JP5841493B2 - 現像処理装置 - Google Patents
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Description
この場合、現像液ノズルから除去された汚染物を洗浄液とともに排出口を通して排出することができる。それにより、除去された汚染物が現像液ノズルに再付着することを防止することができる。
この場合、排出口を通して洗浄液および除去された汚染物をより効率よく排出することができる。それにより、除去された汚染物が現像液ノズルに再付着することをより確実に防止することができる。
(1−1)現像処理装置の構成
図1は、本実施の形態に係る現像処理装置の模式的平面図である。図2は、図1の現像処理装置の模式的側面図である。図1および図2、ならびに後述の図3以降の所定の図には、位置関係を明確にするために互いに直交するX方向、Y方向およびZ方向を示す矢印を付している。X方向およびY方向は水平面内で互いに直交し、Z方向は鉛直方向に相当する。
現像処理装置1の動作の概要について説明する。現像処理装置1の各構成要素の動作は、後述の制御部80(図4)により制御される。図3は、スリットノズル61の移動経路を示す図である。図3においては、3つの現像処理ユニットDEVをそれぞれ現像処理ユニットDEV1,DEV2,DEV3とし、3つの待機ポッド70をそれぞれ待機ポッド70a,70b,70cとする。現像処理ユニットDEV1,DEV2,DEV3は、この順でX方向に沿って並ぶ。現像処理ユニットDEV1,DEV2の間に待機ポッド70aが配置され、現像処理ユニットDEV2,DEV3の間に待機ポッド70bが配置され、現像処理ユニットDEV3の外側に待機ポッド70cが配置される。
待機ポッド70の詳細について説明する。図4は、待機ポッド70およびスリットノズル61の外観斜視図である。図5(a)は、待機ポッド70の平面図であり、図5(b)は、図5(a)のA1−A1線断面図である。図6は、図5(a)のB1−B1線断面図である。
上記のように、スリットノズル61は、各現像処理ユニットDEV(図1)において基板Wに現像液を吐出した後、その現像処理ユニットDEVに隣り合う待機ポッド70上に移動する。待機ポッド70においては、スリットノズル61の洗浄処理が行われる。
本実施の形態に係る現像処理装置1においては、スリットノズル61から基板Wに現像液が吐出された後、待機ポッド70において気泡が混入された洗浄液によりスリットノズル61の洗浄処理が行われる。それにより、スリットノズル61を清浄にすることができる。その結果、スリットノズル61の汚染に起因する基板Wの現像欠陥の発生を防止することができる。
(1−6−1)
開口712a,713aの位置、数、大きさおよび形状等は、上記の例に限定されず、適宜変更されてもよい。例えば、複数の開口712aが複数段に設けられてもよく、複数の開口713aが複数列を形成するように設けられてもよい。また、開口712a,713aがそれぞれスリット状であってもよい。
第1の実施の形態では、傾斜面712に洗浄液を吐出するための開口712aが設けられるが、開口712aの代わりに、または開口712aに加えて、底面713に洗浄液を吐出するための開口が設けられてもよい。また、第1の実施の形態では、底面713に洗浄液を排出するための開口713aが設けられるが、開口713aの代わりに、または開口713aに加えて、傾斜面712に洗浄液を排出するための開口が設けられてもよい。
第1の実施の形態では、開口712aからの気泡含有洗浄液の吐出時に吸引装置705による吸引が行われるが、汚染物の再付着を防止可能である場合または防止する必要がない場合には、吸引装置705による吸引が行われなくてもよい。その場合、気泡含有洗浄液および汚染物が複数の開口713aから自重によって排出されてもよく、または複数の開口713aが設けられなくてもよい。
第1の実施の形態では、溝部710の両端部に流出部715が設けられるが、一方の端部にのみ流出部715が設けられてもよい。また、一方向に沿った洗浄液の流れを形成可能である場合、または形成する必要がない場合には、溝部710の他の箇所から洗浄液を流出させてもよい。
