KR101965000B1

KR101965000B1 - 현상 처리 장치

Info

Publication number: KR101965000B1
Application number: KR1020130054241A
Authority: KR
Inventors: 미노루 스기야마; 미츠루 아사노; 후미야 오카자키
Original assignee: 가부시키가이샤 스크린 세미컨덕터 솔루션즈
Priority date: 2012-05-22
Filing date: 2013-05-14
Publication date: 2019-08-07
Also published as: US9927760B2; TW201351070A; US10960426B2; KR20130130631A; TWI544291B; US20130315627A1; US20180164736A1

Abstract

스핀 쳐크에 의해 대략 수평으로 유지되는 기판에 대하여, 슬릿 노즐이 노즐 승강 기구 및 노즐 슬라이드 기구에 의해 상대적으로 이동된다. 슬릿 노즐의 토출구로부터 기판 상에 현상액이 토출됨으로써 기판의 현상 처리가 행해진다. 현상액의 토출 후에, 슬릿 노즐이 스핀 쳐크에 의해 유지되는 기판의 상방을 제외한 대기 위치로 이동된다. 대기 위치에 설치된 대기 포드에 있어서, 기포가 혼입된 세정액에 의해 슬릿 노즐의 세정 처리가 행해진다.

Description

현상 처리 장치{DEVELOPMENT PROCESSING DEVICE}

본 발명은 기판에 현상 처리를 행하는 현상 처리 장치에 관한 것이다.

종래의 현상 처리 장치는, 예를 들면 슬릿형상의 토출구를 가지는 현상액 노즐을 구비한다. 현상액 노즐이, 현상액을 토출하면서 정지 상태로 유지된 기판의 상방을 일방향으로 이동한다. 그에 따라, 기판 상에 현상액의 액층이 형성되어, 현상 반응이 진행된다. 현상액 노즐은, 현상액을 토출하지 않는 기간에는, 대기 포드에서 대기한다(예를 들면, 일본국 특허공개 2010－87323호 공보 참조).

기판 상에 현상액이 토출된 후에, 현상액 노즐에 현상액이 부착된 채이면, 그 현상액이 기판 상에 낙하하여, 현상 결함이 발생할 가능성이 있다. 또한, 레지스트 잔사 등의 이물이 현상액 노즐에 부착되는 경우가 있다. 이 경우도, 그 이물이 기판 상에 낙하하거나, 또는 기판 상에 현상액을 적정하게 토출할 수 없는 등의 이유에 의해, 현상 결함이 발생할 가능성이 있다. 따라서, 현상액의 토출 후에 현상액 노즐을 청정하게 할 필요가 있다.

본 발명의 하나의 목적은, 현상액 노즐을 청정하게 하는 것이 가능한 현상 처리 장치를 제공하는 것이다.

또한, 현상액 노즐로부터 현상액이 토출된 후에, 대기 포드에서 세정액에 의해 현상액 노즐을 세정하는 것을 생각할 수 있다. 그러나, 현상액 노즐의 세정 후에 있어서, 현상액 노즐이 기판의 상방으로 이동했을 때에, 현상액 노즐로부터 기판에 세정액이 낙하할 가능성이 있다. 그 경우도, 기판의 현상 결함이 발생할 가능성이 있다.

본 발명의 다른 목적은, 기판의 현상 결함의 발생이 방지된 현상 처리 장치를 제공하는 것이다.

(1) 본 발명의 일국면에 따르는 현상 처리 장치는, 기판을 대략 수평으로 유지하는 기판 유지부와, 현상액을 토출하기 위한 현상액 토출구를 가지는 현상액 노즐과, 기판 유지부에 의해 유지되는 기판의 상방을 제외한 대기 위치에 설치되고, 현상액 노즐의 세정 처리를 행하는 세정 처리부와, 기판 유지부에 의해 유지되는 기판에 대하여 현상액 노즐을 상대적으로 이동시킴과 더불어, 기판 유지부에 의해 유지되는 기판에 현상액 노즐에 의해 현상액이 토출된 후에 현상액 노즐을 대기 위치로 이동시키는 이동 장치를 구비하고, 세정 처리부는, 기포가 혼입된 세정액에 의해 현상액 노즐의 세정 처리를 행하도록 구성되는 것이다.

그 현상 처리 장치에 있어서는, 현상액 노즐이 기판 유지부에 의해 대략 수평으로 유지되는 기판에 대하여 상대적으로 이동 장치에 의해 이동된다. 현상액 노즐의 현상액 토출구로부터 기판 상에 현상액이 토출됨으로써, 기판의 현상 처리가 행해진다. 현상액의 토출 후에, 현상액 노즐이 기판 유지부에 의해 유지되는 기판의 상방을 제외한 대기 위치에 이동 장치에 의해 이동된다. 대기 위치에 설치된 세정 처리부에 있어서, 기포가 혼입된 세정액에 의해 현상액 노즐의 세정 처리가 행해진다.

이 경우, 세정액 중의 기포가 현상액 노즐에 충돌한다. 그 충돌력에 의해, 현상액 노즐에 부착되는 오염물이 제거된다. 또한, 기포의 이동 및 충돌 등에 의해서 생기는 압력파에 의해 현상액 노즐에 부착되는 오염물이 분쇄된다. 또한, 기포가 오염물에 부착하여, 현상액 노즐로부터 오염물을 벗겨낸다.

또한, 복수의 기포가 충돌, 파열 및 합체를 반복함으로써 여러 방향으로 분산적으로 이동한다. 그에 따라, 현상액 노즐의 전체에 대하여 균일하게 세정을 행할 수 있다.

이에 따라, 현상액 노즐을 청정하게 할 수 있다. 그 결과, 현상액 노즐의 오염에 기인하는 기판의 현상 결함의 발생을 방지할 수 있다.

(2) 세정 처리부는, 세정액 중에 기포를 혼입시키는 기포 혼입부와, 기포 혼입부에 의해 기포가 혼입된 세정액을 토출하기 위한 세정액 토출구를 가지는 세정액 공급부를 포함해도 된다.

이 경우, 기포가 혼입된 세정액이 세정액 토출구로부터 현상액 노즐에 토출된다. 이에 따라, 현상액 노즐에 기포를 효율적으로 충돌시킬 수 있다. 따라서, 현상액 노즐을 효율적으로 청정하게 할 수 있다.

(3) 세정액 공급부는, 현상액 노즐의 적어도 현상액 토출구를 포함하는 일부를 수용 가능한 수용부를 가지고, 수용부에 세정액 토출구가 형성되어도 된다.

이 경우, 현상액 노즐의 적어도 현상액 토출구를 포함하는 일부가 수용부에 수용된 상태에서, 수용부에 형성된 세정액 토출구로부터 기포가 혼입된 세정액이 토출된다. 이에 따라, 현상액 노즐의 현상액 토출구 및 그 근방을 청정하게 할 수 있다.

(4) 현상액 노즐은, 일방향을 따라서 연장되는 하면을 가지고, 현상액 토출구는, 일방향을 따라서 연장되도록 하면에 형성되고, 수용부는, 일방향을 따라서 연장되고, 현상액 노즐의 적어도 하면을 수용 가능한 홈부를 포함하고, 홈부는, 일방향을 따라서 연장되는 내면을 가지고, 세정액 토출구는, 홈부의 내면에 설치되어도 된다.

이 경우, 현상액 노즐의 현상액 토출구가 형성된 하면이 홈부 내에 수용된 상태에서, 홈부의 내면에 형성된 세정액 토출구로부터 기포가 혼입된 세정액이 토출된다. 이에 따라, 현상액 노즐의 하면을 청정하게 할 수 있다.

(5) 세정액 토출구는, 일방향을 따라서 늘어서도록 형성된 복수의 개구를 포함해도 된다.

이 경우, 기포가 혼입된 세정액을 현상액 노즐의 하면 전체에 효율적으로 공급할 수 있다. 그에 따라, 현상액 노즐의 하면 전체를 효율적으로 청정하게 할 수 있다.

(6) 홈부의 적어도 일단에, 세정액 토출구로부터 토출된 세정액이 유출 가능한 유출부가 설치되어도 된다.

이 경우, 홈부 내에 있어서, 기포가 혼입된 세정액이 일방향을 따라서 유동한다. 그에 따라, 기포가 혼입된 세정액을 현상액 노즐의 하면 전체에 접촉시킬 수 있다. 따라서, 현상액 노즐의 하면 전체를 효율적으로 청정하게 할 수 있다.

(7) 홈부의 내면에, 세정액 토출구로부터 토출된 세정액을 배출하기 위한 배출구가 형성되어도 된다.

이 경우, 현상액 노즐로부터 제거된 오염물을 세정액과 함께 배출구를 통하여 배출할 수 있다. 그에 따라, 제거된 오염물이 현상액 노즐에 재부착하는 것을 방지할 수 있다.

(8) 세정 처리부는, 배출구를 통하여 세정액 토출구로부터 토출된 세정액을 흡인하는 흡인 장치를 더 포함해도 된다.

이 경우, 배출구를 통하여 세정액 및 제거된 오염물을 보다 효율적으로 배출할 수 있다. 그에 따라, 제거된 오염물이 현상액 노즐에 재부착하는 것을 보다 확실하게 방지할 수 있다.

(9) 세정 처리부는, 현상액 노즐의 적어도 현상액 토출구를 포함하는 일부를 수용 가능하고 또한 세정액을 저류 가능한 저류부와, 저류부에 저류된 세정액에 기포를 혼입시키는 기포 혼입부를 포함해도 된다.

이 경우, 현상액 노즐의 적어도 현상액 토출구를 포함하는 일부가 저류부에 수용된 상태에서 저류부에 세정액이 저류되고, 저류된 세정액 중에 기포가 혼입된다. 이에 따라, 기포가 혼입된 세정액 중에 현상액 노즐의 적어도 현상액 토출구를 포함하는 일부가 침지된 상태가 유지되므로, 현상액 토출구 및 그 근방에 부착되는 오염물을 효과적으로 제거할 수 있다. 따라서, 현상액 노즐의 현상액 토출구 및 그 근방을 청정하게 할 수 있다.

(10) 현상액 노즐은, 일방향을 따라서 연장되는 하면을 가지고, 현상액 토출구는, 일방향을 따라서 연장되도록 하면에 형성되고, 수용부는, 일방향을 따라서 연장되고, 현상액 노즐의 적어도 하면을 수용 가능한 홈부를 포함하고, 홈부는, 일방향을 따라서 연장되는 내면을 가지고, 홈부의 내면에, 세정액을 토출하기 위한 세정액 토출구 및 기체를 토출하기 위한 기체 토출구가 형성되어도 된다.

이 경우, 현상액 노즐의 현상액 토출구가 형성된 하면이 홈부 내에 수용된 상태에서, 홈부의 내면에 형성된 세정액 토출구로부터 세정액이 토출됨으로써 홈부 내에 세정액이 저류된다. 또한, 홈부의 내면에 형성된 기체 토출구로부터 기체가 토출됨으로써, 저류된 세정액에 기포가 혼입된다. 그에 따라, 현상액 노즐의 하면을 청정하게 할 수 있다.

(11) 본 발명의 다른 국면에 따르는 현상 처리 장치는, 기판을 대략 수평으로 유지하는 기판 유지부와, 현상액을 토출하기 위한 현상액 토출구가 형성된 하면을 가지는 현상액 노즐과, 기판 유지부에 의해 유지되는 기판의 상방을 제외한 대기 위치에 설치되고, 현상액 노즐의 세정 처리를 행하는 세정 처리부와, 기판 유지부에 의해 유지되는 기판에 대하여 현상액 노즐을 상대적으로 이동시킴과 더불어, 기판 유지부에 의해 유지되는 기판에 현상액 노즐에 의해 현상액이 토출된 후에 현상액 노즐을 대기 위치로 이동시키는 이동 장치를 구비하고, 세정 처리부는, 현상액 노즐의 적어도 하면을 수용 가능하게 구성되는 수용부와, 수용부에 수용된 현상액 노즐의 하면에 세정액을 공급하는 세정액 공급부와, 세정액 공급부에 의해 공급된 세정액을 수용부로부터 배출하기 위한 배출부를 포함하고, 배출부에 의한 세정액의 배출 후에, 수용부에 현상액 노즐이 수용된 상태에서, 현상액 노즐의 하면과 수용부의 내면의 사이에 세정액이 유지되지 않도록, 수용부의 내면이 형성되는 것이다.

그 현상 처리 장치에 있어서는, 현상액 노즐이 기판 유지부에 의해 대략 수평으로 유지되는 기판에 대하여 상대적으로 이동 장치에 의해 이동된다. 현상액 노즐의 현상액 토출구로부터 기판 상에 현상액이 토출됨으로써, 기판의 현상 처리가 행해진다. 현상액의 토출 후에, 현상액 노즐이 기판 유지부에 의해 유지되는 기판의 상방을 제외한 대기 위치에 이동 장치에 의해 이동된다.

대기 위치에 설치된 세정 처리부에 있어서, 현상액 노즐의 적어도 하면이 수용부에 수용된다. 수용부에 수용된 현상액 노즐의 하면에 세정액 공급부에 의해 세정액이 공급된다. 이에 따라, 현상액 노즐의 하면에 부착되는 오염물이 제거된다. 공급된 세정액은, 배출부에 의해 수용부로부터 배출된다.

세정액이 배출된 후, 수용부에 현상액 노즐이 수용된 상태에서, 현상액 노즐의 하면과 수용부의 내면의 사이에 세정액이 유지되지 않는다. 이에 따라, 현상액 노즐이 수용부로부터 대피할 때에, 현상액 노즐의 하면에 세정액의 큰 물방울이 부착되는 것이 방지된다. 따라서, 현상액 노즐이 기판의 상방을 이동하는 경우에, 세정 처리 후의 현상액 노즐로부터 기판 상에 세정액이 낙하하는 것이 방지된다. 또한, 세정액 중에 포함되는 이물이 현상액 노즐에 고착되는 것이 방지된다. 이에 따라, 기판의 현상 결함의 발생이 방지된다.

