TW201804525A - 基板處理裝置 - Google Patents

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Abstract

本發明係一種以處理液對基板進行處理之基板處理裝置，其具備：基板保持部、外杯、及內杯，前述內杯具備：內杯本體、及內杯排出口，前述外杯具備：外杯本體、外下杯、第1排液口、第1排氣口、第2排液口、第2排氣口、及分離分隔壁；並且前述基板處理裝置具備：可升降地安裝之環狀構件、及使前述環狀構件升降而使前述內杯本體在回收位置與退避位置間移動的驅動部。

Description

基板處理裝置
本發明係關於一種針對半導體晶圓、液晶顯示器用基板、電漿顯示器用基板、有機EL用基板、FED(Field Emission Display，場發射顯示器)用基板、光顯示器用基板、磁碟用基板、光磁碟用基板、光罩用基板、及太陽能電池用基板(以下簡單地稱為基板)供給處理液之基板處理裝置，尤其是關於一種回收處理液之杯之技術。
先前，作為該種裝置存在具備基板保持部、旋轉驅動機構、第1噴嘴、第2噴嘴、杯體、第1排液管路、第2排液管路、排氣管路、及可動杯的基板處理裝置(例如，參照日本特開2014-75575號公報)。 基板保持部將基板保持為水平姿勢。旋轉驅動機構繞鉛垂軸旋轉驅動基板保持部。第1噴嘴供給正性顯影用之顯影液。第2噴嘴供給負性顯影用之顯影液。杯體包圍保持於基板保持部之基板之周圍，回收對基板供給之顯影液。第1排液管路及第2排液管路分別與杯體連通地連接。可動杯藉由在杯體之內部升降，而將顯影液僅導引至第1排液管路或第2排液管路中任一者。 在第1噴嘴供給顯影液時，例如可動杯將顯影液導引至第1排液管路，在第2噴嘴供給顯影液時，可動杯將顯影液導引至第2排液管路。第1排液管路排出正性顯影用之顯影液，第2排液管路排出負性顯影用之顯影液。此時，排氣管路將包含顯影液之霧氣之杯體內之氣體排出。藉此，能夠防止在第1排液管路及第2排液管路中，正性顯影用之顯影液與負性顯影用之顯影液混合。排氣管路在第1噴嘴及第2噴嘴供給顯影液時，將包含顯影液之霧氣之杯體內之氣體排出。 然而，在具有如上述之構成之先前例之情形下，存在如下述之問題。 具體而言，由於先前之裝置之排氣管路由一條構成，故正性顯影處理時與負性顯影處理時之兩個處理時之杯體內之顯影液之霧氣自同一排氣管路排出。因而，有在一個排氣管路內，不同種類之顯影液之霧氣混合之虞。其結果為，難以使杯內之環境保持清潔，而難以高品質地對基板進行處理。
本發明係鑒於如上述之事態而完成者，其目的在於提供一種能夠高品質地對基板進行處理之基板處理裝置。 本發明為了達成如上述之目的，而採用如下述之構成。 本發明係一種以處理液對基板進行處理之基板處理裝置，前述裝置包含以下組件：基板保持部，其以水平姿勢保持基板；旋轉驅動部，其使前述基板保持部繞鉛垂軸旋轉；第1處理液供給部，其對保持於前述基板保持部之基板供給第1處理液；第2處理液供給部，其對保持於前述基板保持部之基板供給第2處理液；外杯，其包圍前述基板保持部之側方而配置；及內杯，其配置於前述基板保持部與前述外杯之間；且前述內杯具備：內杯本體，其在俯視下呈環狀：及內杯排出口，其形成於前述內杯本體之下部，將前述內杯本體內之第1處理液及氣體朝下方排出；前述外杯具備：外杯本體，其在俯視下呈環狀；外下杯，其構成前述外杯本體之底部；第1排液口，其形成於前述外下杯之底面，用於排出自前述內杯排出口排出之前述第1處理液；第1排氣口，其形成於前述外下杯，用於排出自前述內杯排出口排出之氣體；第2排液口，其形成於前述外下杯之底面，排出前述外杯本體內之第2處理液；第2排氣口，其形成於前述外下杯，用於排出前述外杯本體內之氣體；及分離分隔壁，其在俯視下呈環狀地豎立設置於前述外下杯之底面，將前述第1排液口與前述第2排液口分離；並且前述基板處理裝置具備：環狀構件，其在俯視下呈環狀，且以沿前述外杯本體內之外周面可升降地安裝，而不會將前述內杯排出口閉塞之方式連結於前述內杯本體；及驅動部，其使前述環狀構件升降，而使前述內杯本體在前述內杯回收處理液之回收位置與前述外杯回收處理液之退避位置間移動。 根據本發明，在利用驅動部使環狀構件移動而使內杯本體位於回收位置之狀態下，利用旋轉驅動部使基板保持部與基板一起旋轉，並自第1處理液供給部對基板供給第1處理液。在該狀態下，飛散至基板之周圍之第1處理液被內杯之內杯本體回收，並通過內杯排出口被外杯之底面回收。由形成於外杯之外杯本體之底面回收之第1處理液經由在底面與第2排液口被分離分隔壁分離之第1排液口排出。包含第1處理液之霧氣之內杯內之氣體自內杯本體通過內杯排出口被外杯回收，並經由外下杯之第1排出口排出。又，在利用驅動部使環狀構件移動而使內杯本體移動至退避位置之狀態下，自第2處理液供給部對基板供給第2處理液。在該狀態下，飛散至基板之周圍之第2處理液被外杯之外杯本體回收，並被外下杯之底面回收。被外杯本體之底面回收之第2處理液經由在底面與第1排液口被分離分隔壁分離之第2排液口排出。包含第2處理液之霧氣之外杯內之氣體被外杯回收，並經由外下杯之第2排氣口排出。藉由利用驅動部使環狀構件升降而使內杯在回收位置與退避位置移動，而第1處理液在第1排液口排出，且包含第1處理液之霧氣之氣體在第1排氣口排出，第2處理液在第2排液口排出，且包含第2處理液之霧氣之氣體在第2排氣口排出。因而，由於內杯內之氣體與外杯內之氣體未混合，故無論在使用內杯時還是在使用外杯時，皆能夠高品質地對基板進行處理。再者，由於內杯本體不具備底面，故可追求內杯之輕量化。因而，能夠減輕經由環狀構件利用驅動部使內杯本體移動時之負載，而快速地進行內杯本體之移動。又，由於第1處理液亦被遠離下方之外下杯之底面回收，故能夠防止因第1處理液之回濺而導致之不良影響。 在本發明中，較佳為，前述環狀構件於在俯視下自中心互為等角度之位置關係之複數個部位具備與前述內杯本體之連結部。 環狀構件由在俯視下成為相等之位置關係之複數個部位之連結部與內杯本體連結。因而，由於即便利用驅動部使環狀構件快速地升降，仍能夠以穩定之姿勢使內杯本體移動，故能夠快速地進行處理之切換。 在本發明中，較佳為，前述內杯本體具備：導引部，其將自基板飛散至周圍之第1處理液朝下方導引；及分隔壁收納部，其呈倒U字狀形成於前述導引部之下部；且前述內杯本體在前述退避位置將前述分離分隔壁收納於前述分隔壁收納部，在前述回收位置僅將前述分離分隔壁之上部收納於前述分隔壁收納部。 由於在退避位置內杯本體之分隔壁收納部收納分離分隔壁，在回收位置內杯本體之分隔壁收納部僅收納分離分隔壁之上部，故即便在內杯與外杯共用外下杯時，仍能夠使內杯本體內與外下杯內完全分離。因而，能夠僅由外杯回收第2處理液及包含其霧氣之氣體，並利用導引部導引第1處理液及包含其霧氣之氣體且僅由內杯回收。又，由於分隔壁收納部與分離分隔壁發揮導引之作用，故能夠穩定地進行內杯本體之升降。 在本發明中，較佳為，前述第1排氣口在自前述外下杯之底面朝上方延伸之中空部之前端形成開口。 由於第1排氣口之開口自外下杯之底面朝上方離開，故能夠防止被底面回收之第1處理液與氣體混合。 在本發明中，較佳為，前述外杯本體在較前述分離分隔壁更靠內周側具備中杯，前述中杯係其下表面形成為與前述第1排氣口之開口分隔，外周面與前述分離分隔壁之內周面分隔，外周端與前述外杯本體之底面分隔。 由於能夠利用中杯防止第1處理液流入至第1排氣口，故能夠提高氣液之分離程度而使內杯內之氣體排出。 在本發明中，較佳為，前述外下杯在底面形成在圓周方向上朝向前述第1排液口及前述第2排液口變低之傾斜面。 在遠離形成於外下杯之底面之第1排液口及第2排液口之位置流下之第1處理液及第2處理液亦能夠藉由傾斜面而朝第1排液口及第2排液口流下。因而，能夠提高第1處理液及第2處理液之回收效率。 本發明係一種以處理液對基板進行處理之基板處理裝置，前述裝置包含以下組件：基板保持部，其以水平姿勢保持基板；旋轉驅動部，其使前述基板保持部繞鉛垂軸旋轉；第1處理液供給部，其對保持於前述基板保持部之基板供給第1處理液；第2處理液供給部，其對保持於前述基板保持部之基板供給第2處理液；外杯，其包圍前述基板保持部之側方而配置；及內杯，其配置於前述基板保持部與前述外杯之間；且前述內杯具備：內杯本體，其在俯視下呈環狀；及內杯排出口，其形成於前述內杯本體之下部，將前述內杯本體內之第1處理液及氣體朝下方排出；前述外杯具備：外杯本體，其在俯視下呈環狀；外下杯，其構成前述外杯本體之底部；第1排液口，其形成於前述外下杯之底面，用於排出自前述內杯排出口排出之前述第1處理液；第1排氣口，其形成於前述外下杯，用於排出自前述內杯排出口排出之氣體；第2排液口，其形成於前述外下杯之底面，排出前述外杯本體內之第2處理液；第2排氣口，其形成於前述外下杯，用於排出前述外杯本體內之氣體；及分離分隔壁，其在俯視下呈環狀地豎立設置於前述外下杯之底面，將前述第1排液口與前述第2排液口分離；前述第1排氣口配置於在俯視下自中心互為等角度之位置關係之複數個部位；前述內杯本體在前述內杯回收處理液之回收位置與前述外杯回收處理液之退避位置間移動。 