開口712aから気泡含有洗浄液が吐出される前に、開口712aから現像液が吐出されてもよい。この場合、スリットノズル61に付着するレジスト残渣を溶解して除去することができる。また、開口712aから現像液が吐出される代わりに、現像液を吐出するための開口が別途設けられてもよい。
本発明の第2の実施の形態について、上記第1の実施の形態と異なる点を説明する。第2の実施の形態においては、図4〜図6の待機ポッド70の代わりに、以下の図9〜図11に示す待機ポッド70が用いられる。
図9(a)は、第2の実施の形態における待機ポッド70の平面図であり、図9(b)は図9(a)のA2−A2線断面図である。図10は、図9(a)のB2−B2線断面図である。図11は、図9(a)の待機ポッド70の一端部を示す側面図である。図9〜図11の待機ポッド70について、図4〜図6の待機ポッド70と異なる点を説明する。
図9〜図11の待機ポッド70における洗浄処理について説明する。図12および図13は、図9〜図11の待機ポッド70における洗浄処理について説明するための模式的断面図である。まず、図12に示すように、スリットノズル61の少なくとも傾斜面61bおよび下面61cを含む下部が待機ポッド70の溝部720内に収容される。この場合、溝部720の一対の側面721が、スリットノズル61の一対の側面61aにそれぞれ対向し、溝部720の一対の上部傾斜面722が、スリットノズル61の一対の傾斜面61bにそれぞれ対向する。また、一対の端部壁727(図11)の内面がスリットノズル61の一対の端面61d(図4)にそれぞれ対向する。
溝部720から洗浄液が排出される際に、スリットノズル61の下面61cと溝部720の内面との間に洗浄液が保持された状態であると、その洗浄液は、スリットノズル61が待機ポッド70から待避するまで排出されることなく残留する。そのため、下面61cに洗浄液の大きな滴が付着した状態でスリットノズル61が待機ポッド70から基板Wの上方に移動することがある。
このように、本実施の形態に係る現像処理装置1においても、スリットノズル61から基板Wに現像液が吐出された後、待機ポッド70において気泡が混入された洗浄液によりスリットノズル61の洗浄処理が行われる。それにより、スリットノズル61を清浄にすることができる。その結果、スリットノズル61の汚染に起因する基板Wの現像欠陥の発生を防止することができる。
(2−5−1)
開口721a,722a,723a,724a,725a,726a,727cの位置、数、大きさおよび形状等は、上記の例に限定されず、適宜変更されてもよい。例えば、複数の開口721a,722a,723a,724a,725a,727cがそれぞれ複数段に設けられてもよく、複数の開口726aが平行に形成されてもよい。また、開口721a,722a,723a,724a,725a,727cがそれぞれスリット状であってもよく、複数の円形の開口726aがY方向に沿って並ぶように設けられてもよい。
必要量の洗浄液を供給可能であれば、一方の下部傾斜面723にのみ開口724aが設けられてもよい。また、貯留される洗浄液に必要量の気泡を混入可能であれば、開口722a,723a,727cのうち少なくとも1つが設けられなくてもよい。また、洗浄液が待機ポッド70の外側に飛散することを防止可能である場合、または防止する必要がない場合には、開口721aが設けられなくてもよい。
第2の実施の形態では、上部傾斜面722および端部壁727に気体を吐出するための開口722a,723a,727cが設けられるが、開口722a,723a,727cの代わりに、または開口722a,723a,727cに加えて、下部傾斜面723に気体を吐出するための開口が設けられてもよい。また、第2の実施の形態では、下部傾斜面723に液体を吐出するための開口724aが設けられるが、開口724aの代わりに、または開口724aに加えて、上部傾斜面722に洗浄液を排出するための開口が設けられてもよい。
