JP5841492B2 - 現像処理装置 - Google Patents
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Description
(1−1)現像処理装置の構成
図1は、本実施の形態に係る現像処理装置の模式的平面図である。図2は、図1の現像処理装置の模式的側面図である。図1および図2、ならびに後述の図3以降の所定の図には、位置関係を明確にするために互いに直交するX方向、Y方向およびZ方向を示す矢印を付している。X方向およびY方向は水平面内で互いに直交し、Z方向は鉛直方向に相当する。
現像処理装置1の動作の概要について説明する。現像処理装置1の各構成要素の動作は、後述の制御部80(図4)により制御される。図3は、スリットノズル61の移動経路を示す図である。図3においては、3つの現像処理ユニットDEVをそれぞれ現像処理ユニットDEV1,DEV2,DEV3とし、3つの待機ポッド70をそれぞれ待機ポッド70a,70b,70cとする。現像処理ユニットDEV1,DEV2,DEV3は、この順でX方向に沿って並ぶ。現像処理ユニットDEV1,DEV2の間に待機ポッド70aが配置され、現像処理ユニットDEV2,DEV3の間に待機ポッド70bが配置され、現像処理ユニットDEV3の外側に待機ポッド70cが配置される。
待機ポッド70の詳細について説明する。図4は、待機ポッド70およびスリットノズル61の外観斜視図である。図5(a)は、待機ポッド70の平面図であり、図5(b)は、図5(a)のA1−A1線断面図である。図6は、図5(a)のB1−B1線断面図である。図7は、待機ポッド70の一端部を示す側面図である。
図4〜図7の待機ポッド70における洗浄処理について説明する。図8および図9は、図4〜図7の待機ポッド70における洗浄処理について説明するための模式的断面図である。まず、図8に示すように、スリットノズル61の少なくとも傾斜面61bおよび下面61cを含む下部が待機ポッド70の溝部720内に収容される。この場合、溝部720の一対の側面721が、スリットノズル61の一対の側面61aにそれぞれ対向し、溝部720の一対の上部傾斜面722が、スリットノズル61の一対の傾斜面61bにそれぞれ対向する。また、一対の端部壁727(図7)の内面がスリットノズル61の一対の端面61d(図4)にそれぞれ対向する。
溝部720から洗浄液が排出される際に、スリットノズル61の下面61cと溝部720の内面との間に洗浄液が保持された状態であると、その洗浄液は、スリットノズル61が待機ポッド70から待避するまで排出されることなく残留する。そのため、下面61cに洗浄液の大きな滴が付着した状態でスリットノズル61が待機ポッド70から基板Wの上方に移動することがある。
本実施の形態に係る現像処理装置1においては、待機ポッド70の溝部720から洗浄液が排出された後に、スリットノズル61の下面61cと溝部720の下部傾斜面723との間に洗浄液が保持されないように、溝部720の下部傾斜面723が形成される。
(2−1)
開口721a,722a,723a,724a,725a,726a,727cの位置、数、大きさおよび形状等は、上記の例に限定されず、適宜変更されてもよい。例えば、複数の開口721a,722a,723a,724a,725a,727cがそれぞれ複数段に設けられてもよく、複数の開口726aが互いに平行に形成されてもよい。また、開口721a,722a,723a,724a,725a,727cがそれぞれスリット状であってもよく、複数の円形の開口726aがY方向に沿って並ぶように設けられてもよい。
溝部720の形状は、上記の例に限定されない。図10は、溝部720の他の形状を示す模式的断面図である。図10においては、開口721a,722a,723a,724a,725a、接続口721c,724c,725c、気体供給路721d、洗浄液供給路724bおよび排出路725bの図示が省略される。
