KR101682786B1 - 술포늄 화합물, 그의 제조법 및 용도 - Google Patents

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Abstract

하기 화학식 I, Ia 또는 Ib의 화합물은 열산 발생제로서 적합하다.
<화학식 I>
Figure 112014109866223-pct00066

<화학식 Ia>
Figure 112014109866223-pct00067

<화학식 Ib>
Figure 112014109866223-pct00068

상기 식에서,
A1 - 및 A-는 예를 들어
Figure 112014109866223-pct00069
이고, n은 1 또는 2이고; X는 C1-C4알킬렌 또는 CO이고; Y는 예를 들어 O, O(CO), O(CO)O이고, R1은 예를 들어 수소, C1-C18알킬, C3-C30시클로알킬, 페닐, 나프틸, 안트라실, 페난트릴, 비페닐릴, 플루오레닐 또는 C3-C20헤테로아릴이고, 이들 모두는 임의로 치환되고; R2 및 R3은 예를 들어 임의로 치환된 C1-C10할로알킬렌이거나, 또는 R2 및 R3은 임의로 치환된 페닐렌이고; R4는 기
Figure 112014109866223-pct00070
(A) 또는 기
Figure 112014109866223-pct00071
(B)이고; R5 및 R6은 예를 들어 C1-C20알킬이거나; 또는 R4 및 R5 또는 R4 및 R6은 함께 직쇄 C2-C6알킬렌을 형성하고, R5 및 R6은 함께 직쇄 C2-C6알킬렌을 형성하고; R7, R8, R9 및 R10은 예를 들어 C1-C20알킬이고; M은 예를 들어 C1-C20알킬렌, C2-C20알케닐렌, C2-C20알키닐렌이고; R25 및 R26은 예를 들어 수소, C1-C20알킬이고; R27, R28, R29, R30 및 R31은 예를 들어 수소, C1-C20알킬, C2-C20알케닐, C3-C20시클로알킬이거나, 또는 2개의 라디칼 R27 및 R28, R28 및 R29, R29 및 R30 및/또는 R30 및 R31은 함께 직쇄 C2-C6알킬렌을 형성하거나, R25 및 R27은 함께 1,2-페닐렌을 형성하고, R33 및 R34는 예를 들어 수소, C1-C20알킬이고; R35, R36 및 R37은 예를 들어 수소, C1-C20알킬이다.

Description

술포늄 화합물, 그의 제조법 및 용도 {SULFONIUM COMPOUNDS, THEIR PREPARATION AND USE}
본 발명은 하나 이상의 술포늄 화합물을 포함하는 열-경화성 조성물, 신규 술포늄 화합물, 양이온 중합성 물질의 경화 방법, 및 상기 방법에 의해 수득된 경화 물질에 관한 것이다.
양이온 중합은 양이온 중합 개시제로부터 생성된 양이온에 의해 개시된다. 양이온 중합에 대해 공지된 촉매는 술포늄 염을 포함한다. 술포늄 염 중에 가장 높은 활성을 나타내는 화합물은 SbF6, SbCl6 및 SbF5(OH)와 같은 안티모니 염이다. 그러나, 안티모니는 고도의 독성 물질이어서, 실제적인 사용에 바람직하지 않다. 상업적으로 입수가능한 비독성 술포늄 염, 예컨대 술포늄 포스페이트는 이들의 경화 성능이 불충분하다는 결점을 갖는다.
플루오린화 메탄 황산화 음이온을 갖는 여러 술포늄 염은 광산 발생제로서 개시되어 있다; JP2004-004561에 기재된 트리페닐술포늄 (아다만탄-1-일메틸)옥시카르보닐디플루오로메탄술포네이트, US6908722에 기재된 트리페닐술포늄 1,1,2,2-테트라플루오로-2-(노르보르난-2-일)에탄술포네이트, EP1710230에 기재된 트리페닐술포늄 1,1,3,3,3-펜타플루오로-2-벤조일옥시프로판-1-술포네이트, WO2008/132966에 기재된 트리페닐술포늄 2-나프틸메틸옥시테트라플루오로에탄술포네이트, WO2009/37980에 기재된 트리페닐술포늄 2-(1'-아다만탄)카르보닐옥시-1,1-디플루오로에탄술포네이트, US2006/276670에 기재된 트리페닐술포늄 2-펜타플루오로에톡시-1,1,2-트리플루오로에탄술포네이트 및 문헌 [Macromolecules (2007), 40(23), 8220-8224]에 기재된 트리페닐술포늄 4-아세틸옥시-1,1,2-트리플루오로부탄술포네이트.
우수한 적용 특성, 예컨대 높은 경화 활성을 갖는 비-독성 열산 발생제 (TAG)에 대한 높은 필요성이 존재한다. 놀랍게도, 상기 목적이 하기 기재된 특정한 술포늄 술포네이트에 의해 해결되는 것으로 밝혀졌다.
따라서, 본 발명은 우수한 경화 성능을 갖는 비-독성 열산 발생제를 제공하는 목적을 기초로 한다.
따라서, 본 발명의 하나의 대상은 하기 화학식 I, Ia 또는 Ib의 화합물이다.
<화학식 I>
Figure 112014109866223-pct00001
<화학식 Ia>
Figure 112014109866223-pct00002
<화학식 Ib>
Figure 112014109866223-pct00003
상기 식에서,
A1 -는
Figure 112014109866223-pct00004
및
Figure 112014109866223-pct00005
로 이루어진 군으로부터 선택된 음이온이고;
A-는
Figure 112014109866223-pct00006
,
Figure 112014109866223-pct00007
,
Figure 112014109866223-pct00008
, PF6 -, SbF6 -, BF4 -, 테트라키스(펜타플루오로페닐)보레이트, 플루오로알킬포스페이트, 펜타플루오로벤젠술포네이트, 니트로벤젠술포네이트, 디(알콕시카르보닐)벤젠술포네이트, 퍼플루오로알칸술포네이트, 디플루오로메탄디술포네이트, 알킬술포네이트, 트리스(트리플루오로메탄술포닐)메티드, 비스(퍼플루오로알칸술포닐)이미드 또는 1,1,2,2,3,3-헥사플루오로프로판-1,3-디술폰이미드로 이루어진 군으로부터 선택된 음이온이며;
단 적어도 1개의 음이온 A-는
Figure 112014109866223-pct00009
,
Figure 112014109866223-pct00010
또는
Figure 112014109866223-pct00011
이며;
단 음이온 A1 - 및 A-는
Figure 112014109866223-pct00012
,
Figure 112014109866223-pct00013
,
Figure 112014109866223-pct00014
,
Figure 112014109866223-pct00015
및
Figure 112014109866223-pct00016
가 아니고;
n은 1 또는 2이고;
X는 C1-C4알킬렌 또는 CO이고;
X1은 CH2, CO, O, S, CF2O, SO2, SO2O, SO2N 또는 (CO)O이고;
Y는 O, O(CO), O(CO)O, O(CO)NR11, O(CO)NR11(CO), OSO2, O(CS) 또는 O(CS)NR11이고, 여기서 이들 각각에 대해 산소 원자는 X에 직접 결합되거나;
또는 NR11, S, NR11(CO)O, NR11(CS)O이고, 여기서 N- 또는 S-원자는 X에 직접 결합되고;
R1은 수소, C1-C18알킬, 1개 이상의 O, S, NR14, CO, O(CO) 또는 NR14(CO)가 개재된 C2-C18알킬이거나, 또는 페닐-C1-C3-알킬 또는 C1-C10할로알킬이고, 여기서 상기 C1-C18알킬, 개재된 C2-C18알킬, 페닐-C1-C3-알킬 또는 C1-C10할로알킬은 비치환되거나 또는 1개 이상의 동일하거나 상이한 Z1에 의해 치환되거나;
또는 R1은 C2-C12알케닐 또는 1개 이상의 O, S, NR14, CO, O(CO), NR14(CO) 또는 Z3이 개재된 C2-C18알케닐이고, 여기서 상기 비개재되거나 개재된 C2-C12알케닐은 비치환되거나 또는 1개 이상의 동일하거나 상이한 Z1에 의해 치환되거나;
또는 R1은 C3-C30시클로알킬, C3-C30시클로알킬-C1-C18알킬 또는 C4-C30시클로알케닐이고, 여기서 상기 C3-C30시클로알킬, C3-C30시클로알킬-C1-C18알킬 또는 C4-C30시클로알케닐은 비치환되거나 또는 1개 이상의 동일하거나 상이한 Z1에 의해 치환되고, 여기서 상기 비치환되거나 치환된 C3-C30시클로알킬, C3-C30시클로알킬-C1-C18알킬 또는 C4-C30시클로알케닐에는 1개 이상의 동일하거나 상이한 O, S, NR14, CO, O(CO) 또는 NR14(CO)가 임의로 개재되거나;
또는 R1은 페닐, 나프틸, 안트라실, 페난트릴, 비페닐릴, 플루오레닐 또는 C3-C20헤테로아릴이고, 여기서 상기 페닐, 나프틸, 안트라실, 페난트릴, 비페닐릴, 플루오레닐 또는 C3-C20헤테로아릴은 비치환되거나 또는 1개 이상의 동일하거나 상이한 Z2에 의해 치환되거나;
또는 R1은 NR12R13, 또는 1개 이상의 헤테로원자를 함유할 수 있는 스테로이드 구조의 1가 C17-C50 탄화수소 기이고;
Z3은 페닐렌, 나프틸렌, 안트라실렌, 페난트릴렌, 비페닐렌 또는 C3-C20헤테로아릴렌이고, 여기서 상기 페닐렌, 나프틸렌, 안트라실렌, 페난트릴렌, 비페닐렌 또는 C3-C20헤테로아릴렌은 비치환되거나 또는 1개 이상의 동일하거나 상이한 Z1에 의해 치환되고;
R2 및 R3은 서로 독립적으로 C1-C10할로알킬렌, 1개 이상의 동일하거나 상이한 Z1에 의해 치환된 C1-C10할로알킬렌이거나;
또는 R2 및 R3은 C1-C18알킬렌, C3-C30시클로알킬렌, C3-C30시클로알킬-C1-C18알킬렌, C2-C12알케닐렌 또는 C4-C30시클로알케닐렌이고, 여기서 상기 C1-C18알킬렌, C3-C30시클로알킬렌, C3-C30시클로알킬-C1-C18알킬렌, C2-C12알케닐렌 또는 C4-C30시클로알케닐렌에는 비개재되거나 또는 1개 이상의 동일하거나 상이한 O, S, NR14, CO, O(CO) 또는 NR14(CO)가 개재되고, 여기서 상기 비개재되거나 개재된 C1-C18알킬렌, C3-C30시클로알킬렌, C3-C30시클로알킬-C1-C18알킬렌, C2-C12알케닐렌 또는 C4-C30시클로알케닐렌은 비치환되거나 또는 1개 이상의 동일하거나 상이한 Z1에 의해 치환되거나;
또는 R2 및 R3은 페닐렌, 나프틸렌, 안트라실렌, 페난트릴렌, 비페닐렌 또는 C3-C20헤테로아릴렌이고, 여기서 상기 페닐렌, 나프틸렌, 안트라실렌, 페난트릴렌, 비페닐렌 또는 C3-C20헤테로아릴렌은 비치환되거나 또는 1개 이상의 동일하거나 상이한 Z2에 의해 치환되거나;
또는 R2 및 R3은 서로 독립적으로 직접 결합이며, 단 R2 및 R3 둘 다가 동시에 직접 결합은 아니고;
R4는 기
Figure 112014109866223-pct00017
(A) 또는 기
Figure 112014109866223-pct00018
(B)이고;
R5 및 R6은 서로 독립적으로 비치환된 C1-C20알킬, 1개 이상의 동일하거나 상이한 R2a에 의해 치환된 C1-C20알킬, 1개 이상의 비-인접 O, S, C(O) 또는 N(RN)이 개재된 C2-C20알킬 (여기서, 상기 개재된 C2-C20알킬은 1개 이상의 동일하거나 상이한 R2a에 의해 임의로 치환됨), C2-C20알케닐, 1개 이상의 동일하거나 상이한 R2a에 의해 치환된 C2-C20알케닐 (여기서, 상기 비치환되거나 치환된 C2-C20알케닐에는 1개 이상의 비-인접 O, S, C(O) 또는 N(RN)이 임의로 개재됨)이거나,
또는 R5 및 R6은 C2-C20알키닐, 1개 이상의 동일하거나 상이한 R2a에 의해 치환된 C2-C20알키닐이고, 여기서 상기 비치환되거나 치환된 C2-C20-알키닐에는 1개 이상의 비-인접 O, S, C(O) 또는 N(RN)이 임의로 개재되거나,
또는 R5 및 R6은 C3-C20시클로알킬, 1개 이상의 CO가 개재되고 1개 이상의 동일하거나 상이한 라디칼 R2b에 의해 임의로 치환된 C3-C20시클로알킬이거나,
또는 R5 및 R6은 C3-C20헤테로시클로알킬, 1개 이상의 CO가 개재되고 1개 이상의 동일하거나 상이한 라디칼 R2b에 의해 임의로 치환된 C3-C20헤테로시클로알킬이거나,
또는 R5 및 R6은 C6-C20아릴, 1개 이상의 동일하거나 상이한 R2c에 의해 치환된 C6-C20아릴이거나,
또는 R5 및 R6은 C3-C20헤테로아릴, 1개 이상의 동일하거나 상이한 R2c에 의해 치환된 C3-C20헤테로아릴이거나;
또는
R4 및 R5 또는 R4 및 R6은 함께 직쇄 C2-C6알킬렌, 직쇄 C2-C6-알케닐렌 또는 (CH2)a-C6H4-(CH2)b를 형성하고, 여기서 상기 C2-C6알킬렌, C2-C6-알케닐렌 및 (CH2)a-C6H4-(CH2)b의 알킬렌 모이어티는 1개 이상의 동일하거나 상이한 라디칼 R32에 의해 임의로 치환되고, 여기서 상기 비치환되거나 치환된 C2-C6알킬렌, C2-C6-알케닐렌 및 (CH2)a-C6H4-(CH2)b의 알킬렌 모이어티에는 1개 이상의 비-인접 O, S, C(O) 또는 N(RN)이 임의로 개재되거나;
또는
R5 및 R6은 함께 직쇄 C2-C6알킬렌, 직쇄 C2-C6알케닐렌 또는 직쇄 (CH2)c-C6H4-(CH2)d를 형성하고, 여기서 상기 C2-C6알킬렌, C2-C6알케닐렌 및 (CH2)c-C6H4-(CH2)d의 알킬렌 모이어티는 1개 이상의 동일하거나 상이한 라디칼 R32에 의해 임의로 치환되고, 여기서 상기 C2-C6알킬렌, C2-C6알케닐렌 및 (CH2)c-C6H4-(CH2)d의 알킬렌 모이어티는 1 또는 2개의 페닐 고리에 임의로 융합되고; 여기서 상기 C2-C6알킬렌, C2-C6알케닐렌 및 (CH2)c-C6H4-(CH2)d의 알킬렌 모이어티에는 1개 이상의 비-인접 O, S, C(O) 또는 N(RN)이 임의로 개재되고;
a 및 b는 0 내지 10의 정수이고, a 및 b의 합은 1 내지 10이고;
c 및 d는 0 내지 10의 정수이고, c 및 d의 합은 1 내지 10이고;
R2a는 F, Cl, Br, I, CN, SR19, OR20, COR21, COOR22, CONR23R24, C3-C20시클로알킬, 1개 이상의 동일하거나 상이한 R2ab에 의해 치환된 C3-C20시클로알킬이고, 여기서 비치환되거나 치환된 C3-C20시클로알킬에는 1개 이상의 CO가 임의로 개재되거나,
또는 R2a는 C3-C20헤테로시클로알킬, 1개 이상의 동일하거나 상이한 R2ab에 의해 치환된 C3-C20헤테로시클로알킬이고, 여기서 비치환되거나 치환된 C3-C20헤테로시클로알킬에는 1개 이상의 CO가 임의로 개재되거나,
또는 R2a는 C3-C20헤테로아릴 또는 C6-C10아릴이고, 여기서 상기 C3-C20헤테로아릴 또는 C6-C10아릴은 1개 이상의 동일하거나 상이한 R2ac에 의해 임의로 치환되고;
R2ab는 F, Cl, Br, I, C1-C12-알킬, C1-C12-할로알킬, CN, SR19, OR20, COR21, COOR22 또는 CONR23R24이고;
R2ac는 F, Cl, Br, I, C1-C12알킬, C1-C12할로알킬, CN, NO2, SR19, OR20, COR21, COOR22, CONR23R24이고;
R2b는 F, Cl, Br, I, C1-C12알킬, C1-C12할로알킬, CN, SR19, OR20, COR21, COOR22, CONR23R24, C6-C10아릴 또는 C3-C20헤테로아릴이고, 여기서 상기 C6-C10아릴 또는 C3-C20헤테로아릴은 1개 이상의 동일하거나 상이한 R2ac에 의해 임의로 치환되고;
R2c는 F, Cl, Br, I, C1-C12알킬, C1-C12할로알킬, CN, NO2, SR19, OR20, COR21, COOR22, CONR23R24, 페닐, C3-C10시클로알킬 또는 C3-C20헤테로시클로알킬이고, 여기서 상기 C3-C10시클로알킬 또는 C3-C20헤테로시클로알킬에는 1개 이상의 CO가 임의로 개재되고;
R7, R8, R9 및 R10은 서로 독립적으로 C1-C20알킬, 1개 이상의 비-인접 O, S, C(O) 또는 N(RN)이 개재된 C2-C20알킬이고, 여기서 상기 C1-C20알킬 또는 개재된 C2-C20알킬은 1개 이상의 동일하거나 상이한 R2a에 의해 임의로 치환되거나;