第2の実施の形態では、開口721a,722a,723a,727cからの気体の吐出時に吸引装置705による吸引が行われるが、開口724aからの洗浄液の吐出のみが行われる期間にも、吸引装置705による吸引が行われてもよい。この場合、除去された汚染物がスリットノズル61に再付着することをより確実に防止することができる。また、汚染物の再付着を防止可能である場合または防止する必要がない場合には、吸引装置705による吸引が行われなくてもよい。その場合、開口725aが設けられずに、開口726aおよび切り欠き727aからの排出のみが行われてもよい。
第2の実施の形態では、洗浄液が開口726aから自重によって排出されるが、吸引装置705によって洗浄液が開口726aから吸引されてもよい。また、溝部720内に洗浄液が残留することを防止可能である場合、または防止する必要がない場合には、開口726aが設けられずに、開口725aおよび切り欠き727aからの排出のみが行われてもよい。
第2の実施の形態では、両方の端部壁727に切り欠き727aが設けられるが、一方の端部壁727にのみ切り欠き727aが設けられてもよい。また、スリットノズル61を清浄にすることが可能であれば、溝部720の他の箇所から洗浄液を流出させてもよい。
第2の実施の形態では、開口722a,723a,727cから気体が吐出され、開口724aから洗浄液が吐出されるが、上記第1の実施の形態と同様に、洗浄液中に気体を混入するための気体混入装置が別途設けられ、気体混入装置において気体が混入された洗浄液(気体含有洗浄液)が開口722a,723a,727c,724aの少なくとも1つから吐出されてもよい。また、気体含有洗浄液を吐出するための開口が別途設けられてもよい。
上記第1および第2の実施の形態は、スリット状の吐出口61eを有するスリットノズル61を備えた現像処理装置に本発明が適用された例であるが、これに限らず、現像液を吐出するための1または複数の小孔を有する現像液ノズルを備えた現像処理装置に本発明が適用されてもよい。その場合も、上記実施の形態と同様に、気泡が混入された洗浄液によって現像液ノズルの洗浄処理が行われることにより、現像液ノズルを清浄にすることができる。それにより、現像液のノズルの汚染に起因する基板Wの現像欠陥の発生を防止することができる。
以下、請求項の各構成要素と実施の形態の各要素との対応の例について説明するが、本発明は下記の例に限定されない。
(5)参考形態
本参考形態に係る現像処理装置は、基板を略水平に保持する基板保持部と、現像液を吐出するための現像液吐出口を有する現像液ノズルと、基板保持部により保持される基板の上方を除く待機位置に設けられ、現像液ノズルの洗浄処理を行う洗浄処理部と、基板保持部により保持される基板に対して現像液ノズルを相対的に移動させるとともに、基板保持部により保持される基板に現像液ノズルにより現像液が吐出された後に現像液ノズルを待機位置に移動させる移動装置とを備え、洗浄処理部は、気泡が混入された洗浄液により現像液ノズルの洗浄処理を行うように構成されるものである。
その現像処理装置においては、現像液ノズルが基板保持部により略水平に保持される基板に対して相対的に移動装置により移動される。現像液ノズルの現像液吐出口から基板上に現像液が吐出されることにより、基板の現像処理が行われる。現像液の吐出後に、現像液ノズルが基板保持部により保持される基板の上方を除く待機位置に移動装置により移動される。待機位置に設けられた洗浄処理部において、気泡が混入された洗浄液により現像液ノズルの洗浄処理が行われる。
この場合、洗浄液中の気泡が現像液ノズルに衝突する。その衝突力により、現像液ノズルに付着する汚染物が除去される。また、気泡の移動および衝突等によって生じる圧力波により現像液ノズルに付着する汚染物が粉砕される。さらに、気泡が汚染物に付着し、現像液ノズルから汚染物を剥ぎ取る。
また、複数の気泡が衝突、破裂および合体を繰り返すことにより種々の方向に分散的に移動する。それにより、現像液ノズルの全体に対して均一に洗浄を行うことができる。
これらにより、現像液ノズルを清浄にすることができる。その結果、現像液ノズルの汚染に起因する基板の現像欠陥の発生を防止することができる。
洗浄処理部は、洗浄液中に気泡を混入させる気泡混入部と、気泡混入部により気泡が混入された洗浄液を吐出するための洗浄液吐出口を有する洗浄液供給部とを含んでもよい。