(12) 현상액 노즐의 하면은 일방향을 따라서 연장되도록 설치되고, 현상액 토출구는, 일방향을 따라서 연장되도록 하면에 설치되고, 수용부는, 일방향을 따라서 연장되는 홈부를 포함하고, 세정액을 토출하기 위한 세정액 토출구가 세정액 공급부로서 홈부의 내면에 형성되어도 된다.

이 경우, 일방향을 따라서 연장되는 홈부에 현상액 노즐이 수용된 상태에서, 홈부의 내면에 형성된 세정액 공급구로부터 현상액 노즐에 세정액이 토출된다. 홈부의 내면은, 현상액 노즐의 하면과 홈부의 내면의 사이에 세정액이 유지되지 않도록 형성된다. 그에 따라, 현상액 노즐이 기판의 상방을 이동하는 경우에, 일방향을 따라서 연장되는 현상액 노즐의 하면으로부터 기판 상에 세정액이 낙하하는 것이 방지됨과 더불어, 현상액 노즐에 이물이 고착되는 것이 방지된다. 그 결과, 기판의 현상 결함의 발생이 방지된다.

(13) 배출부는, 홈부의 저부에 형성된 배출구를 포함해도 된다. 이 경우, 홈부의 저부로부터 세정액이 배출되므로, 홈부 내에 세정액이 잔류하기 어려워진다. 그에 따라, 현상액 노즐의 하면과 홈부의 내면의 사이에 세정액이 유지되는 것이 보다 확실하게 방지된다.

(14) 홈부는, 배출구로부터 외측 비스듬히 상방으로 경사지는 경사면을 가져도 된다. 이 경우, 홈부 내에 잔류하는 세정액, 및 현상액 노즐로부터 홈부 내로 낙하한 세정액이, 경사면을 따라 배출구로 이끌려, 배출구로부터 배출된다. 그에 따라, 홈부 내에 세정액이 보다 잔류하기 어려워진다. 따라서, 현상액 노즐의 하면과 홈부의 내면의 사이에 세정액이 유지되는 것이 보다 확실하게 방지된다.

(15) 홈부에 현상액 노즐이 수용된 상태에서, 현상액 노즐의 하면의 하단의 높이와 홈부의 저부의 높이의 차가 5mm 이상으로 설정되어도 된다.

이 경우, 현상액 노즐의 하면과 홈부의 내면의 사이에 세정액이 유지되는 것이 보다 확실하게 방지된다.

(16) 홈부는, 세정액 토출구로부터 공급되는 세정액을 저류 가능하게 구성되어도 된다.

이 경우, 저류된 세정액 중에 현상액 노즐의 적어도 일부가 침지하는 상태가 유지된다. 그에 따라, 현상액 노즐에 부착되는 오염물을 효율적으로 제거할 수 있다.

(17) 홈부의 적어도 일단에, 홈부에 저류되는 세정액이 유출 가능한 유출부가 설치되어도 된다.

이 경우, 저류된 세정액이 홈부 내에서 유동한다. 그에 따라, 현상액 노즐에 부착되는 오염물을 보다 효과적으로 제거할 수 있다.

(18) 홈부에 저류되는 세정액의 액면보다도 낮은 홈부의 내면의 위치에, 기체를 토출하기 위한 제1의 기체 토출구가 형성되어도 된다.

이 경우, 제1의 기체 토출구로부터 기체가 토출됨으로써, 홈부에 저류된 세정액 중에 기포가 혼입된다. 세정액 중의 기포가 현상액 노즐에 충돌하면, 그 충돌력에 의해, 현상액 노즐에 부착되는 오염물이 제거된다. 또한, 기포의 이동 및 충돌 등에 의해서 발생하는 압력파에 의해 현상액 노즐에 부착되는 오염물이 분쇄된다. 또한, 기포가 오염물에 부착하고, 현상액 노즐로부터 오염물을 벗겨낸다. 그에 따라, 현상액 노즐을 청정하게 할 수 있다.

(19) 홈부의 내면에, 홈부의 상부 개구를 덮도록 기체를 토출하기 위한 제2의 기체 토출구가 형성되어도 된다.

이 경우, 제2의 기체 토출구로부터 기체가 토출됨으로써, 세정액이 홈부의 외측에 비산하는 것이 방지된다. 따라서, 세정액이 기판에 부착되는 것이 방지된다.

도 1은 실시의 형태에 관련된 현상 처리 장치의 모식적 평면도,
도 2는 도 1의 현상 처리 장치의 모식적 측면도,
도 3은 슬릿 노즐의 이동 경로를 나타내는 도면,
도 4는 대기 포드 및 슬릿 노즐의 외관 사시도,
도 5(a)는 대기 포드의 평면도, 도 5(b)는 대기 포드의 A1－A1선 단면도,
도 6은 대기 포드의 B1－B1선 단면도,
도 7은 대기 포드에 있어서의 슬릿 노즐의 세정 처리에 대하여 설명하기 위한 모식적 단면도,
도 8은 대기 포드에 있어서의 슬릿 노즐의 세정 처리에 대하여 설명하기 위한 모식적 단면도,
도 9는 대기 포드의 외관 사시도,
도 10(a)는 대기 포드의 평면도, 도 10(b)는 대기 포드의 A2-A2선 단면도,
도 11은 대기 포드의 B2－B2선 단면도,
도 12는 대기 포드의 일단부를 나타내는 측면도,
도 13(a) 및 (b)는 대기 포드에 있어서의 세정 처리에 대하여 설명하기 위한 모식적 단면도,
도 14는 대기 포드에 있어서의 세정 처리에 대하여 설명하기 위한 모식적 단면도,
도 15(a) 및 (b)는 홈부의 다른 형상을 나타내는 모식적 단면도이다.

이하, 본 발명의 실시의 형태에 관련된 현상 처리 장치에 대하여 도면을 참조하면서 설명한다.

(1) 제1의 실시의 형태

(1－1) 현상 처리 장치의 구성

도 1은 본 실시의 형태에 관련된 현상 처리 장치의 모식적 평면도이다. 도 2는 도 1의 현상 처리 장치의 모식적 측면도이다. 도 1 및 도 2, 및 후술의 도 3 이후의 소정의 도면에는, 위치 관계를 명확하게 하기 위해서 서로 직교하는 X 방향, Y 방향 및 Z 방향을 나타내는 화살표를 붙이고 있다. X 방향 및 Y 방향은 수평면 내에서 서로 직교하고, Z방향은 연직 방향에 상당한다.

도 1에 나타내는 바와 같이, 현상 처리 장치(1)는, 하우징(5)을 구비한다. 하우징(5) 내에, 3개의 현상 처리 유닛(DEV) 및 현상액 공급부(6)가 설치된다. 3개의 현상 처리 유닛(DEV)은, 서로 동일한 구성을 가지고, X 방향을 따라서 늘어서도록 배치된다. 각 현상 처리 유닛(DEV)은, 회전 유지부(10), 처리 컵(20) 및 린스 노즐(30)을 구비한다.

도 2에 나타내는 바와 같이, 회전 유지부(10)는, 스핀 쳐크(11), 회전축(12) 및 모터(13)를 포함한다. 스핀 쳐크(11)는, 모터(13)에 접속된 회전축(12)의 상단부에 설치된다. 스핀 쳐크(11)는, 기판(W)의 하면의 대략 중심부를 진공 흡착함으로써, 기판(W)을 수평 자세로 유지한다. 모터(13)에 의해서 회전축(12) 및 스핀 쳐크(11)가 일체적으로 회전된다. 이에 따라, 스핀 쳐크(11)에 의해서 유지된 기판(W)이 연직 방향(Z방향)을 따른 축의 둘레에서 회전한다.

회전 유지부(10)를 둘러싸도록 처리 컵(20)이 설치된다. 처리 컵(20)은, 도시하지 않은 컵 승강 기구에 의해 하방 위치와 상방 위치의 사이에서 승강된다. 처리 컵(20)이 하방 위치에 있는 경우, 처리 컵(20)의 상단이 스핀 쳐크(11)에 의한 기판(W)의 유지 위치보다도 낮다. 각 현상 처리 유닛(DEV)에 대한 기판(W)의 반입시 및 반출시에, 그 현상 처리 유닛(DEV)의 처리 컵(20)이 하방 위치에 배치된다. 처리 컵(20)이 상방 위치에 있는 경우, 처리 컵(20)의 상단이 스핀 쳐크(11)에 의한 기판(W)의 유지 위치보다 높고, 기판(W)의 주위가 처리 컵(20)에 의해 둘러싸인다. 기판(W)의 현상 처리시에, 처리 컵(20)이 상방 위치에 배치되고, 회전되는 기판(W)으로부터 비산하는 액적이 처리 컵(20)에 의해 받아진다. 받아진 액적은, 도시하지 않은 배출부(드레인)에 이끌린다.

린스 노즐(30)은, 처리 컵(20)의 외측의 대피 위치와 스핀 쳐크(11)에 의해 유지되는 기판(W)의 중심부 상방의 린스 위치의 사이에서 회동 가능하게 설치된다. 린스 노즐(30)은, 린스 위치에서 스핀 쳐크(11)에 의해 유지되는 기판(W) 상에 린스액을 공급한다.

도 1에 나타내는 바와 같이, 현상액 공급부(6)는, 슬릿 노즐(61), 노즐 승강 기구(62) 및 노즐 슬라이드 기구(63)를 포함한다. 슬릿 노즐(61)은, Y 방향을 따라서 연장되는 슬릿형상의 토출구(61e)(도 2)를 가진다. 토출구(61e)의 길이는 적어도 기판(W)의 직경 이상이다. 슬릿 노즐(61)은, 노즐 승강 기구(62)에 의해 Z방향을 따라서 승강된다. 또한, 슬릿 노즐(61)은, 각 스핀 쳐크(11)에 의해 유지된 기판(W)의 상방을 통과하도록, 노즐 슬라이드 기구(63)에 의해 3개의 현상 처리 유닛(DEV)의 배열 방향(X방향)을 따라서 이동한다.

슬릿 노즐(61)에는, 도시하지 않은 현상액 공급원으로부터 현상액이 공급된다. 슬릿 노즐(61)은, 스핀 쳐크(11)에 의해 유지된 기판(W)의 상방을 이동하면서 토출구(61e)(도 2)로부터 기판(W) 상에 현상액을 띠형상으로 토출한다. 그에 따라, 기판(W)의 상면을 덮도록, 현상액의 액층이 형성된다. 현상액의 액층의 형성시에는, 기판(W)이 정지된다.

인접하는 현상 처리 유닛(DEV)간 및 일단에 위치하는 현상 처리 유닛(DEV)의 외측에 슬릿 노즐(61)의 대기 위치가 설치되고, 각 대기 위치에 대기 포드(70)가 설치된다. 슬릿 노즐(61)은, 기판(W) 상에 현상액을 토출하지 않는 기간에 어떠한 대기 위치로 이동하여, 대기 포드(70) 상에서 대기한다. 대기 포드(70)에 있어서, 슬릿 노즐(61)은, 내부에 체류하는 현상액을 토출하여 배출하는 오토 디스펜스 처리를 정기적으로 행한다. 이에 따라, 변질 또는 경시 열화한 현상액이 기판(W)에 공급되는 것이 방지된다. 또한, 대기 포드(70)에 있어서, 슬릿 노즐(61)의 세정 처리가 행해진다. 대기 포드(70)의 상세에 대해서는 후술한다.

하우징(50)의 일측면에는, 3개의 현상 처리 유닛(DEV)에 각각 대향하도록 3개의 셔터(7)가 설치된다. 각 현상 처리 유닛(DEV)에 대한 기판(W)의 반입시 및 반출시에는, 대응하는 셔터(7)가 개방된다. 각 현상 처리 유닛(DEV)에 있어서의 현상 처리시에는, 대응하는 셔터(7)가 폐쇄된다.

(1－2) 현상 처리 장치의 동작

현상 처리 장치(1)의 동작의 개요에 대하여 설명한다. 현상 처리 장치(1)의 각 구성 요소의 동작은, 후술의 제어부(80)(도 4)에 의해 제어된다. 도 3은 슬릿 노즐(61)의 이동 경로를 나타내는 도면이다. 도 3에 있어서는, 3개의 현상 처리 유닛(DEV)을 각각 현상 처리 유닛(DEV1, DEV2, DEV3)으로 하고, 3개의 대기 포드(70)를 각각 대기 포드(70a, 70b, 70c)로 한다. 현상 처리 유닛(DEV1, DEV2, DEV3)은, 이 순서로 X방향을 따라서 늘어선다. 현상 처리 유닛(DEV1, DEV2)의 사이에 대기 포드(70a)가 배치되고, 현상 처리 유닛(DEV2, DEV3)의 사이에 대기 포드(70b)가 배치되고, 현상 처리 유닛(DEV3)의 외측에 대기 포드(70c)가 배치된다.

슬릿 노즐(61)이 대기 포드(70c) 상에 위치할 때, 도시하지 않은 반송 장치에 의해 현상 처리 유닛(DEV1)의 스핀 쳐크(11) 상에, 노광 처리 후의 기판(W)이 반송된다. 이 경우, 현상 처리 유닛(DEV1)의 처리 컵(20)이 하방 위치에 있는 상태에서 현상 처리 유닛(DEV1)의 스핀 쳐크(11) 상에 기판(W)이 반송되고, 기판(W)의 반송 후에 그 처리 컵(20)이 상방 위치로 상승한다. 이어서, 슬릿 노즐(61)이, 현상 처리 유닛(DEV1)의 스핀 쳐크(11)에 의해 유지되는 기판(W)의 일단부(X방향에 있어서 대기 포드(70a)로부터 먼쪽의 단부) 상까지 이동하고, 현상액을 토출하면서 기판(W)의 타단부(X방향에 있어서 대기 포드(70a)에 가까운 쪽의 단부) 상까지 이동한다. 그 후, 슬릿 노즐(61)은 대기 포드(70a) 상에 이동한다.