必要量の洗浄液を供給可能であれば、一方の下部傾斜面723にのみ開口724aが設けられてもよい。また、貯留される洗浄液に必要量の気泡を混入可能であれば、開口722a,723a,727cのうち少なくとも1つが設けられなくてもよい。また、洗浄液が待機ポッド70の外側に飛散することを防止可能である場合、または防止する必要がない場合には、開口721aが設けられなくてもよい。
上記実施の形態では、上部傾斜面722および端部壁727に気体を吐出するための開口722a,723a,727cが設けられるが、開口722a,723a,727cの代わりに、または開口722a,723a,727cに加えて、下部傾斜面723に気体を吐出するための開口が設けられてもよい。また、上記実施の形態では、下部傾斜面723に液体を吐出するための開口724aが設けられるが、開口724aの代わりに、または開口724aに加えて、上部傾斜面722に洗浄液を排出するための開口が設けられてもよい。
上記実施の形態では、開口721a,722a,723a,727cから気体が吐出されるときに吸引装置705による吸引が行われるが、開口721a,722a,723a,727cから気体が吐出される前であって開口724aからの洗浄液が吐出されるときにも、吸引装置705による吸引が行われてもよい。この場合、除去された汚染物がスリットノズル61に再付着することをより確実に防止することができる。また、汚染物の再付着を防止可能である場合または防止する必要がない場合には、吸引装置705による吸引が行われなくてもよい。その場合、開口725aが設けられずに、開口726aおよび切り欠き727aからの排出のみが行われてもよい。
上記実施の形態では、洗浄液が開口726aから自重によって排出されるが、吸引装置705によって洗浄液が開口726aから吸引されてもよい。また、溝部720内に洗浄液が残留することを防止可能である場合、または防止する必要がない場合には、開口726aが設けられずに、開口725aおよび切り欠き727aからの排出のみが行われてもよい。
上記実施の形態では、両方の端部壁727に切り欠き727aが設けられるが、一方の端部壁727にのみ切り欠き727aが設けられてもよい。また、スリットノズル61を清浄にすることが可能であれば、溝部720の他の箇所から洗浄液を流出させてもよい。
上記実施の形態では、溝部720に洗浄液が貯留され、貯留された洗浄液中に気泡が混入されることによりスリットノズル61が洗浄されるが、スリットノズル61の洗浄方法は、これに限らない。例えば、洗浄液中に気泡が混入されることなく、貯留された洗浄液中にスリットノズル61の一部が浸漬されることのみによりスリットノズル61が洗浄されてもよい。または、溝部720に洗浄液が貯留されることなく、洗浄液がスリットノズル61に噴きつけられることにより、スリットノズル61が洗浄されてもよい。あるいは、気泡が混入された洗浄液がスリットノズル61に噴きつけられることにより、スリットノズル61が洗浄されてもよい。
上記第1および第2の実施の形態は、スリット状の吐出口61eを有するスリットノズル61を備えた現像処理装置に本発明が適用された例であるが、これに限らず、現像液を吐出するための1または複数の小孔を有する現像液ノズルを備えた現像処理装置に本発明が適用されてもよい。その場合も、上記実施の形態と同様に、現像液ノズルの下面と収容部の内面に洗浄液が保持されないように、収容部の内面が形成される。これにより、現像液ノズルが基板Wの上方を移動する場合に、洗浄処理後の現像液ノズルから基板W上に洗浄液が落下することが防止される。また、洗浄液中に含まれる異物が現像液ノズルに固着することが防止される。これらにより、基板Wの現像欠陥の発生が防止される。
以下、請求項の各構成要素と実施の形態の各要素との対応の例について説明するが、本発明は下記の例に限定されない。
(4)参考形態