또는 R7, R8, R9 및 R10은 C2-C20알케닐, 1개 이상의 비-인접 O, S, C(O) 또는 N(RN)이 개재된 C2-C20알케닐이고, 여기서 상기 C2-C20알케닐 또는 개재된 C2-C20알케닐은 1개 이상의 동일하거나 상이한 R2a에 의해 임의로 치환되거나;
또는 R7, R8, R9 및 R10은 C2-C20알키닐, 1개 이상의 비-인접 O, S, C(O) 또는 N(RN)이 개재된 C2-C20알키닐이고, 여기서 상기 C2-C20알키닐 또는 개재된 C2-C20알키닐은 1개 이상의 동일하거나 상이한 R2a에 의해 임의로 치환되거나;
또는 R7, R8, R9 및 R10은 C3-C20시클로알킬, 1개 이상의 CO가 개재된 C3-C20시클로알킬이고, 여기서 상기 C3-C20시클로알킬 또는 개재된 C3-C20시클로알킬은 1개 이상의 동일하거나 상이한 R2b에 의해 임의로 치환되거나;
또는 R7, R8, R9 및 R10은 C3-C20헤테로시클로알킬, 1개 이상의 CO가 개재된 C3-C20헤테로시클로알킬이고, 여기서 상기 C3-C20헤테로시클로알킬 또는 개재된 C3-C20헤테로시클로알킬은 1개 이상의 동일하거나 상이한 R2b에 의해 임의로 치환되거나;
또는 R7, R8, R9 및 R10은 C6-C20-아릴 또는 C3-C20헤테로아릴이고, 여기서 상기 C6-C20아릴 및 C3-C20헤테로아릴은 1개 이상의 동일하거나 상이한 R2c에 의해 임의로 치환되거나;
또는
R7 및 R8 및/또는 R9 및 R10은 함께 직쇄 C2-C6알킬렌, 직쇄 C2-C6알케닐렌 또는 직쇄 (CH2)c-C6H4-(CH2)d를 형성하고, 여기서 상기 C2-C6알킬렌, C2-C6알케닐렌 및 -(CH2)c-C6H4-(CH2)d의 알킬렌 모이어티는 1개 이상의 동일하거나 상이한 R32에 의해 임의로 치환되고, 여기서 상기 C2-C6알킬렌, C2-C6알케닐렌 및 (CH2)c-C6H4-(CH2)d의 알킬렌 모이어티는 1 또는 2개의 페닐 고리에 임의로 융합되고, 여기서 상기 C2-C6알킬렌, C2-C6알케닐렌 및 (CH2)c-C6H4-(CH2)d의 알킬렌 모이어티에는 1개 이상의 비-인접 O, S, C(O) 또는 N(RN)이 임의로 개재되고;
M은 C1-C20알킬렌, C2-C20알케닐렌, C2-C20알키닐렌이고,
여기서 상기 C1-C20알킬렌, C2-C20알케닐렌 또는 C2-C20알키닐렌은 1개 이상의 동일하거나 상이한 RMa에 의해 임의로 치환되고, 여기서 상기 비치환되거나 치환된 C1-C20알킬렌, C2-C20알케닐렌 또는 C2-C20알키닐렌에는 1개 이상의 동일하거나 상이한 비-인접 RMi가 임의로 개재되거나;
또는 M은 C3-C20시클로알킬렌 또는 C3-C20헤테로시클로알킬렌이고, 여기서 상기 C3-C20시클로알킬렌 또는 C3-C20헤테로시클로알킬렌에는 1개 이상의 CO가 임의로 개재되고, 여기서 상기 비개재되거나 개재된 C3-C20시클로알킬렌 또는 C3-C20헤테로시클로알킬렌은 1개 이상의 동일하거나 상이한 RMb에 의해 임의로 치환되거나;
또는 M은 C6-C20아릴렌 또는 C3-C20헤테로아릴렌이고, 여기서 상기 C6-C20아릴렌 또는 C3-C20헤테로아릴렌은 1개 이상의 동일하거나 상이한 RMc에 의해 임의로 치환되고;
RMi는 O, S, C(O), OC(O) 또는 N(RN)이거나,
또는 RMi는 C3-C20시클로알킬렌, O-C3-C20시클로알킬렌, O-C3-C20시클로알킬렌-O 또는 C3-C20헤테로시클로알킬렌이고, 여기서 상기 C3-C20시클로알킬렌, O-C3-C20시클로알킬렌, O-C3-C20시클로알킬렌-O 또는 C3-C20헤테로시클로알킬렌에는 1개 이상의 CO 기가 임의로 개재되고, 여기서 상기 비개재되거나 개재된 C3-C20시클로알킬렌, O-C3-C20시클로알킬렌, O-C3-C20시클로알킬렌-O 또는 C3-C20헤테로시클로알킬렌은 1개 이상의 동일하거나 상이한 RMib에 의해 임의로 치환되거나;
또는 RMi는 C6-C20아릴렌, O-C6-C20아릴렌, O-C6-C20아릴렌-O, S-C6-C20아릴렌, S-C6-C20아릴렌-S 또는 C3-C20헤테로아릴렌이고, 여기서 상기 C6-C20아릴렌, O-C6-C20아릴렌, O-C6-C20아릴렌-O, S-C6-C20아릴렌, S-C6-C20아릴렌-S 또는 C3-C20헤테로아릴렌은 1개 이상의 RMib에 의해 임의로 치환되고;
RMa는 F, Cl, Br, I, CN, SR19, OR20, COR21, COOR22 또는 CONR23R24, C6-C10아릴 또는 C3-C20헤테로아릴이고, 여기서 상기 C6-C10아릴 또는 C3-C20헤테로아릴은 C1-C12알킬, C1-C12할로알킬, F, Cl, Br, I, CN, NO2, SR19, OR20, COR21, COOR22 또는 CONR23R24로부터 선택된 1개 이상의 동일하거나 상이한 라디칼에 의해 임의로 치환되고;
RMib는 F, Cl, Br, I, C1-C12알킬, C1-C12할로알킬, CN, NO2, SR19, OR20, COR21, COOR22 또는 CONR23R24 또는 페닐이고;
RMb는 F, Cl, Br, I, C1-C12알킬, C1-C12할로알킬, CN, SR19, OR20, COR21, COOR22 또는 CONR23R24, C6-C10아릴 또는 C3-C20헤테로아릴이고, 여기서 상기 C6-C10아릴 또는 C3-C20헤테로아릴은 C1-C12알킬, C1-C12할로알킬, F, Cl, Br, I, CN, NO2, SR19, OR20, COR21, COOR22 및 CONR23R24로부터 선택된 1개 이상의 동일하거나 상이한 라디칼에 의해 임의로 치환되고;
RMc는 F, Cl, Br, I, C1-C12알킬, C1-C12할로알킬, CN, NO2, SR19, OR20, COR21, COOR22 또는 CONR23R24, 페닐, C3-C10시클로알킬 또는 C3-C20헤테로시클로알킬이고, 여기서 상기 C3-C10시클로알킬 또는 C3-C20헤테로시클로알킬에는 1개 이상의 CO가 임의로 개재되고;
R11은 수소, C1-C18알킬, C1-C10할로알킬, C2-C12알케닐, 페닐-C1-C3-알킬이거나;
또는 R11은 1개 이상의 O, S, NR11a, CO, O(CO) 또는 NR11a(CO)가 개재된 C2-C18알킬이거나;
또는 R11은 C3-C30시클로알킬, C3-C30시클로알킬-C1-C18알킬 또는 C4-C30시클로알케닐이고, 여기서 상기 C3-C30시클로알킬, C3-C30시클로알킬-C1-C18알킬 또는 C4-C30시클로알케닐에는 1개 이상의 동일하거나 상이한 O, S, NR11a, CO, O(CO) 또는 NR11a(CO)가 임의로 개재되거나;
또는 R11은 페닐, 나프틸, 안트라실, 페난트릴, 비페닐, 헤테로아릴, C1-C18알카노일, 벤조일, C2-C18알콕시카르보닐, 페녹시카르보닐, C1-C18알킬술포닐 또는 페닐술포닐이고;
여기서 C3-C30시클로알킬, C3-C30시클로알킬-C1-C18알킬, C1-C18알킬, C1-C10할로알킬, C2-C12알케닐, C4-C30시클로알케닐, 페닐-C1-C3-알킬, 개재된 C2-C18알킬, 개재된 C3-C30시클로알킬, 개재된 C3-C30시클로알킬-C1-C18알킬, 개재된 C4-C30시클로알케닐, 페닐, 나프틸, 안트라실, 페난트릴, 비페닐, 헤테로아릴, C1-C18알카노일, 벤조일, C2-C18알콕시카르보닐, 페녹시카르보닐, C1-C18알킬술포닐 또는 페닐술포닐은 비치환되거나 또는 1개 이상의 동일하거나 상이한 Z1에 의해 치환되거나;
또는 R1 및 R11은 R11이 부착되어 있는 질소 원자와 함께 1개 이상의 O, NR11a 또는 CO가 임의로 개재된 5-, 6- 또는 7-원 고리를 형성하고;
R12 및 R13은 서로 독립적으로 수소, C1-C10할로알킬, C2-C12알케닐, 페닐-C1-C3-알킬, C1-C18알킬 또는 1개 이상의 동일하거나 상이한 O, S, NR11a, CO, O(CO) 또는 NR11a(CO)가 개재된 C2-C18알킬이고, 여기서 상기 C1-C10할로알킬, C2-C12알케닐, 페닐-C1-C3-알킬, C1-C18알킬 또는 개재된 C2-C18알킬은 비치환되거나 또는 1개 이상의 동일하거나 상이한 Z1에 의해 치환되거나;
또는 R12 및 R13은 C3-C30시클로알킬, C3-C30시클로알킬-C1-C18알킬 또는 C4-C30시클로알케닐이고, 여기서 상기 C3-C30시클로알킬, C3-C30시클로알킬-C1-C18알킬 또는 C4-C30시클로알케닐에는 1개 이상의 동일하거나 상이한 O, S, NR11a, CO, O(CO) 또는 NR11a(CO)가 임의로 개재되고, 여기서 상기 비개재되거나 개재된 C3-C30시클로알킬, C3-C30시클로알킬-C1-C18알킬 또는 C4-C30시클로알케닐은 비치환되거나 또는 1개 이상의 동일하거나 상이한 Z1에 의해 치환되거나;
또는 R12 및 R13은 서로 독립적으로 (CO)R21, (CO)OR21, 또는 비치환되거나 또는 1개 이상의 동일하거나 상이한 Z1에 의해 치환된 Ar이거나;
또는 R12 및 R13은 이들이 부착되어 있는 질소 원자와 함께 1개 이상의 O, NR11a 또는 CO가 임의로 개재된 5-, 6- 또는 7-원 고리를 형성하고;
R11a는 수소, C1-C10할로알킬, C2-C12알케닐, 페닐-C1-C3-알킬, C1-C18알킬 또는 1개 이상의 O, S, CO 또는 O(CO)가 개재된 C2-C18알킬이고, 여기서 상기 C2-C12알케닐, 페닐-C1-C3-알킬, C1-C18알킬 또는 개재된 C2-C18알킬은 비치환되거나 또는 1개 이상의 동일하거나 상이한 Z1에 의해 치환되거나;
또는 R11a는 C3-C30시클로알킬, C3-C30시클로알킬-C1-C18알킬 또는 C4-C30시클로알케닐이고, 여기서 상기 C3-C30시클로알킬, C3-C30시클로알킬-C1-C18알킬 또는 C4-C30시클로알케닐에는 1개 이상의 동일하거나 상이한 O, S, CO 또는 O(CO)가 임의로 개재되고, 여기서 상기 비개재되거나 개재된 C3-C30시클로알킬, C3-C30시클로알킬-C1-C18알킬 또는 C4-C30시클로알케닐은 비치환되거나 또는 1개 이상의 동일하거나 상이한 Z1에 의해 치환되거나;
또는 R11a는 페닐, 나프틸, 안트라실, 페난트릴, 비페닐릴, C3-C20헤테로아릴, C1-C18알카노일, 벤조일, C2-C18알콕시카르보닐, 페녹시카르보닐, C1-C18알킬술포닐 또는 페닐술포닐이고, 여기서 상기 페닐, 나프틸, 안트라실, 페난트릴, 비페닐릴, C3-C20헤테로아릴, C1-C18알카노일, 벤조일, C2-C18알콕시카르보닐, 페녹시카르보닐, C1-C18알킬술포닐 또는 페닐술포닐은 비치환되거나 또는 1개 이상의 동일하거나 상이한 Z2에 의해 치환되고;
R14는 수소, Ar, C1-C10할로알킬, C2-C12알케닐, 페닐-C1-C3-알킬, C1-C18알킬 또는 1개 이상의 동일하거나 상이한 O, S, NR11a, CO, O(CO) 또는 NR11a(CO)가 개재된 C2-C18알킬이고, 여기서 상기 Ar, C1-C10할로알킬, C2-C12알케닐, 페닐-C1-C3-알킬, C1-C18알킬 또는 개재된 C2-C18알킬은 비치환되거나 또는 1개 이상의 동일하거나 상이한 Z1에 의해 치환되거나;
또는 R14는 C3-C30시클로알킬, C3-C30시클로알킬-C1-C18알킬 또는 C4-C30시클로알케닐이고, 여기서 상기 C3-C30시클로알킬, C3-C30시클로알킬-C1-C18알킬 또는 C4-C30시클로알케닐에는 1개 이상의 동일하거나 상이한 O, S, NR11a, CO, O(CO) 또는 NR11a(CO)가 임의로 개재되고, 여기서 상기 비개재되거나 개재된 C3-C30시클로알킬, C3-C30시클로알킬-C1-C18알킬 또는 C4-C30시클로알케닐은 비치환되거나 또는 1개 이상의 동일하거나 상이한 Z1에 의해 치환되고;
Ar은 페닐, 비페닐릴, 플루오레닐, 나프틸, 안트라실, 페난트릴 또는 헤테로아릴이고,
여기서 상기 페닐, 비페닐릴, 플루오레닐, 나프틸, 안트라실, 페난트릴 또는 헤테로아릴은 비치환되거나 또는 1개 이상의 동일하거나 상이한 Z2에 의해 치환되고;
Z1은 Ar, OH, C1-C18알킬, C1-C10할로알킬, 페닐-C1-C3-알킬, C3-C30시클로알킬, 할로겐, NO2, CN, C1-C18알콕시, 페녹시, 페녹시카르보닐, 페닐티오, 페닐티오카르보닐, NR12R13, C1-C12알킬티오, C2-C18알콕시카르보닐, C2-C10할로알카노일, 할로벤조일, C1-C18알킬술포닐, 페닐술포닐, (4-메틸페닐)술포닐, C1-C18알킬술포닐옥시, 페닐술포닐옥시, (4-메틸페닐)술포닐옥시, C1-C18알카노일, C1-C18알카노일옥시, 벤조일 및/또는 벤조일옥시이고;
Z2는 C1-C18알킬, 1개 이상의 O, S, NR11a, CO, O(CO) 또는 NR11a(CO)가 개재된 C2-C18알킬이거나;
또는 Z2는 C3-C30시클로알킬, C3-C30시클로알킬-C1-C18알킬 또는 C4-C30시클로알케닐이고, 여기서 상기 C3-C30시클로알킬, C3-C30시클로알킬-C1-C18알킬 또는 C4-C30시클로알케닐에는 1개 이상의 동일하거나 상이한 O, S, NR11a, CO, O(CO) 또는 NR11a(CO)가 임의로 개재되거나;
또는 Z2는 C1-C10할로알킬, C2-C12알케닐, 페닐-C1-C3-알킬, 할로겐, NO2, CN, (CO)R21, (CO)OR22, (CO)NR12R13, O(CO)R21, O(CO)OR22, O(CO)NR12R13, NR11a(CO)R21, NR11a(CO)OR21, NR11a(CO)NR12R13, OR20, NR12R13, SR11a, 페닐, 비페닐릴, 플루오레닐, 나프틸, 안트라실, 페난트릴 및/또는 헤테로아릴이고;
R19 및 R20은 서로 독립적으로 수소, C1-C20알킬, C2-C12알케닐, C3-C10시클로알킬 또는 C3-C20헤테로시클로알킬이고, 여기서 상기 C3-C10시클로알킬 또는 C3-C20헤테로시클로알킬에는 1개 이상의 CO가 임의로 개재되거나;
또는 R19 및 R20은 1개 이상의 비-인접 O, S, C(O) 또는 N(RN)이 개재된 C2-C20알킬이거나;
또는 R19 및 R20은 1개 이상의 동일하거나 상이한 R19a에 의해 치환된 C1-C8-알킬이거나;
또는 R19 및 R20은 -(CH2CH2O)mH, -(CH2CH2O)m(CO)-(C1-C8-알킬), C2-C8-알카노일, C2-C8-할로알카노일, C3-C6-알케노일, 벤조일 또는 1개 이상의 동일하거나 상이한 F, Cl, Br, I, C1-C6-알킬, OH 또는 C1-C4-알콕시에 의해 치환된 벤조일이거나;
또는 R19 및 R20은 페닐, 나프틸이고, 이들 둘 다는 1개 이상의 동일하거나 상이한 R19c에 의해 임의로 치환되거나;
또는 R19 및 R20은 페닐 또는 나프틸이며, 이는 SR19 또는 OR20이 각각 단일 결합, C1-C4알킬렌, O, S, CO 또는 NR23을 통해 부착된 페닐 고리를 통해 5- 또는 6-원 고리를 형성하고;
m은 1-20이고;
R19a는 F, Cl, Br, I, OH, SH, CN, C3-C10시클로알킬, C3-C20헤테로시클로알킬, 페닐, C3-C6알켄옥시, -OCH2CH2CN, -OCH2CH2(CO)O(C1-C8알킬), -O(CO)-(C1-C8알킬), -O(CO)-페닐, -(CO)OH 또는 -(CO)O(C1-C8알킬)이고;
R19c는 F, Cl, Br, I, C1-C12알킬, C1-C12할로알킬, C1-C12알콕시, 페닐-C1-C3알킬옥시, 페녹시, C1-C12알킬술파닐, 페닐술파닐, -(CO)O(C1-C8알킬), (CO)N(C1-C8알킬)2 또는 페닐이고;
R21은 수소, C1-C20알킬, C2-C12알케닐, 1개 이상의 비-인접 O, S, CO 또는 N(RN)이 개재된 C1-C20-알킬이거나;