根據本發明，在使內杯本體位於回收位置之狀態下，利用旋轉驅動部使基板保持部與基板一起旋轉，並自第1處理液供給部對基板供給第1處理液。在該狀態下，飛散至基板之周圍之第1處理液被內杯之內杯本體回收，通過內杯排出口被外杯之底面回收。由形成於外杯之外杯本體之底面回收之第1處理液經由在底面以分離分隔壁與第2排液口分離之第1排液口排出。包含第1處理液之霧氣之內杯內之氣體自內杯本體通過內杯排出口被外杯回收，經由外下杯之第1排出口排出。又，在使內杯本體移動至退避位置之狀態下，自第2處理液供給部對基板供給第2處理液。在該狀態下，飛散至基板之周圍之第2處理液被外杯之外杯本體回收，且被外下杯之底面回收。被外杯本體之底面回收之第2處理液經由在底面以分離分隔壁與第1排液口分離之第2排液口排出。包含第2處理液之霧氣之外杯內之氣體被外杯回收，經由外下杯之第2排氣口排出。藉由使內杯在回收位置與退避位置移動，將第1處理液以第1排液口排出，將包含第1處理液之霧氣之氣體以第1排氣口排出，將第2處理液以第2排液口排出，且將包含第2處理液之霧氣之氣體以第2排氣口排出。因而，由於內杯內之氣體與外杯內之氣體未混合，故無論在使用內杯抑或是使用外杯時，皆能夠高品質地對基板進行處理。再者，由於第1排氣口以在俯視下相等之位置關係配置於內杯，故能夠將包含第1處理液之霧氣之氣體自內杯均等地排氣。因而，由於能夠使內杯內之環境均等而無二致，故能夠提高第1處理液之基板處理之面內均一性。 本發明係一種以處理液對基板進行處理之基板處理裝置，前述裝置包含以下組件：基板保持部，其以水平姿勢保持基板；旋轉驅動部，其使前述基板保持部繞鉛垂軸旋轉；第1處理液供給部，其對保持於前述基板保持部之基板供給第1處理液；第2處理液供給部，其對保持於前述基板保持部之基板供給第2處理液；外杯，其包圍前述基板保持部之側方而配置；及內杯，其配置於前述基板保持部與前述外杯之間；且前述內杯具備：內杯本體，其在俯視下呈環狀；及內杯排出口，其形成於前述內杯本體之下部，將前述內杯本體內之第1處理液及氣體朝下方排出；前述外杯具備：外杯本體，其在俯視下呈環狀；外下杯，其構成前述外杯本體之底部；第1排液口，其形成於前述外下杯之底面，用於排出自前述內杯排出口排出之前述第1處理液；第1排氣口，其形成於前述外下杯，用於排出自前述內杯排出口排出之氣體；第2排液口，其形成於前述外下杯之底面，排出前述外杯本體內之第2處理液；第2排氣口，其形成於前述外下杯，用於排出前述外杯本體內之氣體；及分離分隔壁，其在俯視下呈環狀地豎立設置於前述外下杯之底面，將前述第1排液口與前述第2排液口分離；並且前述第2排氣口配置於在俯視下自中心互為等角度之位置關係之複數個部位；前述內杯本體在前述內杯回收處理液之回收位置與前述外杯回收處理液之退避位置間移動。 根據本發明，在使內杯本體位於回收位置之狀態下，利用旋轉驅動部使基板保持部與基板一起旋轉，並自第1處理液供給部對基板供給第1處理液。在該狀態下，飛散至基板之周圍之第1處理液被內杯之內杯本體回收，並通過內杯排出口被外杯之底面回收。由形成於外杯之外杯本體之底面回收之第1處理液經由在底面與第2排液口被分離分隔壁分離之第1排液口排出。包含第1處理液之霧氣之內杯內之氣體自內杯本體通過內杯排出口被外杯回收，並經由外下杯之第1排出口排出。又，在使內杯本體移動至退避位置之狀態下，自第2處理液供給部對基板供給第2處理液。在該狀態下，飛散至基板之周圍之第2處理液被外杯之外杯本體回收，並被外下杯之底面回收。被外杯本體之底面回收之第2處理液經由在底面與第1排液口被分離分隔壁分離之第2排液口排出。包含第2處理液之霧氣之外杯內之氣體被外杯回收，並經由外下杯之第2排氣口排出。藉由使內杯在回收位置與退避位置移動，而第1處理液在第1排液口排出，且包含第1處理液之霧氣之氣體在第1排氣口排出，第2處理液在第2排液口排出，且包含第2處理液之霧氣之氣體在第2排氣口排出。因而，由於內杯內之氣體與外杯內之氣體未混合，故無論在使用內杯時還是在使用外杯時，皆能夠高品質地對基板進行處理。再者，由於第2排氣口以在俯視下相等之位置關係配置於外杯，故包含第2處理液之霧氣之氣體能夠自外杯均等地排氣。因而，由於能夠使外杯內之環境均等而無二致，故能夠提高第2處理液之基板處理之面內均一性。 本發明係一種以處理液對基板進行處理之基板處理裝置，前述裝置包含以下組件：基板保持部，其以水平姿勢保持基板；旋轉驅動部，其使前述基板保持部繞鉛垂軸旋轉；第1處理液供給部，其對保持於前述基板保持部之基板供給第1處理液；第2處理液供給部，其對保持於前述基板保持部之基板供給第2處理液；外杯，其包圍前述基板保持部之側方而配置；及內杯，其配置於前述基板保持部與前述外杯之間；且前述內杯具備：內杯本體，其在俯視下呈環狀；及內杯排出口，其形成於前述內杯本體之下部，將前述內杯本體內之第1處理液及氣體朝下方排出；前述外杯具備：外杯本體，其在俯視下呈環狀；外下杯，其構成前述外杯本體之底部；第1排液口，其形成於前述外下杯之底面，用於排出自前述內杯排出口排出之前述第1處理液；第1排氣口，其形成於前述外下杯，用於排出自前述內杯排出口排出之氣體；第2排液口，其形成於前述外下杯之底面，排出前述外杯本體內之第2處理液；第2排氣口，其形成於前述外下杯，用於排出前述外杯本體內之氣體；及分離分隔壁，其在俯視下呈環狀地豎立設置於前述外下杯之底面，將前述第1排液口與前述第2排液口分離；並且前述第1排氣口配置於在俯視下自中心互為等角度之位置關係之複數個部位，且前述第2排氣口配置於在俯視下自中心互為等角度之位置關係之複數個部位；前述內杯本體在前述內杯回收處理液之回收位置與前述外杯回收處理液之退避位置間移動。 根據本發明，在使內杯本體位於回收位置之狀態下，利用旋轉驅動部使基板保持部與基板一起旋轉，並自第1處理液供給部對基板供給第1處理液。在該狀態下，飛散至基板之周圍之第1處理液被內杯之內杯本體回收，並通過內杯排出口被外杯之底面回收。由形成於外杯之外杯本體之底面回收之第1處理液經由在底面與第2排液口被分離分隔壁分離之第1排液口排出。包含第1處理液之霧氣之內杯內之氣體自內杯本體通過內杯排出口被外杯回收，並經由外下杯之第1排出口排出。又，在使內杯本體移動至退避位置之狀態下，自第2處理液供給部對基板供給第2處理液。在該狀態下，飛散至基板之周圍之第2處理液被外杯之外杯本體回收，並被外下杯之底面回收。被外杯本體之底面回收之第2處理液經由在底面與第1排液口被分離分隔壁分離之第2排液口排出。包含第2處理液之霧氣之外杯內之氣體被外杯回收，並經由外下杯之第2排氣口排出。藉由使內杯在回收位置與退避位置移動，而第1處理液在第1排液口排出，且包含第1處理液之霧氣之氣體在第1排氣口排出，第2處理液在第2排液口排出，且包含第2處理液之霧氣之氣體在第2排氣口排出。因而，由於內杯內之氣體與外杯內之氣體未混合，故無論在使用內杯時還是在使用外杯時，皆能夠高品質地對基板進行處理。再者，由於第1排氣口以在俯視下相等之位置關係配置於內杯，故包含第1處理液之霧氣之氣體能夠自內杯均等地排氣，由於第2排氣口以在俯視下相等之位置關係配置於外杯，故包含第2處理液之霧氣之氣體能夠自外杯均等地排氣。因而，由於能夠使內杯內及外杯內之環境均等而無二致，故能夠提高第1處理液之基板處理之面內均一性及第2處理液之基板處理之面內均一性。 在本發明中，較佳為，前述外杯本體具備構成前述外下杯本體之側面之外側面杯，前述第2排氣口之各者配置於前述外杯本體之外周部，前述外側面杯在與前述第2排氣口之各者對應之位置形成貫通口，前述第2排氣口之各者具備上端位於較前述貫通口之上部更靠上方之排氣管。 由於第2排氣口之各者能夠配置於外杯之外周側，故能夠充分地保持與第1排氣口之距離。因而，能夠使排氣構造不致複雜化。又，由於將通過外側面杯之貫通口朝向排氣管之上端上升而來之氣流排氣，故能夠僅將包含霧氣之氣體排氣，而能夠防止第2處理液混入第2排氣口。 