슬릿 노즐(61)이 대기 포드(70a) 상에 위치할 때, 도시하지 않은 반송 장치에 의해 현상 처리 유닛(DEV2)의 스핀 쳐크(11) 상에, 노광 처리 후의 기판(W)이 반송된다. 이 경우, 현상 처리 유닛(DEV2)의 처리 컵(20)이 하방 위치에 있는 상태에서 현상 처리 유닛(DEV2)의 스핀 쳐크(11) 상에 기판(W)이 반송되고, 기판(W)의 반송 후에 그 처리 컵(20)이 상방 위치에 상승한다. 이어서, 슬릿 노즐(61)이, 현상 처리 유닛(DEV2)의 스핀 쳐크(11)에 의해 유지되는 기판(W)의 일단부(X방향에 있어서 대기 포드(70a)에 가까운 쪽의 단부) 상까지 이동하고, 현상액을 토출하면서 기판(W)의 타단부(X방향에 있어서 대기 포드(70b)에 가까운 쪽의 단부) 상까지 이동한다. 그 후, 슬릿 노즐(61)은 대기 포드(70b) 상에 이동한다.

슬릿 노즐(61)이 대기 포드(70b) 상에 위치할 때, 도시하지 않은 반송 장치에 의해 현상 처리 유닛(DEV3)의 스핀 쳐크(11) 상에, 노광 처리 후의 기판(W)이 반송된다. 이 경우, 현상 처리 유닛(DEV3)의 처리 컵(20)이 하방 위치에 있는 상태에서 현상 처리 유닛(DEV3)의 스핀 쳐크(11) 상에 기판(W)이 반송되고, 기판(W)의 반송 후에 그 처리 컵(20)이 상방 위치에 상승한다. 이어서, 슬릿 노즐(61)이, 현상 처리 유닛(DEV3)의 스핀 쳐크(11)에 의해 유지되는 기판(W)의 일단부(X 방향에 있어서 대기 포드(70b)에 가까운 쪽의 단부) 상까지 이동하고, 현상액을 토출하면서 기판(W)의 타단부(X방향에 있어서 대기 포드(70c)에 가까운 쪽의 단부) 상까지 이동한다. 그 후, 슬릿 노즐(61)은 대기 포드(70c) 상에 이동한다.

현상 처리 유닛(DEV1~DEV3)의 각각에 있어서, 슬릿 노즐(61)이 기판(W) 상을 이동하면서 현상액을 토출함으로써, 기판(W) 상에 현상액의 액층이 형성된다. 그 상태에서, 기판(W) 상에 형성된 감광성막(레지스트)의 현상 반응이 진행된다. 현상액의 액층이 형성되고 나서 미리 정해진 시간이 경과하면, 린스 노즐(30)이 린스 위치로 이동하여, 린스액을 토출한다. 그에 따라, 감광성막의 현상 반응이 정지된다. 이어서, 기판(W) 상에 린스액이 토출되면서 회전 유지부(10)에 의해 기판(W)이 회전됨으로써, 기판(W) 상의 현상액이 씻겨 흐른다. 그 후, 린스액의 토출이 정지된 상태에서 기판(W)이 회전됨으로써, 기판(W)으로부터 린스액이 달아나, 기판(W)이 건조된다. 건조된 기판(W)이 도시하지 않은 반송 장치에 의해 스핀 쳐크(11) 상으로부터 반송된다. 스핀 쳐크(11) 상으로부터 기판(W)이 반송될 때는, 처리 컵(20)이 하방 위치에 하강한다. 현상 처리 장치(1)에 있어서는, 이러한 일련의 동작이 반복된다.

현상 처리 유닛(DEV1~DEV3)의 각각에 대한 기판(W)의 반입 및 반출의 타이밍은, 상기의 예에 한정되지 않고, 현상 처리 장치(1)의 각 부의 동작 속도, 현상 처리 시간, 또는 반송 장치의 동작 속도 등에 따라, 적절히 변경되어도 된다.

(1－3) 대기 포드의 구성

대기 포드(70)의 상세에 대하여 설명한다. 도 4는, 대기 포드(70) 및 슬릿 노즐(61)의 외관 사시도이다. 도 5(a)는, 대기 포드(70)의 평면도이며, 도 5(b)는, 도 5(a)의 A1－A1선 단면도이다. 도 6은, 도 5(a)의 B1－B1선 단면도이다.

도 4에 도시하는 바와 같이, 슬릿 노즐(61)은, Y방향을 따라서 각각 연장되는 한쌍의 측면(61a), 한쌍의 경사면(61b), 하면(61c)을 가짐과 더불어, Y방향으로 대략 수직인 한쌍의 단면(61d)을 가진다. 한쌍의 측면(61a)은 연직 방향(Z방향)을 따라서 연장되고, 한쌍의 측면(61a)의 하단으로부터 서로 가까워지도록 비스듬히 하방으로 한쌍의 경사면(61b)이 연장된다. 경사면(61b)의 하단을 연결하도록 하면(61c)이 수평으로 연장된다. 하면(61c)과 한쪽의 경사면(61b)의 연결 부분에 토출구(61e)가 형성된다.

대기 포드(70)는 상자형의 형상을 가지고, 대기 포드(70)의 Y방향에 있어서의 길이는, 슬릿 노즐(61)의 Y방향에 있어서의 길이보다도 길다. 대기 포드(70)의 상부에는, Y방향을 따라서 연장되도록 대략 V자 형상의 단면을 가지는 홈부(710)가 설치된다. 홈부(710)는, 한쌍의 측면(711), 한쌍의 경사면(712) 및 저면(713)을 가진다. 한쌍의 측면(711)은, 대기 포드(70)의 상면으로부터 연직 하방으로 연장된다. 한쌍의 경사면(712)은, 한쌍의 측면(711)의 하단부로부터 서로 가까워지도록 비스듬히 하방으로 각각 연장된다. 저면(713)은, 한쌍의 경사면(712)의 하단부를 서로 연결하도록 수평으로 연장된다. 홈부(710)의 양단부는, 외방을 향해 개구한다. 홈부(710)의 양단부는, 슬릿 노즐(61)에 공급된 세정액을 대기 포드(70)의 외부로 유출시키기 위한 유출부(715)를 각각 구성한다.

홈부(710)의 한쌍의 측면(711)은 슬릿 노즐(61)의 한쌍의 측면(61a)에 각각 평행하고, 홈부(710)의 한쌍의 경사면(712)은 슬릿 노즐(61)의 한쌍의 경사면(61b)에 각각 평행하며, 홈부(710)의 저면(713)은 슬릿 노즐(61)의 하면(61c)에 평행하다.

대기 포드(70)는, 공급관(702a)을 통하여 기포 혼입 장치(702)에 접속된다. 기포 혼입 장치(702)로서, 예를 들면 아스피레이터 또는 마이크로 버블 발생 장치가 이용된다. 공급관(702a)에는, 밸브(V1)가 끼워져 삽입된다. 기포 혼입 장치(702)는, 공급관(702b)을 통하여 세정액 공급원(703)에 접속되고, 공급관(702c)을 통하여 기체 공급원(704)에 접속된다.

세정액 공급원(703)으로부터 공급관(702b)을 통하여 기포 혼입 장치(702)에 세정액이 공급된다. 세정액으로서, 예를 들면 순수, 또는 계면 활성제를 포함하는 용액이 이용된다. 기체 공급원(704)으로부터 공급관(702c)을 통하여 기포 혼입 장치(702)에 기체가 공급된다. 기체로서, 예를 들면 질소 가스가 이용된다. 기포 혼입 장치(702)에 있어서, 공급된 기체가 세정액 중에 미세한 기포로서 혼입된다. 밸브(V1)가 열림으로써, 기포가 혼입된 세정액(이하, 기포 함유 세정액이라고 부른다)이, 공급관(702a)을 통하여 대기 포드(70)에 공급된다.

세정액에 혼입되는 기포의 크기는, 기포 혼입 장치(702)의 종류의 변경 또는 부품의 교환 등에 의해 조정 가능하다. 또한, 높은 세정 효과를 얻기 위해서, 기포 함유 세정액 중의 기체의 체적 비율은 세정액의 체적 비율보다도 작은 것이 바람직하다.

또한, 대기 포드(70)는, 배출관(705a)을 통하여 흡인 장치(705)에 접속된다. 흡인 장치(705)로서, 예를 들면 아스피레이터가 이용된다. 흡인 장치(705)에 의해, 대기 포드(70)로부터 도시하지 않은 배출부에 기포 함유 세정액 및 제거된 오염물이 이끌린다.

밸브(V1)의 개폐 및 기포 혼입 장치(702) 및 흡인 장치(705)의 동작은, 제어부(80)에 의해 제어된다. 상기와 같이, 제어부(80)는, 현상 처리 장치(1)의 다른 구성 요소의 동작도 제어한다.

본 실시의 형태에서는, 대기 포드(70), 기포 혼입 장치(702) 및 흡인 장치(705)에 의해, 세정 처리부(700)가 구성된다. 도 1의 3개의 대기 포드(70)에 대하여, 공통의 기포 혼입 장치(702) 및 흡인 장치(705)가 이용되어도 되고, 또는 복수의 기포 혼입 장치(702) 및 흡인 장치(705)가 이용되어도 된다.

도 5에 도시하는 바와 같이, 각 경사면(712)에는, Y방향을 따라서 등간격으로 늘어서도록 복수의 개구(712a)가 형성된다. 저면(713)에는, Y방향을 따라서 등간격으로 늘어서도록 복수의 개구(713a)가 형성된다.

도 6에 도시하는 바와 같이, 대기 포드(70)의 하면에는, 한쌍의 접속구(712c) 및 접속구(713c)가 형성된다. 한쪽의 접속구(712c)와 한쪽의 경사면(712)의 복수의 개구(712a)의 사이 및 다른쪽의 접속구(712c)와 다른쪽의 경사면(712)의 복수의 개구(712a)의 사이에서 각각 연장되도록, 한쌍의 세정액 공급로(712b)가 설치된다. 각 세정액 공급로(712b)는, 각 접속구(712c)로부터 상방으로 연장됨과 더불어, 복수의 경로에 분기하여 내방을 향하여 수평으로 연장되고, 복수의 개구(712a)에 접속된다. 또한, 접속구(713c)와 복수의 개구(713a)의 사이에서 연장하도록, 배출로(713b)가 설치된다. 배출로(713b)는, 접속구(713c)로부터 상방으로 연장되고, 또한 복수의 경로에 분기하여 복수의 개구(713a)에 접속된다.

한쌍의 접속구(712c)에는, 도 4의 기포 혼입 장치(702)로부터 연장되는 공급관(702a)이 접속된다. 기포 혼입 장치(702)로부터 공급관(702a)을 통하여 대기 포드(70)의 각 세정액 공급로(712b)에 기포 함유 세정액이 도입된다. 도입된 세정액은, 경사면(712)의 복수의 개구(712a)로부터 토출된다.

접속구(713c)에는, 도 4의 흡인 장치(705)로부터 연장되는 배출관(705a)이 접속된다. 흡인 장치(705)에 의해, 기포 함유 세정액 및 제거된 오염물이 배출로(713b) 및 배출관(705a)을 통하여 흡인된다. 흡인된 기포 함유 세정액 및 오염물은, 도시하지 않은 배출부에 이끌려 배출된다.

(1－4) 세정 처리

상기와 같이, 슬릿 노즐(61)은, 각 현상 처리 유닛(DEV)(도 1)에 있어서 기판(W)에 현상액을 토출한 후, 그 현상 처리 유닛(DEV)에 인접하는 대기 포드(70)상에 이동한다. 대기 포드(70)에 있어서는, 슬릿 노즐(61)의 세정 처리가 행해진다.

도 7 및 도 8은 대기 포드(70)에 있어서의 슬릿 노즐(61)의 세정 처리에 대하여 설명하기 위한 모식적 단면도이다. 도 7 및 도 8에 나타내는 바와 같이, 세정 처리시에는, 슬릿 노즐(61)의 적어도 경사면(61b) 및 하면(61c)을 포함하는 하부가 대기 포드(70)의 홈부(710)내에 수용된다. 이 경우, 홈부(710)의 한쌍의 측면(711)이, 슬릿 노즐(61)의 한쌍의 측면(61a)에 각각 대향하고, 홈부(710)의 한쌍의 경사면(712)이, 슬릿 노즐(61)의 한쌍의 경사면(61b)에 각각 대향하고, 홈부(710)의 저면(713)이 슬릿 노즐(61)의 하면(61c)에 대향한다.

이 상태에서, 경사면(712)의 복수의 개구(712a)로부터 슬릿 노즐(61)을 향해서 기포 함유 세정액이 토출된다. 이 경우, 도 8에 나타내는 바와 같이, 기포 함유 세정액 중의 기포(G)가, 홈부(710)의 경사면(712)과 슬릿 노즐(61)의 경사면(61b)의 간극을 통하여 이동하면서 슬릿 노즐(61)의 경사면(61b)에 충돌한다. 또한, 기포 함유 세정액 중의 기포(G)가, 홈부(710)의 저면(713)과 슬릿 노즐(61)의 하면(61c)의 간극을 통하여 이동하면서 슬릿 노즐(61)의 하면(61c)에 충돌한다.

이에 따라, 기포(G)의 충돌력에 의해서 슬릿 노즐(61)의 경사면(61b) 및 하면(61c)에 부착되는 오염물이 제거된다. 여기서, 오염물은, 현상액 및 레지스트 잔사 등의 이물을 포함한다. 또한, 기포(G)의 이동 및 충돌 등에 의해서 생기는 압력파에 의해 슬릿 노즐(61)의 경사면(61b) 및 하면(61c)에 부착되는 오염물이 분쇄된다. 또한, 기포(G)가 오염물에 부착되어, 슬릿 노즐(61)의 경사면(61b) 및 하면(61c)으로부터 오염물을 벗겨낸다.

또한, 복수의 기포(G)는, 충돌, 파열 및 합체를 반복함으로써, 홈부(710)의 경사면(712)과 슬릿 노즐(61)의 경사면(61b)의 간극 및 홈부(710)의 저면(713)과 슬릿 노즐(61)의 하면(61c)의 간극에 있어서 여러 방향으로 분산적으로 이동한다. 그에 따라, 슬릿 노즐(61)의 경사면(61b) 및 하면(61c)에 대하여 균일하게 세정을 행할 수 있다.