또는 R21은 1개 이상의 동일하거나 상이한 R21a에 의해 치환된 C1-C8알킬이거나,
또는 R21은 -(CH2CH2O)mH, -(CH2CH2O)m(CO)-(C1-C8-알킬), C3-C10시클로알킬 또는 C3-C20헤테로시클로알킬이고, 여기서 상기 C3-C10시클로알킬 또는 C3-C20헤테로시클로알킬에는 1개 이상의 CO가 임의로 개재되거나;
또는 R21은 C6-C20아릴 또는 C3-C20헤테로아릴이고, 이들 둘 다는 1개 이상의 동일하거나 상이한 라디칼 R19c에 의해 임의로 치환되고;
R21a는 F, Cl, Br, I, OH, SH, CN, 페닐, C3-C6알켄옥시, -OCH2CH2CN, -OCH2CH2(CO)O(C1-C8알킬), -O(CO)-(C1-C8알킬), -O(CO)-페닐, -(CO)OH 또는 -(CO)O(C1-C8알킬)이고;
R22는 수소, C1-C20알킬, C2-C12알케닐, 1개 이상의 비-인접 O, S, C(O) 또는 N(RN)이 개재된 C2-C20알킬이거나,
또는 R22는 1개 이상의 동일하거나 상이한 R22a에 의해 치환된 C1-C8알킬이거나,
또는 R22는 -(CH2CH2O)mH, -(CH2CH2O)m(CO)-(C1-C8알킬), C3-C10시클로알킬, C3-C20헤테로시클로알킬이고, 여기서 상기 C3-C10시클로알킬, C3-C20헤테로시클로알킬에는 1개 이상의 CO가 임의로 개재되거나;
또는 R22는 페닐 또는 나프틸이고, 이들 둘 다는 1개 이상의 동일하거나 상이한 R19c에 의해 임의로 치환되고;
R22a는 F, Cl, Br, I, OH, SH, CN, C3-C6알켄옥시, -OCH2CH2CN, -OCH2CH2(CO)O(C1-C8알킬), -O(CO)-(C1-C8알킬), -O(CO)-페닐, -(CO)OH, -(CO)O(C1-C8-알킬), 페닐 또는 나프틸이고, 여기서 상기 페닐 또는 나프틸은 1개 이상의 동일하거나 상이한 R19c에 의해 임의로 치환되고;
R23 및 R24는 서로 독립적으로 수소, OR20, C1-C20알킬, C2-C12알케닐, 1개 이상의 비-인접 O, S, C(O) 또는 N(RN)이 개재된 C2-C20알킬이거나;
또는 R23 및 R24는 1개 이상의 동일하거나 상이한 R23a에 의해 치환된 C1-C8-알킬이거나;
또는 R23 및 R24는 -(CH2CH2O)mH, -(CH2CH2O)m(CO)-(C1-C8알킬), C2-C8알카노일, C2-C8-할로알카노일, C3-C6-알케노일, 벤조일, 1개 이상의 동일하거나 상이한 F, Cl, Br, I, C1-C6알킬, OH 또는 C1-C4알콕시에 의해 치환된 벤조일이거나;
또는 R23 및 R24는 C3-C10시클로알킬 또는 C3-C20헤테로시클로알킬이고, 여기서 상기 C3-C10시클로알킬 또는 C3-C20헤테로시클로알킬에는 1개 이상의 CO가 임의로 개재되거나;
또는 R23 및 R24는 페닐 또는 나프틸이고, 이들 둘 다는 1개 이상의 동일하거나 상이한 R19c에 의해 임의로 치환되고;
R23a는 F, Cl, Br, I, OH, SH, CN, 페닐, C3-C6알켄옥시, -OCH2CH2CN, -OCH2CH2(CO)O(C1-C8알킬), -O(CO)-(C1-C8알킬), -O(CO)-페닐, -(CO)OH 또는 -(CO)O(C1-C8알킬)이거나;
또는
R23 및 R24는 함께 1개 이상의 비-인접 O, S, C(O) 또는 N(RN)이 임의로 개재된 C2-C5알킬렌 기를 형성하고;
R25 및 R26은 서로 독립적으로 수소, F, Cl, Br, I, CN, NO2, SR19, OR20, COR21, COOR22, CONR23R24, C1-C20알킬, 1개 이상의 비-인접 O, S, C(O) 또는 N(RN)이 개재된 C2-C20알킬이고, 여기서 상기 비개재된 C1-C20알킬 또는 개재된 C2-C20알킬은 1개 이상의 동일하거나 상이한 R2a에 의해 임의로 치환되거나;
또는 R25 및 R26은 C3-C20시클로알킬 또는 C3-C20헤테로시클로알킬이고, 여기서 상기 C3-C20시클로알킬 또는 C3-C20헤테로시클로알킬에는 1개 이상의 CO가 임의로 개재되고, 여기서 상기 비개재되거나 개재된 C3-C20시클로알킬 또는 C3-C20헤테로시클로알킬은 1개 이상의 동일하거나 상이한 R2b에 의해 임의로 치환되거나;
또는 R25 및 R26은 C6-C20-아릴 또는 C3-C20헤테로아릴이고, 여기서 상기 C6-C20-아릴 또는 C3-C20헤테로아릴은 1개 이상의 동일하거나 상이한 R2c에 의해 임의로 치환되고;
R27, R28, R29, R30 및 R31은 서로 독립적으로 수소, F, Cl, Br, I, CN, NO2, SR19, OR20, COR21, COOR22, CONR23R24, C1-C20알킬, 1개 이상의 비-인접 O, S, C(O) 또는 N(RN)이 개재된 C2-C20알킬이고, 여기서 상기 C1-C20알킬 또는 개재된 C2-C20알킬은 1개 이상의 동일하거나 상이한 R2a에 의해 임의로 치환되거나;
또는 R27, R28, R29, R30 및 R31은 C2-C20알케닐 또는 C2-C20알키닐이고, 여기서 상기 C2-C20알케닐 또는 C2-C20알키닐은 1개 이상의 동일하거나 상이한 R2a에 의해 임의로 치환되고, 여기서 상기 비치환되거나 치환된 C2-C20알케닐 또는 C2-C20알키닐에는 1개 이상의 비-인접 O, S, C(O) 또는 N(RN)이 임의로 개재되거나;
또는 R27, R28, R29, R30 및 R31은 C3-C20시클로알킬 또는 C3-C20헤테로시클로알킬이고, 여기서 상기 C3-C20시클로알킬 또는 C3-C20헤테로시클로알킬에는 1개 이상의 CO가 임의로 개재되고, 여기서 상기 C3-C20시클로알킬 또는 C3-C20헤테로시클로알킬은 1개 이상의 동일하거나 상이한 R2b에 의해 임의로 치환되거나;
또는 R27, R28, R29, R30 및 R31은 C6-C20아릴 또는 C3-C20헤테로아릴이고, 여기서 상기 C6-C20아릴 또는 C3-C20헤테로아릴은 1개 이상의 동일하거나 상이한 R2c에 의해 임의로 치환되거나;
또는
2개의 라디칼 R27 및 R28, R28 및 R29, R29 및 R30 및/또는 R30 및 R31은 함께 직쇄 C2-C6알킬렌 또는 직쇄 C2-C6알케닐렌을 형성하고, 여기서 상기 C2-C6알킬렌 또는 C2-C6알케닐렌은 1개 이상의 동일하거나 상이한 R32에 의해 임의로 치환되고, 여기서 상기 비치환되거나 치환된 C2-C6알케닐렌은 1 또는 2개의 C6-C10아릴 고리에 임의로 융합되고, 여기서 상기 비치환되거나 치환된, 비융합되거나 융합된 C2-C6알케닐렌에는 1개 이상의 비-인접 O, S, C(O) 또는 N(RN)이 임의로 개재되거나;
또는
R25 및 R27은 함께 C2-C6알킬렌을 형성하고, 여기서 상기 C2-C6알킬렌은 1개 이상의 R32에 의해 임의로 치환되고, 여기서 상기 비치환되거나 치환된 C2-C6알킬렌에는 1개 이상의 비-인접 O, S, C(O) 또는 N(RN)이 임의로 개재되거나,
또는
R25 및 R27은 함께 1,2-페닐렌을 형성하고, 여기서 상기 1,2-페닐렌은 1개 이상의 동일하거나 상이한 R32에 의해 임의로 치환되고;
R32는 F, Cl, Br, I, CN, NO2, SR19, OR20, COR21, COOR22, CONR23R24, C1-C20알킬, C2-C20알케닐 또는 C2-C20알키닐이거나;
또는 R32는 1개 이상의 비-인접 O, S, C(O) 또는 N(RN)이 개재된, C2-C20알킬, C2-C20알케닐 또는 C2-C20-알키닐이고, 여기서 상기 비개재된 C1-C20알킬, C2-C20알케닐, C2-C20알키닐 또는 상기 개재된 C2-C20알킬, C2-C20알케닐 또는 C2-C20-알키닐은 1개 이상의 동일하거나 상이한 R32a에 의해 임의로 치환되거나,
또는 R32는 C3-C20시클로알킬 또는 C3-C20헤테로시클로알킬이고, 여기서 상기 C3-C20시클로알킬 또는 C3-C20헤테로시클로알킬에는 1개 이상의 CO가 임의로 개재되고, 여기서 상기 개재되거나 비개재된 C3-C20시클로알킬 또는 C3-C20헤테로시클로알킬은 1개 이상의 동일하거나 상이한 R32b에 의해 임의로 치환되거나;
또는 R32는 C6-C20아릴 또는 C3-C20헤테로아릴이고, 이들 둘 다는 1개 이상의 동일하거나 상이한 R32c에 의해 임의로 치환되고;
R32a는 F, Cl, Br, I, CN, SR19, OR20, COR21, COOR22, CONR23R24, C3-C20시클로알킬 또는 C3-C20헤테로시클로알킬이고, 여기서 C3-C20시클로알킬 또는 C3-C20헤테로시클로알킬에는 1개 이상의 CO가 임의로 개재되고, 여기서 상기 비개재되거나 개재된 C3-C20시클로알킬 또는 C3-C20헤테로시클로알킬은 1개 이상의 동일하거나 상이한 R2ab에 의해 임의로 치환되거나;
또는 R32a는 페닐 또는 1개 이상의 동일하거나 상이한 R2ac에 의해 치환된 페닐이고;
R32b는 F, Cl, Br, I, C1-C12알킬, C1-C12-할로알킬, CN, SR19, OR20, COR21, COOR22, CONR23R24, 페닐 또는 1개 이상의 동일하거나 상이한 R2ac에 의해 치환된 페닐이고;
R32c는 F, Cl, Br, I, C1-C12알킬, C1-C12할로알킬, CN, NO2, SR19, OR20, COR21, COOR22, CONR23R24, 페닐, C3-C10시클로알킬 또는 C3-C20헤테로시클로알킬이고, 여기서 상기 C3-C10시클로알킬 또는 C3-C20헤테로시클로알킬에는 1개 이상의 CO가 임의로 개재되고;
RN은 수소, C1-C20알킬, C1-C10알카노일, C6-C10아로일, C1-C20알킬술포닐, C2-C20알케닐술포닐, C6-C10아릴술포닐, C6-C10아릴, C3-C20헤테로아릴, C3-C10시클로알킬 또는 C3-C20헤테로시클로알킬이고, 여기서 상기 C3-C10시클로알킬 또는 C3-C20헤테로시클로알킬에는 1개 이상의 CO가 임의로 개재되고;
R33 및 R34는 서로 독립적으로 수소, F, Cl, Br, I, CN, NO2, SR19, OR20, COR21, COOR22, CONR23R24, C1-C20알킬, 1개 이상의 비-인접 O, S, C(O) 또는 N(RN)이 개재된 C2-C20알킬이고, 여기서 상기 C1-C20-알킬 또는 개재된 C2-C20알킬은 1개 이상의 R2a에 의해 임의로 치환되거나;
또는 R33 및 R34는 C3-C20시클로알킬 또는 C3-C20헤테로시클로알킬이고, 여기서 상기 C3-C20시클로알킬 또는 C3-C20헤테로시클로알킬에는 1개 이상의 CO가 임의로 개재되고, 여기서 상기 C3-C20시클로알킬 또는 C3-C20헤테로시클로알킬은 1개 이상의 동일하거나 상이한 R2b에 의해 임의로 치환되거나;
또는 R33 및 R34는 C6-C20아릴 또는 C3-C20헤테로아릴이고, 여기서 C6-C20아릴 또는 C3-C20헤테로아릴은 1개 이상의 동일하거나 상이한 R2c에 의해 임의로 치환되고;
R35, R36 및 R37은 서로 독립적으로 수소, F, Cl, Br, I, CN, NO2, SR19, OR20, COR21, COOR22, CONR23R24, C1-C20알킬, 1개 이상의 비-인접 O, S, C(O) 또는 N(RN)이 개재된 C2-C20알킬이고, 여기서 상기 C1-C20알킬 또는 개재된 C2-C20알킬은 1개 이상의 R2a에 의해 임의로 치환되거나;
또는 R35, R36 및 R37은 C2-C20알케닐 또는 C2-C20알키닐이고, 여기서 상기 C2-C20알케닐 또는 C2-C20-알키닐은 1개 이상의 동일하거나 상이한 R2a에 의해 임의로 치환되고, 여기서 상기 비치환되거나 치환된 C2-C20알케닐 또는 C2-C20알키닐에는 1개 이상의 비-인접 O, S, C(O) 또는 N(RN)이 임의로 개재되거나;
또는 R35, R36 및 R37은 C3-C20시클로알킬 또는 C3-C20헤테로시클로알킬이고, 여기서 상기 C3-C20시클로알킬 또는 C3-C20헤테로시클로알킬은 1개 이상의 동일하거나 상이한 R2b에 의해 임의로 치환되거나;
또는 R35, R36 및 R37은 1개 이상의 동일하거나 상이한 R2c에 의해 임의로 치환된 C6-C20아릴 또는 C3-C20헤테로아릴이거나;
또는
R35 및 R36은 함께 직쇄 C2-C6알킬렌 또는 직쇄 C2-C6알케닐렌을 형성하고, 여기서 상기 C2-C6알킬렌 또는 C2-C6알케닐렌은 1개 이상의 동일하거나 상이한 R32에 의해 임의로 치환되고, 여기서 상기 C2-C6알킬렌 또는 C2-C6알케닐렌에는 1개 이상의 비-인접 O, S, C(O) 또는 N(RN)이 임의로 개재되거나;
또는
2개의 라디칼 R33 및 R35, R33 및 R37, R34 및 R35 및/또는 R34 및 R37은 함께 직쇄 C2-C6알킬렌 또는 C2-C6알케닐렌을 형성하고, 여기서 상기 C2-C6알킬렌 또는 C2-C6알케닐렌은 1개 이상의 동일하거나 상이한 R32에 의해 임의로 치환되고, 여기서 상기 비치환되거나 치환된 C2-C6알킬렌에는 1개 이상의 비-인접 기 O, S, C(O), C(O)O, C(O)N(RN) 또는 N(RN)이 임의로 개재된다.
본 발명은
(a) 양이온 중합이 일어날 수 있는 하나 이상의 화합물; 및
(b) 상기 정의된 바와 같은 화학식 I, Ia 또는 Ib의 하나 이상의 화합물
을 포함하는 열-경화성 조성물을 추가로 제공한다.
추가 측면에서, 본 발명은
(a) 양이온 중합이 일어날 수 있는 하나 이상의 화합물, 바람직하게는 에폭시 기, 옥세탄 기 및 비닐 에테르 기로부터 선택된 하나 이상의 기를 갖는 화합물; 및
(b) 상기 정의된 바와 같은 화학식 I, Ia 또는 Ib의 화합물로부터 선택된 하나 이상의 술포늄 술포네이트
를 포함하는 조성물을 기판에 적용하고 상기 조성물을 열을 사용한 처리에 노출시키는 것을 포함하는, 양이온 중합성 조성물의 경화 방법을 제공한다.
추가 측면에서, 본 발명은 열산 발생제 화합물로서의 화학식 I, Ia 또는 Ib의 화합물의 용도를 제공한다. 열산 발생제 화합물은 열을 사용한 처리시 산을 생성하는 화합물인 것을 의미한다.
본 발명은 평판 디스플레이, 예컨대 액정 디스플레이, OLED 디스플레이 및 플라즈마 디스플레이 패널의 층 또는 부재를 제조하기 위한 상기 정의된 바와 같은 조성물의 용도; 뿐만 아니라 컬러 필터의 오버코트 층, 또는 절연 층 또는 유전 층을 제조하기 위한 용도를 추가로 제공한다.
본 발명의 또 다른 측면은 착색 및 비착색 페인트, 인쇄 잉크, 인쇄 플레이트, 접착제, 치과용 조성물 또는 겔 코트를 제조하기 위한 상기 정의된 바와 같은 조성물의 용도이다.
본 발명의 또 다른 대상은 평판 디스플레이의 층 또는 부재의 상기 기재된 바와 같은 제조 방법, 및 컬러 필터의 오버코트 층, 또는 절연 층 또는 유전 층의 상기 기재된 바와 같은 제조 방법이다.
본 발명의 추가의 대상은 하나 이상의 표면 상에 상기 정의된 바와 같은 조성물로 코팅된 기판이다.
용어 "입체이성질체"는 광학 이성질체, 예컨대 거울상이성질체 또는 부분입체이성질체 (후자는 분자에서 1개 초과의 키랄 중심으로 인해 존재함), 뿐만 아니라 기하 이성질체 (시스/트랜스 이성질체) 둘 다를 포괄한다. 치환 패턴에 따라, 화학식 Ia 및 Ib의 화합물은 1개 이상의 키랄 중심을 가질 수 있고, 이러한 경우에 이들은 거울상이성질체 또는 부분입체이성질체의 혼합물로서 존재한다. 본 발명은 순수한 거울상이성질체 또는 부분입체이성질체 및 그의 혼합물, 및 화합물 Ia 및 Ib의 순수한 거울상이성질체 또는 부분입체이성질체 또는 그의 혼합물의 본 발명에 따른 용도를 둘 다 제공한다. 화학식 Ia 및 Ib의 적합한 화합물은 또한 모든 가능한 기하학적 입체이성질체 (시스/트랜스 이성질체) 및 그의 혼합물을 포함한다.
시스/트랜스 이성질체는 탄소-탄소 이중 결합과 관련하여 존재할 수 있다.