在本發明中，較佳為，前述第1排氣口之各者係將前述第2排氣口之各者之位置關係在俯視下挪移90度而配置。 即便配置複數個第1排氣口與複數個第2排氣口，仍能夠使各個排氣口充分地分隔而配置，故能夠使排氣口之構造不致複雜化。 在本發明中，較佳為，前述第1排氣口在自前述外下杯之底面朝上方延伸之中空部之前端形成開口。 由於第1排氣口之開口自外下杯之底面朝上方離開，故能夠防止被底面回收之第1處理液與氣體混合。 本發明係一種以處理液對基板進行處理之基板處理裝置，前述裝置包含以下組件：基板保持部，其以水平姿勢保持基板；旋轉驅動部，其使前述基板保持部繞鉛垂軸旋轉；第1處理液供給部，其對保持於前述基板保持部之基板供給第1處理液；第2處理液供給部，其對保持於前述基板保持部之基板供給第2處理液；外杯，其包圍前述基板保持部之側方而配置；及內杯，其配置於前述基板保持部與前述外杯之間；且前述內杯具備：內杯本體，其在俯視下呈環狀；及內杯排出口，其形成於前述內杯本體之下部，將前述內杯本體內之第1處理液及氣體朝下方排出；前述外杯具備：外杯本體，其在俯視下呈環狀；外下杯，其構成前述外杯本體之底部；第1排液口，其形成於前述外下杯之底面，用於排出自前述內杯排出口排出之前述第1處理液；第1排氣口，其形成於前述外下杯，且為了排出自前述內杯排出口排出之氣體，而以在自前述底面朝上方延伸之中空部之上部形成開口，且前述開口朝向與前述基板保持部之旋轉方向為逆向之方向之方式形成；第2排液口，其形成於前述外下杯之底面，排出前述外杯本體內之第2處理液；第2排氣口，其形成於前述外下杯，用於排出前述外杯本體內之氣體；及分離分隔壁，其在俯視下呈環狀地豎立設置於前述外下杯之底面，將前述第1排液口與前述第2排液口分離；前述內杯本體在前述內杯回收處理液之回收位置與前述外杯回收處理液之退避位置間移動。 根據本發明，在使內杯本體位於回收位置之狀態下，利用旋轉驅動部使基板保持部與基板一起旋轉，並自第1處理液供給部對基板供給第1處理液。在該狀態下，飛散至基板之周圍之第1處理液被內杯之內杯本體回收，並通過內杯排出口被外杯之底面回收。由形成於外杯之外杯本體之底面回收之第1處理液經由在底面與第2排液口被分離分隔壁分離之第1排液口排出。包含第1處理液之霧氣之內杯內之氣體自內杯本體通過內杯排出口被外杯回收，並經由外下杯之第1排出口排出。又，在使內杯本體移動至退避位置之狀態下，自第2處理液供給部對基板供給第2處理液。在該狀態下，飛散至基板之周圍之第2處理液被外杯之外杯本體回收，並被外下杯之底面回收。被外杯本體之底面回收之第2處理液經由在底面與第1排液口被分離分隔壁分離之第2排液口排出。包含第2處理液之霧氣之外杯內之氣體被外杯回收，並經由外下杯之第2排氣口排出。藉由使內杯在回收位置與退避位置移動，而第1處理液在第1排液口排出，且包含第1處理液之霧氣之氣體在第1排氣口排出，第2處理液在第2排液口排出，且包含第2處理液之霧氣之氣體在第2排氣口排出。因而，由於內杯內之氣體與外杯內之氣體未混合，故無論在使用內杯時還是在使用外杯時，皆能夠高品質地對基板進行處理。又，由於在與因旋轉產生之氣流之方向為逆向之方向上形成第1排氣口之開口，故能夠防止第1處理液隨著氣流流入至第1排氣口。因而，能夠提高氣液之分離程度。 本發明係一種以處理液對基板進行處理之基板處理裝置，前述裝置包含以下組件：基板保持部，其以水平姿勢保持基板；旋轉驅動部，其使前述基板保持部繞鉛垂軸旋轉；第1處理液供給部，其對保持於前述基板保持部之基板供給第1處理液；第2處理液供給部，其對保持於前述基板保持部之基板供給第2處理液；外杯，其包圍前述基板保持部之側方而配置；及內杯，其配置於前述基板保持部與前述外杯之間；且前述內杯具備：內杯本體，其在俯視下呈環狀；內杯排出口，其形成於前述內杯本體之下部，將前述內杯本體內之第1處理液及氣體朝下方排出；前述外杯具備：外杯本體，其在俯視下呈環狀；外下杯，其構成前述外杯本體之底部；第1排液口，其形成於前述外下杯之底面，用於排出自前述內杯排出口排出之前述第1處理液；第1排氣口，其形成於前述外下杯，用於排出自前述內杯排出口排出之氣體；第2排液口，其形成於前述外下杯之底面，排出前述外杯本體內之第2處理液；第2排氣口，其形成於前述外下杯，用於排出前述外杯本體內之氣體；及分離分隔壁，其在俯視下呈環狀地豎立設置於前述外下杯之底面，將前述第1排液口與前述第2排液口分離；前述內杯本體在前述內杯回收處理液之回收位置與前述外杯回收處理液之退避位置間移動；前述外下杯之底面具有：內周傾斜面，其自較前述第1排液口更靠內周側朝向前述第1排液口逐漸變低；及外周傾斜面，其自較前述第1排液口更靠外周側朝向前述第1排液口逐漸變低。 根據本發明，在使內杯本體位於回收位置之狀態下，利用旋轉驅動部使基板保持部與基板一起旋轉，並自第1處理液供給部對基板供給第1處理液。在該狀態下，飛散至基板之周圍之第1處理液被內杯之內杯本體回收，並通過內杯排出口被外杯之底面回收。由形成於外杯之外杯本體之底面回收之第1處理液經由在底面與第2排液口被分離分隔壁分離之第1排液口排出。包含第1處理液之霧氣之內杯內之氣體自內杯本體通過內杯排出口被外杯回收，並經由外下杯之第1排出口排出。又，在使內杯本體移動至退避位置之狀態下，自第2處理液供給部對基板供給第2處理液。在該狀態下，飛散至基板之周圍之第2處理液被外杯之外杯本體回收，並被外下杯之底面回收。被外杯本體之底面回收之第2處理液經由在底面與第1排液口被分離分隔壁分離之第2排液口排出。包含第2處理液之霧氣之外杯內之氣體被外杯回收，並經由外下杯之第2排氣口排出。藉由使內杯在回收位置與退避位置移動，而第1處理液在第1排液口排出，且包含第1處理液之霧氣之氣體在第1排氣口排出，第2處理液在第2排液口排出，且包含第2處理液之霧氣之氣體在第2排氣口排出。因而，由於內杯內之氣體與外杯內之氣體未混合，故無論在使用內杯時還是在使用外杯時，皆能夠高品質地對基板進行處理。又，由於外下杯之底面具備內周傾斜面及外周傾斜面，故能夠提高第1排液口之第1處理液之排出效率。再者，由於外下杯之底面為傾斜面，故能夠防止如自上方流下而來之第1處理液在底面回濺再次朝向上方而附著於基板之問題。 在本發明中，較佳為，前述外下杯之底面具有：內周傾斜面，其自較前述第1排液口更靠內周側朝向前述第1排液口逐漸變低；及外周傾斜面，其自較前述第1排液口更靠外周側朝向前述第1排液口逐漸變低。 由於外下杯之底面具備內周傾斜面及外周傾斜面，故能夠提高第1處理液朝第1排液口之排出效率。再者，由於外下杯之底面為傾斜面，故能夠防止如自上方流下而來之第1處理液在底面回濺再次朝向上方而附著於基板之問題。 在本發明中，較佳為，前述第1排氣口形成於前述外下杯，並以在自前述底面朝上方延伸之中空部之上部形成開口，且前述開口朝向與前述基板保持部之旋轉方向為逆向之方向之方式形成。 由於在與因旋轉產生之氣流之方向為逆向之方向上形成第1排氣口之開口，故能夠防止第1處理液隨著氣流流入至第1排氣口。因而，能夠提高氣液之分離程度。 在本發明中，較佳為，前述外下杯之底面經施以親水化處理。 由於對外下杯之底面施以親水化處理，故即便第1處理液與第2處理液流下，仍能夠不易在底面回濺。因而，能夠防止如第2處理液在底面回濺再次朝向上方而附著於基板之問題。且，由於能夠提高第1處理液與第2處理液之在底面之周向之流動性，故能夠易於在第1排液口與第2排液口回收。 在本發明中，較佳為，前述中杯經施以親水化處理。 即便第1處理液流下至中杯，仍能夠不易回濺。因而，能夠防止如第1處理液在中杯回濺而附著於基板之問題。又，由於能夠提高附著於中杯之第1處理液之流動性，故能夠易於在第1排液口回收。且，在以外杯回收第2處理液時，能夠使附著於中杯之第2處理液易於流下至外下杯，而能夠易於在第2排液口回收。 ※ 雖然為了說明本發明而圖示有認為是當前最佳之若干個形態，但請理解發明並不限定於如所圖示般之構成及方案。 ※ For the purpose of illustrating the invention, there are shown in the drawings several forms which are presently preferred, it being understood, however, that the invention is not limited to the precise arrangement and instrumentalities shown.