本参考形態に係る現像処理装置は、基板を略水平に保持する基板保持部と、現像液を吐出するための現像液吐出口が設けられた下面を有する現像液ノズルと、基板保持部により保持される基板の上方を除く待機位置に設けられ、現像液ノズルの洗浄処理を行う洗浄処理部と、基板保持部により保持される基板に対して現像液ノズルを相対的に移動させるとともに、基板保持部により保持される基板に現像液ノズルにより現像液が吐出された後に現像液ノズルを待機位置に移動させる移動装置とを備え、洗浄処理部は、現像液ノズルの少なくとも下面を収容可能に構成される収容部と、収容部に収容された現像液ノズルの下面に洗浄液を供給する洗浄液供給部と、洗浄液供給部により供給された洗浄液を収容部から排出するための排出部とを含み、排出部による洗浄液の排出後に、収容部に現像液ノズルが収容された状態で、現像液ノズルの下面と収容部の内面との間に洗浄液が保持されないように、収容部の内面が形成されるものである。
その現像処理装置においては、現像液ノズルが基板保持部により略水平に保持される基板に対して相対的に移動装置により移動される。現像液ノズルの現像液吐出口から基板上に現像液が吐出されることにより、基板の現像処理が行われる。現像液の吐出後に、現像液ノズルが基板保持部により保持される基板の上方を除く待機位置に移動装置により移動される。
待機位置に設けられた洗浄処理部において、現像液ノズルの少なくとも下面が収容部に収容される。収容部に収容された現像液ノズルの下面に洗浄液供給部により洗浄液が供給される。これにより、現像液ノズルの下面に付着する汚染物が除去される。供給された洗浄液は、排出部により収容部から排出される。
洗浄液が排出された後、収容部に現像液ノズルが収容された状態で、現像液ノズルの下面と収容部の内面との間に洗浄液が保持されない。これにより、現像液ノズルが収容部から待避するときに、現像液ノズルの下面に洗浄液の大きな滴が付着することが防止される。したがって、現像液ノズルが基板の上方を移動する場合に、洗浄処理後の現像液ノズルから基板上に洗浄液が落下することが防止される。また、洗浄液中に含まれる異物が現像液ノズルに固着することが防止される。これらにより、基板の現像欠陥の発生が防止される。
現像液ノズルの下面は一方向に沿って延びるように設けられ、現像液吐出口は、一方向に沿って延びるように下面に設けられ、収容部は、一方向に沿って延びる溝部を含み、洗浄液を吐出するための洗浄液吐出口が洗浄液供給部として溝部の内面に設けられてもよい。
この場合、一方向に沿って延びる溝部に現像液ノズルが収容された状態で、溝部の内面に設けられた洗浄液供給口から現像液ノズルに洗浄液が吐出される。溝部の内面は、現像液ノズルの下面と溝部の内面との間に洗浄液が保持されないように形成される。それにより、現像液ノズルが基板の上方を移動する場合に、一方向に沿って延びる現像液ノズルの下面から基板上に洗浄液が落下することが防止されるとともに、現像液ノズルに異物が固着することが防止される。その結果、基板の現像欠陥の発生が防止される。
排出部は、溝部の底部に設けられた排出口を含んでもよい。この場合、溝部の底部から洗浄液が排出されるので、溝部内に洗浄液が残留しにくくなる。それにより、現像液ノズルの下面と溝部の内面との間に洗浄液が保持されることがより確実に防止される。
溝部は、排出口から外側斜め上方に傾斜する傾斜面を有してもよい。この場合、溝部内に残留する洗浄液、および現像液ノズルから溝部内に落下した洗浄液が、傾斜面を伝って排出口に導かれ、排出口から排出される。それにより、溝部内に洗浄液がより残留しにくくなる。したがって、現像液ノズルの下面と溝部の内面との間に洗浄液が保持されることがより確実に防止される。
溝部に現像液ノズルが収容された状態で、現像液ノズルの下面の下端の高さと溝部の底部の高さとの差が5mm以上に設定されてもよい。
この場合、現像液ノズルの下面と溝部の内面との間に洗浄液が保持されることがより確実に防止される。
溝部は、洗浄液吐出口から供給される洗浄液を貯留可能に構成されてもよい。
この場合、貯留された洗浄液中に現像液ノズルの少なくとも一部が浸漬する状態が維持される。それにより、現像液ノズルに付着する汚染物を効率よく除去することができる。