본 발명의 목적을 위해, 용어 할로겐은 플루오린, 염소, 브로민 또는 아이오딘, 특히 플루오린 또는 염소를 나타낸다.
본원에 사용된 용어 "알킬"은 통상적으로 1 내지 4, 내지 6, 내지 8, 내지 12, 내지 16, 또는 내지 20개의 탄소 원자를 갖는 포화 직쇄 또는 분지형 탄화수소 라디칼을 지칭한다.
알킬은 바람직하게는 C1-C12-알킬, 보다 바람직하게는 C1-C8-알킬이다. 알킬 기의 예는 특히 메틸, 에틸, n-프로필, 이소프로필, n-부틸, 이소부틸, sec-부틸, tert-부틸, n-펜틸, 네오-펜틸, n-헥실, n-헵틸, n-옥틸, n-노닐, n-데실, n-운데실, n-도데실, n-트리데실, n-테트라데실, n-헥사데실, n-옥타데실 및 n-에이코실이다.
O, S, C(O) 및 N(RN)으로부터 선택된 비-인접 기가 개재된 알킬 라디칼에는 1개 이상, 예를 들어 1, 2, 3, 4, 5, 6, 7, 8개 또는 8개 초과의 상기 언급된 기가 개재될 수 있고, 즉 알킬 기의 말단은 탄소 원자에 의해 형성된다. RN은 상기 정의된 바와 같다. 라디칼 알킬에서 O, S 및 N(RN)으로부터 선택된 기가 개재된 것들이 다수 발생하는 경우에, 이들 헤테로원자는 통상적으로 동일하다. 1개 이상의 O-원자가 개재된 알킬에 대한 예는 -CH2-O-CH3, -CH2CH2-O-CH2CH3, -[CH2CH2O]y-CH3 (여기서, y = 1-9임), -(CH2CH2O)7CH2CH3, -CH2-CH(CH3)-O-CH2-CH2CH3 및 -CH2-CH(CH3)-O-CH2CH3이다. 당업자는 1개의 산소 원자가 개재된 알킬이 또한 알콕시-알킬로 지칭될 수 있거나, 또는 2개의 산소 원자가 개재된 알킬이 또한 알콕시-알콕시-알킬로 지칭될 수 있음을 용이하게 이해할 것이다. 마찬가지로, 1개의 황 원자가 개재된 알킬은 또한 알킬-S-알킬 (알킬술파닐-알킬)로 지칭될 수 있거나, 또는 2개의 황 원자가 개재된 알킬은 또한 알킬-S-알킬-S-알킬 (알킬술파닐-알킬술파닐-알킬)로 지칭될 수 있다.
치환된 알킬 기는, 알킬 쇄의 길이에 따라, 1개 이상 (예를 들어, 1, 2, 3, 4, 5개 또는 5개 초과)의 동일하거나 상이한 치환기를 가질 수 있다. 할로겐 치환된 알킬의 경우에, 알킬 기는 부분 또는 완전 할로겐화될 수 있고/거나 추가의 치환기를 보유할 수 있다.
할로알킬에 대한 예는 C1-C20-플루오로알킬, C1-C20 클로로알킬 및 C1-C20-브로모알킬, 예컨대 클로로메틸, 트리클로로메틸, 플루오로메틸, 디플루오로메틸, 트리플루오로메틸, 2,2,2,-트리플루오로에틸 및 2-브로모프로필이다.
1개의 CO 기가 개재되고 1개 이상의 알킬 기를 보유하는 시클로알킬에 의해 치환된 알킬에 대한 예는 캄포릴, 특히 캄포르-10-일
Figure 112014109866223-pct00019
이다.
본원에 사용된 용어 "알콕시"는 산소 원자를 통해 분자의 나머지 부분에 부착되어 있는, 통상적으로 1 내지 4, 내지 6, 내지 8, 내지 12, 내지 16, 또는 내지 20개의 탄소 원자를 갖는 포화 직쇄 또는 분지형 알킬 라디칼을 지칭한다. 그 예는 메톡시, 에톡시, 프로폭시, 이소프로폭시, n-부틸옥시, sec-부틸옥시, 이소-부틸옥시, tert-부틸옥시, 펜틸옥시, 헥실옥시, 헵틸옥시, 2,4,4-트리메틸펜틸옥시, 2-에틸헥실옥시, 옥틸옥시, 노닐옥시, 데실옥시, 도데실옥시, 헥사데실옥시, 옥타데실옥시 또는 이코실옥시, 특히 메톡시, 에톡시, 프로폭시, 이소프로폭시, n-부틸옥시, sec-부틸옥시, 이소-부틸옥시, tert-부틸옥시, 특히 메톡시이다.
본원에 사용된 용어 "페닐알콕시"는 바람직하게는 1 내지 4개의 탄소 원자, 특히 1 또는 2개의 탄소 원자를 갖는 알콕시 기를 통해 분자의 나머지 부분에 결합된 페닐을 지칭하며, 그 예는 페녹시메틸, 1-페녹시에틸, 2-페녹시에틸 등을 포함한다.
본원에 사용된 용어 "알킬술파닐"은 황 원자를 통해 분자의 나머지 부분에 부착되어 있는, 1 내지 4, 내지 6, 내지 8, 내지 12, 내지 16, 또는 내지 20개의 탄소 원자를 갖는 상기 정의된 바와 같은 포화 직쇄 또는 분지형 알킬 라디칼을 지칭한다. 그 예는 메틸술파닐, 에틸술파닐, 프로필술파닐, 이소프로필술파닐, n-부틸술파닐, sec-부틸술파닐, 이소부틸술파닐 및 tert-부틸술파닐이다.
본원에 사용된 용어 "C2-C8-알카노일" (C1-C7-알킬-C(=O)-)은 카르보닐 기의 탄소 원자를 통해 알킬 기 내의 임의의 위치에 부착된 1 내지 7개의 탄소 원자를 갖는 포화 직쇄 또는 분지형 알킬 라디칼, 예를 들어 아세틸, 프로파노일, 2-메틸-프로파노일, 부타노일, 펜타노일, 헥사노일을 지칭한다.
본원에 사용된 용어 "Cm-Cn-알콕시카르보닐" (Cm-Cn-알킬-O-C(O)-)은 카르보닐 기의 탄소 원자를 통해 분자의 나머지 부분에 부착된, m 내지 n개의 탄소 원자를 갖는 상기 정의된 바와 같은 포화 직쇄 또는 분지형 알콕시 라디칼을 지칭한다. 그 예는 메톡시카르보닐, 에톡시카르보닐, 프로폭시카르보닐, 부톡시카르보닐, 이소부톡시카르보닐 또는 펜톡시카르보닐이다.
본원에 사용된 용어 "알케닐"은 통상적으로 2 내지 20개, 바람직하게는 2 내지 16개, 보다 바람직하게는 2 내지 10개의 탄소 원자를 갖고, 1개 이상, 예를 들어 1, 2, 3개 또는 2개 초과의 이중 결합을 갖는 단일- 또는 다중불포화, 직쇄 또는 분지형 탄화수소 라디칼, 예를 들어 1개의 이중 결합을 갖는 C2-C6-알케닐, 예컨대 에테닐, 1-프로페닐, 2-프로페닐, 1-메틸에테닐, 1-부테닐, 2-부테닐, 3-부테닐, 1-메틸-1-프로페닐, 2-메틸-1-프로페닐, 1-메틸-2-프로페닐, 2-메틸-2-프로페닐, 또는 통상적으로 4 내지 10개의 탄소 원자 및 임의의 위치에 2개의 이중 결합을 갖는 알카디에닐, 예를 들어 1,3-부타디에닐, 1,3-펜타디에닐, 헥사-1,4-디엔-1-일, 헥사-1,4-디엔-3-일, 헥사-1,4-디엔-6-일, 헵타-1,4-디엔-7-일, 헵타-1,5-디엔-1-일 등을 지칭한다.
O, S, C(O) 및 N(RN)으로부터 선택된 비-인접 기가 개재된 알케닐 라디칼에는 1개 이상, 예를 들어 1, 2, 3, 4, 5, 6, 7 또는 8개의 상기 언급된 기가 개재될 수 있고, 즉 알케닐 기의 말단은 탄소 원자에 의해 형성된다. RN은 상기 정의된 바와 같다. O, S 및 NRN으로부터 선택된 헤테로원자 또는 헤테로원자 기가 개재된 것들이 다수 발생하는 경우에, 이들은 통상적으로 동일하다.
치환된 알케닐 기는, 알케닐 쇄의 길이에 따라, 1개 이상 (예를 들어 1, 2, 3, 4, 5개 또는 5개 초과)의 동일하거나 상이한 치환기를 가질 수 있다. 할로겐 치환된 알케닐의 경우에, 알케닐 기는 부분 또는 완전 할로겐화될 수 있고/거나 추가의 치환기를 보유할 수 있다.
또한 "할로겐에 의해 치환될 수 있는 알케닐"로 표현되는 본원에 사용된 용어 "할로알케닐"은 이들 기 내의 수소 원자 중 일부 또는 전부가 상기 언급된 바와 같은 할로겐 원자, 특히 플루오린, 염소 및 브로민에 의해 대체된, (상기 언급된 바와 같은) 1개 이상의 이중 결합을 갖는 불포화 직쇄 또는 분지형 탄화수소 라디칼을 지칭한다. 할로알케닐에 대한 예는 C2-C20-플루오로알케닐, C2-C20 클로로알케닐 및 C2-C20-브로모알케닐이다.
본원에 사용된 용어 "C3-C6-알켄옥시"는 산소 원자를 통해 분자의 나머지 부분에 연결된, 3 내지 6개의 탄소 원자를 갖는 상기 정의된 바와 같은 단일- 또는 이중불포화 직쇄 또는 분지형 알케닐 라디칼을 지칭한다. 그 예는 비닐옥시, 1-프로페닐옥시, 2-프로페닐옥시, 1-메틸에테닐옥시, 1-부테닐옥시, 2-부테닐옥시, 3-부테닐옥시, 1-메틸-1-프로페닐옥시, 2-메틸-1-프로페닐옥시, 1-메틸-2-프로페닐옥시, 2-메틸-2-프로페닐옥시, 1-펜테닐옥시, 2-펜테닐옥시, 3-펜테닐옥시, 4-펜테닐옥시, 1-메틸-1-부테닐옥시, 2-메틸-1-부테닐옥시, 3-메틸-1-부테닐옥시, 1-메틸-2-부테닐옥시, 2-메틸-2-부테닐옥시, 3-메틸-2-부테닐옥시, 1-메틸-3-부테닐옥시, 2-메틸-3-부테닐옥시, 3-메틸-3-부테닐, 1,1-디메틸-2-프로페닐옥시, 1,2-디메틸-1-프로페닐옥시, 1,2-디메틸-2-프로페닐옥시, 1-에틸-1-프로페닐옥시, 1-에틸-2-프로페닐옥시, 1-헥세닐옥시, 2-헥세닐옥시, 3-헥세닐옥시, 4-헥세닐옥시 및 5-헥세닐옥시이다.
본원에 사용된 용어 "C3-C6-알케노일 (C2-C6-알케닐-C(O)-)"은 카르보닐 기의 탄소 원자를 통해 알케닐 기 내의 임의의 위치에 연결 부착된, 2 내지 5개의 탄소 원자를 갖는 상기 정의된 바와 같은 단일- 또는 이중불포화 직쇄 또는 분지형 알케닐 라디칼, 예를 들어 프로페노일, 2-메틸-프로페노일, 부테노일, 펜테노일, 1,3-펜타디에노일, 5-헥세노일을 지칭한다.
본원에 사용된 용어 "C2-C20-알키닐"은 2 내지 20개, 바람직하게는 2 내지 10개의 탄소 원자, 및 임의의 위치에 1 또는 2개의 삼중 결합을 갖는 불포화 직쇄 또는 분지형 탄화수소 라디칼, 예를 들어 에티닐, 프로파르길 (2-프로핀-1-일), 1-프로핀-1-일, 1-메틸프로프-2-인-1-일), 2-부틴-1-일, 3-부틴-1-일, 1-펜틴-1-일, 3-펜틴-1-일, 4-펜틴-1-일, 1-메틸부트-2-인-1-일, 1-에틸프로프-2-인-1-일 등을 지칭한다.
O, S, C(O) 및 N(RN)으로부터 선택된 비-인접 기가 개재된 알키닐 라디칼에는 1개 이상, 예를 들어 1, 2, 3, 4, 5, 6, 7, 8개 또는 8개 초과의 이들 기가 개재될 수 있고, 즉 알키닐 기의 말단은 탄소 원자에 의해 형성된다. RN은 상기 정의된 바와 같다. 라디칼 알키닐에서 헤테로원자 또는 헤테로원자 기가 개재된 것들이 다수 발생하는 경우에, 이들은 통상적으로 동일하다.
치환된 알키닐 기는, 알키닐 쇄의 길이에 따라, 1개 이상 (예를 들어 1, 2, 3, 4, 5개 또는 5개 초과)의 동일하거나 상이한 치환기를 가질 수 있다. 할로겐 치환된 알키닐의 경우에, 알키닐 기는 부분 또는 완전 할로겐화될 수 있고/거나 추가의 치환기를 보유할 수 있다.
또한 "할로겐에 의해 치환될 수 있는 알키닐"로 표현되는 본원에 사용된 용어 "할로알키닐"은 이들 기 내의 수소 원자 중 일부 또는 전부가 상기 언급된 바와 같은 할로겐 원자, 특히 플루오린, 염소 및 브로민에 의해 대체된, (상기 언급된 바와 같은) 1개 이상의 삼중 결합을 갖는 불포화 직쇄 또는 분지형 탄화수소 라디칼을 지칭한다. 할로알키닐에 대한 예는 C2-C20-플루오로알키닐, C2-C20 클로로알키닐 및 C1-C20-브로모알키닐이다.
본원에 사용된 용어 "알키닐옥시"는 산소 원자를 통해 분자의 나머지 부분에 부착된, 3 내지 6개의 탄소 원자를 갖는 상기 정의된 바와 같은 단일- 또는 이중불포화 직쇄 또는 분지형 알키닐 라디칼, 예를 들어 2-프로피닐옥시, 2-부티닐옥시, 3-부티닐옥시, 1-메틸-2-프로피닐옥시, 2-펜티닐옥시, 3-펜티닐옥시, 4-펜티닐옥시, 1-메틸-2-부티닐옥시, 1-메틸-3-부티닐옥시, 2-메틸-3-부티닐옥시, 1-에틸-2-프로피닐옥시, 2-헥시닐옥시, 3-헥시닐옥시, 4-헥시닐옥시, 5-헥시닐옥시, 1-메틸-2-펜티닐옥시 및 1-메틸-3-펜티닐옥시를 지칭한다.
본원에 사용된 용어 "시클로알킬"은 통상적으로 3 내지 30개, 바람직하게는 3 내지 20개, 보다 바람직하게는 3 내지 16개 또는 3 내지 12개의 탄소 원자, 또는 특히 3 내지 8개의 탄소 원자를 갖는 모노- 또는 폴리시클릭, 예를 들어 비- 또는 트리시클릭 지방족 라디칼을 지칭한다. 모노시클릭 고리의 예는 시클로프로필, 시클로부틸, 시클로펜틸, 시클로헥실, 시클로헵틸 또는 시클로옥틸, 특히 시클로펜틸 및 시클로헥실이다. 폴리시클릭 고리의 예는 퍼히드로안트라실, 퍼히드로나프틸, 퍼히드로플루오레닐, 퍼히드로크리세닐, 퍼히드로피세닐, 아다만틸, 비시클로[1.1.1]펜틸, 비시클로[2.2.1]헵틸, 비시클로[4.2.2]데실, 비시클로[2.2.2]옥틸, 비시클로[3.3.0]옥틸 비시클로[3.3.2]데실, 비시클로[4.4.0]데실, 비시클로[4.3.2]운데실, 비시클로[4.3.3]도데실, 비시클로[3.3.3]운데실, 비시클로[4.3.1]데실, 비시클로[4.2.1]노닐, 비시클로[3.3.1]노닐, 비시클로[3.2.1]옥틸 등이다. 시클로알킬에는 1개 이상의 CO 기, 통상적으로 1 또는 2개의 기가 개재될 수 있다. 시클로알킬에 1개 이상의 CO 기가 개재되는 경우에, 1개 이상의 메틸렌 기가 CO에 의해 대체된다. 1개의 CO 기가 개재된 시클로알킬에 대한 예는 3-옥소비시클로[2.2.1]헵틸이다. 시클로알킬이 1개 이상의 동일하거나 상이한 라디칼에 의해 치환되는 경우에, 이는 예를 들어 C1-C4-알킬에 의해 예를 들어 1회, 2회, 3회, 4회 또는 5회 치환된다. 시클로알킬이 1개 이상의 치환기에 의해 치환되는 경우에, 이는 예를 들어 1회, 2회, 3회, 4회 또는 5회 치환되거나 또는 5회 초과 치환된다.