以下，參照圖式針對本發明之一個實施例進行說明。 圖1係顯示實施例之基板處理裝置之概略構成之整體構成圖，且係顯示內杯位於回收位置之狀態之縱剖視圖，圖2係顯示實施例之基板處理裝置之概略構成之整體構成圖，且係顯示內杯位於退避位置之狀態之縱剖視圖。且，圖3係將內杯位於回收位置之狀態之一部分放大而顯示之縱剖視圖，圖4係將內杯位於退避位置之狀態之一部分放大而顯示之縱剖視圖。 本實施例之基板處理裝置1係對一片基板W(例如在俯視下呈圓形狀之半導體晶圓)供給處理液，並就每一片依次對基板W進行處理。具體而言，該基板處理裝置能夠對基板W進行負性顯影處理及正性顯影處理之兩種處理。 基板保持部3以水平姿勢保持基板W。該基板保持部3例如利用真空吸引來吸附保持基板W之下表面之中心部。此外，亦可利用與吸附保持式不同之機構來保持基板W。 旋轉驅動部5具備電動馬達7及旋轉軸9。電動馬達7連結旋轉軸9之下端，旋轉軸9之上端連結於基板保持部3之下端。因而，若驅動電動馬達7，則使旋轉軸9繞軸心P旋轉驅動，而將基板W在水平面內旋轉驅動。 處理液供給部11係供給各種處理液者，具備例如4個供給噴嘴13～16。例如，噴嘴13供給正性顯影用之顯影液來作為處理液，噴嘴14供給正性顯影用之沖洗液來作為處理液。又，噴嘴15供給負性顯影用之顯影液來作為處理液，噴嘴16供給負性顯影用之沖洗液來作為處理液。 此外，正性顯影用之顯影液為鹼性顯影液，例如為氫氧化四甲銨(TMAH： Tetra Methyl Ammonium Hydroxide)。正性顯影用之沖洗液為例如純水。且，負性顯影用之顯影液為例如包含乙酸丁酯等之有機溶劑之顯影液。負性顯影用之沖洗液例如包含4-甲-2-戊醇(MIBC： Methyl Iso Butyl Carbinol)等之有機溶劑。 上述之正性顯影用之顯影液及沖洗液相當於本發明之「第1處理液」，上述之負性顯影用之顯影液及沖洗液相當於本發明之「第2處理液」。 在基板保持部3之下方具備噴淋盤17。該噴淋盤17以與基板保持部3一起一體地旋轉之方式安裝於基板保持部3。噴淋盤17對後述之杯19供給來自未圖示之洗淨液供給部之洗淨液，而將杯19之內面洗淨。針對噴淋盤17之詳細之說明予以省略。 杯19以包圍基板保持部3之側方之方式配置，回收對基板W供給之處理液。杯19具備外杯21及內杯23。內杯23配置於基板保持部3與外杯21之間。內杯23係如圖1及圖3所示般在內周側(旋轉軸9側)具備捕集處理液之導入口A，外杯21係如圖2及圖4所示般在內周側具備捕集處理液之導入口B。 杯19在旋轉軸9之外周側配置有基座部25。在基座部25之外周側且在保持於基板保持部3之基板W之外周緣之下方附近，於基座部25之外周部安裝有側板27。此外，藉由利用升降機構(未圖示)使杯19與基座部25相對於基板保持部3上下移動，而能夠切換可進行基板保持部3與較杯19之上端更朝上方突出之基板搬送機構(未圖示)之交接之狀態、及可進行圖1及圖2所示之處理之狀態。 在側板27之最遠之位置配置有外杯21，在外杯21之內側配置有內杯23，在內杯23之內側配置有中杯29。 外杯21具備：外杯本體31、外下杯33、及外側面杯35。外杯本體31在俯視下呈環狀。外下杯33構成外杯本體31之底部。 外下杯33在底面豎立設置有分離分隔壁37。該分離分隔壁37在俯視下呈環狀，將外下杯33之底面分為二部分即內周側與外周側。在內周側之底面形成第1排液口39，在外周側之底面形成第2排液口41。第1廢液處理部與第1排液口39連通，第2廢液處理部與第2排液口41連通。又，在外下杯33之內周側形成第1排氣口43，在較外下杯33之外側面杯35更靠外周側形成第2排氣口45。第1排氣處理部與第1排氣口43連通，第2排氣處理部與第2排氣口45連通。 在外下杯33之上方，且在外杯本體31之內部配置有內杯本體47。內杯本體47在俯視下呈環狀。該內杯本體47不具備底部，底部構成將處理液與氣體朝下方排出之內杯排出口49。內杯本體47具備導引部51及分隔壁收納部53。導引部51將自基板W飛散至周圍之正性顯影用之顯影液及沖洗液朝下方之內杯排出口49導引。分隔壁收納部53形成於導引部51之下部，縱剖面呈倒U字狀。該分隔壁收納部53收納分離分隔壁37，相應於後述之動作收納分離分隔壁37或僅收納分離分隔壁37之上部。 中杯29係以其外周側位於較分離分隔壁37更靠內周側之方式配置。中杯29之下表面形成為與第1排氣口43之開口分隔，外周面與分離分隔壁37之內周面在內側分隔，外周端與外下杯33之底面分隔。又，中杯29經施以親水化處理，能夠利用導引部51將自基板W飛散至周圍之正性顯影用之顯影液及沖洗液順暢地導引至外下杯33之底面。此外，較佳為，親水化處理係藉由利用噴砂處理使表面粗糙化而實施，而非塗佈藥劑等。 藉由中杯29之親水化處理，即便正性顯影用之顯影液及沖洗液流下至中杯29，亦可使其不易回濺。因而，能夠防止如正性顯影用之顯影液及沖洗液在中杯29回濺而附著於基板W之問題。又，由於能夠提高附著於中杯29之正性顯影用之顯影液及沖洗液之流動性，故能夠易於以第1排液口39回收。 此外，較佳為，亦預先對內杯本體47施以親水化處理。藉此，在以外杯21回收負性顯影用之顯影液及沖洗液時，能夠使附著於內杯本體47之上表面之負性顯影用之顯影液及沖洗液易於流下至外下杯33，而能夠易於以第2排液口41回收。 側板27形成有缺口部55，其在一個部位(圖1～圖4之左側)自內周側貫通至外周側，且在高度方向上形成為較長。在缺口部55之內周側配置有連桿構件57、及氣缸59。氣缸59係以其作動片朝向縱向之姿勢安裝於基座部25，其前端連結於連桿構件57之底部。在側板27之外周面配置有環狀構件61。 又，上述之氣缸59相當於本發明之「驅動部」。 此處參照圖5。又，圖5係環狀構件之平面圖。 環狀構件61在俯視下呈環狀，以與相當於外杯本體31內之外周面之側板27之外周面朝外側分隔稍許之狀態，沿外周面可升降地安裝。環狀構件61之連結部63在外周之3個部位於俯視下自中心以互為等間隔之角度朝外周側延伸。各連結部63卡止於形成在內杯本體47之內周面之突起部65。此外，各連結部63通過形成於中杯29之縱開口67而連結於突起部65。因而，中杯29與連結部63不會干擾。 如此，環狀構件61由在俯視下成為相等之位置關係之3個部位之連結部63與內杯本體47連結。因而，由於即便使環狀構件61快速地升降仍能夠以穩定之姿勢使內杯本體47移動，故能夠快速地進行處理之切換。 連桿構件57之上部自側板27之缺口部55朝上方延伸而連結於環狀構件61之內周面之一個部位。藉此，若使氣缸59作動而使作動片升降，則內杯本體47與環狀構件61一起在外杯21之內部升降。具體而言，若使氣缸59之作動片進入，則內杯本體47上升至「回收位置」，若使氣缸59之作動片收縮，則內杯本體47下降至「退避位置」。