この場合、気泡が混入された洗浄液が洗浄液吐出口から現像液ノズルに吐出される。それにより、現像液ノズルに気泡を効率よく衝突させることができる。したがって、現像液ノズルを効率よく清浄にすることができる。
洗浄液供給部は、現像液ノズルの少なくとも現像液吐出口を含む一部を収容可能な収容部を有し、収容部に洗浄液吐出口が設けられてもよい。
この場合、現像液ノズルの少なくとも現像液吐出口を含む一部が収容部に収容された状態で、収容部に設けられた洗浄液吐出口から気泡が混入された洗浄液が吐出される。それにより、現像液ノズルの現像液吐出口およびその近傍を清浄にすることができる。
現像液ノズルは、一方向に沿って延びる下面を有し、現像液吐出口は、一方向に沿って延びるように下面に設けられ、収容部は、一方向に沿って延び、現像液ノズルの少なくとも下面を収容可能な溝部を含み、溝部は、一方向に沿って延びる内面を有し、洗浄液吐出口は、溝部の内面に設けられてもよい。
この場合、現像液ノズルの現像液吐出口が設けられた下面が溝部内に収容された状態で、溝部の内面に設けられた洗浄液吐出口から気泡が混入された洗浄液が吐出される。それにより、現像液ノズルの下面を清浄にすることができる。
洗浄液吐出口は、一方向に沿って並ぶように設けられた複数の開口を含んでもよい。
この場合、気泡が混入された洗浄液を現像液ノズルの下面の全体に効率よく供給することができる。それにより、現像液ノズルの下面の全体を効率よく清浄にすることができる。
溝部の少なくとも一端に、洗浄液吐出口から吐出された洗浄液が流出可能な流出部が設けられてもよい。
この場合、溝部内において、気泡が混入された洗浄液が一方向に沿って流動する。それにより、気泡が混入された洗浄液を現像液ノズルの下面の全体に接触させることができる。したがって、現像液ノズルの下面の全体を効率よく清浄にすることができる。
溝部の内面に、洗浄液吐出口から吐出された洗浄液を排出するための排出口が設けられてもよい。
この場合、現像液ノズルから除去された汚染物を洗浄液とともに排出口を通して排出することができる。それにより、除去された汚染物が現像液ノズルに再付着することを防止することができる。
洗浄処理部は、排出口を通して洗浄液吐出口から吐出された洗浄液を吸引する吸引装置をさらに含んでもよい。
この場合、排出口を通して洗浄液および除去された汚染物をより効率よく排出することができる。それにより、除去された汚染物が現像液ノズルに再付着することをより確実に防止することができる。
洗浄処理部は、現像液ノズルの少なくとも現像液吐出口を含む一部を収容可能でかつ洗浄液を貯留可能な貯留部と、貯留部に貯留された洗浄液に気泡を混入させる気泡混入部とを含んでもよい。
この場合、現像液ノズルの少なくとも現像液吐出口を含む一部が貯留部に収容された状態で貯留部に洗浄液が貯留され、貯留された洗浄液中に気泡が混入される。これにより、気泡が混入された洗浄液中に現像液ノズルの少なくとも現像液吐出口を含む一部が浸漬された状態が維持されるので、現像液吐出口およびその近傍に付着する汚染物を効果的に除去することができる。したがって、現像液ノズルの現像液吐出口およびその近傍を清浄にすることができる。
現像液ノズルは、一方向に沿って延びる下面を有し、現像液吐出口は、一方向に沿って延びるように下面に設けられ、収容部は、一方向に沿って延び、現像液ノズルの少なくとも下面を収容可能な溝部を含み、溝部は、一方向に沿って延びる内面を有し、溝部の内面に、洗浄液を吐出するための洗浄液吐出口および気体を吐出するための気体吐出口が設けられてもよい。
この場合、現像液ノズルの現像液吐出口が設けられた下面が溝部内に収容された状態で、溝部の内面に設けられた洗浄液吐出口から洗浄液が吐出されることにより溝部内に洗浄液が貯留される。さらに、溝部の内面に設けられた気体吐出口から気体が吐出されることにより、貯留された洗浄液に気泡が混入される。それにより、現像液ノズルの下面を清浄にすることができる。
6 現像液供給部
11 スピンチャック
61 スリットノズル
61a 側面
61b 傾斜面
61c 下面
61d 端面
61e 吐出口
62 ノズル昇降機構
63 ノズルスライド機構
70 待機ポッド
700 洗浄処理部
702 気泡混入装置
705 吸引装置
710,720 溝部
711,721 側面