본원에 사용된 용어 "헤테로시클릴" (또한 헤테로시클로알킬로 지칭됨), 즉 C2-C9헤테로시클릴은 일반적으로 3-, 4-, 5-, 6-, 7- 또는 8-원, 특히 5-, 6-, 7- 또는 8-원 모노시클릭 헤테로시클릭 비-방향족 라디칼 및 8 내지 10원 비시클릭 헤테로시클릭 비-방향족 라디칼을 포함하며, 모노- 및 비시클릭 비-방향족 라디칼은 포화 또는 불포화일 수 있다. 모노- 및 비시클릭 헤테로시클릭 비-방향족 라디칼은 통상적으로 고리원으로서 N, O 및 S로부터 선택된 1, 2, 3 또는 4개의 헤테로원자, 특히 1 또는 2개의 헤테로원자를 포함하며, 여기서 고리원으로서의 S-원자는 S, SO 또는 SO2로서 존재할 수 있다. 헤테로시클로알킬에 1개 이상, 예를 들어 1 또는 2개의 CO 기가 개재되는 경우에, 1개 이상의 메틸렌 기가 CO에 의해 대체된다. 포화 또는 불포화 3-, 4-, 5-, 6-, 7- 또는 8-원 헤테로시클릭 라디칼의 예는 포화 또는 불포화, 비-방향족 헤테로시클릭 고리, 예컨대 옥시라닐, 옥세타닐, 티에타닐, 티에타닐-S-옥시드 (S-옥소티에타닐), 티에타닐-S-디옥시드 (S-디옥소티에타닐), 피롤리디닐, 피라졸리닐, 이미다졸리닐, 피롤리닐, 피라졸리닐, 이미다졸리닐, 테트라히드로푸라닐, 디히드로푸라닐, 1,3-디옥솔라닐, 디옥솔레닐, 티올라닐, S-옥소티올라닐, S-디옥소티올라닐, 디히드로티에닐, S-옥소디히드로티에닐, S-디옥소디히드로티에닐, 옥사졸리디닐, 이속사졸리디닐, 옥사졸리닐, 이속사졸리닐, 티아졸리닐, 이소티아졸리닐, 티아졸리디닐, 이소티아졸리디닐, 옥사티올라닐, 피페리디닐, 피페라지닐, 피라닐, 디히드로피라닐, 테트라히드로피라닐, 1,3- 및 1,4-디옥사닐, 티오피라닐, S-옥소티오피라닐, S-디옥소티오피라닐, 디히드로티오피라닐, S-옥소디히드로티오피라닐, S-디옥소디히드로티오피라닐, 테트라히드로티오피라닐, S-옥소테트라히드로티오피라닐, S-디옥소테트라히드로티오피라닐, 모르폴리닐, 티오모르폴리닐, S-옥소티오모르폴리닐, S-디옥소티오모르폴리닐, 티아지닐 등을 포함한다. 또한 고리원으로서 1 또는 2개의 카르보닐 기를 포함하는 헤테로시클릭 고리에 대한 예는 피롤리딘-2-오닐, 피롤리딘-2,5-디오닐, 이미다졸리딘-2-오닐, 옥사졸리딘-2-오닐, 티아졸리딘-2-오닐 등을 포함한다.
C2-C9헤테로시클릴이 1개 이상의 치환기에 의해 치환되는 경우에, 이는 예를 들어 1회, 2회, 3회, 4회 또는 5회 치환되거나 또는 5회 초과 치환된다.
본원에 사용된 용어 "C6-C20아릴"은 모노시클릭인 1가 방향족 기, 예컨대 페닐 또는 축합된 폴리시클릭, 예를 들어 나프틸, 페난트릴 또는 안트라세닐을 지칭한다. 아릴의 바람직한 예는 페닐 및 나프틸이다.
본원에 사용된 용어 "C6-C10아릴"은 페닐 및 나프틸을 지칭한다.
용어 "헤테로아릴" (또한 "헤타릴"로 지칭됨)은 일반적으로 방향족인 5- 또는 6-원 불포화 모노시클릭 헤테로시클릭 라디칼 및 8 내지 10원 불포화 비시클릭 헤테로시클릭 라디칼을 포함하며, 즉 이들은 휘켈(Hueckel) 규칙 (4n+2 규칙)에 따른다. 헤타릴은 통상적으로 고리원(들)으로서 탄소 원자(들) 이외에 고리원으로서 N, O 및 S로부터 선택된 1, 2, 3 또는 4개의 헤테로원자를 포함한다. 5- 또는 6-원 헤테로방향족 라디칼의 예는 2-푸릴, 3-푸릴, 2-티에닐, 3-티에닐, 1-피롤릴, 2-피롤릴, 3-피롤릴, 1-피라졸릴, 3-피라졸릴, 4-피라졸릴, 5-피라졸릴, 2-옥사졸릴, 4-옥사졸릴, 5-옥사졸릴, 2-티아졸릴, 4-티아졸릴, 5-티아졸릴, 3-이속사졸릴, 4-이속사졸릴 또는 5-이속사졸릴, 3-이소티아졸릴, 4-이소티아졸릴 또는 5-이소티아졸릴, 1-이미다졸릴, 2-이미다졸릴, 4-이미다졸릴, 2- 또는 5-[1,3,4]옥사디아졸릴, 4- 또는 5-(1,2,3-옥사디아졸)일, 3- 또는 5-(1,2,4-옥사디아졸)일, 2- 또는 5-(1,3,4-티아디아졸)일, 2- 또는 5-(1,3,4-티아디아졸)일, 4- 또는 5-(1,2,3-티아디아졸)일, 3- 또는 5-(1,2,4-티아디아졸)일, 1H-, 2H- 또는 3H-1,2,3-트리아졸-4-일, 1,3,4-트리아졸-2-일, 2H-트리아졸-3-일, 1H-, 2H-, 또는 4H-1,2,4-트리아졸릴, 1H- 또는 2H-테트라졸릴 2-피리디닐, 3-피리디닐, 4-피리디닐, 3-피리다지닐, 4-피리다지닐, 2-피리미디닐, 4-피리미디닐, 5-피리미디닐 및 2-피라지닐을 포함한다.
용어 "헤테로아릴"은 또한 고리원으로서 N, O 및 S로부터 선택된 1, 2 또는 3개의 헤테로원자를 포함하는 비시클릭 8- 내지 10-원 헤테로방향족 라디칼을 포함하며, 여기서 5- 또는 6-원 헤테로방향족 고리는 페닐 고리에 또는 5- 또는 6-원 헤테로방향족 라디칼에 융합된다. 페닐 고리 또는 5- 또는 6-원 헤테로방향족 라디칼에 융합된 5- 또는 6-원 헤테로방향족 고리의 예는 벤조푸라닐, 벤조티에닐, 인돌릴, 인다졸릴, 벤즈이미다졸릴, 벤족사티아졸릴, 벤족사디아졸릴, 벤조티아디아졸릴, 벤족사지닐, 키놀리닐, 이소키놀리닐, 퓨리닐, 1,8-나프티리딜, 프테리딜, 피리도[3,2-d]피리미딜 또는 피리도이미다졸릴 등을 포함한다. 이들 융합된 헤타릴 라디칼은 5- 또는 6-원 헤테로방향족 고리의 임의의 고리 원자를 통해 또는 융합된 페닐 모이어티의 탄소 원자를 통해 분자의 나머지 부분에 결합될 수 있다.
헤테로아릴이 1개 이상의 동일하거나 상이한 라디칼에 의해 치환되는 경우에, 이는 예를 들어 1회, 2회, 3회, 4회 또는 5회 치환된다.
본원에 사용된 용어 "C1-C20알킬렌"은 각 경우에, 알킬 라디칼의 임의의 위치에서의 1개의 수소 원자가 1개의 추가의 결합 부위에 의해 대체되어 2가 모이어티를 형성하는, 1 내지 20개의 탄소 원자를 갖는 상기 정의된 바와 같은 알킬 라디칼, 예를 들어 -CH2-, -CH2CH2-, -CH(CH3)-, -CH2CH2CH2-, -CH(CH3)CH2-, -CH2CH2CH2CH2-, -CH2CH(CH3)CH2-, -CH(CH3)CH(CH3)-, -CH2CH2CH2CH2CH2-, -CH2(CH2)2CH(CH3)-, -CH2C(CH3)2CH2- 등을 나타낸다.
"C1-C20-알킬렌에 1개 이상의 동일하거나 상이한 비-인접 기가 개재될 수 있다"는 1개 이상의 알킬렌 쇄의 내부 메틸렌 기가 개재 기에 의해 대체된, 1 내지 20개의 탄소 원자를 갖는 상기 정의된 바와 같은 알킬렌 쇄를 나타낸다. 알킬렌에는 예를 들어 1회, 2회, 3회, 4회 또는 4회 초과로 개재될 수 있다.
알킬렌이 1개 이상의 치환기에 의해 치환되는 경우에, 이는 예를 들어 1회, 2회, 3회, 4회 또는 5회 치환되거나 또는 5회 초과 치환된다.
본원에 사용된 용어 "C2-C20-알케닐렌" (또는 C2-C20-알켄디일)은 각 경우에 알케닐 라디칼의 임의의 위치에서의 1개의 수소 원자가 1개의 추가의 결합 부위에 의해 대체되어 2가 모이어티를 형성하는 상기 정의된 바와 같은 직쇄 또는 분지형 C2-C20-알케닐 라디칼, 예를 들어 -CH=CH-, -CH=CHCH2-, -CH=C(H3)CH2-CH2CH=CHCH2-, -CH=CH-CH=CH-, -CH2CH=CHCH2CH2- 등을 나타낸다.
"C2-C20-알케닐렌에 1개 이상의 동일하거나 상이한 비-인접 기가 개재될 수 있다"는 1개 이상의 알케닐렌 쇄의 내부 메틸렌 기가 기 RMi에 의해 대체된, 2 내지 20개의 탄소 원자를 갖는 상기 정의된 바와 같은 알케닐렌 쇄를 나타낸다. 알케닐렌에는 예를 들어 1회, 2회, 3회, 4회 또는 4회 초과로 개재될 수 있다.
알케닐렌이 1개 이상의 치환기에 의해 치환되는 경우에, 이는 예를 들어 1회, 2회, 3회, 4회 또는 5회 치환되거나 또는 5회 초과 치환된다.
본원에 사용된 용어 "알키닐렌" (또는 알킨디일)은 각 경우에, 알키닐 라디칼의 임의의 위치에서의 1개의 수소 원자가 1개의 추가의 결합 부위에 의해 대체되어 2가 모이어티를 형성하는 상기 정의된 바와 같은 직쇄 또는 분지형 알키닐 라디칼을 나타낸다. 따라서, C2-C20-알키닐렌은 2 내지 20개의 탄소 원자를 갖는 2가 직쇄 또는 분지형 지방족 쇄이다.
"C2-C20-알키닐렌에 1개 이상의 동일하거나 상이한 비-인접 기가 개재될 수 있다"는 1개 이상의 알키닐렌 쇄의 내부 메틸렌 기가 기에 의해 대체된, 2 내지 20개의 탄소 원자를 갖는 상기 정의된 바와 같은 알키닐렌 쇄를 나타낸다. 알키닐렌에는 예를 들어 1회, 2회, 3회, 4회 또는 4회 초과로 개재될 수 있다.
용어 "C3-C20-시클로알킬렌" (또한 시클로알칸디일로 지칭됨)은 시클로알킬의 임의의 위치에서의 1개의 수소 원자가 1개의 추가의 결합 부위에 의해 대체되어 2가 라디칼을 형성하는, 3 내지 20개의 탄소 원자를 갖는 상기 정의된 바와 같은 시클로알킬 라디칼을 지칭한다. 폴리시클릭 시클로알칸디일의 경우에, 결합 부위는 동일한 고리 또는 상이한 고리에 위치한다. 모노시클릭 고리의 예는 시클로프로필렌, 시클로부틸렌, 시클로펜틸렌, 시클로헥실렌 또는 시클로헵틸렌, 특히 시클로헥실렌이다. 폴리시클릭 고리의 예는 퍼히드로안트라실렌, 퍼히드로나프틸렌, 퍼히드로플루오레닐렌, 퍼히드로크리세닐렌, 퍼히드로피세닐렌, 아다만틸렌, 비시클로[1.1.1]펜틸렌, 비사이클[2.2.1]헵틸렌, 비시클로[4.2.2]데실렌, 비시클로[2.2.2]옥틸렌, 비시클로[3.3.2]데실렌, 비시클로[4.3.2]운데실렌, 비시클로[4.3.3]도데실렌, 비시클로[3.3.3]운데실렌, 비시클로[4.3.1]데실렌, 비시클로[4.2.1]노닐렌, 비사이클[3.3.1]노닐렌, 비시클로[3.2.1]옥틸렌 등이다. 시클로알칸디일이 1개 이상의 치환기에 의해 치환되는 경우에, 이는 예를 들어 C1-C4-알킬에 의해 예를 들어 1회, 2회, 3회, 4회 또는 5회 치환되거나 또는 5회 초과 치환된다.
본원에 사용된 용어 "C6-C20-아릴렌" (또한 아렌디일로 지칭됨)은 아릴 기의 임의의 위치에서의 1개의 수소 원자가 1개의 추가의 결합 부위에 의해 대체되어 2가 라디칼을 형성하는, 상기 정의된 바와 같은 아릴 기를 지칭한다. 폴리시클릭 아릴렌의 경우에, 결합 부위는 동일한 고리 또는 상이한 고리에 위치한다. 아릴렌의 예는 페닐렌, 나프틸렌, 예를 들어 1,5-나프탈렌디일 및 1,8-나프탈렌디일, 안트라센디일 또는 페난트렌디일이다. 아릴렌이 1개 이상의 치환기에 의해 치환되는 경우에, 이는 예를 들어 1회, 2회, 3회, 4회 또는 5회 치환되거나 또는 5회 초과 치환된다.
용어 "페닐렌"은 1,2-페닐렌 (o-페닐렌 또는 1,2-벤젠디일), 1,3-페닐렌 (m-페닐렌, 1,3-벤젠디일) 및 1,4-페닐렌 (p-페닐렌 또는 1,4-벤젠디일)을 지칭한다. 용어 "나프틸렌"은 1,2-나프틸렌, 1,3-나프틸렌, 1,4-나프틸렌, 1,5-나프틸렌, 1,8-나프틸렌, 2,3-나프틸렌 및 2,7-나프틸렌을 지칭한다.
용어 "크실릴렌"은 1,2-크실릴렌 (1,2-메틸렌페닐렌메틸렌, 1,2-CH2-C6H4-CH2), 1,3-크실릴렌 (1,3-메틸렌페닐렌메틸렌, 1,3-CH2-C6H4-CH2) 및 1,4-크실릴렌 (1,4-메틸렌페닐렌메틸렌, 1,4-CH2-C6H4-CH2)을 지칭한다.
용어 "헤테로아릴렌" (또한 헤테로아렌디일로 지칭됨)은 헤테로아릴 기의 임의의 위치에서의 1개의 수소 원자가 추가의 결합 부위에 의해 대체되어 2가 라디칼을 형성하는, 상기 정의된 바와 같은 헤테로아릴 라디칼을 지칭한다. 폴리시클릭 헤테로아렌디일의 경우에, 결합 부위는 동일한 고리 또는 상이한 고리에 위치한다. 헤테로아렌디일은 가능한 경우에, C-부착되거나 또는 N-부착될 수 있다. 예를 들어, 피롤디일, 이미디아졸디일 또는 피라졸디일은 N-부착되거나 또는 C-부착될 수 있다. 헤테로아렌디일에 대한 예는 피리딘디일, 피리미딘디일, 피리다진디일, 1,2,3-트리아진디일, 1,2,4-트리아진디일, 1,2,3,4-테트라진디일, 푸란디일, 티오펜디일, 피롤디일, 티아졸디일, 티아디아졸디일, 피라졸디일, 이미다졸디일, 트리아졸디일, 옥사졸디일, 이속사졸디일, 이소티아졸디일, 옥사디아졸디일 등이다. 헤테로아렌디일이 1개 이상의 치환기에 의해 치환되는 경우에, 이는 예를 들어 1회, 2회, 3회, 4회 또는 5회 치환되거나 또는 5회 초과 치환된다.
본원에 사용된 용어 "아릴알킬" (또한 아릴-알킬렌으로 지칭됨)은 알킬렌 기를 통해, 특히 메틸렌, 1,1-에틸렌 또는 1,2-에틸렌 기를 통해 연결된 하기 정의된 바와 같은 아릴 라디칼, 예를 들어 벤질, 1-페닐에틸 및 2-페닐에틸 등을 지칭한다.
본 발명의 문맥에서 용어 "및/또는" 또는 "또는/및"은 정의된 대체물 (치환기) 중 하나 뿐만 아니라, 여러 정의된 대체물 (치환기)이 함께, 즉 상이한 대체물 (치환기)의 혼합물도 존재할 수 있음을 나타내는 것으로 의도된다.
용어 "적어도"는 하나 또는 하나 초과, 예를 들어 하나 또는 둘 또는 셋, 바람직하게는 하나 또는 둘을 정의하는 것을 의미한다.
용어 "임의로 치환된"은 언급된 라디칼이 비치환되거나 또는 치환되는 것을 의미한다.
용어 "1개 이상의 동일하거나 상이한 라디칼"은 1, 2, 3, 4, 5, 6, 7, 8개 또는 8개 초과의 동일하거나 상이한 라디칼을 정의하는 것으로 의도된다.
문맥상 달리 요구되지 않는 한, 본 명세서 및 하기 특허청구범위 전반에 걸쳐, 용어 "포함한다", 또는 "포함하고" 또는 "포함하는"과 같은 변형은 언급된 정수 또는 단계 또는 정수들 또는 단계들의 군을 포함하며 임의의 다른 정수 또는 단계 또는 정수들 또는 단계들의 군을 배제하지 않는 것을 의미하는 것으로 이해될 것이다.
본원의 문맥에서 용어 "(메트)아크릴레이트"는 아크릴레이트 뿐만 아니라 상응하는 메타크릴레이트를 지칭하는 것으로 의도된다.
본 발명의 문맥에서 본 발명에 따른 화학식 I, Ia 또는 Ib의 화합물에 대해 나타낸 바람직한 것은 특허청구범위의 모든 카테고리, 즉 조성물, 용도, 방법 청구항을 또한 지칭하는 것으로 의도된다.
화학식 I, Ia 또는 Ib의 화합물의 가변기 (치환기)의 바람직한 실시양태에 대한 것으로서 하기 제공된 설명은 그 자체로 뿐만 아니라 서로와의 조합으로도 유효하다.
R4가 하기 화학식 A의 기인 화학식 I의 화합물이 바람직하다.
<화학식 A>
Figure 112014109866223-pct00020
상기 식에서, R25, R26, R27, R28, R29, R30 및 R31은 상기 정의된 바와 같다.
추가로,
R25가 수소, C1-C12알킬 또는 페닐이고;
R26이 수소, C1-C12알킬 또는 페닐이고;
R28이 수소, 플루오린, 염소, NO2, OR20, COR21, COOR22, CONR23R24 또는 C1-C12알킬이고;
R29가 수소, 플루오린, 염소, NO2, OR20, COR21, COOR22, CONR23R24 또는 C1-C12알킬이고;
R30이 수소, 플루오린, 염소, NO2, OR20, COR21, COOR22, CONR23R24 또는 C1-C12알킬이고;
R31이 수소, 플루오린, 염소, NO2, OR20, COR21, COOR22, CONR23R24 또는 C1-C12알킬이거나; 또는
R27 및 R28, R28 및 R29, R29 및 R30 및/또는 R30 및 R31이 이들이 부착되어 있는 탄소 원자와 함께 -CH2CH2CH2-, -CH2CH2CH2CH2- 및 -CH=CH-CH=CH-로부터 선택된 기일 수 있고, 따라서 이들이 결합되어 있는 탄소 원자와 함께 5- 또는 6-원 고리, 특히 벤젠 고리를 형성할 수 있고; 여기서 R20, R21, R23 및 R24는 상기 정의된 바와 같고, 바람직하게는 바람직한 의미 중 하나를 갖는 것인
화학식 I의 화합물이 흥미롭다.