또한, 기포 함유 세정액은, 기포를 포함하지 않는 세정액에 비해 비산하기 어렵다. 그에 따라, 기포 함유 세정액이 대기 포드(70)의 외측에 비산하여 스핀 쳐크(11) 상의 기판(W) 또는 반송 중의 기판(W) 등에 부착되는 것이 방지된다.

기포 함유 세정액의 토출시에는, 흡인 장치(705)(도 4)가 동작한다. 이에 따라, 기포 함유 세정액 및 제거된 오염물의 일부가 저면(713)의 복수의 개구(713a)로부터 흡인되어, 배출된다. 따라서, 제거된 오염물이 슬릿 노즐(61)의 경사면(61b) 및 하면(61c)에 재부착하는 것이 억제된다.

또한, 슬릿 노즐(61)에 공급된 기포 함유 세정액은, 제거된 오염물과 함께 홈부(710)의 유출부(715)(도 4)로부터 대기 포드(70)의 외방에 유출된다. 이에 따라, 홈부(710) 내에 있어서, 기포 함유 세정액이 슬릿 노즐(61)의 길이 방향(Y방향)으로 원활하게 유동한다. 따라서, 슬릿 노즐(61)의 경사면(61b) 및 하면(61c)의 전체에 대하여 보다 효과적으로 세정을 행할 수 있다. 유출된 기포 함유 세정액 및 오염물은, 도시하지 않은 배출부로 이끌린다.

기포 함유 세정액의 토출이 개시되고 나서 일정 시간이 경과한 후, 개구(712a)로부터의 기포 함유 세정액의 토출이 정지됨과 더불어, 흡인 장치(705)의 동작이 정지된다. 이에 따라, 슬릿 노즐(61)의 세정 처리가 종료한다.

(1－5) 효과

본 실시의 형태에 관한 현상 처리 장치(1)에 있어서는, 슬릿 노즐(61)로부터 기판(W)에 현상액이 토출된 후, 대기 포드(70)에 있어서 기포가 혼입된 세정액에 의해 슬릿 노즐(61)의 세정 처리가 행해진다. 이에 따라, 슬릿 노즐(61)을 청정하게 할 수 있다. 그 결과, 슬릿 노즐(61)의 오염에 기인하는 기판(W)의 현상 결함의 발생을 방지할 수 있다.

또한, 본 실시의 형태에서는, 기포 혼입 장치(702)에 의해 미리 기포가 혼입된 세정액이 개구(712a)로부터 슬릿 노즐(61)을 향해서 토출된다. 그에 따라, 슬릿 노즐(61)에 기포를 효율적으로 충돌시킬 수 있다. 따라서, 슬릿 노즐(61)을 효율적으로 세정할 수 있다.

(1－6) 대기 포드의 변형예

(1－6－1)

개구(712a, 713a)의 위치, 수, 크기 및 형상 등은, 상기의 예에 한정되지 않고, 적절히 변경되어도 된다. 예를 들면, 복수의 개구(712a)가 복수단에 형성되어도 되고, 복수의 개구(713a)가 복수열을 형성하도록 설치되어도 된다. 또한, 개구(712a, 713a)가 각각 슬릿형상이어도 된다.

(1－6－2)

제1의 실시의 형태에서는, 경사면(712)에 세정액을 토출하기 위한 개구(712a)가 형성되는데, 개구(712a) 대신에, 또는 개구(712a)에 추가하여, 저면(713)에 세정액을 토출하기 위한 개구가 형성되어도 된다. 또한, 제1의 실시의 형태에서는, 저면(713)에 세정액을 배출하기 위한 개구(713a)가 형성되는데, 개구(713a) 대신에, 또는 개구(713a)에 추가하여, 경사면(712)에 세정액을 배출하기 위한 개구가 형성되어도 된다.

(1－6－3)

제1의 실시의 형태에서는, 개구(712a)로부터의 기포 함유 세정액의 토출시에 흡인 장치(705)에 의한 흡인이 행해지는데, 오염물의 재부착을 방지 가능한 경우 또는 방지할 필요가 없는 경우에는, 흡인 장치(705)에 의한 흡인이 행해지지 않아도 된다. 그 경우, 기포 함유 세정액 및 오염물이 복수의 개구(713a)로부터 자중에 의해서 배출되어도 되고, 또는 복수의 개구(713a)가 형성되지 않아도 된다.

(1－6－4)

제1의 실시의 형태에서는, 홈부(710)의 양단부에 유출부(715)가 설치되는데, 한쪽의 단부에만 유출부(715)가 설치되어도 된다. 또한, 일방향을 따른 세정액의 흐름을 형성 가능한 경우, 또는 형성할 필요가 없는 경우에는, 홈부(710)의 다른 개소로부터 세정액을 유출시켜도 된다.

(1－6－5)

개구(712a)로부터 기포 함유 세정액이 토출되기 전에, 개구(712a)로부터 현상액이 토출되어도 된다. 이 경우, 슬릿 노즐(61)에 부착되는 레지스트 잔사를 용해하여 제거할 수 있다. 또한, 개구(712a)로부터 현상액이 토출되는 대신에, 현상액을 토출하기 위한 개구가 별도 형성되어도 된다.

(2) 제2의 실시의 형태

본 발명의 제2의 실시의 형태에 대하여, 상기 제1의 실시의 형태와 다른 점을 설명한다. 제2의 실시의 형태에 있어서는, 도 4~도 6의 대기 포드(70) 대신에, 이하의 도 9~도 12에 도시하는 대기 포드(70)가 이용된다.

(2－1) 대기 포드의 구성

도 9는 제2의 실시의 형태에 관련된 대기 포드(70)의 외관 사시도이다. 도 10(a)는 대기 포드(70)의 평면도이며, 도 10(b)는 도 10(a)의 A2-A2선 단면도이다. 도 11은, 도 10(a)의 B2－B2선 단면도이다. 도 12는, 도 10(a)의 대기 포드(70)의 일단부를 나타내는 측면도이다. 도 9~도 12의 대기 포드(70)에 대하여, 도 4~도 6의 대기 포드(70)과 다른 점을 설명한다.

도 9에 나타내는 바와 같이, 대기 포드(70)의 상부에는, Y방향을 따라서 연장되도록 대략 V자형상의 단면을 가지는 홈부(720)가 설치된다. 홈부(720)의 양단부에는, 단부벽(727)이 설치된다.

대기 포드(70)는, 공급관(702e)을 통하여 세정액 공급원(703)에 접속되고, 공급관(702f)을 통하여 기체 공급원(704)에 접속되고, 배출관(705b)을 통하여 흡인 장치(705)에 접속된다. 공급관(702e)에는 밸브(V3)가 끼워져 삽입되고, 공급관(702f)에는 밸브(V4)가 끼워져 삽입된다.

밸브(V3)가 열림으로써, 세정액 공급원(703)으로부터 공급관(702e)을 통하여 대기 포드(70)에 세정액이 공급된다. 세정액으로서, 예를 들면 순수, 또는 계면 활성제를 포함하는 용액이 이용된다. 또한, 밸브(V4)가 열림으로써, 기체 공급원(704)으로부터 공급관(702f)을 통하여 대기 포드(70)에 기체가 공급된다. 기체로서, 예를 들면 질소 가스가 이용된다. 흡인 장치(705)에 의해, 대기 포드(70)로부터 도시하지 않은 배출부에 세정액 및 제거된 오염물이 이끌린다. 밸브(V3, V4)의 개폐 및 흡인 장치(705)의 동작은, 제어부(80)에 의해 제어된다.

본 실시의 형태에서는, 대기 포드(70) 및 흡인 장치(705)에 의해 세정 처리부(700)가 구성된다. 도 1의 3개의 대기 포드(70)에 대하여, 공통의 흡인 장치(705)가 이용되어도 되고, 또는 복수의 흡인 장치(705)가 이용되어도 된다.

도 10 및 도 11에 도시하는 바와 같이, 홈부(720)는, 한쌍의 측면(721), 한쌍의 제1의 상부 경사면(722) 및 한쌍의 하부 경사면(723)을 가진다. 한쌍의 측면(721)은, 대기 포드(70)의 상면으로부터 연직 하방으로 연장된다. 한쌍의 상부 경사면(722)은, 한쌍의 측면(711)의 하단부로부터 서로 가까워지도록 비스듬히 하방으로 각각 연장된다. 한쌍의 하부 경사면(723)은, 한쌍의 상부 경사면(722)의 하단부로부터 서로 가까워지도록 비스듬히 하방으로 각각 연장된다. 수평면에 대한 하부 경사면(723)의 경사각은, 수평면에 대한 상부 경사면(722)의 경사각보다도 크다.

홈부(720)의 한쌍의 측면(721)은, 슬릿 노즐(61)의 한쌍의 측면(61a)에 각각 평행하고, 홈부(720)의 한쌍의 상부 경사면(722)은, 슬릿 노즐(61)의 한쌍의 경사면(61b)에 각각 평행하다.

각 측면(721)에는, Y방향을 따라서 등간격으로 늘어서도록 복수의 개구(721a)가 형성된다. 각 상부 경사면(722)에는, Y방향을 따라서 등간격으로 늘어서도록 복수의 개구(722a)가 형성된다. 각 상부 경사면(722)과 각 하부 경사면(723)의 경계 부분에는, Y방향을 따라서 등간격으로 늘어서도록 복수의 개구(723a)가 형성된다.

한쪽의 상부 경사면(722)에 형성되는 복수의 개구(722a)의 위치와, 다른쪽의 상부 경사면(722)에 형성되는 복수의 개구(722a)의 위치는, Y방향에 있어서 서로 어긋나는 것이 바람직하다. 또한, 한쪽의 상부 경사면(722) 및 하부 경사면(723)의 경계 부분에 형성되는 복수의 개구(723a)의 위치와, 다른쪽의 상부 경사면(722) 및 하부 경사면(723)의 경계 부분에 형성되는 복수의 개구(723a)의 위치는, Y방향에 있어서 서로 어긋나는 것이 바람직하다.

각 하부 경사면(723)에는, Y방향을 따라서 등간격으로 늘어서도록 복수의 개구(724a)가 형성되고, 그보다도 낮은 위치에 있어서 Y방향을 따라서 등간격으로 늘어서도록 복수의 개구(725a)가 형성된다. 한쌍의 하부 경사면(723)의 하단 부문에, Y방향을 따라서 늘어서도록 슬릿상의 개구(726a)가 형성된다.

도 11에 도시하는 바와 같이, 대기 포드(70)의 하면에는, 한쌍의 접속구(721c), 한쌍의 접속구(724c), 한쌍의 접속구(725c) 및 슬릿형상의 개구(726c)가 형성된다.

한쌍의 접속구(721c)와 복수의 개구(721a, 722a, 723a)의 사이에서 연장되도록, 한쌍의 기체 공급로(721d)가 설치된다. 한쪽의 기체 공급로(721d)는, 한쪽의 접속구(721c)와, 한쪽의 측면(721), 상부 경사면(722) 및 하부 경사면(723)에 형성된 복수의 개구(721a, 722a, 723a)의 사이에서 연장된다. 다른쪽의 기체 공급로(721d)는, 다른쪽의 접속구(721c)와, 다른쪽의 측면(721), 상부 경사면(722) 및 하부 경사면(723)에 형성된 복수의 개구(721a, 722a, 723a)의 사이에서 연장된다.

각 기체 공급로(721d)는, 공급로(721x), 복수의 공급로(721b), 복수의 공급로(722b) 및 복수의 공급로(723b)를 포함한다. 각 접속구(721c)로부터 상방으로 연장되도록 공급로(721x)가 설치된다. 복수의 공급로(721b)는, 공급로(721x)의 상단으로부터 내방을 향하여 수평으로 연장되고, 복수의 개구(721a)에 각각 접속된다. 복수의 공급로(722b)는, 공급로(721x)로부터 내방을 향해서 비스듬히 하방으로 연장되고, 복수의 개구(722a)에 각각 접속된다. 복수의 공급로(723b)는, 공급로(721x)로부터 내방을 향해서 비스듬히 상방으로 연장되고, 복수의 개구(723a)에 각각 접속된다.

한쪽의 접속구(724c)와 한쪽의 하부 경사면(723)의 복수의 개구(724a)의 사이, 및 다른쪽의 접속구(724c)와 다른쪽의 하부 경사면(723)의 복수의 개구(724a)의 사이에서 연장되도록, 한쌍의 세정액 공급로(724b)가 설치된다. 각 세정액 공급로(724b)는, 각 접속구(724c)로부터 상방으로 연장되고, 또한 복수의 경로에 분기하여 내방을 향하여 수평으로 연장되어, 복수의 개구(724a)에 접속된다.

한쪽의 접속구(725c)와 한쪽의 하부 경사면(723)의 복수의 개구(725a)의 사이, 및 다른쪽의 접속구(725c)와 다른쪽의 하부 경사면(723)의 복수의 개구(725a)의 사이에서 연장하도록, 한쌍의 배출로(725b)가 설치된다. 각 배출로(725b)는, 각 접속구(725c)로부터 상방으로 연장되고, 또한 복수의 경로에 분기하여 내방을 향하여 수평으로 연장되어, 복수의 개구(725a)에 접속된다. 개구(726a)와 개구(726c)의 사이에서 연장되도록, 배출로(726b)가 설치된다.

또한, 실제로는, 도 10에 나타내는 바와 같이, 개구(721a, 722a, 723a, 724a, 725a)가 Y방향으로 수직인 공통의 평면 상에 위치하지 않지만, 도 11 및 후술의 도 13 및 도 14에 있어서는, 설명의 간편을 위해, 개구(721a, 722a, 723a, 724a, 725a)가, Y방향으로 수직인 공통의 평면 상에 위치하도록 나타난다. 마찬가지로, 접속구(721c, 724c, 725c), 공급로(721x, 721b, 722b, 723b), 세정액 공급로(724b) 및 배출로(725b)가, Y방향으로 수직인 공통의 평면 상에 위치하도록 나타난다.

한쌍의 접속구(721c)에는, 도 9의 기체 공급원(704)으로부터 연장되는 공급관(702f)이 접속된다. 기체 공급원(704)으로부터 공급관(702f)을 통하여 대기 포드(70)의 각 기체 공급로(721d)에 기체가 도입된다. 도입된 기체는, 복수의 개구(721a, 722a, 723a)로부터 토출된다.