712 傾斜面
712a,713a,721a,722a,723a,724a,725a,726a,726c,727c 開口
712b,721d,724b 洗浄液供給路
712c,713c,721c,724c,725c 接続口
713 底面
713b,725b,726b 排出路
715 流出部
721d 気体供給路
721x,721b,722b,723b,727d 供給路
722 上部傾斜面
723 下部傾斜面
DEV 現像処理ユニット
Claims (12)
- 基板を略水平に保持する基板保持部と、
現像液を吐出するための現像液吐出口を有する現像液ノズルと、
前記基板保持部により保持される基板の上方を除く待機位置に設けられ、前記現像液ノズルの洗浄処理を行う洗浄処理部と、
前記基板保持部により保持される基板に対して前記現像液ノズルを相対的に移動させるとともに、前記基板保持部により保持される基板に前記現像液ノズルにより現像液が吐出された後に前記現像液ノズルを前記待機位置に移動させる移動装置とを備え、
前記現像液ノズルは、第1および第2の外面を有し、かつ前記第1の外面と前記第2の外面とをつなぐ下面を有し、前記第1および第2の外面ならびに前記下面は一方向に沿って延び、前記第1の外面と前記第2の外面とは前記下面に関して互いに反対側に位置し、
前記現像液吐出口は、前記下面に設けられ、
前記洗浄処理部は、
洗浄液中に気泡を混入させることにより気泡含有洗浄液を生成する気泡混入部と、
前記気泡混入部により生成される気泡含有洗浄液を供給する洗浄液供給部と、
前記現像液ノズルの少なくとも前記現像液吐出口を含む一部を収容可能な溝部を含む収容部とを含み、
前記溝部は、前記一方向に沿って延びる第1の内面、第2の内面および底部を有し、前記現像液ノズルが前記溝部に収容された状態で、前記第1の内面、前記第2の内面および前記底部は前記現像液ノズルの前記第1の外面、前記第2の外面および前記下面にそれぞれ対向し、
前記溝部の前記第1の内面には、前記現像液ノズルが前記溝部に収容された状態で前記洗浄液供給部により供給された気泡含有洗浄液を吐出する第1の洗浄液吐出口が設けられ、
前記溝部の前記第2の内面には、前記現像液ノズルが前記溝部に収容された状態で前記洗浄液供給部により供給された気泡含有洗浄液を吐出する第2の洗浄液吐出口が設けられ、
前記洗浄液供給部は、前記現像液ノズルが前記溝部に収容された状態で前記溝部の前記第1の内面と前記現像液ノズルの前記第1の外面との隙間および前記溝部の前記第2の内面と前記現像液ノズルの前記第2の外面との隙間に気泡含有洗浄液が貯留されつつ気泡含有洗浄液の前記一方向の流れが形成されるように気泡含有洗浄液を供給する、現像処理装置。 - 前記第1の洗浄液吐出口は、前記一方向に並ぶように前記第1の内面に設けられた複数の第1の開口を含み、
前記第2の洗浄液吐出口は、前記一方向に並ぶように前記第2の内面に設けられた複数の第2の開口を含む、請求項1記載の現像処理装置。 - 前記現像液ノズルの前記第1および第2の外面は、前記下面から斜め上方に漸次互いに離れるように傾斜する第1および第2の傾斜面をそれぞれ含み、
前記溝部の前記第1および第2の内面は、前記現像液ノズルが収容された状態で前記現像液ノズルの前記第1および第2の外面にそれぞれ対向するように傾斜する第3および第4の傾斜面をそれぞれ含み、
前記第1および第2の洗浄液吐出口は、前記第3および第4の傾斜面にそれぞれ設けられる、請求項1または2記載の現像処理装置。 - 前記溝部の少なくとも一端には、前記溝部内に供給された洗浄液を前記溝部の外部に流出させる流出部が設けられる、請求項1〜3のいずれか一項に記載の現像処理装置。
- 基板を略水平に保持する基板保持部と、
現像液を吐出するための現像液吐出口を有する現像液ノズルと、
前記基板保持部により保持される基板の上方を除く待機位置に設けられ、前記現像液ノズルの洗浄処理を行う洗浄処理部と、
前記基板保持部により保持される基板に対して前記現像液ノズルを相対的に移動させるとともに、前記基板保持部により保持される基板に前記現像液ノズルにより現像液が吐出された後に前記現像液ノズルを前記待機位置に移動させる移動装置とを備え、
前記洗浄処理部は、