溝部の少なくとも一端に、溝部に貯留される洗浄液が流出可能な流出部が設けられてもよい。
この場合、貯留された洗浄液が溝部内で流動する。それにより、現像液ノズルに付着する汚染物をより効果的に除去することができる。
溝部に貯留される洗浄液の液面よりも低い溝部の内面の位置に、気体を吐出するための第1の気体吐出口が設けられてもよい。
この場合、第1の気体吐出口から気体が吐出されることにより、溝部に貯留された洗浄液中に気泡が混入される。洗浄液中の気泡が現像液ノズルに衝突すると、その衝突力により、現像液ノズルに付着する汚染物が除去される。また、気泡の移動および衝突等によって生じる圧力波により現像液ノズルに付着する汚染物が粉砕される。さらに、気泡が汚染物に付着し、現像液ノズルから汚染物を剥ぎ取る。それにより、現像液ノズルを清浄にすることができる。
溝部の内面に、溝部の上部開口を覆うように気体を吐出するための第2の気体吐出口が設けられてもよい。
この場合、第2の気体吐出口から気体が吐出されることにより、洗浄液が溝部の外側に飛散することが防止される。したがって、洗浄液が基板に付着することが防止される。
6 現像液供給部
11 スピンチャック
61 スリットノズル
61a 側面
61b 傾斜面
61c 下面
61d 端面
61e 吐出口
62 ノズル昇降機構
63 ノズルスライド機構
70 待機ポッド
700 洗浄処理部
705 吸引装置
720 溝部
721 側面
721a,722a,723a,724a,725a,726a,726c,727c 開口
721d,724b 洗浄液供給路
721c,724c,725c 接続口
725b,726b 排出路
721d 気体供給路
721x,721b,722b,723b,727d 供給路
722 上部傾斜面
723 下部傾斜面
DEV 現像処理ユニット
Claims (9)
- 基板を略水平に保持する基板保持部と、
現像液を吐出するための現像液吐出口が設けられた下面を有する現像液ノズルと、
前記基板保持部により保持される基板の上方を除く待機位置に設けられ、前記現像液ノズルの洗浄処理を行う洗浄処理部と、
前記基板保持部により保持される基板に対して前記現像液ノズルを相対的に移動させるとともに、前記基板保持部により保持される基板に前記現像液ノズルにより現像液が吐出された後に前記現像液ノズルを前記待機位置に移動させる移動装置とを備え、
前記現像液ノズルは、第1および第2の外面を有し、かつ前記第1の外面と前記第2の外面とをつなぐ下面を有し、前記第1および第2の外面ならびに前記下面は一方向に沿って延び、前記第1の外面と前記第2の外面とは前記下面に関して互いに反対側に位置し、
前記現像液吐出口は、前記下面に設けられ、
前記洗浄処理部は、
前記現像液ノズルの少なくとも前記第1および第2の外面の一部ならびに前記下面を収容可能な溝部を含む収容部と、
洗浄液を供給する洗浄液供給部と、
前記溝部から洗浄液を排出するための排出部とを含み、
前記溝部は、前記一方向に沿って延びる第1および第2の内面を有し、
前記第1の内面には、前記現像液ノズルが前記溝部に収容された状態で前記洗浄液供給部から供給される洗浄液を吐出可能な第1の洗浄液吐出口が設けられ、
前記第2の内面には、前記現像液ノズルが前記溝部に収容された状態で前記洗浄液供給部から供給される洗浄液を吐出可能な第2の洗浄液吐出口が設けられ、
前記溝部は、第1および第2の端部壁を有し、前記第1および第2の洗浄液吐出口から吐出される洗浄液を貯留可能に構成され、
前記第1および第2の端部壁の少なくとも一方に、前記溝部内で一定高さを超えた洗浄液を前記溝部の外部に流出させる流出部が設けられ、
前記洗浄液供給部は、前記現像液ノズルが前記溝部に収容された状態で前記溝部の前記第1の内面と前記現像液ノズルの前記第1の外面との隙間および前記溝部の前記第2の内面と前記現像液ノズルの前記第2の外面との隙間に洗浄液が貯留されつつ前記流出部から洗浄液が流出するように洗浄液を供給し、