한쌍의 접속구(724c)에는, 도 9의 세정액 공급원(703)으로부터 연장되는 공급관(702e)이 접속된다. 세정액 공급원(703)으로부터 공급관(702e)을 통하여 대기 포드(70)의 각 세정액 공급로(724b)에 세정액이 도입된다. 도입된 세정액은, 복수의 개구(724a)로부터 토출된다.

한쌍의 접속구(725c)에는, 도 9의 흡인 장치(705)로부터 연장되는 배출관(705b)이 접속된다. 흡인 장치(705)에 의해, 세정액 및 제거된 오염물이 배출로(725b) 및 배출관(705b)을 통하여 흡인된다. 흡인된 세정액 및 오염물은, 도시하지 않은 배출부로 이끌려 배출된다.

도 12에 나타내는 바와 같이, 각 단부벽(727)의 상단부는, 측면(721)의 상단부보다도 낮다. 단부벽(727)에는, 한쪽의 측면(721)을 따르도록, 기포 함유 세정액을 배출하기 위한 절결(727a)이 설치된다. 또한, 한쪽의 단부벽(727)에는, 절결(727a)과 다른쪽의 측면(721)의 사이에, 슬릿 노즐(61)을 위치 결정하기 위한 절결(727b)이 설치된다.

홈부(720)를 향하는 각 단부벽(727)의 면(이하, 내면이라고 부른다)에는, 복수(본 예에서는 2개)의 개구(727c)(도 11)가 형성된다. 복수의 개구(727c)는, 예를 들면 상부 경사면(722)의 복수의 개구(722a)와 동일한 높이에 설치된다. 각 개구(727c)로부터 연장되도록 공급로(727d)가 설치된다. 각 공급로(727d)는, 도 11의 공급로(721x)와 연통한다. 이 때문에, 도 11의 기체 공급원(704)으로부터 공급관(702f)을 통하여 각 기체 공급로(721d)에 도입된 기체의 일부가, 공급로(727d)를 통하여 개구(727c)로부터 토출된다.

(2－2) 세정 처리

도 9~도 12의 대기 포드(70)에 있어서의 세정 처리에 대하여 설명한다. 도 13 및 도 14는 도 9~도 12의 대기 포드(70)에 있어서의 세정 처리에 대하여 설명하기 위한 모식적 단면도이다. 우선, 도 13에 나타내는 바와 같이, 슬릿 노즐(61)의 적어도 경사면(61b) 및 하면(61c)을 포함하는 하부가 대기 포드(70)의 홈부(720) 내에 수용된다. 이 경우, 홈부(720)의 한쌍의 측면(721)이, 슬릿 노즐(61)의 한쌍의 측면(61a)에 각각 대향하고, 홈부(720)의 한쌍의 상부 경사면(722)이, 슬릿 노즐(61)의 한쌍의 경사면(61b)에 각각 대향한다. 또한, 한쌍의 단부벽(727)(도 12)의 내면이 슬릿 노즐(61)의 한쌍의 단면(61d)(도 9)에 각각 대향한다.

또한, 슬릿 노즐(61)의 한쪽의 단면(61d)에는, 돌출부(61f)가 설치된다. 슬릿 노즐(61)이 대기 포드(70)의 홈부(720) 내에 수용될 때에, 돌출부(61f)가, 도 12의 단부벽(727)의 절결(727b)에 끼워맞춰진다. 그에 따라, 대기 포드(70)에 대하여 슬릿 노즐(61)이 정확하게 위치 결정된다.

본 실시의 형태에서는, 슬릿 노즐(61)이 위치 결정된 상태에서, 슬릿 노즐(61)의 하면(61c)의 높이와 홈부(720)의 저부(하부 경사면(723)의 하단부)의 높이의 차 Hd가 5mm 이상이 되도록, 홈부(720)의 형상, 및 돌출부(61f) 및 절결(727b)의 높이 등이 설정된다.

다음에, 도 13(b)에 나타내는 바와 같이, 홈부(720)의 복수의 개구(724a)로부터 세정액이 토출된다. 이 경우, 홈부(720) 내에 있어서의 세정액의 액면이 서서히 상승하고, 그 액면이 각 단부벽(727)(도 12)의 절결(727a)의 하단부에 이르면, 세정액이 절결(727a)로부터 대기 포드(70)의 외방으로 유출된다. 또한, 세정액의 자중에 의해 홈부(720)의 저부의 개구(726a)로부터 배출로(726b) 및 개구(726c)를 통하여 세정액이 유출된다. 절결(727a) 및 개구(726a)로부터 유출되는 세정액은, 도시하지 않은 배출부로 이끌린다.

절결(727a)(도 12) 및 개구(726a)로부터 유출되는 세정액의 양이, 개구(724a)로부터 토출되는 세정액의 양과 같아지면, 홈부(720) 내에 있어서의 세정액의 액면이 대략 일정한 높이로 유지된다. 세정액의 공급량, 개구(726a)의 크기, 및 절결(727a)의 크기 및 높이 등을 조정함으로써, 홈부(720) 내에 있어서의 세정액의 액면의 높이를 조정할 수 있다. 본 예에서는, 슬릿 노즐(61)의 하면(61c)보다도 높아지도록 세정액의 액면의 높이가 조정된다. 또한, 복수의 개구(722a, 727c)보다도 높고 또한 복수의 개구(721a)보다도 낮아지도록 세정액의 액면의 높이가 조정된다.

이와 같이, 홈부(720) 내에 세정액이 저류됨으로써, 슬릿 노즐(61)의 적어도 경사면(61b)의 일부 및 하면(61c)의 전체가 세정액 중에 침지하는 상태가 유지된다. 이에 따라, 슬릿 노즐(61)의 경사면(61b) 및 하면(61c)에 비교적 약한 힘으로 부착되는 오염물을 제거할 수 있다. 또한, 세정액의 공급 및 배출이 계속됨으로써, 세정액의 흐름이 형성된다. 그 흐름의 힘에 의해서 슬릿 노즐(61)로부터 오염물을 제거할 수도 있다. 또한, 세정액의 공급 및 배출이 계속됨으로써, 홈부(720) 내의 세정액이 청정하게 유지된다. 따라서, 제거된 오염물이 슬릿 노즐(61)에 재부착하는 것이 방지된다.

또한, 홈부(720)로부터 오버플로우에 의해 세정액이 배출되는 개소에는, 오염물이 집중하기 쉽다. 이 때문에, 오버플로우에 의한 배출 개소의 근방에 있어서, 제거된 오염물이 슬릿 노즐(61)에 재부착할 가능성이 있다. 본 예에서는, 오버플로우에 의해서 세정액이 배출되는 개소가, 홈부(720)의 양 단부에 있어서의 절결(727a)(도 12)에 한정되고, 그 이외의 개소로부터 오버플로우에 의해서 세정액이 배출되지 않는다. 이 때문에, 슬릿 노즐(61)의 양단부 이외의 개소에, 제거된 오염물이 재부착하는 것이 방지된다. 또한, 슬릿 노즐(61)의 길이 방향(Y방향)에 있어서의 길이는 기판(W)의 직경보다도 크기 때문에, 슬릿 노즐(61)의 양단부가 기판(W)의 상방을 통과하지 않는다. 따라서, 슬릿 노즐(61)의 양단부에 오염물이 재부착해도, 그 오염물에 기인하여 기판(W)에 현상 결함 등이 발생하지 않는다. 또한, 절결(727a)의 근방에 오염물이 집중하므로, 대기 포드(70)의 메인티넌스를 효율적으로 행할 수 있어, 대기 포드(70)의 관리가 용이해진다.

계속하여, 도 14에 나타내는 바와 같이, 홈부(720)의 복수의 개구(721a, 722a, 723a) 및 도 12의 개구(727c)로부터 기체가 토출된다. 이에 따라, 개구(722a, 723a, 727c)로부터 토출되는 기체는, 홈부(720) 내의 세정액 중에 기포(G)로서 혼입된다.

이 경우, 개구(722a, 723a, 727c)로부터 토출된 기체에 의해서 형성된 기포(G)가, 슬릿 노즐(61)의 경사면(61b)에 충돌하고, 개구(727c)(도 12)로부터 토출된 기체에 의해서 형성된 기포(G)가, 슬릿 노즐(61)의 단면(61d)(도 9)에 충돌한다. 또한, 혼입된 기포(G)가 슬릿 노즐(61)의 하방으로 이동하여, 하면(61c)에 충돌한다. 이에 따라, 기포(G)의 충돌력에 의해서 슬릿 노즐(61)의 경사면(61b), 하면(61c) 및 단면(61d)에 부착되는 오염물이 제거된다. 또한, 기포(G)의 이동 및 충돌 등에 의해서 생기는 압력파에 의해 슬릿 노즐(61)의 경사면(61b), 하면(61c) 및 단면(61d)에 부착되는 오염물이 분쇄된다. 또한, 기포(G)가 오염물에 부착하여, 슬릿 노즐(61)의 경사면(61b), 하면(61c) 및 단면(61d)으로부터 오염물을 벗겨낸다.

또한, 복수의 기포(G)는, 충돌, 파열 및 합체를 반복함으로써, 홈부(720)의 상부 경사면(722)과 슬릿 노즐(61)의 경사면(61b)의 간극, 단부벽(727)(도 12)의 내면과 슬릿 노즐(61)의 단면(61d)(도 9)의 간극, 및 홈부(720)의 하부 경사면(723)과 슬릿 노즐(61)의 하면(61c)의 사이의 영역에 있어서 여러 방향으로 분산적으로 이동한다. 그에 따라, 슬릿 노즐(61)의 경사면(61b), 하면(61c) 및 단면(61d)에 대하여 균일하게 세정을 행할 수 있다.

또한, 한쪽의 상부 경사면(722)에 형성되는 복수의 개구(722a)의 위치와, 다른쪽의 상부 경사면(722)에 형성되는 복수의 개구(722a)의 위치가, Y방향에 있어서 서로 어긋나도록 설정됨으로써, Y방향에 있어서 기포(G)가 효율적으로 분산된다. 마찬가지로, 한쪽의 상부 경사면(722) 및 하부 경사면(723)의 경계 부분에 형성되는 복수의 개구(723a)의 위치와, 다른쪽의 상부 경사면(722) 및 하부 경사면(723)의 경계 부분에 형성되는 복수의 개구(723a)의 위치가, Y방향에 있어서 서로 어긋나도록 설정됨으로써, Y방향에 있어서 기포(G)가 효율적으로 분산된다. 따라서, 슬릿 노즐(61)의 경사면(61b) 및 하면(61c)에 대하여 보다 균일하게 세정을 행할 수 있다.

또한, 복수의 개구(721a)는 세정액의 액면보다도 높은 위치에 있으므로, 복수의 개구(721a)로부터 기체가 토출됨으로써, 세정액의 액면의 상방에 대략 수평 방향을 따른 기체의 흐름이 형성된다. 이 기체의 흐름이, 홈부(720) 내의 공간을 홈부(720)의 외부로부터 차단한다. 그에 따라, 세정액이 대기 포드(70)의 외측으로 비산하는 것이 방지된다. 따라서, 세정액이 스핀 쳐크(11) 상의 기판(W) 또는 반송 중의 기판(W) 등에 부착하는 것이 방지된다.

개구(722a, 723a, 727c)로부터의 기체의 토출시에는, 도 9의 흡인 장치(705)가 동작한다. 이에 따라, 세정액 및 제거된 오염물의 일부가 복수의 개구(725a)로부터 흡인되어, 배출된다. 따라서, 제거된 오염물이 슬릿 노즐(61)의 경사면(61b), 하면(61c) 및 단면(61d)(도 9)에 재부착하는 것이 억제된다.

기체의 토출이 개시되고 나서 일정 시간이 경과한 후, 개구(721a, 722a, 723a, 727c)로부터의 기체의 토출이 정지됨과 더불어, 개구(724a)로부터의 세정액의 토출이 정지된다. 이 경우, 절결(727a)(도 12) 및 개구(726a)로부터 세정액이 유출됨과 더불어 흡인 장치(705)에 의해 개구(725a)로부터 세정액이 흡인됨으로써, 홈부(720) 내의 세정액의 액면이 서서히 저하하고, 홈부(720) 내로부터 세정액이 거의 제거된다. 그 후, 흡인 장치(705)의 동작이 정지된다. 이에 따라, 슬릿 노즐(61)의 세정 처리가 종료한다.

(2－3) 세정액의 낙하

홈부(720)로부터 세정액이 배출될 때에, 슬릿 노즐(61)의 하면(61c)과 홈부(720)의 내면의 사이에 세정액이 유지된 상태이면, 그 세정액은, 슬릿 노즐(61)이 대기 포드(70)로부터 대피할 때까지 배출되지 않고 잔류한다. 이 때문에, 하면(61c)에 세정액의 큰 물방울이 부착한 상태에서 슬릿 노즐(61)이 대기 포드(70)로부터 기판(W)의 상방으로 이동하는 경우가 있다.

이 경우, 슬릿 노즐(61)에 부착하는 세정액이 기판(W) 상에 낙하하여, 기판(W)의 현상 결함이 발생할 가능성이 있다. 특히, 도 3의 대기 포드(70c)로부터 현상 처리 유닛(DEV2, DEV3)의 상방을 통과하여 현상 처리 유닛(DEV1)으로 이동할 때, 현상 처리 유닛(DEV1, DEV2, DEV3)의 어느 기판(W)에나, 슬릿 노즐(61)로부터 세정액이 낙하할 가능성이 있다. 이 때문에, 예를 들면 건조 후의 기판(W)에 세정액이 부착할 가능성이 있다.

또한, 슬릿 노즐(61)에 부착하는 세정액 중에 이물이 포함되어 있으면, 그 이물이 슬릿 노즐(61)에 고착하는 경우가 있다. 그 경우, 고착한 이물에 의해서 현상액의 토출 방향 등이 변화하고, 기판(W) 상에 적정하게 현상액의 액층을 형성할 수 없을 가능성이 있다.