前記現像液ノズルの少なくとも前記現像液吐出口を含む一部を収容可能でかつ洗浄液を貯留可能な収容部を含み、
前記現像液ノズルは、第1および第2の外面を有し、かつ前記第1の外面と前記第2の外面とをつなぐ下面を有し、前記第1の外面と前記第2の外面とは前記下面に関して互いに反対側に位置し、
前記現像液吐出口は、前記下面に設けられ、
前記収容部は、第1の内面、第2の内面および底部を有し、前記現像液ノズルが前記収容部に収容された状態で、前記第1の内面の少なくとも一部、前記第2の内面の少なくとも一部および前記底部は前記現像液ノズルの前記第1の外面、前記第2の外面および前記下面にそれぞれ対向し、
前記収容部の前記第1の内面には、前記現像液ノズルが前記収容部に収容された状態で前記収容部内に洗浄液を供給する第1の洗浄液吐出口および前記収容部に貯留された洗浄液に気体を供給することにより洗浄液に気泡を混入させる第1の気体吐出口が設けられ、
前記収容部の前記第2の内面には、前記現像液ノズルが前記収容部に収容された状態で前記収容部内に洗浄液を供給する第2の洗浄液吐出口および前記収容部に貯留された洗浄液に気体を供給することにより洗浄液に気泡を混入させる第2の気体吐出口が設けられる、現像処理装置。 - 前記現像液ノズルの前記第1および第2の外面ならびに前記下面は一方向に沿って延び、
前記収容部は、前記現像液ノズルの少なくとも前記第1および第2の外面の一部ならびに前記下面を収容可能な溝部を含み、
前記溝部は、前記第1および第2の内面ならびに前記底部を有し、前記第1および第2の内面ならびに前記底部は、前記一方向に沿って延び、
前記第1の洗浄液吐出口は、前記一方向に並ぶように前記第1の内面に設けられた複数の第1の開口を含み、
前記第2の洗浄液吐出口は、前記一方向に並ぶように前記第2の内面に設けられた複数の第2の開口を含み、
前記第1の気体吐出口は、前記一方向に並ぶように前記第1の内面に設けられた複数の第3の開口を含み、
前記第2の気体吐出口は、前記一方向に並ぶように前記第2の内面に設けられた複数の第4の開口を含む、請求項5記載の現像処理装置。 - 前記第1および第2の内面の下部領域は、互いに近づくように前記溝部の底部まで斜め下方に延びる、請求項6記載の現像処理装置。
- 前記溝部は、第1および第2の端部壁を有し、前記第1および第2の洗浄液吐出口から吐出される洗浄液を貯留可能に構成され、
前記第1および第2の端部壁の少なくとも一方に、前記溝部内で一定高さを超えた洗浄液を前記溝部の外部に流出させる流出部が設けられ、
前記洗浄処理部は、
前記現像液ノズルが前記溝部に収容された状態で前記溝部の前記第1の内面と前記現像液ノズルの前記第1の外面との隙間および前記溝部の前記第2の内面と前記現像液ノズルの前記第2の外面との隙間に洗浄液が貯留されつつ前記流出部から洗浄液が流出するように洗浄液を供給する洗浄液供給部をさらに含む、請求項6または7記載の現像処理装置。 - 前記第1の気体吐出口は、前記一方向に沿って並ぶ複数の第5の開口を含み、
前記第2の気体吐出口は、前記一方向に沿って並ぶ複数の第6の開口を含み、
前記複数の第5の開口と前記複数の第6の開口とは、前記一方向において互いにずれるように設けられる、請求項6〜8のいずれか一項に記載の現像処理装置。 - 前記第1および第2の気体吐出口は、前記第1および第2の洗浄液吐出口よりも上方に位置する、請求項5〜9のいずれか一項に記載の現像処理装置。
- 前記収容部の底部に、前記洗浄液吐出口から吐出された洗浄液を排出するための排出口が設けられる、請求項1〜10のいずれか一項に記載の現像処理装置。
- 前記洗浄処理部は、前記排出口を通して前記洗浄液吐出口から吐出された洗浄液を吸引する吸引装置をさらに含む、請求項11記載の現像処理装置。
Priority Applications (5)
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JP2012116319A JP5841493B2 (ja) | 2012-05-22 | 2012-05-22 | 現像処理装置 |
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