특히 R4는 벤질이고, 즉 R27, R28, R29, R30, R31은 각각 수소이다. 마찬가지로, 특히 R25 및 R26은 둘 다 수소이고, 라디칼 R27, R28, R29, R30 및 R31 중 1 또는 2개는 니트로, 플루오린, 염소, C1-C4알킬, OR20, COOR22 및 CONR23R24로부터 선택되고, 다른 라디칼 R27, R28, R29, R30 및 R31은 수소이다. 마찬가지로, 특히 R25, R26, R27, R28 및 R29는 각각 수소이고, R30 및 R31은 함께 -CH=CH-CH=CH-이고, 따라서 이들이 결합되어 있는 탄소 원자와 함께 벤젠 고리를 형성한다.
R4가 화학식 A의 기인 화학식 I의 화합물에서, R4가 나프틸메틸; 벤질, 또는 니트로, 플루오린, 염소, C1-C4-알킬, C1-C4-알콕시, C1-C4-알콕시카르보닐, C(O)O-(C1-C4-알킬-OH) 및 C(O)N(C1-C4-알킬)2로부터 선택된 1 또는 2개의 라디칼에 의해 치환된 벤질인 화합물이 보다 바람직하다.
마찬가지로, R4가 하기 화학식 B의 기인 화학식 I의 화합물이 바람직하다.
<화학식 B>
Figure 112014109866223-pct00021
상기 식에서, R33, R34, R35, R36 및 R37은 상기 정의된 바와 같다.
예를 들어, R4는
R33이 수소, C1-C12알킬 또는 페닐이고;
R34가 수소, C1-C12알킬 또는 페닐이고;
R35가 수소, C1-C12알킬, 페닐 또는 C2-C12알케닐이고;
R36이 수소, C1-C12알킬, 페닐 또는 C2-C12알케닐이고;
R37이 수소, 플루오린, 염소, C1-C12알킬, 페닐 또는 C2-C12알케닐인
화학식 B의 기이다.
특히, R33 및 R34는 둘 다 수소이고, 라디칼 R35, R36 및 R37 중 1 또는 2개는 C1-C4알킬 또는 페닐이고, 다른 라디칼 R35, R36 및 R37은 수소이다.
R4가 화학식 B의 기인 화학식 I의 화합물에서, R4가 프로프-2-엔-1-일, 3-페닐-프로프-2-엔-1-일, 2-(C1-C4-알킬)-프로프-2-엔-1-일 또는 3-(C1-C4-알킬)-프로프-2-엔-1-일인 화합물이 보다 바람직하다.
마찬가지로, R4가 C3-C12시클로알킬, 특히 C3-C8시클로알킬인 화학식 I의 화합물이 바람직하다. 그 예는 시클로부틸, 시클로펜틸, 시클로헥실, 시클로헵틸 및 시클로옥틸, 특히 시클로펜틸 또는 시클로헥실이다.
마찬가지로, R4가 F, Cl, Br, I, C1-C12-알킬, OR20, COR21, COOR22 및 CONR23R24로부터 선택된 1개 이상, 예를 들어 1, 2 또는 3개의 동일하거나 상이한 라디칼에 의해 치환된 C3-C12시클로알킬인 화학식 I의 화합물이 바람직하고, 여기서 R20, R21, R22, R23 및 R24는 상기 정의된 바와 같고, 바람직하게는 바람직한 의미 중 하나를 갖는다. 보다 바람직하게는, R4는 F, Cl, Br, I, C1-C8알킬, OR20, COOR22 및 CONR23R24로부터 선택된 1, 2 또는 3개의 동일하거나 상이한 라디칼에 의해 치환된 C3-C8시클로알킬이다. 특히, R4는 F, Cl, Br, I, C1-C8알킬, C1-C4알콕시, 히드록시, C1-C4플루오로알킬카르보닐옥시, C1-C4 클로로알킬카르보닐옥시, C(O)O-(C1-C4-알킬-OH) 및 C(O)N(C1-C4-알킬)2로부터 선택된 1, 2 또는 3개의 동일하거나 상이한 라디칼에 의해 치환된 C3-C8시클로알킬이다.
마찬가지로, R4가 C1-C12알킬인 화학식 I의 화합물이 바람직하다. 특히 R4는 C1-C6알킬, 예컨대 메틸, 에틸, n-프로필, 이소프로필, n-부틸, 펜틸 또는 헥실, 특히 메틸이다.
마찬가지로, R4가 F, Cl, Br, I, OR20, COR21, COOR22, CONR23R24, C3-C12시클로알킬 및 5- 내지 6-원 헤테로시클릴로부터 선택된 1개 이상, 예를 들어 1 또는 2개의 동일하거나 상이한 라디칼에 의해 치환된 C1-C12알킬인 화학식 I의 화합물이 바람직하고, 여기서 R20, R21, R23 및 R24는 상기 정의된 바와 같고, 바람직하게는 바람직한 의미 중 하나를 갖는다. 그 예는 C1-C12플루오로알킬, C1-C12클로로알킬, C1-C4알콕시-C1-C12알킬, 페녹시-C1-C12알킬, 페닐카르보닐-C1-C12알킬, C1-C4-알콕시카르보닐-C1-C12알킬, C1-C4알콕시-C1-C4알콕시카르보닐-C1-C12알킬, C3-C12시클로알킬-C1-C12알킬 및 5- 또는 6-원 헤테로시클릴-C1-C12알킬이고, 여기서 헤테로시클릴 모이어티는 탄소 원자 이외에 O, S 또는 N으로부터 선택된 1 또는 2개의 헤테로원자를 포함하는 5- 내지 6-원 포화 헤테로시클릭 고리이다.
R4에 대한 예는 페녹시-C1-C6알킬, 특히 페녹시메틸 또는 2-페녹시에틸; C1-C4알콕시카르보닐-C1-C6알킬, 특히 메톡시카르보닐메틸, 에톡시카르보닐메틸, 2-메톡시카르보닐에틸, 2-에톡시카르보닐에틸, 3-메톡시카르보닐프로필, 3-에톡시카르보닐프로필, 4-메톡시카르보닐부틸 또는 4-에톡시카르보닐부틸; 페닐카르보닐-C1-C6알킬, 특히 벤조일메틸; C1-C4알콕시-C1-C6알킬, 특히 2-메톡시-에틸 또는 3-메톡시프로필; C1-C4알콕시-C1-C4-알콕시카르보닐-C1-C6알킬, 특히 3-메톡시-부톡시카르보닐, 2-메톡시프로폭시카르보닐, 3-에톡시부톡시카르보닐 또는 2-에톡시프로폭시카르보닐; C3-C12시클로알킬-C1-C6알킬, 특히 시클로헥실메틸, 2-시클로헥실에틸, 시클로펜틸메틸 또는 2-시클로펜틸에틸이고; 헤테로시클로알킬-C1-C62알킬은 바람직하게는 테트라히드로푸란-2-일-메틸, 테트라히드로푸란-3-일-메틸, 테트라히드로티오펜-2-일메틸, 테트라히드로티오펜-3-일메틸, 2-(테트라히드로푸란-2-일)-에틸, 2-(테트라히드로푸란-3-일)-에틸, 2-(테트라히드로티오펜-2-일)-에틸 또는 2-(테트라히드로티오펜-3-일)-에틸이다.
보다 더 바람직하게는, 이러한 실시양태에서 R4는 C1-C6알킬, C1-C4알콕시-(CO)-C1-C4알킬, 테트라히드로푸라닐-C1-C4알킬, 테트라히드로티오펜-C1-C4알킬 또는 페녹시-C1-C4알킬이다.
라디칼 R4의 예는 1-나프틸메틸, 벤질, 4-메틸벤질, 4-에톡시카르보닐벤질, 4-클로로벤질, 2,4-디클로로벤질, 3,4-디클로로벤질, 4-니트로벤질, 4-디이소프로필카르바모일벤질, 4-(2-히드록시에톡시카르보닐)벤질, 4-(2-메톡시-1-메틸에톡시카르보닐)벤질, 4-에톡시카르보닐벤질, 3-메톡시벤질, 3-메틸벤질, 2-메틸벤질, 2-클로로벤질, 2-메틸프로프-2-에닐, 3-메틸부트-2-에닐, 알릴, (E)-3-페닐프로프-2-에닐, (Z)-3-페닐프로프-2-에닐, 3-페닐프로프-2-에닐, 시클로헥실, 메틸, 에틸, n-부틸, n-옥틸, 2-메톡시카르보닐에틸, 2-페녹시에틸, 3-메톡시부톡시카르보닐메틸, 테트라히드로푸란-2-일메틸, 테트라히드로티오펜-2-일메틸 및 에톡시카르보닐메틸이다.
또한, R5 및 R6이 서로 독립적으로 C1-C12알킬; 1개 이상의 동일하거나 상이한 라디칼 R2a에 의해 치환된 C1-C12알킬 (여기서, R2a는 상기 정의된 바와 같음); C3-C12시클로알킬; 1개 이상의 동일하거나 상이한 라디칼 R2b에 의해 치환된 C3-C12시클로알킬 (여기서, R2b는 상기 정의된 바와 같음); 페닐; 및 1, 2, 3, 4 또는 5개의 라디칼 R2c에 의해 치환된 페닐 (여기서, R2c는 상기 정의된 바와 같음)로부터 선택된 것인 상기 화학식 I의 화합물이 바람직하다.
그 중에서도, R5 및/또는 R6이, 비치환되거나 또는 부분 또는 완전 할로겐화되고/거나 OR20, COR21, COOR22, CONR23R24, 헤테로시클로알킬, C3-C8시클로알킬, 페닐 및 나프틸 (여기서, 마지막에 언급된 2개의 라디칼은 비치환되거나 또는 C1-C12알킬, F, Cl, Br, I, NO2, OR20, COOR22 및 CONR23R24로부터 선택된 1, 2, 3, 4 또는 5개의 동일하거나 상이한 라디칼에 의해 치환됨)로부터 선택된 1, 2 또는 3개의 동일하거나 상이한 라디칼 R2a를 갖는 C1-C12알킬인 화학식 I의 화합물이 바람직하다. R20, R22, R23 및 R24는 상기 정의된 바와 같고, 바람직하게는 바람직한 의미 중 하나를 갖는다.
특정한 바람직한 실시양태에서, R5 및/또는 R6은 C1-C8알킬, 예컨대 메틸, 에틸, n-프로필, 이소프로필, n-부틸, sec-부틸, tert-부틸, n-펜틸 또는 헥실 또는 n-옥틸, 특히 메틸, 에틸, n-프로필, n-부틸 또는 n-옥틸이다.
마찬가지로, 특정한 바람직한 실시양태에서 R5 및/또는 R6은 C1-C6-플루오로알킬, C1-C6클로로알킬, C1-C4알콕시-C1-C6알킬, 페녹시-C1-C6알킬, 벤조일-C1-C6알킬, 벤질옥시카르보닐-C1-C6알킬 또는 페닐-C1-C6알킬이고, 여기서 마지막에 언급된 라디칼의 알킬 모이어티는 벤조일에 의해 치환된다.
R5 및/또는 R6에 대한 예는 C1-C4알콕시-C1-C2알킬이고, 특히 2-메톡시-에틸 또는 3-메톡시프로필; 페녹시-C1-C4알킬, 특히 페녹시메틸, 2-페녹시에틸 또는 3-페녹시프로필; 벤조일-C1-C4-알킬, 특히 2-옥소-2-페닐에틸, 3-옥소-3-페닐프로필 또는 4-옥소-4-페닐부틸; 벤질옥시카르보닐-C1-C4-알킬, 특히 2-벤질옥시카르보닐-에틸 또는 2-메틸-2-벤질옥시카르보닐에틸; 페닐-C1-C4알킬이고, 여기서 페닐알킬의 알킬 모이어티는 벤조일, 특히 2-옥소-1,2-디페닐에틸, 3-옥소-1,3-디페닐프로필 또는 4-옥소-1,4-디페닐부틸에 의해 치환된다.
마찬가지로, 특정한 바람직한 실시양태에서, R5 및/또는 R6은 C1-C4알콕시카르보닐-C1-C6알킬, C1-C4알콕시-C1-C4알콕시카르보닐-C1-C6알킬, C3-C8시클로알킬-C1-C6알킬, 나프틸-C1-C6알킬 또는 헤테로시클릴-C1-C6알킬이고, 여기서 헤테로시클릴은 탄소 원자 이외에 O 및 S로부터 선택된 1 또는 2개의 헤테로원자를 포함하는 5- 내지 6-원 포화 헤테로시클릭 고리이다.
R5 및/또는 R6에 대한 예는 C1-C4알콕시카르보닐-C1-C4알킬, 특히 메톡시-카르보닐메틸, 에톡시카르보닐메틸, 2-메톡시카르보닐에틸, 2-에톡시카르보닐에틸, 3-메톡시카르보닐프로필, 3-에톡시카르보닐프로필, 4-메톡시카르보닐부틸 또는 4-에톡시카르보닐부틸; C1-C4-알콕시-C1-C4-알콕시카르보닐-C1-C4-알킬, 특히 3-메톡시부톡시카르보닐메틸, 3-메톡시부톡시카르보닐에틸, 3-에톡시부톡시카르보닐메틸 또는 3-에톡시부톡시카르보닐에틸; C3-C8시클로알킬-C1-C4알킬, 특히 시클로헥실메틸, 2-시클로헥실에틸, 시클로펜틸메틸 또는 2-시클로펜틸에틸; 나프틸-C1-C4-알킬, 특히 1-나프틸메틸, 2-나프틸메틸, 1-(나프탈렌-1-일)에틸, 1-(나프탈렌-2-일)에틸, 2-(나프탈렌-1-일)에틸 또는 2-(나프탈렌-2-일)에틸이고; 헤테로시클릴-C1-C4-알킬은 테트라히드로푸란-2-일메틸, 테트라히드로푸란-3-일메틸, 2-(테트라히드로푸란-2-일)에틸, 2-(테트라히드로푸란-3-일)에틸, 3-(테트라히드로푸란-2-일)프로필, 3-(테트라히드로푸란-3-일)프로필, 테트라히드로티오펜-2-일메틸, 테트라히드로티오펜-3-일메틸, 2-(테트라히드로티오펜-2-일)에틸, 2-(테트라히드로티오펜-3-일)에틸, 3-(테트라히드로티오펜-2-일)프로필 또는 3-(테트라히드로티오펜-3-일)프로필이다.
마찬가지로, 바람직한 실시양태에서, R5 및/또는 R6은 페닐-C1-C6알킬이고, 여기서 페닐알킬의 페닐 모이어티는 비치환되거나 또는 F, Cl, Br, I, OH, NO2, C1-C10알킬, C1-C4알콕시, 헤테로시클릴-C1-C4알콕시, C1-C4플루오로알카노일옥시, 히드록시-C1-C4알콕시카르보닐, C1-C4알콕시카르보닐, C1-C4-알콕시-C1-C4-알콕시카르보닐, 벤질옥시카르보닐 및 C(=O)N(C1-C8-알킬)2로부터 선택된 1, 2, 3, 4 또는 5개의 동일하거나 상이한 라디칼에 의해 치환된다. 특히 R5 및/또는 R6은 페닐-C1-C2알킬이고, 여기서 페닐알킬의 페닐 모이어티는 비치환되거나 또는 플루오린, 염소, C1-C4알킬, C1-C4알콕시, (C1-C4알콕시)카르보닐, C(O)O-(C1-C4알킬-OH) 및 C(O)N(C1-C8알킬)2로부터 선택된 1 또는 2개의 동일하거나 상이한 라디칼에 의해 치환된다.
R5 및/또는 R6에 대한 예는, 페닐알킬의 페닐 모이어티가 1 또는 2개의 염소에 의해 치환된 페닐-C1-C4알킬, 특히 2-클로로벤질, 3-클로로벤질, 4-클로로벤질, 2,4-디클로로벤질, 3,4-디클로로벤질, 3,5-디클로로벤질, 2-(2-클로로페닐)에틸, 2-(3-클로로페닐)에틸, 2-(4-클로로페닐)에틸, 2-(2,4-디클로로페닐)에틸, 2-(3,5-디클로로페닐)에틸 또는 2-(3,4-디클로로페닐)에틸; 페닐알킬의 페닐 모이어티가 히드록시에 의해 치환된 페닐-C1-C4알킬, 특히 2-히드록시벤질, 3-히드록시벤질, 4-히드록시벤질, 2-(2-히드록시페닐)에틸, 2-(3-히드록시페닐)에틸 또는 2-(4-히드록시페닐); 페닐알킬의 페닐 모이어티가 1 또는 2개의 C1-C10-알킬 기에 의해 치환된 페닐-C1-C4알킬, 특히 2-, 3- 또는 4-메틸벤질, 2-, 3-, 4-에틸벤질, 2-, 3- 또는 4-프로필벤질, 2-, 3- 또는 4-부틸벤질, 2,4-디메틸벤질 또는 3,5-디메틸벤질; 페닐알킬의 페닐 모이어티가 1 또는 2개의 C1-C4-알콕시 기에 의해 치환된 페닐-C1-C4알킬, 특히 2-, 3- 또는 4-메톡시벤질, 2-, 3-, 4-에톡시벤질, 2-, 3- 또는 4-프로폭시벤질, 2-, 3- 또는 4-부톡시벤질, 2,4-디메톡시벤질 또는 3,5-디메톡시벤질; 페닐알킬의 페닐 모이어티가 C1-C4-알콕시카르보닐에 의해 치환된 페닐-C1-C4알킬, 특히 2-에톡시카르보닐벤질, 3-에톡시카르보닐벤질, 4-에톡시카르보닐벤질, 2-(2-에톡시카르보닐페닐)에틸, 2-(3-에톡시카르보닐페닐)에틸 또는 4-(3-에톡시카르보닐페닐)에틸; 페닐알킬의 페닐 모이어티가 히드록시-C1-C4-알콕시카르보닐에 의해 치환된 페닐-C1-C4-알킬, 특히 4-(2-히드록시에톡시카르보닐)벤질, 2-(4-(2-히드록시에톡시카르보닐페닐)에틸; 페닐알킬의 페닐 모이어티가 C(=O)N(C1-C8-알킬)2에 의해 치환된 페닐-C1-C4알킬, 특히 4-디메틸카르바모일벤질, 4-디에틸카르바모일벤질, 4-디이소프로필카르바모일벤질, 2-(4-디메틸카르바모일페닐)에틸, 2-(4-디에틸카르바모일페닐)에틸 또는 2-(4-디이소프로필카르바모일페닐)에틸이다.