본 실시의 형태에서는, 홈부(720)로부터 세정액이 배출될 때에, 슬릿 노즐(61)의 경사면(61b)에 부착하는 세정액은, 경사면(61b)을 따라 하면(61c)으로 이동한다. 슬릿 노즐(61)의 하면(61c)에 부착되는 세정액은, 자중으로 하부 경사면(723) 상에 낙하하고, 또한 하부 경사면(723)을 통하여 하방으로 이동하여, 개구(726a)를 통하여 배출된다.

이에 따라, 슬릿 노즐(61)의 하면(61c)과 홈부(720)의 하부 경사면(723)의 사이에서 세정액이 유지되지 않는다. 이 때문에, 슬릿 노즐(61)이 대기 포드(70)의 홈부(720)로부터 대피할 때, 슬릿 노즐(61)의 하면(61c)에 세정액의 큰 물방울이 부착하는 것이 방지된다. 따라서, 슬릿 노즐(61)이 기판(W)의 상방을 이동할 때, 슬릿 노즐(61)로부터 기판(W) 상에 세정액이 낙하하는 것이 방지된다. 또한, 세정액 중에 포함되는 이물이 슬릿 노즐(61)에 고착하는 것이 방지된다. 그 결과, 기판(W)의 현상 결함의 발생이 방지된다.

또한, 본 실시의 형태에서는, 슬릿 노즐(61)이 위치 결정된 상태에서, 슬릿 노즐(61)의 하면(61c)의 높이와 홈부(720)의 저부(하부 경사면(723)의 하단부)의 높이의 차 Hd(도 13(a))가 5mm 이상이 된다. 이에 따라, 슬릿 노즐(61)의 하면(61c)과 하부 경사면(723)의 사이에서 세정액이 유지되는 것이 보다 확실하게 방지된다.

여기서, 상기의 효과가 슬릿 노즐(61)의 하면(61c)의 높이와 홈부(720)의 저부의 높이의 차(이하, 노즐 하 간격이라고 부른다)에 의존하는 것을 확인하기 위해서, 다음의 평가를 행했다.

노즐 하 간격 Hd를 4mm, 5m, 6mm 및 7mm에 각각 설정하고, 상기와 같이 세정 처리를 행했다. 그 후, 슬릿 노즐(61)의 하면(61c)과 하부 경사면(723)의 사이에서 세정액이 유지되는지 여부를 조사했다. 각각의 경우에 있어서, 세정액으로서 순수를 이용하여, 세정액의 공급량을 0.6L/mim로 했다.

그 결과, 노즐 하 간격 Hd를 5mm, 6mm 및 7mm로 설정한 경우에는, 슬릿 노즐(61)이 홈부(720)로부터 대피할 때, 슬릿 노즐(61)로부터 홈부(720) 내에 세정액이 낙하하는 일이 없다. 이는, 슬릿 노즐(61)의 하면(61c)과 하부 경사면(723)의 사이에서 세정액이 유지되지 않은 것을 의미한다. 한편, 노즐 하 간격 Hd를 4mm로 설정한 경우에는, 슬릿 노즐(61)이 홈부(720)로부터 대피할 때, 액체가 튀는 상태가 확인되었다. 이러한 상태는, 슬릿 노즐(61)의 하면(61c)이 하부 경사면(723)으로부터 떨어짐으로써, 슬릿 노즐(61)의 하면(61c)과 하부 경사면(723)의 사이에 유지되어 있던 세정액이 분할됨으로써 발생했다고 생각된다.

이에 따라, 노즐 하 간격 Hd가 5mm 이상으로 설정됨으로써, 슬릿 노즐(61)의 하면(61c)과 하부 경사면(723)의 사이에서 세정액이 유지되는 것이 확실하게 방지되는 것을 알았다. 따라서, 노즐 하 간격 Hd가 5mm 이상으로 설정됨으로써, 기판(W) 상에의 세정액의 낙하 및 슬릿 노즐(61)에의 이물의 고착이 보다 확실하게 방지된다. 그 결과, 기판(W)의 현상 결함의 발생이 보다 확실하게 방지된다.

또한, 본 실시의 형태에서는, 홈부(720)의 횡단면의 면적이 홈부(720)의 상단으로부터 하단에 걸쳐 서서히 작아지도록 설정되므로, 대기 포드(70)의 대형화를 억제하면서 노즐 하 간격 Hd를 충분히 확보할 수 있다.

또한, 슬릿 노즐(61)의 형상, 홈부(720)의 형상 및 세정액의 종류 등이 상이하면, 슬릿 노즐(61)의 하면(61c)과 홈부(720)의 내면의 사이에 세정액이 유지되는 것을 방지 가능한 노즐 하 간격 Hd가 상이한 경우도 있다. 이 때문에, 다른 조건에 의해서 슬릿 노즐(61)의 하면(61c)과 홈부(720)의 내면의 사이에 세정액이 유지 되는 것이 방지된다면, 노즐 하 간격 Hd가 5mm보다 작아도 된다.

(2－4) 효과

이와 같이, 본 실시의 형태에 관련된 현상 처리 장치(1)에 있어서도, 슬릿 노즐(61)로부터 기판(W)에 현상액이 토출된 후, 대기 포드(70)에 있어서 기포가 혼입된 세정액에 의해 슬릿 노즐(61)의 세정 처리가 행해진다. 이에 따라, 슬릿 노즐(61)을 청정하게 할 수 있다. 그 결과, 슬릿 노즐(61)의 오염에 기인하는 기판(W)의 현상 결함의 발생을 방지할 수 있다.

또한, 본 실시의 형태에서는, 슬릿 노즐(61)의 일부가 홈부(720) 내에 수용된 상태에서 홈부(720)에 세정액이 저류되고, 저류된 세정액 중에 개구(722a, 723a, 727c)로부터 토출된 기체가 기포로서 혼입된다. 이에 따라, 기포가 혼입된 세정액 중에 슬릿 노즐(61)의 일부가 침지된 상태가 유지되므로, 슬릿 노즐(61)에 부착되는 오염물을 효과적으로 제거할 수 있다. 따라서, 슬릿 노즐(61)을 효율적으로 청정하게 할 수 있다.

또한, 본 실시의 형태에 관련된 현상 처리 장치(1)에 있어서는, 대기 포드(70)의 홈부(720)로부터 세정액이 배출된 후에, 슬릿 노즐(61)의 하면(61c)과 홈부(720)의 하부 경사면(723)의 사이에 세정액이 유지되지 않도록, 홈부(720)의 하부 경사면(723)이 형성된다.

이에 따라, 슬릿 노즐(61)이 홈부(720)로부터 대피할 때, 슬릿 노즐(61)의 하면(61c)에 세정액의 큰 물방울이 부착되는 것이 방지된다. 따라서, 슬릿 노즐(61)이 기판(W)의 상방을 이동하는 경우에, 세정 처리 후의 슬릿 노즐(61)로부터 기판(W) 상에 세정액이 낙하하는 것이 방지된다. 또한, 세정액 중에 포함되는 이물이 슬릿 노즐(61)에 고착하는 것이 방지된다. 이에 따라, 기판(W)의 현상 결함의 발생이 방지된다.

(2－5) 대기 포드의 변형예

(2－5－1)

개구(721a, 722a, 723a, 724a, 725a, 726a, 727c)의 위치, 수, 크기 및 형상 등은, 상기의 예에 한정되지 않고, 적절히 변경되어도 된다. 예를 들면, 복수의 개구(721a, 722a, 723a, 724a, 725a, 727c)가 각각 복수단에 설치되어도 되고, 복수의 개구(726a)가 서로 평행하게 형성되어도 된다. 또한, 개구(721a, 722a, 723a, 724a, 725a, 727c)가 각각 슬릿형상이어도 되고, 복수의 원형의 개구(726a)가 Y방향을 따라서 늘어서도록 설치되어도 된다.

(2－5－2)

홈부(720)의 형상은, 상기의 예에 한정되지 않는다. 도 15는, 홈부(720)의 다른 형상을 나타내는 모식적 단면도이다. 도 15에 있어서는, 개구(721a, 722a, 723a, 724a, 725a), 접속구(721c, 724c, 725c), 기체 공급로(721d), 세정액 공급로(724b) 및 배출로(725b)의 도시가 생략된다.

도 15(a)의 예에서는, 한쌍의 상부 경사면(722) 및 한쌍의 하부 경사면(723) 대신에 한쌍의 경사면(728)이 설치된다. 한쌍의 경사면(728)은, 한쌍의 측면(721)의 하단으로부터 서로 가까워지도록 비스듬히 하방으로 연장된다. 한쌍의 경사면(728)의 하단 부문에 개구(726a)가 형성된다.

한쌍의 경사면(728)은, 대기 포드(70)의 홈부(720)로부터 세정액이 배출된 후에 슬릿 노즐(61)의 하면(61c)과 홈부(720)의 경사면(728)의 사이에 세정액이 유지되지 않도록 설치된다. 또한, 슬릿 노즐(61)이 위치 결정된 상태에서, 슬릿 노즐(61)의 하면(61c)의 높이와 홈부(720)의 저부(경사면(728)의 하단부)의 높이의 차 Hd는 5mrn 이상인 것이 바람직하다.

도 15(b)의 예에서는, 한쌍의 측면(721)의 길이가 상기의 예보다도 크게 설정되고, 한쌍의 상부 경사면(722) 및 한쌍의 하부 경사면(723)의 대신에 저면(729)이 설치된다. 저면(729)에 복수의 개구(726a)가 형성된다.

한쌍의 측면(721) 및 저면(729)은, 대기 포드(70)의 홈부(720)로부터 세정액이 배출된 후에 슬릿 노즐(61)의 하면(61c)과 홈부(720)의 저면(729)의 사이에 세정액이 유지되지 않도록 설치된다. 또한, 슬릿 노즐(61)이 위치 결정된 상태에서, 슬릿 노즐(61)의 하면(61c)의 높이와 홈부(720)의 저부(저면(729))의 높이의 차 Hd는 5mm 이상인 것이 바람직하다.

도 15(a) 및 도 15(b)의 예에 있어서도, 슬릿 노즐(61)이 홈부(720)로부터 대피할 때에, 슬릿 노즐(61)의 하면(61c)에 세정액의 큰 물방울이 부착되는 것이 방지된다. 이에 따라, 슬릿 노즐(61)이 기판(W)의 상방을 이동하는 경우에, 세정 처리 후의 슬릿 노즐(61)로부터 기판(W) 상에 세정액이 낙하하는 것이 방지된다. 또한, 세정액 중에 포함되는 이물이 슬릿 노즐(61)에 고착하는 것이 방지된다. 이에 따라, 기판(W)의 현상 결함의 발생이 방지된다.

(2－5－3)

필요량의 세정액을 공급 가능하면, 한쪽의 하부 경사면(723)에만 개구(724a)가 형성되어도 된다. 또한, 저류되는 세정액에 필요량의 기포를 혼입 가능하면, 개구(722a, 723a, 727c) 중 적어도 1개가 형성되지 않아도 된다. 또한, 세정액이 대기 포드(70)의 외측에 비산하는 것을 방지 가능한 경우, 또는 방지할 필요가 없는 경우에는, 개구(721a)가 형성되지 않아도 된다.

(2－5－4)

제2의 실시의 형태에서는, 상부 경사면(722) 및 단부벽(727)에 기체를 토출하기 위한 개구(722a, 723a, 727c)가 형성되는데, 개구(722a, 723a, 727c)의 대신에, 또는 개구(722a, 723a, 727c)에 추가하여, 하부 경사면(723)에 기체를 토출하기 위한 개구가 형성되어도 된다. 또한, 제2의 실시의 형태에서는, 하부 경사면(723)에 액체를 토출하기 위한 개구(724a)가 형성되는데, 개구(724a) 대신에, 또는 개구(724a)에 추가하여, 상부 경사면(722)에 세정액을 배출하기 위한 개구가 형성되어도 된다.

(2－5－5)

제2의 실시의 형태에서는, 개구(721a, 722a, 723a, 727c)로부터 기체가 토출될 때 흡인 장치(705)에 의한 흡인이 행해지는데, 개구(721a, 722a, 723a, 727c)로부터 기체가 토출되기 전에 개구(724a)로부터 세정액이 토출될 때도, 흡인 장치(705)에 의한 흡인이 행해져도 된다. 이 경우, 제거된 오염물이 슬릿 노즐(61)에 재부착하는 것을 보다 확실하게 방지할 수 있다. 또한, 오염물의 재부착을 방지 가능한 경우 또는 방지할 필요가 없는 경우에는, 흡인 장치(705)에 의한 흡인이 행해져도 된다. 그 경우, 개구(725a)가 형성되지 않고, 개구(726a) 및 절결(727a)로부터의 배출만이 행해져도 된다.

(2－5－6)

제2의 실시의 형태에서는, 세정액이 개구(726a)로부터 자중에 의해서 배출되는데, 흡인 장치(705)에 의해서 세정액이 개구(726a)로부터 흡인되어도 된다. 또한, 홈부(720) 내에 세정액이 잔류하는 것을 방지 가능한 경우, 또는 방지할 필요가 없는 경우에는, 개구(726a)가 형성되지 않고, 개구(725a) 및 절결(727a)로부터의 배출만이 행해져도 된다.

(2－5－7)

제2의 실시의 형태에서는, 양쪽의 단부벽(727)에 절결(727a)이 설치되는데, 한쪽의 단부벽(727)에만 절결(727a)이 설치되어도 된다. 또한, 슬릿 노즐(61)을 청정하게 하는 것이 가능하면, 홈부(720)의 다른 개소로부터 세정액을 유출시켜도 된다.

(2－5－8)

제2의 실시의 형태에서는, 개구(722a, 723a, 727c)로부터 기체가 토출되고, 개구(724a)로부터 세정액이 토출되는데, 상기 제1의 실시의 형태와 마찬가지로, 세정액 중에 기체를 혼입하기 위한 기체 혼입 장치가 별도 설치되고, 기체 혼입 장치에 있어서 기체가 혼입된 세정액(기체 함유 세정액)이 개구(722a, 723a, 727c, 724a) 중 적어도 1개로부터 토출되어도 된다. 또한, 기체 함유 세정액을 토출하기 위한 개구가 별도로 형성되어도 된다.