回收位置為自內杯23之導入口A回收正性顯影用之顯影液及沖洗液之位置，退避位置為自外杯21之導入口B回收負性顯影用之顯影液及沖洗液之位置。 此外，由於在退避位置內杯本體47之分隔壁收納部53收納分離分隔壁37，在回收位置內杯本體47之分隔壁收納部53僅收納分離分隔壁37之上部，故即便在內杯23與外杯21共用外下杯33時，仍能夠使內杯本體47內與外下杯33內完全分離。因而，能夠在退避位置僅由外杯21回收負性顯影用之顯影液與沖洗液及包含其霧氣之氣體，在回收位置利用導引部51導引正性顯影用之顯影液與沖洗液及包含其霧氣之氣體且僅由內杯23回收。又，由於分隔壁收納部53與分離分隔壁37發揮導引之作用，故能夠穩定地進行內杯本體47之升降。 上述之電動馬達7、處理液供給部11、及氣缸59由控制部69控制。控制部69具備CPU及記憶體等，根據規定基板W之處理程序之處方操作上述之各部。 此處，參照圖6～圖9。且，圖6係將外杯本體及內杯本體卸下之狀態下之外下杯之立體圖，圖7係顯示各排氣口之位置關係之平面圖，圖8係排氣口之側視圖，圖9係顯示各排氣口及各排液口之配置位置之平面圖。 上述之第1排氣口43係例如如圖7及圖9所示般形成於4個部位。第1排氣口43之各者係以在俯視下自中心互為等角度之位置關係之方式配置。由於在本實施例中為4個，故互為90度之角度之位置關係。第1排氣口43具備：中空部71，其自外下杯33之底面朝上方延伸；及開口73，其形成於中空部71之上部。第1排氣口43之高度係設為不抵接於中杯29之下表面之高度，開口73朝向與基板保持部3之旋轉方向為逆向之方向而形成。由於中杯29以覆蓋開口73之上方之方式配置，能夠防止正性顯影用之顯影液與沖洗液流入至第1排氣口43，故能夠提高氣液之分離程度，而使內杯23內之氣體排出。 由於第1排氣口43之開口73在與因旋轉產生之氣流之方向為逆向之方向上形成，故能夠防止正性顯影用之顯影液與沖洗液及其霧氣隨著氣流流入至第1排氣口43。因而，能夠提高氣液之分離程度。又，由於第1排氣口43之開口73自外下杯33之底面朝上方離開，故能夠防止被外下杯33之底面回收之正性顯影用之顯影液及沖洗液與氣體混合。 上述之第2排氣口45係例如如圖6及圖7所示般形成於4個部位。第2排氣口45之各者係以在俯視下自中心互為等角度之位置關係之方式配置。由於在本實施例中為4個，故以互為90°之角度之位置關係之方式配置。且，4個第2排氣口45與4個第1排氣口43之位置關係為在俯視下彼此挪移90度之關係。 如此，由於藉由挪移90度之配置，而即便配置4個第1排氣口43及4個第2排氣口45，仍能夠將各個排氣口充分地分隔而配置，故能夠使排氣口之構造不致複雜化。 上述之第2排氣口45之各者配置於自在俯視下為圓形狀之外杯19之外周面朝側方延伸之外下杯33的四個角隅。換言之，各第2排氣口45配置於外杯本體31之外周部。外側面杯35僅在與各第2排氣口45對應之位置形成貫通口75。貫通口75被貫通口蓋77覆蓋。以在由外側面杯35、貫通口蓋77、及外下杯33形成之空間內上端開口之方式將排氣管79安裝於外下杯33。且，排氣管79以其上端位於較貫通口75之上部更靠上方之方式配置。即，自貫通口75流入之氣體暫時朝上方上升，並在流入至由貫通口蓋77、及外下杯33形成之空間後，自排氣管79之上端排出而自第2排氣口45排出。 由於藉由如上述之構造，而第2排氣口45之各者能夠配置於外杯21之外周側，故能夠充分地保持與第1排氣口43之距離。因而，能夠使排氣構造不致密集而複雜化。又，由於將通過外側面杯35之貫通口75朝向排氣管79之上端上升而來之氣流排氣，故能夠僅將包含霧氣之氣體排氣，而能夠防止負性顯影用之顯影液與沖洗液混入至第2排氣口45之開口73。 由於如上述般配置第1排氣口43及第2排氣口45，故能夠將包含正性顯影用之顯影液與沖洗液之霧氣之氣體自內杯23均等地排氣，並能夠將包含負性顯影用之顯影液與沖洗液之霧氣之氣體自外杯21均等地排氣。因而，由於能夠使內杯23內及外杯21內之環境均等而無二致，故能夠提高正性顯影用之顯影液與沖洗液之基板W處理之面內均一性及負性顯影用之顯影液與沖洗液之基板W處理之面內均一性。 在外下杯33之底面中之被分離分隔壁37分離之內周側形成內周流路81，在被分離分隔壁37分離之外周側形成外周流路83。上述之第1排液口39形成於內周流路81之2個部位。具體而言，形成於在俯視下夾著軸心P而對向之位置。又，上述之第2排液口41形成於外周流路83之2個部位。具體而言，形成於在俯視下夾著軸心P對向之位置，且與2個第1排液口39之位置關係形成為在劃出通過圖9之軸心P之縱線之情形下相對於縱線為線對稱。 內周流路81具備：內周傾斜面85，其以通過二個第1排液口39之中心之圓C1為基準，自較圓C1更靠內周側朝向第1排液口39逐漸變低；及外周傾斜面87，其自較圓C1更靠外周側朝向第1排液口39逐漸變低(參照圖3或圖4)。 外周流路83具備：內周傾斜面89，其以通過二個第2排液口41之中心之圓C2為基準，自較圓C2更靠內周側朝向第2排液口41逐漸變低；及外周傾斜面91，其自較圓C2更靠外周側朝向第2排液口41逐漸變低(參照圖3或圖4)。 如此，由於外下杯33之底面具備內周傾斜面85及外周傾斜面87，故能夠提高正性顯影用之顯影液與沖洗液朝第1排液口39之排出效率。再者，由於外下杯33之底面為包含內周傾斜面85及外周傾斜面87之傾斜面，故能夠防止如自上方流下而來之正性顯影用之顯影液與沖洗液在底面回濺再次朝向上方而附著於基板W之問題。又，由於底面具備內周傾斜面89及外周傾斜面91，故能夠提高負性顯影用之顯影液與沖洗液朝第2排液口41之排出效率。再者，由於外下杯33之底面為包含內周傾斜面89與外周傾斜面91之傾斜面，故能夠防止如自上方流下而來之負性顯影用之顯影液與沖洗液在底面回濺再次朝向上方而附著於基板W之問題。 再者，內周流路81設為在圓周方向上朝向第1排液口39之各者變低之傾斜面。即，在本實施例中，以如下之方式形成傾斜面，即：在內周流路81中，二個第1排液口39之中間附近形成為較高，並朝向第1排液口39之各者變低。又，外周流路83亦相同地設為在圓周方向上朝向第2排液口41之各者變低之傾斜面。 藉由形成如上述之傾斜面，而流下至遠離形成於外下杯33之底面之第1排液口39及第2排液口41之位置的正性顯影用及負性顯影用之顯影液與沖洗液亦能夠利用傾斜面朝第1排液口39及第2排液口41流下。因而，能夠提高正性顯影用及負性顯影用之顯影液與沖洗液之回收效率。 此外，較佳為，對外下杯33之底面施以親水化處理。具體而言，較佳為，上述之內周流路81與外周流路83之上表面施以親水化處理。 