마찬가지로, 그 중에서도 R5 및/또는 R6이, 비치환되거나 또는 F, Cl, Br, I, OR20, COR21, COOR22, CONR23R24, C2-C9헤테로시클릴, C3-C8시클로알킬, 페닐 및 나프틸 (여기서, 마지막에 언급된 2개의 라디칼은 F, Cl, Br, I, NO2, C1-C12-알킬, OR20, COOR22 및 CONR23R24로부터 선택된 1, 2, 3, 4 또는 5개의 상이하거나 동일한 라디칼에 의해 치환될 수 있음)로부터 선택된 1, 2 또는 3개의 동일하거나 상이한 라디칼 R2b를 갖는 C3-C12-시클로알킬인 화학식 Ia의 화합물이 바람직하다. R20, R22, R23 및 R24는 상기 정의된 바와 같고, 바람직하게는 바람직한 의미 중 하나를 갖는다. 특정한 바람직한 실시양태에서, R5 및/또는 R6은 C3-C8시클로알킬, 예컨대 시클로프로필, 시클로부틸, 시클로펜틸, 시클로헥실 또는 시클로헵틸이다. 마찬가지로, 특정한 바람직한 실시양태에서, R5 및/또는 R6은 F, Cl, Br, I, C1-C8-알킬, OR20, COOR22 및 CONR23R24로부터 선택된 1, 2 또는 3개의 동일하거나 상이한 라디칼에 의해 치환된 C3-C8시클로알킬이고, 여기서 R20, R22, R23 및 R24는 상기 정의된 바와 같다.
마찬가지로, 그 중에서도 R5 및/또는 R6이, 비치환되거나 또는 F, Cl, Br, I, C1-C10-알킬, SR19 및 OR20으로부터 선택된 1, 2, 3, 4 또는 5개의 동일하거나 상이한 라디칼 R2c를 갖는 페닐인 화학식 I의 화합물이 바람직하다. R19 및 R20은 상기 정의된 바와 같고, 바람직하게는 바람직한 의미 중 하나를 갖는다. 보다 바람직하게는, R5 및/또는 R6은, 비치환되거나 또는 F, Cl, Br, I, OH, NO2, C1-C10알킬, C1-C4알콕시, C2-C9헤테로시클릴-C1-C4알콕시, C1-C4플루오로알카노일옥시, 히드록시-C1-C4알콕시카르보닐, C1-C4알콕시카르보닐, C1-C4알콕시-C1-C4알콕시카르보닐, 벤질옥시카르보닐 및 C(=O)N(C1-C8-알킬)2로 이루어진 군으로부터 선택된 1, 2, 3, 4 또는 5개의 동일하거나 상이한 라디칼에 의해 치환된 페닐이다. 특히 R5 및/또는 R6은, 비치환되거나 또는 플루오린, 염소, 히드록시, 니트로, C1-C10알킬, C1-C4알콕시, C1-C4플루오로알킬카르보닐옥시 및 (헤테로시클릴)-C1-C4알콕시로부터 선택된 1 또는 2개의 동일하거나 상이한 라디칼에 의해 치환된 페닐이고, 여기서 헤테로시클릴 모이어티는 탄소 원자 이외에 O 또는 S로부터 선택된 1 또는 2개의 헤테로원자를 포함하는 5- 내지 6-원 포화 헤테로시클릭 고리이다.
이러한 실시양태에서, R5 및/또는 R6에 대한 예는 페닐; 1, 2, 3 또는 4개의 C1-C10 알킬 기에 의해 치환된 페닐, 특히 2-메틸페닐, 3-메틸페닐, 4-메틸페닐, 2-에틸페닐, 3-에틸페닐, 4-에틸페닐, 2-, 3-, 4-n-프로필페닐, 2-, 3-, 4-이소프로필페닐, 2-, 3-, 4-부틸페닐, 2-(1,1,3,3-테트라메틸부틸)페닐, 3-(1,1,3,3-테트라메틸부틸)페닐, 4-(1,1,3,3-테트라메틸부틸)페닐, 2,4-디메틸페닐, 3,5-디메틸페닐, 3,5-디이소프로필페닐; OH에 의해 치환된 페닐, 특히 2-히드록시페닐, 3-히드록시페닐 및 4-히드록시페닐; OH 및 C1-C10 알킬로부터 선택된 1, 2, 3 또는 4개의 기에 의해 치환된 페닐, 특히 2-히드록시-5-(1,1,3,3-테트라메틸부틸)페닐, 3,5-디이소프로필-4-히드록시페닐, 5-tert-부틸-4-히드록시-2-메틸페닐 또는 3,5-디-tert-부틸-4-히드록시페닐; C2-C9헤테로시클릴-C1-C4-알콕시에 의해 치환된 페닐, 특히 2-(테트라히드로푸란-2-일메톡시)페닐, 3-(테트라히드로푸란-2-일메톡시)페닐, 4-(테트라히드로푸란-2-일메톡시)페닐, 2-(테트라히드로푸란-3-일메톡시)페닐, 3-(테트라히드로푸란-3-일메톡시)페닐, 4-(테트라히드로푸란-3-일메톡시)페닐, 2-(테트라히드로티오펜-2-일메톡시)페닐, 3-(테트라히드로티오펜-2-일메톡시)페닐, 4-(테트라히드로티오펜-2-일메톡시)페닐, 2-(테트라히드로티오펜-3-일메톡시)페닐, 3-(테트라히드로티오펜-3-일메톡시)페닐 또는 4-(테트라히드로티오펜-3-일메톡시)페닐; C1-C4플루오로알카노일옥시에 의해 치환된 페닐, 특히 2,2,2-트리플루오로아세톡시페닐 또는 3,3,3-트리플루오로프로피오닐옥시페닐이다.
라디칼 R5 및 R6에 대한 예는 벤질, 4-메톡시벤질, 4-메틸벤질, 4-에톡시카르보닐벤질, 4-클로로벤질, 2,4-디클로로벤질, 3,4-디클로로벤질, 4-니트로벤질, 4-디이소프로필카르바모일벤질, 4-(2-히드록시에톡시카르보닐)벤질, 4-(2-메톡시-1-메틸에톡시카르보닐)벤질, 4-에톡시카르보닐벤질, 4-벤질옥시카르보닐벤질, 3-메톡시벤질, 3-메틸벤질, 3-클로로벤질, 2-메틸벤질, 2-클로로벤질, 1-나프틸메틸, 2-나프틸메틸, 2-메톡시카르보닐에틸, 2-페녹시에틸, 2-옥소-1,2-디페닐에틸, 2-옥소-2-페닐에틸, 2-벤질옥시카르보닐-에틸, 2-벤질옥시카르보닐프로필, 메틸, 에틸, n-부틸, 1-페닐에틸, 2-페닐에틸, 3-메톡시부톡시카르보닐메틸, 테트라히드로푸란-2-일메틸, 테트라히드로티오펜-2-일메틸, 에톡시카르보닐메틸, 2-히드록시-5-(1,1,3,3-테트라메틸부틸)페닐, 4-히드록시페닐, 4-메틸페닐, 4-이소프로폭시페닐, 4-(테트라히드로푸란-2-일메톡시)페닐, 2,2,2-트리플루오로아세톡시페닐, 3,5-디이소프로필-4-히드록시-페닐, 3,5-디-tert-부틸-4-히드록시페닐, 3-메틸-4-히드록시페닐, 2-메틸-4-히드록시페닐, 5-tert-부틸-4-히드록시-2-메틸페닐, 4-(테트라히드로푸란-2-일메톡시)페닐, 4-(테트라히드로푸란-3-일메톡시)페닐, 4-(테트라히드로티오펜-2-일메톡시)페닐 또는 4-(테트라히드로티오펜-3-일메톡시)페닐이다.
R5에 대한 구체적 예는 C1-C8알킬, 예컨대 메틸, n-부틸, n-옥틸; C1-C4알콕시-C1-C4알킬, 예컨대 에톡시카르보닐메틸, 메톡시카르보닐에틸, 메톡시카르보닐메틸; C1-C4알콕시-C1-C4알콕시-C(=O)-C1-C6알킬, 예컨대 3-메톡시부톡시카르보닐메틸; (5- 또는 6-원 헤테로시클로알킬)-C1-C4알킬, 예컨대 테트라히드로푸란-2-일메틸; 나프탈렌-C1-C4알킬, 예컨대 나프탈렌-1-일-메틸; 페닐-C1-C4알킬, 예컨대 벤질, 1-페닐에틸, 페네틸; 알킬 모이어티가 벤조일에 의해 치환된 페닐-C1-C4알킬, 예컨대 2-옥소-1,2-디페닐에틸; 페닐 모이어티가 니트로, 염소, 히드록시, C1-C10알킬, C1-C4알콕시, C1-C4알콕시카르보닐, C1-C4알콕시-C1-C4알콕시카르보닐, 히드록시-C1-C4알콕시카르보닐, 벤질옥시카르보닐, C(=O)N(C1-C8알킬)2로부터 선택된 1, 2, 3, 4 또는 5개의 라디칼에 의해 치환된 페닐-C1-C4알킬, 예컨대 2-클로로벤질, 2-메틸벤질, 3-메틸벤질, 3,4-디클로로벤질, 3,5-디클로로벤질, 3-히드록시벤질, 3-메톡시벤질, 3-메톡시벤질, 4-메틸벤질, 4-니트로벤질, 4-(디이소프로필아미노카르보닐)벤질, 2-메톡시-1-메틸-에톡시카르보닐벤질, 4-(2-에톡시카르보닐)벤질, 4-(2-히드록시에톡시카르보닐)벤질, 4-(2-메톡시-1-메틸-에톡시카르보닐)벤질, 4-벤질옥시카르보닐벤질, 4-클로로벤질; 벤조일-C1-C4알킬, 예컨대 2-옥소-2-페닐에틸; 페녹시-C1-C4알킬, 예컨대 2-페녹시에틸, 벤질옥시카르보닐-C1-C4-알킬, 예컨대 2-벤질옥시카르보닐프로필; 페닐; OH 및 C1-C10알킬로부터 선택된 1, 2, 3, 4 또는 5개의 라디칼에 의해 치환된 페닐, 예컨대 4-히드록시페닐, 4-이소프로폭시페닐, 4-히드록시-2-메틸-5-tert-부틸-페닐, 4-히드록시-3-메틸-페닐, 또는 2-히드록시-5(1,1,3,3-테트라메틸부틸)-페닐이다.
R6에 대한 구체적 예는 C1-C8알킬, 예컨대 메틸, n-부틸, n-옥틸; C1-C4알콕시-C1-C6알킬, 예컨대 메톡시카르보닐에틸; 벤질옥시카르보닐-C1-C4-알킬, 예컨대 2-벤질옥시카르보닐프로필; 페닐; OH, C1-C4플루오로알카노일옥시, (5- 또는 6-원 헤테로시클로알킬)-C1-C4알콕시, C1-C6알콕시 및 C1-C10알킬로부터 선택된 1, 2, 3, 4 또는 5개의 라디칼에 의해 치환된 페닐, 예컨대 2-히드록시-5(1,1,3,3-테트라메틸부틸)-페닐, 4-(2,2,2-트리플루오로아세톡시)페닐, 3,5-디이소프로필-4-히드록시페닐, 3-메톡시페닐, 4-(테트라히드로푸란-2-일메톡시)페닐, 4-히드록시페닐, 4-히드록시-2-메틸-5-tert-부틸-페닐, 4-히드록시-2-메틸-페닐, 4-히드록시-3-메틸-페닐, 4-히드록시페닐, 4-이소프로폭시페닐; 페닐-C1-C4알킬, 예컨대 벤질; 페닐 모이어티가 C1-C4알킬로부터 선택된 1, 2, 3, 4 또는 5개의 라디칼에 의해 치환된 페닐-C1-C4알킬, 예컨대 4-메틸벤질이다.
R5 및 R6이 동일한 것인 화학식 I의 화합물이 바람직하다.
마찬가지로, R5가 R6과 상이한 것인 화학식 I의 화합물이 바람직하다.
마찬가지로, 그 중에서도 R4 및 R5 또는 R5 및 R6 또는 R4 및 R6이 함께 직쇄 C4-C5 알킬렌 쇄를 형성하고, 따라서 이들이 결합되어 있는 황 원자와 함께, 1개의 페닐 고리에 융합될 수 있는 5- 또는 6-원 포화 고리를 형성하는 것인 화학식 I의 화합물이 바람직하다. 특히, R4 및 R5는 이들이 결합되어 있는 황 원자와 함께 테트라히드로티오펜-1-일 또는 1,3-디히드로벤조[c]티오펜-2-일 라디칼을 형성한다.
화학식 I의 화합물의 의도된 용도에 대해, 치환기 R4, R5 및 R6은 서로 독립적으로 및 바람직하게는 조합되어 하기 의미를 갖는다:
R4는, 상기 정의된 바와 같은 화학식 A의 기 (여기서, R25 및 R26은 각각 서로 독립적으로 수소, C1-C12알킬 및 페닐로부터 선택되고; R27, R28, R29, R30 및 R31은 각각 서로 독립적으로 수소, F, Cl, Br, I, NO2, OR20, COOR22, CONR23R24, C2-C12알케닐 및 페닐로부터 선택되거나, 또는 인접 탄소 원자 상에 결합된 2개의 라디칼 R27 및 R28 및/또는 R28 및 R29 및/또는 R29 및 R30 및/또는 R30 및 R31은 함께 CH2CH2CH2-, -CH2CH2CH2CH2- 및 -CH=CH-CH=CH-로부터 선택된 기일 수 있고, 따라서 이들이 결합되어 있는 탄소 원자와 함께 5- 또는 6-원 고리를 형성할 수 있음);
상기 정의된 바와 같은 화학식 B의 기 (여기서, R33 및 R34는 각각 서로 독립적으로 수소, C1-C12알킬 및 페닐로부터 선택되고; R35, R36 및 R37은 서로 독립적으로 수소, F, Cl, C1-C12알킬, C2-C12알케닐 및 페닐로부터 선택됨); F, Cl, Br, I, C1-C12알킬, OR20, COR21, COOR22 및 CONR23R24로부터 선택된 1개 이상의 라디칼에 의해 치환될 수 있는 C3-C12시클로알킬; F, Cl, Br, I, OR20, COR21, COOR22, CONR23R24, C3-C12시클로알킬 및 C2-C9헤테로시클릴로부터 선택된 1개 이상의 라디칼에 의해 치환될 수 있는 C1-C12-알킬로부터 선택된다.
R7 및 R8은 서로 독립적으로, 비치환되거나 또는 F, Cl, Br, I, OR20, COR21, COOR22, CONR23R24, 헤테로시클로알킬, C3-C8시클로알킬, 페닐 및 나프틸 (여기서, 마지막에 언급된 2개의 라디칼은 비치환되거나 또는 F, Cl, Br, I, NO2, C1-C12알킬, OR20, COOR22 및 CONR23R24로부터 선택된 1, 2, 3, 4 또는 5개의 라디칼에 의해 치환됨)로부터 선택된 1개 이상의 라디칼에 의해 치환된 C1-C12알킬;
비치환되거나 또는 F, Cl, Br, I, OR20, COR21, COOR22, CONR23R24, C2-C9헤테로시클릴, C3-C8시클로알킬, 페닐 및 나프틸 (여기서, 마지막에 언급된 2개의 라디칼은 비치환되거나 또는 F, Cl, Br, I, NO2, C1-C12-알킬, OR20, COOR22 및 CONR23R24로부터 선택된 1, 2, 3, 4 또는 5개의 라디칼에 의해 치환됨)로부터 선택된 1개 이상의 라디칼에 의해 치환된 C3-C12시클로알킬; 및
비치환되거나 또는 F, Cl, Br, I, C1-C10-알킬, SR19 및 OR20으로부터 선택된 1, 2, 3, 4 또는 5개의 라디칼에 의해 치환된 페닐
로부터 선택된다.
보다 바람직하게는, 화학식 Ia의 화합물의 의도된 용도에 대해, 치환기 R1, R2, R3 및 R4는 조합되어 하기 의미를 갖는다:
R4는 상기 정의된 바와 같은 화학식 A의 기; 상기 정의된 바와 같은 화학식 B의 기; C3-C8시클로알킬; C1-C6알킬; C1-C4알콕시-(CO)-C1-C4알킬; (5- 또는 6-원 포화 헤테로시클로알킬)-C1-C4알킬; 또는 페녹시-C1-C4알킬이고;
R5는 C1-C8알킬; C1-C4알콕시-C1-C4알킬; C1-C4알콕시-C1-C4알콕시-C(=O)-C1-C6알킬; (5- 또는 6-원 헤테로시클로알킬)-C1-C4알킬; 나프탈렌-C1-C4알킬, 페닐-C1-C4알킬; 페닐-C1-C4알킬; 페닐 모이어티가 니트로, 염소, 히드록시, C1-C10알킬, C1-C4알콕시, C1-C4알콕시카르보닐, C1-C4알콕시-C1-C4알콕시카르보닐, 히드록시-C1-C4알콕시카르보닐, 벤질옥시카르보닐 및 C(=O)N(C1-C8알킬)2로부터 선택된 1, 2, 3, 4 또는 5개의 라디칼에 의해 치환된 페닐-C1-C4알킬; 벤조일-C1-C4알킬; 페녹시-C1-C4알킬; 벤질옥시카르보닐-C1-C4알킬; 페닐; OH 및 C1-C10알킬로부터 선택된 1, 2, 3, 4 또는 5개의 라디칼에 의해 치환된 페닐이고;
R6은 C1-C8알킬; C1-C4알콕시-C1-C6알킬; 벤질옥시카르보닐-C1-C4알킬; 페닐; OH, C1-C4-플루오로알카노일옥시, (5- 또는 6-원 헤테로시클로알킬)-C1-C4알콕시, C1-C6알콕시 및 C1-C10알킬로부터 선택된 1, 2, 3, 4 또는 5개의 라디칼에 의해 치환된 페닐; 페닐-C1-C4알킬; 페닐 모이어티가 C1-C4알킬, 예컨대 4-메틸벤질로부터 선택된 1, 2, 3, 4 또는 5개의 라디칼에 의해 치환된 페닐-C1-C4알킬이다.