(2－5－9)

제2의 실시의 형태에서는, 홈부(720)에 세정액이 저류되고, 저류된 세정액 중에 기포가 혼입됨으로써 슬릿 노즐(61)이 세정되는데, 슬릿 노즐(61)의 세정 방법은, 이에 한정되지 않는다. 예를 들면, 세정액 중에 기포가 혼입되지 않고, 저류된 세정액 중에 슬릿 노즐(61)의 일부가 침지되는 것만에 의해 슬릿 노즐(61)이 세정되어도 된다. 또는, 홈부(720)에 세정액이 저류되지 않고, 세정액이 슬릿 노즐(61)에 분무됨으로써, 슬릿 노즐(61)이 세정되어도 된다. 혹은, 기포가 혼입된 세정액이 슬릿 노즐(61)에 분무됨으로써, 슬릿 노즐(61)이 세정되어도 된다.

(3) 다른 실시의 형태

상기 제1 및 제2의 실시의 형태는, 슬릿형상의 토출구(61e)를 가지는 슬릿 노즐(61)을 구비한 현상 처리 장치에 본 발명이 적용된 예인데, 이에 한정되지 않고, 현상액을 토출하기 위한 1 또는 복수의 작은 구멍을 가지는 현상액 노즐을 구비한 현상 처리 장치에 본 발명이 적용되어도 된다. 그 경우도, 상기 제1 및 제2의 실시의 형태와 마찬가지로, 기포가 혼입된 세정액에 의해서 현상액 노즐의 세정 처리가 행해짐으로써, 현상액 노즐을 청정하게 할 수 있다. 이에 따라, 현상액 노즐의 오염에 기인하는 기판(W)의 현상 결함의 발생을 방지할 수 있다.

또한, 상기 제2의 실시의 형태와 마찬가지로, 현상액 노즐의 하면과 수용부의 내면에 세정액이 유지되지 않도록, 수용부의 내면이 형성됨으로써, 현상액 노즐이 기판(W)의 상방을 이동하는 경우에, 세정 처리 후의 현상액 노즐로부터 기판(W) 상에 세정액이 낙하하는 것이 방지된다. 또한, 세정액 중에 포함되는 이물이 현상액 노즐에 고착하는 것이 방지된다. 이에 따라, 기판(W)의 현상 결함의 발생이 방지된다.

(4) 청구항의 각 구성 요소와 실시 형태의 각 요소의 대응

이하, 청구항의 각 구성 요소와 실시 형태의 각 요소의 대응의 예에 대하여 설명하는데, 본 발명은 하기의 예에 한정되지 않는다.

상기 실시의 형태에서는, 현상 처리 장치(1)가 현상 처리 장치의 예이며, 스핀 쳐크(11)가 기판 유지부의 예이며, 슬릿 노즐(61)이 현상액 노즐의 예이며, 하면(61c)이 하면의 예이며, 토출구(61e)가 현상액 토출구의 예이며, 세정 처리부(700)가 세정 처리부의 예이며, 노즐 승강 기구(62) 및 노즐 슬라이드 기구(63)가 이동 장치의 예이다.

또한, 기포 혼입 장치(702)가 청구항 2의 기포 혼입부의 예이며, 대기 포드(70)가 청구항 2의 세정액 공급부의 예이며, 홈부(710)가 청구항 3의 수용부 및 청구항 4의 홈부의 예이며, 개구(712a)가 청구항 3의 세정액 토출구 및 청구항 5의 개구의 예이며, Y방향이 청구항 4, 10 및 12의 일방향의 예이며, 측면(711), 경사면(712) 및 저면(713)이 청구항 4의 내면의 예이며, 유출부(715)가 청구항 6의 유출부의 예이며, 개구(713a)가 청구항 7의 배출구의 예이며, 흡인 장치(705)가 청구항 8의 흡인 장치의 예이다. 또한, 홈부(720)가 청구항 9의 저류부, 청구항 11의 수용부 및 청구항 10 및 12의 홈부의 예이며, 개구(722a, 723a)가 청구항 9의 기포 혼입부, 청구항 10의 기체 토출구 및 청구항 18의 제1의 기체 토출구의 예이며, 측면(721), 상부 경사면(722) 및 하부 경사면(723)이 청구항 10의 내면의 예이며, 개구(724a)가 청구항 10의 세정액 토출구, 청구항 11의 세정액 공급부 및 청구항 12의 세정액 토출구의 예이다. 또한, 개구(726a)가 청구항 11의 배출부 및 청구항 13의 배출구의 예이며, 하부 경사면(723)이 청구항 14의 경사면의 예이며, 절결(727a)이 청구항 17의 유출부의 예이며, 개구(721a)가 청구항 19의 제2의 기체 토출구의 예이다.

청구항의 각 구성 요소로서, 청구항에 기재되어 있는 구성 또는 기능을 가지는 다른 여러 가지 요소를 이용할 수도 있다.

