変更すること
を特徴とする異物除去装置。 - 基板を吸着保持する吸着保持部の回転可能な保持面に付着した異物を検出する検出部と、
前記保持面に対して気体および液体の何れか一方を選択的に噴出する噴出部を備え、前記保持面に付着した異物を前記噴出部を用いて除去する除去部とを往復移動させる移動工程と、
前記噴出部から気体を噴出させながら初回の前記往復移動を行わせるとともに、当該往復移動における前記検出部の検出結果に基づいて前記異物の除去残渣が有ると判定した場合に、前記噴出部から液体を噴出させながら2回目の前記往復移動を行わせる除去工程と
を含むことを特徴とする異物除去方法。 - 被処理基板と支持基板とが接合された重合基板を前記被処理基板と前記支持基板とに剥離する剥離装置であって、
前記重合基板のうち前記被処理基板を吸着保持する第1保持部と、
前記重合基板のうち前記支持基板を吸着保持する第2保持部と、
前記第1保持部の保持面に付着した異物を除去する異物除去装置と
を備え、
前記異物除去装置は、
前記第1保持部の回転可能な保持面に付着した異物を検出する検出部と、
前記保持面に対して気体および液体の何れか一方を選択的に噴出する噴出部を備え、前記保持面に付着した異物を前記噴出部を用いて除去する除去部と、
前記検出部および前記除去部を往復移動させる移動機構と、
前記除去部および前記移動機構を制御する制御部と
を備え、
前記制御部は、
前記噴出部から気体を噴出させながら初回の前記往復移動を行わせるとともに、当該往復移動における前記検出部の検出結果に基づいて前記異物の除去残渣が有ると判定した場合に、前記噴出部から液体を噴出させながら2回目の前記往復移動を行わせることを特徴とする剥離装置。
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