前記排出部による洗浄液の排出後に、前記溝部に前記現像液ノズルが収容された状態で、前記現像液ノズルの前記下面と前記溝部の前記第1および第2の内面との間に洗浄液が保持されないように、前記第1および第2の内面が形成される、現像処理装置。 - 基板を略水平に保持する基板保持部と、
現像液を吐出するための現像液吐出口が設けられた下面を有する現像液ノズルと、
前記基板保持部により保持される基板の上方を除く待機位置に設けられ、前記現像液ノズルの洗浄処理を行う洗浄処理部と、
前記基板保持部により保持される基板に対して前記現像液ノズルを相対的に移動させるとともに、前記基板保持部により保持される基板に前記現像液ノズルにより現像液が吐出された後に前記現像液ノズルを前記待機位置に移動させる移動装置とを備え、
前記現像液ノズルは、第1および第2の外面を有し、かつ前記第1の外面と前記第2の外面とをつなぐ下面を有し、前記第1および第2の外面ならびに前記下面は一方向に沿って延び、前記第1の外面と前記第2の外面とは前記下面に関して互いに反対側に位置し、
前記現像液吐出口は、前記下面に設けられ、
前記洗浄処理部は、
洗浄液を供給する洗浄液供給部と、
前記現像液ノズルの少なくとも前記第1および第2の外面の一部ならびに前記下面を収容可能な溝部を含む収容部と、
洗浄液を排出するための排出部とを含み、
前記溝部は、前記一方向に沿って延びる第1および第2の内面を有し、
前記第1の内面には、前記現像液ノズルが前記溝部に収容された状態で前記洗浄液供給部から供給される洗浄液を吐出可能な第1の洗浄液吐出口が設けられ、
前記第2の内面には、前記現像液ノズルが前記溝部に収容された状態で前記洗浄液供給部から供給される洗浄液を吐出可能な第2の洗浄液吐出口が設けられ、
前記溝部は、第1および第2の端部壁を有し、前記第1および第2の洗浄液吐出口から吐出される洗浄液を貯留可能に構成され、
前記排出部による洗浄液の排出後に、前記溝部に前記現像液ノズルが収容された状態で、前記現像液ノズルの前記下面と前記溝部の前記第1および第2の内面との間に洗浄液が保持されないように、前記第1および第2の内面が形成され、
前記現像液ノズルの端面には突出部が設けられ、
前記第1および第2の端部壁の少なくとも一方には、前記現像ノズルの突出部が嵌合する切り欠きが設けられ、
前記突出部は、前記現像液ノズルが前記溝部に収容された状態で前記切り欠きに嵌合して前記現像液ノズルの前記下面の高さと前記溝部の底部の高さとの差を一定に保持するように設けられる、現像処理装置。 - 基板を略水平に保持する基板保持部と、
現像液を吐出するための現像液吐出口が設けられた下面を有する現像液ノズルと、
前記基板保持部により保持される基板の上方を除く待機位置に設けられ、前記現像液ノズルの洗浄処理を行う洗浄処理部と、
前記基板保持部により保持される基板に対して前記現像液ノズルを相対的に移動させるとともに、前記基板保持部により保持される基板に前記現像液ノズルにより現像液が吐出された後に前記現像液ノズルを前記待機位置に移動させる移動装置とを備え、
前記現像液ノズルは、第1および第2の外面を有し、かつ前記第1の外面と前記第2の外面とをつなぐ下面を有し、前記第1および第2の外面ならびに前記下面は一方向に沿って延び、前記第1の外面と前記第2の外面とは前記下面に関して互いに反対側に位置し、
前記現像液吐出口は、前記下面に設けられ、
前記洗浄処理部は、
洗浄液を供給する洗浄液供給部と、
前記現像液ノズルの少なくとも前記第1および第2の外面の一部ならびに前記下面を収容可能な溝部を含む収容部と、
洗浄液を排出するための排出部とを含み、
前記溝部は、前記一方向に沿って延びる第1および第2の内面を有し、
前記第1の内面には、前記現像液ノズルが前記溝部に収容された状態で前記洗浄液供給部から供給される洗浄液を吐出可能な第1の洗浄液吐出口が設けられ、
前記第2の内面には、前記現像液ノズルが前記溝部に収容された状態で前記洗浄液供給部から供給される洗浄液を吐出可能な第2の洗浄液吐出口が設けられ、
前記溝部は、前記第1および第2の洗浄液吐出口から吐出される洗浄液を貯留可能に構成され、