Claims

기판을 수평으로 유지하는 기판 유지부와,
현상액을 토출하기 위한 현상액 토출구를 가지는 현상액 노즐과,
상기 기판 유지부에 의해 유지되는 기판의 상방을 제외한 대기 위치에 설치되어, 상기 현상액 노즐의 세정 처리를 행하는 세정 처리부와,
상기 기판 유지부에 의해 유지되는 기판에 대하여 상기 현상액 노즐을 상대적으로 이동시킴과 더불어, 상기 기판 유지부에 의해 유지되는 기판에 상기 현상액 노즐에 의해 현상액이 토출된 후에 상기 현상액 노즐을 상기 대기 위치로 이동시키는 이동 장치를 구비하고,
상기 현상액 노즐은, 제1 및 제2 외면을 갖고, 또한 상기 제1 외면과 상기 제2 외면을 연결하는 하면을 가지며, 상기 제1 및 제2 외면과 상기 하면은 일방향을 따라 연장되고, 상기 제1 외면과 상기 제2 외면은 상기 하면에 관하여 서로 반대측에 위치하며,
상기 현상액 토출구는, 상기 하면에 설치되고,
상기 세정 처리부는,
세정액 중에 기포를 혼입시키는 것에 의해 기포 함유 세정액을 생성하는 기포 혼입부와,
상기 기포 혼입부에 의해 생성되는 기포 함유 세정액을 공급하는 세정액 공급부와,
상기 현상액 노즐의 적어도 상기 현상액 토출구를 포함하는 일부를 수용 가능한 홈부를 포함하는 수용부를 포함하며,
상기 홈부는, 상기 일방향을 따라 연장되는 제1 내면, 제2 내면 및 저부를 갖고, 상기 현상액 노즐이 상기 홈부에 수용된 상태에서, 상기 제1 내면, 상기 제2 내면 및 상기 저부는 상기 현상액 노즐의 상기 제1 외면, 상기 제2 외면 및 상기 하면에 각각 대향하며,
상기 홈부의 상기 제1 내면에는, 상기 현상액 노즐이 상기 홈부에 수용된 상태에서 상기 세정액 공급부에 의해 공급된 기포 함유 세정액을 토출하는 제1 세정액 토출구가 설치되고,
상기 홈부의 상기 제2 내면에는, 상기 현상액 노즐이 상기 홈부에 수용된 상태에서 상기 세정액 공급부에 의해 공급된 기포 함유 세정액을 토출하는 제2 세정액 토출구가 설치되며,
상기 세정액 공급부는, 상기 현상액 노즐이 상기 홈부에 수용된 상태에서 상기 홈부의 상기 제1 내면과 상기 현상액 노즐의 상기 제1 외면의 간극 및 상기 홈부의 상기 제2 내면과 상기 현상액 노즐의 상기 제2 외면의 간극에 기포 함유 세정액이 저류되면서 기포 함유 세정액의 상기 일방향의 흐름이 형성되도록 기포 함유 세정액을 공급하는, 현상 처리 장치.
청구항 1에 있어서,
상기 제1 세정액 토출구는, 상기 일방향으로 늘어서도록 상기 제1 내면에 설치된 복수의 제1 개구를 포함하며,
상기 제2 세정액 토출구는, 상기 일방향으로 늘어서도록 상기 제2 내면에 설치된 복수의 제2 개구를 포함하는, 현상 처리 장치.
청구항 1 또는 청구항 2에 있어서,
상기 현상액 노즐의 상기 제1 및 제2 외면은, 상기 하면으로부터 비스듬히 상방으로 점차 서로 멀어지도록 경사지는 제1 및 제2 경사면을 각각 포함하며,
상기 홈부의 상기 제1 및 제2 내면은, 상기 현상액 노즐이 수용된 상태에서 상기 현상액 노즐의 상기 제1 및 제2 외면에 각각 대향하도록 경사지는 제3 및 제4의 경사면을 각각 포함하고,
상기 제1 및 제2 세정액 토출구는, 상기 제3 및 제4 경사면에 각각 설치되는, 현상 처리 장치.
청구항 1 또는 청구항 2에 있어서,
상기 홈부의 적어도 일단에는, 상기 홈부 내에 공급된 세정액을 상기 홈부 외부로 유출시키는 유출부가 설치되는, 현상 처리 장치.
기판을 수평으로 유지하는 기판 유지부와,
현상액을 토출하기 위한 현상액 토출구를 가지는 현상액 노즐과,
상기 기판 유지부에 의해 유지되는 기판의 상방을 제외한 대기 위치에 설치되어, 상기 현상액 노즐의 세정 처리를 행하는 세정 처리부와,
상기 기판 유지부에 의해 유지되는 기판에 대하여 상기 현상액 노즐을 상대적으로 이동시킴과 더불어, 상기 기판 유지부에 의해 유지되는 기판에 상기 현상액 노즐에 의해 현상액이 토출된 후에 상기 현상액 노즐을 상기 대기 위치로 이동시키는 이동 장치를 구비하고,
상기 세정 처리부는,
상기 현상액 노즐의 적어도 상기 현상액 토출구를 포함하는 일부를 수용 가능하고 또한 세정액을 저류 가능한 수용부를 포함하며,
상기 현상액 노즐은, 제1 및 제2 외면을 갖고, 또한 상기 제1 외면과 상기 제2 외면을 연결하는 하면을 가지며, 상기 제1 외면과 상기 제2 외면은 상기 하면에 관하여 서로 반대측에 위치하고,
상기 현상액 토출구는, 상기 하면에 설치되며,
상기 수용부는, 제1 내면, 제2 내면 및 저부를 갖고, 상기 현상액 노즐이 상기 수용부에 수용된 상태에서, 상기 제1 내면의 적어도 일부, 상기 제2 내면의 적어도 일부 및 상기 저부는 상기 현상액 노즐의 상기 제1 외면, 상기 제2 외면 및 상기 하면에 각각 대향하고,
상기 수용부의 상기 제1 내면에는, 상기 현상액 노즐이 상기 수용부에 수용된 상태에서 상기 수용부 내에 세정액을 공급하는 제1 세정액 토출구 및 상기 수용부에 저류된 세정액에 기체를 공급하는 것에 의해 세정액에 기포를 혼입시키는 제1 기체 토출구가 설치되며,
상기 수용부의 상기 제2 내면에는, 상기 현상액 노즐이 상기 수용부에 수용된 상태에서 상기 수용부 내에 세정액을 공급하는 제2 세정액 토출구 및 상기 수용부에 저류된 세정액에 기체를 공급하는 것에 의해 세정액에 기포를 혼입시키는 제2 기체 토출구가 설치되는, 현상 처리 장치.
청구항 5에 있어서,
상기 현상액 노즐의 상기 제1 및 제2 외면과 상기 하면은 일방향을 따라 연장되고,
상기 수용부는, 상기 현상액 노즐의 적어도 상기 제1 및 제2 외면의 일부와 상기 하면을 수용가능한 홈부를 포함하며,
상기 홈부는, 상기 제1 및 제2 내면과 상기 저부를 갖고, 상기 제1 및 제2 내면과 상기 저부는, 상기 일방향을 따라 연장되고,
상기 제1 세정액 토출구는, 상기 일방향으로 늘어서도록 상기 제1 내면에 설치된 복수의 제1 개구를 포함하며,
상기 제2 세정액 토출구는, 상기 일방향으로 늘어서도록 상기 제2 내면에 설치된 복수의 제2 개구를 포함하고,
상기 제1 기체 토출구는, 상기 일방향으로 늘어서도록 상기 제1 내면에 설치된 복수의 제3 개구를 포함하며,
상기 제2 기체 토출구는, 상기 일방향으로 늘어서도록 상기 제2 내면에 설치된 복수의 제4 개구를 포함하는, 현상 처리 장치.
청구항 6에 있어서,
상기 제1 및 제2 내면의 하부 영역은, 서로 가까워지도록 상기 홈부의 저부까지 비스듬히 하방으로 연장되는, 현상 처리 장치.
청구항 6 또는 청구항 7에 있어서,
상기 홈부는, 제1 및 제2 단부벽을 갖고, 상기 제1 및 제2 세정액 토출구로부터 토출되는 세정액을 저류 가능하게 구성되며,
상기 제1 및 제2 단부벽의 적어도 한쪽에, 상기 홈부 내에서 일정 높이를 초과한 세정액을 상기 홈부 외부로 유출시키는 유출부가 설치되고,
상기 세정 처리부는,
상기 현상액 노즐이 상기 홈부에 수용된 상태에서 상기 홈부의 상기 제1 내면과 상기 현상액 노즐의 상기 제1 외면의 간극 및 상기 홈부의 상기 제2 내면과 상기 현상액 노즐의 상기 제2 외면의 간극에 세정액이 저류되면서 상기 유출부로부터 세정액이 유출하도록 세정액을 공급하는 세정액 공급부를 더 포함하는, 현상 처리 장치.
청구항 6 또는 청구항 7에 있어서,
상기 제1 기체 토출구는, 상기 일방향을 따라 늘어서는 복수의 제5 개구를 포함하고,
상기 제2 기체 토출구는, 상기 일방향을 따라 늘어서는 복수의 제6 개구를 포함하며,
상기 복수의 제5 개구와 상기 복수의 제6 개구는, 상기 일방향에 있어서 서로 어긋나게 설치되는, 현상 처리 장치.
청구항 5 내지 청구항 7 중 어느 한 항에 있어서,
상기 제1 및 제2 기체 토출구는, 상기 제1 및 제2 세정액 토출구보다도 상방에 위치하는, 현상 처리 장치.
청구항 1 또는 청구항 5에 있어서,
상기 수용부의 저부에, 상기 세정액 토출구로부터 토출된 세정액을 배출하기 위한 배출구가 설치되는, 현상 처리 장치.
청구항 11에 있어서,
상기 세정 처리부는, 상기 배출구를 통하여 상기 세정액 토출구로부터 토출된 세정액을 흡인하는 흡인 장치를 더 포함하는, 현상 처리 장치.
기판을 수평으로 유지하는 기판 유지부와,
현상액을 토출하기 위한 현상액 토출구가 설치된 하면을 가지는 현상액 노즐과,
상기 기판 유지부에 의해 유지되는 기판의 상방을 제외한 대기 위치에 설치되어, 상기 현상액 노즐의 세정 처리를 행하는 세정 처리부와,
상기 기판 유지부에 의해 유지되는 기판에 대하여 상기 현상액 노즐을 상대적으로 이동시킴과 더불어, 상기 기판 유지부에 의해 유지되는 기판에 상기 현상액 노즐에 의해 현상액이 토출된 후에 상기 현상액 노즐을 상기 대기 위치로 이동시키는 이동 장치를 구비하고,
상기 현상액 노즐은, 제1 및 제2 외면을 갖고, 또한 상기 제1 외면과 상기 제2 외면을 연결하는 하면을 가지며, 상기 제1 및 제2 외면과 상기 하면은 일방향을 따라 연장되고, 상기 제1 외면과 상기 제2 외면은 상기 하면에 관하여 서로 반대측에 위치하며,
상기 현상액 토출구는, 상기 하면에 설치되고,
상기 세정 처리부는,
상기 현상액 노즐의 적어도 상기 제1 및 제2 외면의 일부와 상기 하면을 수용 가능한 홈부를 포함하는 수용부와,
세정액을 공급하는 세정액 공급부와,
상기 홈부로부터 세정액을 배출하기 위한 배출부를 포함하며,
상기 홈부는, 상기 일방향을 따라 연장되는 제1 및 제2 내면을 갖고,
상기 제1 내면에는, 상기 현상액 노즐이 상기 홈부에 수용된 상태에서 상기 세정액 공급부로부터 공급되는 세정액을 토출 가능한 제1 세정액 토출구가 설치되며,
상기 제2 내면에는, 상기 현상액 노즐이 상기 홈부에 수용된 상태에서 상기 세정액 공급부로부터 공급되는 세정액을 토출 가능한 제2 세정액 토출구가 설치되고,
상기 홈부는, 제1 및 제2 단부벽을 갖고, 상기 제1 및 제2 세정액 토출구로부터 토출되는 세정액을 저류 가능하게 구성되며,
상기 제1 및 제2 단부벽의 적어도 한쪽에, 상기 홈부 내에서 일정 높이를 초과한 세정액을 상기 홈부의 외부로 유출시키는 유출부가 설치되고,
상기 세정액 공급부는, 상기 현상액 노즐이 상기 홈부에 수용된 상태에서 상기 홈부의 상기 제1 내면과 상기 현상액 노즐의 상기 제1 외면의 간극 및 상기 홈부의 상기 제2 내면과 상기 현상액 노즐의 상기 제2 외면의 간극에 세정액이 저류되면서 상기 유출부로부터 세정액이 유출되도록 세정액을 공급하며,
상기 배출부에 의한 세정액의 배출 후에, 상기 홈부에 상기 현상액 노즐이 수용된 상태에서, 상기 현상액 노즐의 상기 하면과 상기 홈부의 상기 제1 및 제2 내면의 사이에 세정액이 유지되지 않도록, 상기 제1 및 제2 내면이 형성되는, 현상 처리 장치.
기판을 수평으로 유지하는 기판 유지부와,
현상액을 토출하기 위한 현상액 토출구가 설치된 하면을 가지는 현상액 노즐과,
상기 기판 유지부에 의해 유지되는 기판의 상방을 제외한 대기 위치에 설치되어, 상기 현상액 노즐의 세정 처리를 행하는 세정 처리부와,
상기 기판 유지부에 의해 유지되는 기판에 대하여 상기 현상액 노즐을 상대적으로 이동시킴과 더불어, 상기 기판 유지부에 의해 유지되는 기판에 상기 현상액 노즐에 의해 현상액이 토출된 후에 상기 현상액 노즐을 상기 대기 위치로 이동시키는 이동 장치를 구비하고,
상기 현상액 노즐은, 제1 및 제2 외면을 갖고, 또한 상기 제1 외면과 상기 제2 외면을 연결하는 하면을 가지며, 상기 제1 및 제2 외면과 상기 하면은 일방향을 따라 연장되고, 상기 제1 외면과 상기 제2 외면은 상기 하면에 관하여 서로 반대측에 위치하며,
상기 현상액 토출구는, 상기 하면에 설치되고,
상기 세정 처리부는,
세정액을 공급하는 세정액 공급부와,
상기 현상액 노즐의 적어도 상기 제1 및 제2 외면의 일부와 상기 하면을 수용 가능한 홈부를 포함하는 수용부와,
세정액을 배출하기 위한 배출부를 포함하며,
상기 홈부는, 상기 일방향을 따라 연장되는 제1 및 제2 내면을 갖고,
상기 제1 내면에는, 상기 현상액 노즐이 상기 홈부에 수용된 상태에서 상기 세정액 공급부로부터 공급되는 세정액을 토출 가능한 제1 세정액 토출구가 설치되며,
상기 제2 내면에는, 상기 현상액 노즐이 상기 홈부에 수용된 상태에서 상기 세정액 공급부로부터 공급되는 세정액을 토출 가능한 제2 세정액 토출구가 설치되고,
상기 홈부는, 제1 및 제2 단부벽을 갖고, 상기 제1 및 제2 세정액 토출구로부터 토출되는 세정액을 저류 가능하게 구성되며,
상기 배출부에 의한 세정액의 배출 후에, 상기 홈부에 상기 현상액 노즐이 수용된 상태에서, 상기 현상액 노즐의 상기 하면과 상기 홈부의 상기 제1 및 제2 내면의 사이에 세정액이 유지되지 않도록, 상기 제1 및 제2 내면이 형성되고,
상기 현상액 노즐의 단면에는 돌출부가 설치되며,
상기 제1 및 제2 단부벽의 적어도 한쪽에는, 상기 현상액 노즐의 돌출부가 끼워맞춰지는 절결이 설치되고,
상기 돌출부는, 상기 현상액 노즐이 상기 홈부에 수용된 상태에서 상기 절결에 끼워맞춰져서 상기 현상액 노즐의 상기 하면의 높이와 상기 홈부의 저부의 높이의 차를 일정하게 유지하도록 설치되는, 현상 처리 장치.
기판을 수평으로 유지하는 기판 유지부와,
현상액을 토출하기 위한 현상액 토출구가 설치된 하면을 가지는 현상액 노즐과,
상기 기판 유지부에 의해 유지되는 기판의 상방을 제외한 대기 위치에 설치되어, 상기 현상액 노즐의 세정 처리를 행하는 세정 처리부와,
상기 기판 유지부에 의해 유지되는 기판에 대하여 상기 현상액 노즐을 상대적으로 이동시킴과 더불어, 상기 기판 유지부에 의해 유지되는 기판에 상기 현상액 노즐에 의해 현상액이 토출된 후에 상기 현상액 노즐을 상기 대기 위치로 이동시키는 이동 장치를 구비하고,
상기 현상액 노즐은, 제1 및 제2 외면을 갖고, 또한 상기 제1 외면과 상기 제2 외면을 연결하는 하면을 가지며, 상기 제1 및 제2 외면과 상기 하면은 일방향을 따라 연장되고, 상기 제1 외면과 상기 제2 외면은 상기 하면에 관하여 서로 반대측에 위치하며,
상기 현상액 토출구는, 상기 하면에 설치되고,
상기 세정 처리부는,
세정액을 공급하는 세정액 공급부와,
상기 현상액 노즐의 적어도 상기 제1 및 제2 외면의 일부와 상기 하면을 수용 가능한 홈부를 포함하는 수용부와,
세정액을 배출하기 위한 배출부를 포함하며,
상기 홈부는, 상기 일방향을 따라 연장되는 제1 및 제2 내면을 갖고,
상기 제1 내면에는, 상기 현상액 노즐이 상기 홈부에 수용된 상태에서 상기 세정액 공급부로부터 공급되는 세정액을 토출 가능한 제1 세정액 토출구가 설치되며,
상기 제2 내면에는, 상기 현상액 노즐이 상기 홈부에 수용된 상태에서 상기 세정액 공급부로부터 공급되는 세정액을 토출 가능한 제2 세정액 토출구가 설치되고,
상기 홈부는, 상기 제1 및 제2 세정액 토출구로부터 토출되는 세정액을 저류 가능하게 구성되며,
상기 제1 내면에는, 상기 현상액 노즐이 상기 홈부에 수용된 상태에서 상기 홈부에 저류된 세정액 중에 기체를 토출하는 복수의 제1 기체 토출구가 상기 일방향으로 늘어서도록 설치되고,
상기 제2 내면에는, 상기 현상액 노즐이 상기 홈부에 수용된 상태에서 상기 홈부에 저류된 세정액 중에 기체를 토출하는 복수의 제2 기체 토출구가 상기 일방향으로 늘어서도록 설치되며,
상기 복수의 제1 기체 토출구와 상기 복수의 제2 기체 토출구는, 상기 일방향에 있어서 서로 어긋나게 설치되는, 현상 처리 장치.
기판을 수평으로 유지하는 기판 유지부와,
현상액을 토출하기 위한 현상액 토출구가 설치된 하면을 가지는 현상액 노즐과,
상기 기판 유지부에 의해 유지되는 기판의 상방을 제외한 대기 위치에 설치되어, 상기 현상액 노즐의 세정 처리를 행하는 세정 처리부와,
상기 기판 유지부에 의해 유지되는 기판에 대하여 상기 현상액 노즐을 상대적으로 이동시킴과 더불어, 상기 기판 유지부에 의해 유지되는 기판에 상기 현상액 노즐에 의해 현상액이 토출된 후에 상기 현상액 노즐을 상기 대기 위치로 이동시키는 이동 장치를 구비하고,
상기 현상액 노즐은, 제1 및 제2 외면을 갖고, 또한 상기 제1 외면과 상기 제2 외면을 연결하는 하면을 가지며, 상기 제1 외면과 상기 제2 외면은 상기 하면에 관하여 서로 반대측에 위치하며,
상기 현상액 토출구는, 상기 하면에 설치되고,
상기 세정 처리부는,
상기 현상액 노즐의 적어도 상기 현상액 토출구를 포함하는 일부를 수용 가능한 수용부와,
상기 수용부로부터 세정액을 배출하기 위한 배출부를 포함하며,
상기 수용부는, 제1 및 제2 내면을 갖고,
상기 수용부의 상기 제1 및 제2 내면은, 제1 및 제2 세정액 토출구로부터 토출되는 세정액을 저류 가능하게 구성되며,
상기 수용부의 상기 제1 내면에는, 상기 현상액 노즐이 상기 수용부에 수용된 상태에서 상기 수용부 내에 세정액을 공급하는 상기 제1 세정액 토출구 및 상기 수용부에 저류된 세정액에 기체를 공급하는 것에 의해 세정액에 기포를 혼입시키는 제1 기체 토출구가 설치되고,
상기 수용부의 상기 제2 내면에는, 상기 현상액 노즐이 상기 수용부에 수용된 상태에서 상기 수용부 내에 세정액을 공급하는 상기 제2 세정액 토출구 및 상기 수용부에 저류된 세정액에 기체를 공급하는 것에 의해 세정액에 기포를 혼입시키는 제2 기체 토출구가 설치되며,
상기 배출부에 의한 세정액의 배출 후에, 상기 수용부에 상기 현상액 노즐이 수용된 상태에서, 상기 현상액 노즐의 상기 하면과 상기 수용부의 상기 제1 및 제2 내면의 사이에 세정액이 유지되지 않도록, 상기 수용부의 상기 제1 및 제2 내면이 형성되는, 현상 처리 장치.
청구항 16에 있어서,
상기 현상액 노즐의 상기 제1 및 제2 외면과 상기 하면은 일방향을 따라 연장되고,
상기 수용부는, 상기 현상액 노즐의 적어도 상기 제1 및 제2 외면의 일부와 상기 하면을 수용 가능한 홈부를 포함하며,
상기 홈부는, 상기 제1 및 제2 내면을 갖고, 상기 제1 및 제2 내면은, 상기 일방향을 따라 연장되며,
상기 제1 세정액 토출구는, 상기 일방향으로 늘어서도록 상기 제1 내면에 설치된 복수의 제1 개구를 포함하고,
상기 제2 세정액 토출구는, 상기 일방향으로 늘어서도록 상기 제2 내면에 설치된 복수의 제2 개구를 포함하는, 현상 처리 장치.
청구항 13 내지 청구항 15 및 청구항 17 중 어느 한 항에 있어서,
상기 제1 및 제2 내면의 하부 영역은, 서로 가까워지도록 상기 홈부의 저부까지 비스듬히 하방으로 연장되는, 현상 처리 장치.
청구항 13 내지 청구항 15 및 청구항 17 중 어느 한 항에 있어서,
상기 홈부의 상기 제1 및 제2 내면에, 상기 홈부의 상부 개구를 덮도록 기체를 토출하기 위한 제3 및 제4 기체 토출구가 각각 설치되는, 현상 처리 장치.
청구항 13 내지 청구항 15 및 청구항 17 중 어느 한 항에 있어서,
상기 배출부는, 상기 홈부의 저부에 설치된 배출구를 포함하는, 현상 처리 장치.
청구항 13 내지 청구항 15 및 청구항 17 중 어느 한 항에 있어서,
상기 홈부에 상기 현상액 노즐이 수용된 상태에서, 상기 현상액 노즐의 상기 하면의 하단의 높이와 상기 홈부의 저부의 높이의 차가 5mm 이상으로 설정되는, 현상 처리 장치.