如此，若對外下杯33之底面施以親水化處理，尤其是對內周流路81施以親水化處理，則即便正性顯影用之顯影液及沖洗液流下仍能夠不易在外下杯33之底面回濺。因而，能夠防止如正性顯影用之顯影液及沖洗液再次朝向上方而附著於基板W之問題。又，由於能夠提高正性顯影用及負性顯影用之顯影液與沖洗液在外下杯33之底面之周向之流動性，故能夠易於在第1排液口39與第2排液口41回收。 在如上述般構成之基板處理裝置中，於保持於基板保持部3之基板W黏著有正光阻抗蝕劑之情形下，控制部69進行正性顯影用之顯影液與沖洗液之顯影處理。首先，控制部69使氣缸59作伸長動作。藉此，內杯23上升而移動至「回收位置」，導入口A開放。而後，控制部69使噴嘴13移動至軸心P，且驅動電動馬達7，使旋轉數增加至處理旋轉數，以特定時間對基板W供給正性顯影用之顯影液。此時，自基板W飛散之正性顯影用之顯影液被內杯23回收，並經由第1排液口39被回收。且，包含正性顯影用之顯影液之霧氣之內杯23內之氣體在內杯23內流下，經由第1排氣口43排出。其次，控制部69變動噴嘴13使噴嘴14移動至軸心P，以特定時間供給正性顯影用之沖洗液。此時，與上述相同地，在內杯23內正性顯影用之沖洗液及包含其霧氣之氣體被回收及排出。 其次，於在保持於基板保持部3之基板W黏著有負光阻抗蝕劑之情形下，控制部69進行負性顯影用之顯影液與沖洗液之顯影處理。首先，控制部69使氣缸59作收縮動作。藉此，使內杯23下降而移動至「退避位置」，導入口B開放。而後，控制部69使噴嘴15移動至軸心P，且驅動電動馬達7，使旋轉數增加至處理旋轉數，以特定時間對基板W供給負性顯影用之顯影液。此時，自基板W飛散之負性顯影用之顯影液被外杯21回收，並經由第2排液口41被回收。且，包含負性顯影用之顯影液之霧氣之外杯21內之氣體在外杯21內流下，經由第2排氣口45排出。其次，控制部69變動噴嘴15使噴嘴16移動至軸心P，以特定時間供給負性顯影用之沖洗液。此時，與上述相同地，在內杯21內負性顯影用之沖洗液及包含其霧氣之氣體被回收及排出。 根據本實施例裝置，由於內杯23內之氣體與外杯21內之氣體未混合，故無論在使用內杯23時還是在使用外杯21時，皆能夠高品質地對基板W進行處理。再者，由於內杯本體47不具備底面，故可追求內杯23之輕量化。因而，能夠減輕經由環狀構件61利用氣缸59使內杯本體47移動時之負載，而快速地進行內杯本體47之移動。又，由於正性顯影用之顯影液與沖洗液亦被遠離下方之外下杯33之底面回收，故能夠防止因正性顯影用之顯影液與沖洗液之回濺而導致之不良影響。 又，根據本實施例裝置，由於第1排氣口43以在俯視下相等之位置關係配置於內杯23，故包含正性顯影用之顯影液與沖洗液之霧氣之氣體能夠自內杯均等地排氣。因而，由於能夠使內杯23內之環境均等而無二致，故能夠提高正性顯影用之顯影液與沖洗液之基板W處理之面內均一性。 又，根據本實施例裝置，在與因旋轉產生之氣流之方向為逆向之方向上形成第1排氣口43之開口73，故能夠防止正性顯影用之顯影液與沖洗液隨著氣流流入至第1排氣口43。因而，能夠提高氣液之分離程度。 又，由於外下杯33之底面具備內周傾斜面85及外周傾斜面87，故能夠提高第1排液口39之正性顯影用之顯影液與沖洗液之排出效率。再者，由於外下杯33之底面為內周傾斜面85及外周傾斜面87，故能夠防止如自上方流下而來之正性顯影用之顯影液與沖洗液在底面回濺再次朝向上方而附著於基板W之問題。 本發明並不限定於上述實施形態，能夠如下述般變化實施。 (1)在上述之實施例中，以進行正性顯影處理與負性顯影處理之基板處理裝置為例進行了說明，但本發明並不限定於此。例如，本發明能夠應用於對基板W之洗淨處理與塗佈處理等之使用處理液對基板W進行處理之各種裝置。 (2)在上述之實施例中，在環狀構件61設置有3個連結部63，在俯視下彼此等間隔地配置，但本發明並不限定於如上述之配置。即，可在俯視下不等間隔地配置複數個連結部63。 (3)在上述之實施例中，內杯本體47由導引部51與分隔壁收納部53構成，但若能夠使分離分隔壁53之內周側與外周側之環境分離，且穩定地進行內杯本體47之升降，則不一定必須設置分隔壁收納部53。 (4)在上述之實施例中，作為驅動部例示了氣缸59，但本發明並不將驅動部限定於氣缸59。即，驅動部只要能夠使環狀構件61上下變位即可，例如可由螺桿與電動馬達構成。 (5)在上述之實施例中，第1排氣口43由中空部71與開口73構成，但若使配置有第1排氣口43之外下杯33之底面較第1排液口39為高，則可不設置中空部71。 (6)在上述之實施例中，具備4個第1排氣口43及4個第2排氣口45，且將其等在俯視下挪移90度而配置，但若排氣構造不會複雜化，則無須挪移而配置，可將4個第1排氣口43與4個第2排氣口45配置於大致相同之角度之位置。 (7)在上述之實施例中，分別具備4個第1排氣口43及第2排氣口45，但可行的是分別至少具備3個，且在俯視下均等地配置。又，本發明無須使第1排氣口43與第2排氣口45均採用在俯視下均等之角度之配置，可僅使第1排氣口43採用在俯視下均等之角度之配置，或僅使第2排氣口45採用在俯視下均等之角度之配置。 (8)在上述之實施例中，第1排氣口43具備中空部71及開口73，該開口73朝向與基板W之旋轉方向為逆向之方向，且外下杯33在底面具備內周傾斜面85及外周傾斜面87。然而，本發明無須同時具備該等之構成，可根據目的僅具備任一者。 (9)在上述之實施例中，對外下杯33之底面施以親水化處理，但本發明並非必須實以該親水化處理。且，相同地，中杯29之親水化處理亦並非必須。 (10)在上述之實施例中，外下杯33之底面具備在圓周方向上朝向第1排液口39及第2排液口41變低之傾斜面，但本發明並非必須採用該構成。 (11)在上述之實施例中，內杯本體47由導引部51與分隔壁收納部53構成，但若能夠使分離分隔壁53之內周側與外周側之環境分離，且穩定地進行內杯本體47之升降，則不一定必須設置分隔壁收納部53。 ※ 本發明在不脫離其思想或本質下可以其他具體之形式實施，因而，作為表示發明之範圍者，並非是以上之說明，而是應該參考所附加之請求項。 ※ The present invention may be embodied in other specific forms without departing from the spirit or essential attributes thereof and, accordingly, reference should be made to the appended claims, rather than to the foregoing specification, as indicating the scope of the invention.