前記第1の内面には、前記現像液ノズルが前記溝部に収容された状態で前記溝部に貯留された洗浄液中に気体を吐出する複数の第1の気体吐出口が前記一方向に並ぶように設けられ、
前記第2の内面には、前記現像液ノズルが前記溝部に収容された状態で前記溝部に貯留された洗浄液中に気体を吐出する複数の第2の気体吐出口が前記一方向に並ぶように設けられ、
前記複数の第1の気体吐出口と前記複数の第2の気体吐出口とは、前記一方向において互いにずれるように設けられる、現像処理装置。 - 基板を略水平に保持する基板保持部と、
現像液を吐出するための現像液吐出口が設けられた下面を有する現像液ノズルと、
前記基板保持部により保持される基板の上方を除く待機位置に設けられ、前記現像液ノズルの洗浄処理を行う洗浄処理部と、
前記基板保持部により保持される基板に対して前記現像液ノズルを相対的に移動させるとともに、前記基板保持部により保持される基板に前記現像液ノズルにより現像液が吐出された後に前記現像液ノズルを前記待機位置に移動させる移動装置とを備え、
前記現像液ノズルは、第1および第2の外面を有し、かつ前記第1の外面と前記第2の外面とをつなぐ下面を有し、前記第1の外面と前記第2の外面とは前記下面に関して互いに反対側に位置し、
前記現像液吐出口は、前記下面に設けられ、
前記洗浄処理部は、
前記現像液ノズルの少なくとも前記現像液吐出口を含む一部を収容可能な収容部と、
前記収容部から洗浄液を排出するための排出部とを含み、
前記収容部は、第1および第2の内面を有し、
前記収容部の前記第1および第2の内面は、前記第1および第2の洗浄液吐出口から吐出される洗浄液を貯留可能に構成され、
前記収容部の前記第1の内面には、前記現像液ノズルが前記収容部に収容された状態で前記収容部内に洗浄液を供給する第1の洗浄液吐出口および前記収容部に貯留された洗浄液に気体を供給することにより洗浄液に気泡を混入させる第1の気体吐出口が設けられ、
前記収容部の前記第2の内面には、前記現像液ノズルが前記収容部に収容された状態で前記収容部内に洗浄液を供給する第2の洗浄液吐出口および前記収容部に貯留された洗浄液に気体を供給することにより洗浄液に気泡を混入させる第2の気体吐出口が設けられ、
前記排出部による洗浄液の排出後に、前記収容部に前記現像液ノズルが収容された状態で、前記現像液ノズルの前記下面と前記収容部の前記第1および第2の内面との間に洗浄液が保持されないように、前記収容部の前記第1および第2の内面が形成される、現像処理装置。 - 前記現像液ノズルの前記第1および第2の外面ならびに前記下面は一方向に沿って延び、
前記収容部は、前記現像液ノズルの少なくとも前記第1および第2の外面の一部ならびに前記下面を収容可能な溝部を含み、
前記溝部は、前記第1および第2の内面を有し、前記第1および第2の内面は、前記一方向に沿って延び、
前記第1の洗浄液吐出口は、前記一方向に並ぶように前記第1の内面に設けられた複数の第1の開口を含み、
前記第2の洗浄液吐出口は、前記一方向に並ぶように前記第2の内面に設けられた複数の第2の開口を含む、請求項4記載の現像処理装置。 - 前記第1および第2の内面の下部領域は、互いに近づくように前記溝部の底部まで斜め下方に延びる、請求項1〜3および5のいずれか一項に記載の現像処理装置。
- 前記溝部の前記第1および第2の内面に、前記溝部の上部開口を覆うように気体を吐出するための第3および第4の気体吐出口がそれぞれ設けられる、請求項1〜3、5および6のいずれか一項に記載の現像処理装置。
- 前記排出部は、前記溝部の底部に設けられた排出口を含む、請求項1〜3および5〜7のいずれか一項に記載の現像処理装置。
- 前記溝部に前記現像液ノズルが収容された状態で、前記現像液ノズルの前記下面の下端の高さと前記溝部の底部の高さとの差が5mm以上に設定される、請求項1〜3および5〜8のいずれか一項に記載の現像処理装置。
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