1‧‧‧基板處理裝置
3‧‧‧基板保持部
5‧‧‧旋轉驅動部
7‧‧‧電動馬達
9‧‧‧旋轉軸
11‧‧‧處理液供給部
13‧‧‧供給噴嘴/噴嘴
14‧‧‧供給噴嘴/噴嘴
15‧‧‧供給噴嘴/噴嘴
16‧‧‧供給噴嘴/噴嘴
17‧‧‧噴淋盤
19‧‧‧杯/外杯
21‧‧‧外杯
23‧‧‧內杯
25‧‧‧基座部
27‧‧‧側板
29‧‧‧中杯
31‧‧‧外杯本體
33‧‧‧外下杯
35‧‧‧外側面杯
37‧‧‧分離分隔壁
39‧‧‧第1排液口
41‧‧‧第2排液口
43‧‧‧第1排氣口
45‧‧‧第2排氣口
47‧‧‧內杯本體
49‧‧‧內杯排出口
51‧‧‧導引部
53‧‧‧分隔壁收納部
55‧‧‧缺口部
57‧‧‧連桿構件
59‧‧‧氣缸
61‧‧‧環狀構件
63‧‧‧連結部
65‧‧‧突起部
67‧‧‧縱開口
69‧‧‧控制部
71‧‧‧中空部
73‧‧‧開口
75‧‧‧貫通口
77‧‧‧貫通口蓋
79‧‧‧排氣管
81‧‧‧內周流路
83‧‧‧外周流路
85‧‧‧內周傾斜面
87‧‧‧外周傾斜面
89‧‧‧內周傾斜面
91‧‧‧外周傾斜面
A‧‧‧導入口
B‧‧‧導入口
C1‧‧‧圓
C2‧‧‧圓
P‧‧‧軸心
W‧‧‧基板
圖1係顯示實施例之基板處理裝置之概略構成之整體構成圖，且係顯示內杯位於回收位置之狀態之縱剖視圖。 圖2係顯示實施例之基板處理裝置之概略構成之整體構成圖；且係顯示內杯位於退避位置之狀態之縱剖視圖。 圖3係將內杯位於回收位置之狀態之一部分放大而顯示之縱剖視圖。 圖4係將內杯位於退避位置之狀態之一部分放大而顯示之縱剖視圖。 圖5係環狀構件之平面圖。 圖6係將外杯本體及內杯本體卸下之狀態下之外下杯之立體圖。 圖7係顯示各排氣口之位置關係之平面圖。 圖8係排氣口之側視圖。 圖9係顯示各排氣口及各排液口之配置位置之平面圖。

Claims (39)

  1. 一種基板處理裝置，其係以處理液對基板進行處理者，前述裝置包含以下組件： 基板保持部，其以水平姿勢保持基板； 旋轉驅動部，其使前述基板保持部繞鉛垂軸旋轉； 第1處理液供給部，其對保持於前述基板保持部之基板供給第1處理液； 第2處理液供給部，其對保持於前述基板保持部之基板供給第2處理液； 外杯，其包圍前述基板保持部之側方而配置；及 內杯，其配置於前述基板保持部與前述外杯之間；且 前述內杯具備： 內杯本體，其在俯視下呈環狀：及 內杯排出口，其形成於前述內杯本體之下部，將前述內杯本體內之第1處理液及氣體朝下方排出； 前述外杯具備： 外杯本體，其在俯視下呈環狀； 外下杯，其構成前述外杯本體之底部； 第1排液口，其形成於前述外下杯之底面，用於排出自前述內杯排出口排出之前述第1處理液； 第1排氣口，其形成於前述外下杯，用於排出自前述內杯排出口排出之氣體； 第2排液口，其形成於前述外下杯之底面，排出前述外杯本體內之第2處理液； 第2排氣口，其形成於前述外下杯，用於排出前述外杯本體內之氣體；及 分離分隔壁，其在俯視下呈環狀地豎立設置於前述外下杯之底面，將前述第1排液口與前述第2排液口分離；並且 前述裝置具備： 環狀構件，其在俯視下呈環狀，且以沿前述外杯本體內之外周面可升降地安裝，而不會將前述內杯排出口閉塞之方式連結於前述內杯本體；及 驅動部，其使前述環狀構件升降，而使前述內杯本體在前述內杯回收處理液之回收位置與前述外杯回收處理液之退避位置間移動。
  2. 如請求項1之基板處理裝置，其中 前述環狀構件於在俯視下自中心互為等角度之位置關係之複數個部位具備與前述內杯本體之連結部。
  3. 如請求項1之基板處理裝置，其中 前述內杯本體具備：導引部，其將自基板飛散至周圍之第1處理液朝下方導引；及分隔壁收納部，其呈倒U字狀形成於前述導引部之下部；且 前述內杯本體在前述退避位置將前述分離分隔壁收納於前述分隔壁收納部，在前述回收位置僅將前述分離分隔壁之上部收納於前述分隔壁收納部。
  4. 如請求項1之基板處理裝置，其中 前述第1排氣口在自前述外下杯之底面朝上方延伸之中空部之前端形成開口。
  5. 如請求項1之基板處理裝置，其中 前述外杯本體在較前述分離分隔壁更靠內周側具備中杯；且 前述中杯係其下表面形成為與前述第1排氣口之開口分隔，外周面與前述分離分隔壁之內周面分隔，外周端與前述外杯本體之底面分隔。
  6. 如請求項1之基板處理裝置，其中 前述外下杯在底面形成在圓周方向上朝向前述第1排液口及前述第2排液口變低之傾斜面。
  7. 一種基板處理裝置，其係以處理液對基板進行處理者，前述裝置包含以下組件： 基板保持部，其以水平姿勢保持基板； 旋轉驅動部，其使前述基板保持部繞鉛垂軸旋轉； 第1處理液供給部，其對保持於前述基板保持部之基板供給第1處理液； 第2處理液供給部，其對保持於前述基板保持部之基板供給第2處理液； 外杯，其包圍前述基板保持部之側方而配置；及 內杯，其配置於前述基板保持部與前述外杯之間；且 前述內杯具備： 內杯本體，其在俯視下呈環狀：及 內杯排出口，其形成於前述內杯本體之下部，將前述內杯本體內之第1處理液及氣體朝下方排出； 前述外杯具備： 外杯本體，其在俯視下呈環狀； 外下杯，其構成前述外杯本體之底部； 第1排液口，其形成於前述外下杯之底面，用於排出自前述內杯排出口排出之前述第1處理液； 第1排氣口，其形成於前述外下杯，用於排出自前述內杯排出口排出之氣體； 第2排液口，其形成於前述外下杯之底面，排出前述外杯本體內之第2處理液； 第2排氣口，其形成於前述外下杯，用於排出前述外杯本體內之氣體；及 分離分隔壁，其在俯視下呈環狀地豎立設置於前述外下杯之底面，將前述第1排液口與前述第2排液口分離； 前述第1排氣口配置於在俯視下自中心互為等角度之位置關係之複數個部位； 前述內杯本體在前述內杯回收處理液之回收位置與前述外杯回收處理液之退避位置間移動。
  8. 一種基板處理裝置，其係以處理液對基板進行處理者，前述裝置包含以下組件： 基板保持部，其以水平姿勢保持基板； 旋轉驅動部，其使前述基板保持部繞鉛垂軸旋轉； 第1處理液供給部，其對保持於前述基板保持部之基板供給第1處理液； 第2處理液供給部，其對保持於前述基板保持部之基板供給第2處理液； 外杯，其包圍前述基板保持部之側方而配置；及 內杯，其配置於前述基板保持部與前述外杯之間；且 前述內杯具備： 內杯本體，其在俯視下呈環狀：及 內杯排出口，其形成於前述內杯本體之下部，將前述內杯本體內之第1處理液及氣體朝下方排出； 前述外杯具備： 外杯本體，其在俯視下呈環狀； 外下杯，其構成前述外杯本體之底部； 第1排液口，其形成於前述外下杯之底面，用於排出自前述內杯排出口排出之前述第1處理液； 第1排氣口，其形成於前述外下杯，用於排出自前述內杯排出口排出之氣體； 第2排液口，其形成於前述外下杯之底面，排出前述外杯本體內之第2處理液； 第2排氣口，其形成於前述外下杯，用於排出前述外杯本體內之氣體；及 分離分隔壁，其在俯視下呈環狀地豎立設置於前述外下杯之底面，將前述第1排液口與前述第2排液口分離；並且 前述第2排氣口配置於在俯視下自中心互為等角度之位置關係之複數個部位； 前述內杯本體在前述內杯回收處理液之回收位置與前述外杯回收處理液之退避位置間移動。
  9. 一種基板處理裝置，其係以處理液對基板進行處理者，前述裝置包含以下組件： 基板保持部，其以水平姿勢保持基板； 旋轉驅動部，其使前述基板保持部繞鉛垂軸旋轉； 第1處理液供給部，其對保持於前述基板保持部之基板供給第1處理液； 第2處理液供給部，其對保持於前述基板保持部之基板供給第2處理液； 外杯，其包圍前述基板保持部之側方而配置；及 內杯，其配置於前述基板保持部與前述外杯之間；且 前述內杯具備： 內杯本體，其在俯視下呈環狀：及 內杯排出口，其形成於前述內杯本體之下部，將前述內杯本體內之第1處理液及氣體朝下方排出； 前述外杯具備： 外杯本體，其在俯視下呈環狀； 外下杯，其構成前述外杯本體之底部； 第1排液口，其形成於前述外下杯之底面，用於排出自前述內杯排出口排出之前述第1處理液； 第1排氣口，其形成於前述外下杯，用於排出自前述內杯排出口排出之氣體； 第2排液口，其形成於前述外下杯之底面，排出前述外杯本體內之第2處理液； 第2排氣口，其形成於前述外下杯，用於排出前述外杯本體內之氣體；及 分離分隔壁，其在俯視下呈環狀地豎立設置於前述外下杯之底面，將前述第1排液口與前述第2排液口分離； 前述第1排氣口配置於在俯視下自中心互為等角度之位置關係之複數個部位，且前述第2排氣口配置於在俯視下自中心互為等角度之位置關係之複數個部位； 前述內杯本體在前述內杯回收處理液之回收位置與前述外杯回收處理液之退避位置間移動。
  10. 如請求項7之基板處理裝置，其中 前述外杯本體具備構成前述外下杯本體之側面之外側面杯；且 前述第2排氣口之各者配置於前述外杯本體之外周部； 前述外側面杯在與前述第2排氣口之各者對應之位置形成貫通口； 前述第2排氣口之各者具備上端位於較前述貫通口之上部更靠上方之排氣管。
  11. 如請求項8之基板處理裝置，其中 前述外杯本體具備構成前述外下杯本體之側面之外側面杯；且 前述第2排氣口之各者配置於前述外杯本體之外周部； 前述外側面杯在與前述第2排氣口之各者對應之位置形成貫通口； 前述第2排氣口之各者具備上端位於較前述貫通口之上部更靠上方之排氣管。
  12. 如請求項9之基板處理裝置，其中 前述外杯本體具備構成前述外下杯本體之側面之外側面杯；且 前述第2排氣口之各者配置於前述外杯本體之外周部； 前述外側面杯在與前述第2排氣口之各者對應之位置形成貫通口； 前述第2排氣口之各者具備上端位於較前述貫通口之上部更靠上方之排氣管。
  13. 如請求項9之基板處理裝置，其中 前述第1排氣口之各者係將前述第2排氣口之各者之位置關係在俯視下挪移90度而配置。
  14. 如請求項7之基板處理裝置，其中 前述第1排氣口在自前述外下杯之底面朝上方延伸之中空部之前端形成開口。
  15. 如請求項8之基板處理裝置，其中 前述第1排氣口在自前述外下杯之底面朝上方延伸之中空部之前端形成開口。
  16. 如請求項9之基板處理裝置，其中 前述第1排氣口在自前述外下杯之底面朝上方延伸之中空部之前端形成開口。
  17. 如請求項7之基板處理裝置，其中 前述內杯本體具備：導引部，其將自基板飛散至周圍之第1處理液朝下方導引；及分隔壁收納部，其呈倒U字狀形成於前述導引部之下部；且 前述內杯本體在前述退避位置將前述分離分隔壁收納於前述分隔壁收納部，在前述回收位置僅將前述分離分隔壁之上部收納於前述分隔壁收納部。
  18. 如請求項8之基板處理裝置，其中 前述內杯本體具備：導引部，其將自基板飛散至周圍之第1處理液朝下方導引；及分隔壁收納部，其呈倒U字狀形成於前述導引部之下部；且 前述內杯本體在前述退避位置將前述分離分隔壁收納於前述分隔壁收納部，在前述回收位置僅將前述分離分隔壁之上部收納於前述分隔壁收納部。
  19. 如請求項9之基板處理裝置，其中 前述內杯本體具備：導引部，其將自基板飛散至周圍之第1處理液朝下方導引；及分隔壁收納部，其呈倒U字狀形成於前述導引部之下部；且 前述內杯本體在前述退避位置將前述分離分隔壁收納於前述分隔壁收納部，在前述回收位置僅將前述分離分隔壁之上部收納於前述分隔壁收納部。
  20. 如請求項7之基板處理裝置，其中 前述外杯本體在較前述分離分隔壁更靠內周側具備中杯；且 前述中杯之下表面形成為與前述第1排氣口之開口分隔，外周面與前述分離分隔壁之內周面分隔，外周端與前述外杯本體之底面分隔。
  21. 如請求項8之基板處理裝置，其中 前述外杯本體在較前述分離分隔壁更靠內周側具備中杯；且 前述中杯之下表面形成為與前述第1排氣口之開口分隔，外周面與前述分離分隔壁之內周面分隔，外周端與前述外杯本體之底面分隔。
  22. 如請求項9之基板處理裝置，其中 前述外杯本體在較前述分離分隔壁更靠內周側具備中杯；且 前述中杯之下表面形成為與前述第1排氣口之開口分隔，外周面與前述分離分隔壁之內周面分隔，外周端與前述外杯本體之底面分隔。
  23. 如請求項7之基板處理裝置，其中 前述外下杯在底面形成在圓周方向上朝向前述第1排液口及前述第2排液口變低之傾斜面。
  24. 如請求項8之基板處理裝置，其中 前述外下杯在底面形成在圓周方向上朝向前述第1排液口及前述第2排液口變低之傾斜面。
  25. 如請求項9之基板處理裝置，其中 前述外下杯在底面形成在圓周方向上朝向前述第1排液口及前述第2排液口變低之傾斜面。
  26. 一種基板處理裝置，其係以處理液對基板進行處理者，前述裝置包含以下組件： 基板保持部，其以水平姿勢保持基板； 旋轉驅動部，其使前述基板保持部繞鉛垂軸旋轉； 第1處理液供給部，其對保持於前述基板保持部之基板供給第1處理液； 第2處理液供給部，其對保持於前述基板保持部之基板供給第2處理液； 外杯，其包圍前述基板保持部之側方而配置；及 內杯，其配置於前述基板保持部與前述外杯之間；且 前述內杯具備： 內杯本體，其在俯視下呈環狀：及 內杯排出口，其形成於前述內杯本體之下部，將前述內杯本體內之第1處理液及氣體朝下方排出； 前述外杯具備： 外杯本體，其在俯視下呈環狀； 外下杯，其構成前述外杯本體之底部； 第1排液口，其形成於前述外下杯之底面，用於排出自前述內杯排出口排出之前述第1處理液； 第1排氣口，其形成於前述外下杯，且為了排出自前述內杯排出口排出之氣體，而以在自前述底面朝上方延伸之中空部之上部形成開口，且前述開口朝向與前述基板保持部之旋轉方向為逆向之方向之方式形成； 第2排液口，其形成於前述外下杯之底面，排出前述外杯本體內之第2處理液； 第2排氣口，其形成於前述外下杯，用於排出前述外杯本體內之氣體；及 分離分隔壁，其在俯視下呈環狀地豎立設置於前述外下杯之底面，將前述第1排液口與前述第2排液口分離； 前述內杯本體在前述內杯回收處理液之回收位置與前述外杯回收處理液之退避位置間移動。
  27. 一種基板處理裝置，其係以處理液對基板進行處理者，前述裝置包含以下組件： 基板保持部，其以水平姿勢保持基板； 旋轉驅動部，其使前述基板保持部繞鉛垂軸旋轉； 第1處理液供給部，其對保持於前述基板保持部之基板供給第1處理液； 第2處理液供給部，其對保持於前述基板保持部之基板供給第2處理液； 外杯，其包圍前述基板保持部之側方而配置；及 內杯，其配置於前述基板保持部與前述外杯之間；且 前述內杯具備： 內杯本體，其在俯視下呈環狀：及 內杯排出口，其形成於前述內杯本體之下部，將前述內杯本體內之第1處理液及氣體朝下方排出； 前述外杯具備： 外杯本體，其在俯視下呈環狀； 外下杯，其構成前述外杯本體之底部； 第1排液口，其形成於前述外下杯之底面，用於排出自前述內杯排出口排出之前述第1處理液； 第1排氣口，其形成於前述外下杯，用於排出自前述內杯排出口排出之氣體； 第2排液口，其形成於前述外下杯之底面，排出前述外杯本體內之第2處理液； 第2排氣口，其形成於前述外下杯，用於排出前述外杯本體內之氣體；及 分離分隔壁，其在俯視下呈環狀地豎立設置於前述外下杯之底面，將前述第1排液口與前述第2排液口分離； 前述內杯本體在前述內杯回收處理液之回收位置與前述外杯回收處理液之退避位置間移動； 前述外下杯之底面具有：內周傾斜面，其自較前述第1排液口更靠內周側朝向前述第1排液口逐漸變低；及外周傾斜面，其自較前述第1排液口更靠外周側朝向前述第1排液口逐漸變低。
  28. 如請求項26之基板處理裝置，其中 前述外下杯之底面具有：內周傾斜面，其自較前述第1排液口更靠內周側朝向前述第1排液口逐漸變低；及外周傾斜面，其自較前述第1排液口更靠外周側朝向前述第1排液口逐漸變低。
  29. 如請求項27之基板處理裝置，其中 前述第1排氣口形成於前述外下杯，並以在自前述底面朝上方延伸之中空部之上部形成開口，且前述開口朝向與前述基板保持部之旋轉方向為逆向之方向之方式形成。
  30. 如請求項26之基板處理裝置，其中 前述外下杯在底面形成在圓周方向上朝向前述第1排液口及前述第2排液口變低之傾斜面。
  31. 如請求項27之基板處理裝置，其中 前述外下杯在底面形成在圓周方向上朝向前述第1排液口及前述第2排液口變低之傾斜面。
  32. 如請求項26之基板處理裝置，其中 前述外下杯之底面經施以親水化處理。
  33. 如請求項27之基板處理裝置，其中 前述外下杯之底面經施以親水化處理。
  34. 如請求項26之基板處理裝置，其中 前述內杯本體具備：導引部，其將自基板飛散至周圍之第1處理液朝下方導引；及分隔壁收納部，其呈倒U字狀形成於前述導引部之下部；且 前述內杯本體在前述退避位置將前述分離分隔壁收納於前述分隔壁收納部，在前述回收位置僅將前述分離分隔壁之上部收納於前述分隔壁收納部。
  35. 如請求項27之基板處理裝置，其中 前述內杯本體具備：導引部，其將自基板飛散至周圍之第1處理液朝下方導引；及分隔壁收納部，其呈倒U字狀形成於前述導引部之下部；且 前述內杯本體在前述退避位置將前述分離分隔壁收納於前述分隔壁收納部，在前述回收位置僅將前述分離分隔壁之上部收納於前述分隔壁收納部。
  36. 如請求項26之基板處理裝置，其中 前述外杯本體在較前述分離分隔壁更靠內周側具備中杯；且 前述中杯係其下表面形成為與前述第1排氣口之開口分隔，外周面與前述分離分隔壁之內周面分隔，外周端與前述外杯本體之底面分隔。
  37. 如請求項27之基板處理裝置，其中 前述外杯本體在較前述分離分隔壁更靠內周側具備中杯；且 前述中杯係其下表面形成為與前述第1排氣口之開口分隔，外周面與前述分離分隔壁之內周面分隔，外周端與前述外杯本體之底面分隔。
  38. 如請求項36之基板處理裝置，其中 前述中杯經施以親水化處理。
  39. 如請求項37之基板處理裝置，其中 前述中杯經施以親水化處理。
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