추가의 바람직한 실시양태는 R4가 화학식 A의 기 또는 화학식 B의 기이고, 여기서 화학식 A의 기 및 화학식 B의 기는 상기 정의된 바와 같고, 바람직하게는 바람직한 의미 중 하나를 갖고;
R5가 C1-C8알킬; C1-C4알콕시-C1-C4알킬; C1-C4알콕시-C1-C4알콕시-C(=O)-C1-C6알킬; (5- 또는 6-원 헤테로시클로알킬)-C1-C4알킬; 나프탈렌-C1-C4-알킬, 페닐-C1-C4알킬; 페닐 모이어티가 니트로, 염소, 히드록시, C1-C10알킬, C1-C4알콕시, C1-C4알콕시카르보닐, C1-C4알콕시-C1-C4알콕시카르보닐, 히드록시-C1-C4알콕시카르보닐, 벤질옥시카르보닐 및 C(=O)N(C1-C8알킬)2로부터 선택된 1, 2, 3, 4 또는 5개의 라디칼에 의해 치환된 페닐-C1-C4알킬; 벤조일-C1-C4알킬; 페녹시-C1-C4알킬; 벤질옥시카르보닐-C1-C4알킬; 페닐; OH 및 C1-C10알킬로부터 선택된 1, 2, 3, 4 또는 5개의 라디칼에 의해 치환된 페닐이고;
R6이 C1-C8알킬; C1-C4알콕시-C1-C6알킬; 벤질옥시카르보닐-C1-C4알킬; 페닐; OH, C1-C4 플루오로알카노일옥시, (5- 또는 6-원 헤테로시클로알킬)-C1-C4알콕시, C1-C6 알콕시 및 C1-C10알킬로부터 선택된 1, 2, 3, 4 또는 5개의 라디칼에 의해 치환된 페닐; 페닐-C1-C4알킬; 페닐 모이어티가 C1-C4알킬로부터 선택된 1, 2, 3, 4 또는 5개의 라디칼에 의해 치환된 페닐-C1-C4알킬, 예컨대 4-메틸벤질인
화학식 I의 화합물에 관한 것이다.
특정한 바람직한 실시양태는
R4가 벤질, C1-C4알킬, C5-C8시클로알킬, 3-메틸부트-2-에닐 또는 테트라히드로푸란-2-일메틸이고;
R5가 벤질이고;
R6이 벤질인
화학식 I의 화합물에 관한 것이다.
하기 실시예에 나타낸 바와 같은 화합물이 특히 바람직하다.
본 발명의 추가의 바람직한 실시양태는 화학식 Ia의 하나 이상의 화합물을 포함하는 열-경화성 조성물에 관한 것이다. 화학식 Ia의 화합물에서, R7, R8, R9 및 R10은 동일하거나 상이할 수 있다. 바람직하게는, R7 및 R9가 동일하고 R8 및 R10이 동일하다.
R7, R8, R9 및 R10이 서로 독립적으로 C1-C12알킬; 1개 이상의 동일하거나 상이한 라디칼 R2a (여기서, R2a는 상기 정의된 바와 같음)에 의해 치환된 C1-C12알킬; C3-C12시클로알킬; 1개 이상의 동일하거나 상이한 라디칼 R2b (여기서, R2b는 상기 정의된 바와 같음)에 의해 치환된 C3-C12시클로알킬; 페닐; 및 1, 2, 3, 4 또는 5개의 라디칼 R2c (여기서, R2c는 상기 정의된 바와 같음)에 의해 치환된 페닐로부터 선택된 것인 화학식 Ia의 화합물이 바람직하다.
그 중에서, R7 및/또는 R8 및/또는 R9 및/또는 R10이, 비치환되거나 또는 부분 또는 완전 할로겐화되고/거나 OR20, COR21, COOR22, CONR23R24, C2-C9헤테로시클릴, C3-C8시클로알킬, 페닐 및 나프틸 (여기서, 마지막에 언급된 2개의 라디칼은 비치환되거나 또는 C1-C12-알킬, F, Cl, Br, I, NO2, OR20, COOR22 및 CONR23R24로부터 선택된 1, 2, 3, 4 또는 5개의 동일하거나 상이한 라디칼에 의해 치환됨)로부터 선택된 1, 2 또는 3개의 동일하거나 상이한 라디칼 R2a를 갖는 C1-C12알킬인 화학식 Ia의 화합물이 바람직하다. R20, R22, R23 및 R24는 상기 정의된 바와 같고, 바람직하게는 바람직한 의미 중 하나를 갖는다. 그 예는 C1-C6알킬, 예컨대 메틸, 에틸, n-프로필, 이소프로필, n-부틸, sec-부틸, tert-부틸, n-펜틸 또는 헥실, 특히 메틸, 에틸, n-프로필 또는 n-부틸이다.
마찬가지로, 특히 바람직한 실시양태에서 R7 및/또는 R8 및/또는 R9 및/또는 R10은 C1-C6플루오로알킬; C1-C6클로로알킬; C1-C4알콕시-C1-C6알킬; 페녹시-C1-C6알킬; 벤조일-C1-C6알킬; 페닐알킬의 알킬 모이어티가 벤조일에 의해 치환된 페닐-C1-C6알킬; C1-C4알콕시카르보닐-C1-C6알킬; C1-C4알콕시-C1-C4알콕시카르보닐-C1-C6알킬; C3-C8시클로알킬-C1-C6알킬; 나프틸-C1-C6알킬; 헤테로시클릴이 탄소 원자 이외에 O 및 S로부터 선택된 1 또는 2개의 헤테로원자를 포함하는 5- 내지 6-원 포화 헤테로시클릭 고리인 헤테로시클릴-C1-C6알킬; 페닐알킬의 페닐 모이어티가 비치환되거나 또는 F, Cl, Br, I, OH, NO2, C1-C10알킬, C1-C4알콕시, C2-C9헤테로시클릴-C1-C4알콕시, C1-C4플루오로알카노일옥시, 히드록시-C1-C4알콕시카르보닐, C1-C4알콕시카르보닐, C1-C4알콕시-C1-C4알콕시카르보닐, 벤질옥시카르보닐 및 C(=O)N(C1-C8-알킬)2로부터 선택된 1, 2, 3, 4 또는 5개의 동일하거나 상이한 라디칼에 의해 치환된 페닐-C1-C6알킬이다. 그 예는 C1-C4플루오로알킬; C1-C4클로로알킬; C1-C4알콕시-C1-C8알킬, 예컨대 2-메톡시-에틸 또는 3-메톡시프로필; 페녹시-C1-C4알킬, 예컨대 페녹시메틸, 2-페녹시에틸 또는 3-페녹시프로필; 벤조일-C1-C4알킬, 예컨대 2-옥소-2-페닐에틸, 3-옥소-3-페닐프로필 또는 4-옥소-4-페닐부틸; 페닐알킬의 알킬 모이어티가 벤조일에 의해 치환된 페닐-C1-C4알킬, 예컨대 2-옥소-1,2-디페닐에틸, 3-옥소-1,3-디페닐프로필 또는 4-옥소-1,4-디페닐부틸; C1-C4알콕시카르보닐-C1-C4알킬, 예컨대 메톡시카르보닐메틸, 에톡시카르보닐메틸, 2-메톡시카르보닐에틸, 2-에톡시카르보닐에틸, 3-메톡시카르보닐프로필, 3-에톡시카르보닐프로필, 4-메톡시카르보닐부틸 또는 4-에톡시카르보닐부틸; C1-C4알콕시-C1-C4알콕시카르보닐-C1-C4알킬, 예컨대 3-메톡시부톡시카르보닐메틸, 3-메톡시부톡시카르보닐에틸, 3-에톡시부톡시카르보닐메틸 또는 3-에톡시부톡시카르보닐에틸; C3-C8시클로알킬-C1-C6알킬, 예컨대 시클로헥실메틸, 2-시클로헥실에틸, 시클로펜틸메틸 또는 2-시클로펜틸에틸; 나프틸-C1-C4알킬, 예컨대 1-나프틸메틸, 2-나프틸메틸, 1-(나프탈렌-1-일)에틸, 1-(나프탈렌-2-일)에틸, 2-(나프탈렌-1-일)에틸 또는 2-(나프탈렌-2-일)에틸; C2-C9헤테로시클릴-C1-C4알킬, 예컨대 테트라히드로푸란-2-일메틸, 테트라히드로푸란-3-일메틸, 2-(테트라히드로푸란-2-일)에틸, 2-(테트라히드로푸란-3-일)에틸, 3-(테트라히드로푸란-2-일)프로필, 3-(테트라히드로푸란-3-일)프로필, 테트라히드로티오펜-2-일메틸, 테트라히드로티오펜-3-일메틸, 2-(테트라히드로티오펜-2-일)에틸, 2-(테트라히드로티오펜-3-일)에틸, 3-(테트라히드로티오펜-2-일)프로필 또는 3-(테트라히드로티오펜-3-일)프로필; 페닐알킬의 페닐 모이어티가 비치환되거나 또는 플루오린, 염소, C1-C4알킬, C1-C4알콕시, (C1-C4알콕시)카르보닐, C(O)O-(C1-C4알킬-OH) 및 C(O)N(C1-C8알킬)2로부터 선택된 1 또는 2개의 동일하거나 상이한 라디칼에 의해 치환된 페닐-C1-C2알킬; 페닐알킬의 페닐 모이어티가 1 또는 2개의 염소에 의해 치환된 페닐-C1-C4알킬, 예컨대 2-클로로벤질, 3-클로로벤질, 4-클로로벤질, 2,4-디클로로벤질, 3,4-디클로로벤질, 3,5-디클로로벤질, 2-(2-클로로페닐)에틸, 2-(3-클로로페닐)에틸, 2-(4-클로로페닐)에틸, 2-(2,4-디클로로페닐)에틸, 2-(3,5-디클로로페닐)에틸 또는 2-(3,4-디클로로페닐)에틸; 페닐알킬의 페닐 모이어티가 히드록시에 의해 치환된 페닐-C1-C4알킬, 예컨대 2-히드록시벤질, 3-히드록시벤질, 4-히드록시벤질, 2-(2-히드록시페닐)에틸, 2-(3-히드록시페닐)에틸 또는 2-(4-히드록시페닐); 페닐알킬의 페닐 모이어티가 1 또는 2개의 C1-C10알킬 기에 의해 치환된 페닐-C1-C4알킬, 예컨대 2-, 3- 또는 4-메틸벤질, 2-, 3-, 4-에틸벤질, 2-, 3- 또는 4-프로필벤질, 2-, 3- 또는 4-부틸벤질, 2,4-디메틸벤질 또는 3,5-디메틸벤질; 페닐알킬의 페닐 모이어티가 1 또는 2개의 C1-C4알콕시 기에 의해 치환된 페닐-C1-C4알킬, 예컨대 2-, 3- 또는 4-메톡시벤질, 2-, 3-, 4-에톡시벤질, 2-, 3- 또는 4-프로폭시벤질, 2-, 3- 또는 4-부톡시벤질, 2,4-디메톡시벤질 또는 3,5-디메톡시벤질; 페닐알킬의 페닐 모이어티가 C1-C4알콕시카르보닐에 의해 치환된 페닐-C1-C4-알킬, 예컨대 2-에톡시카르보닐벤질, 3-에톡시카르보닐벤질, 4-에톡시카르보닐벤질, 2-(2-에톡시카르보닐페닐)에틸, 2-(3-에톡시카르보닐페닐)에틸 또는 4-(3-에톡시카르보닐페닐)에틸; 페닐알킬의 페닐 모이어티가 히드록시-C1-C4알콕시카르보닐에 의해 치환된 페닐-C1-C4알킬, 예컨대 4-(2-히드록시에톡시카르보닐)벤질, 2-(4-(2-히드록시에톡시카르보닐페닐)에틸; 페닐알킬의 페닐 모이어티가 C(=O)N(C1-C8-알킬)2에 의해 치환된 페닐-C1-C4-알킬, 예컨대 4-디메틸카르바모일벤질, 4-디에틸카르바모일벤질, 4-디이소프로필카르바모일벤질, 2-(4-디메틸카르바모일페닐)에틸, 2-(4-디에틸카르바모일페닐)에틸 또는 2-(4-디이소프로필카르바모일페닐)에틸이다.
마찬가지로, 그 중에서도 R7 및/또는 R8 및/또는 R9 및/또는 R10이, 비치환되거나 또는 F, Cl, Br, I, OR20, COR21, COOR22, CONR23R24, C2-C9헤테로시클릴, C3-C8시클로알킬, 페닐 및 나프틸 (여기서, 마지막에 언급된 2개의 라디칼은 F, Cl, Br, I, NO2, C1-C12-알킬, OR20, COOR22 및 CONR23R24로부터 선택된 1, 2, 3, 4 또는 5개의 상이하거나 동일한 라디칼에 의해 치환될 수 있음)로부터 선택된 1, 2 또는 3개의 동일하거나 상이한 라디칼 R2b를 갖는 C3-C12시클로알킬인 화학식 Ia의 화합물이 바람직하다. R20, R22, R23 및 R24는 상기 정의된 바와 같고, 바람직하게는 바람직한 의미 중 하나를 갖는다. 그 예는 C3-C8시클로알킬, 예컨대 시클로프로필, 시클로부틸, 시클로펜틸, 시클로헥실 또는 시클로헵틸; F, Cl, Br, I, C1-C8-알킬, OR20, COOR22 및 CONR23R24로부터 선택된 1, 2 또는 3개의 동일하거나 상이한 라디칼에 의해 치환된 C3-C8시클로알킬이고, 여기서 R20, R22, R23 및 R24는 상기 정의된 바와 같다.
마찬가지로, 그 중에서도 R7 및/또는 R8 및/또는 R9 및/또는 R10이, 비치환되거나 또는 F, Cl, Br, I, C1-C10-알킬, SR19 및 OR20으로부터 선택된 1, 2, 3, 4 또는 5개의 동일하거나 상이한 라디칼 R2c를 갖는 페닐인 화학식 Ia의 화합물이 바람직하다. R19 및 R20은 상기 정의된 바와 같고, 바람직하게는 바람직한 의미 중 하나를 갖는다.
보다 바람직하게는, R7 및/또는 R8 및/또는 R9 및/또는 R10은, 비치환되거나 또는 F, Cl, Br, I, OH, NO2, C1-C10알킬, C1-C4알콕시, C2-C9헤테로시클릴-C1-C4알콕시, C1-C4플루오로알카노일옥시, 히드록시-C1-C4알콕시카르보닐, C1-C4알콕시카르보닐, C1-C4알콕시-C1-C4알콕시카르보닐, 벤질옥시카르보닐 및 C(=O)N(C1-C8-알킬)2로 이루어진 군으로부터 선택된 1, 2, 3, 4 또는 5개의 동일하거나 상이한 라디칼에 의해 치환된 페닐이다. 그 예는 비치환되거나 또는 플루오린, 염소, 히드록시, 니트로, C1-C10알킬, C1-C4알콕시, C1-C4플루오르알킬카르보닐옥시 및 (헤테로시클릴)-C1-C4알콕시로부터 선택된 1 또는 2개의 동일하거나 상이한 라디칼에 의해 치환된 페닐이고, 여기서 헤테로시클릴 모이어티는 탄소 원자 이외에 O 또는 S로부터 선택된 1 또는 2개의 헤테로원자를 포함하는 5- 내지 6-원 포화 헤테로시클릭 고리이다. 그 예는 1, 2, 3 또는 4개의 C1-C10알킬 기에 의해 치환된 페닐, 예컨대 2-메틸페닐, 3-메틸페닐, 4-메틸페닐, 2-에틸페닐, 3-에틸페닐, 4-에틸페닐, 2-, 3-, 4-n-프로필페닐, 2-, 3-, 4-이소프로필페닐, 2-, 3-, 4-부틸페닐, 2-(1,1,3,3-테트라메틸부틸)페닐, 3-(1,1,3,3-테트라메틸부틸)페닐, 4-(1,1,3,3-테트라메틸부틸)페닐, 2,4-디메틸페닐, 3,5-디메틸페닐 또는 3,5-디이소프로필페닐; OH에 의해 치환된 페닐, 예컨대 2,5-히드록시페닐, 3-히드록시페닐 또는 4-히드록시페닐; OH 및 C1-C10알킬로부터 선택된 1, 2, 3 또는 4개의 기에 의해 치환된 페닐, 예컨대 2-히드록시-5-(1,1,3,3-테트라메틸부틸)페닐, 3,5-디이소프로필-4-히드록시페닐, 5-tert-부틸-4-히드록시-2-메틸페닐 및 3,5-디-tert-부틸-4-히드록시페닐; C2-C9헤테로시클릴-C1-C2알콕시에 의해 치환된 페닐, 예컨대 2-(테트라히드로푸란-2-일메톡시)페닐, 3-(테트라히드로푸란-2-일메톡시)페닐, 4-(테트라히드로푸란-2-일메톡시)페닐, 2-(테트라히드로푸란-3-일메톡시)페닐, 3-(테트라히드로푸란-3-일메톡시)페닐, 4-(테트라히드로푸란-3-일메톡시)페닐, 2-(테트라히드로티오펜-2-일메톡시)페닐, 3-(테트라히드로티오펜-2-일메톡시)페닐, 4-(테트라히드로티오펜-2-일메톡시)페닐, 2-(테트라히드로티오펜-3-일메톡시)페닐, 3-(테트라히드로티오펜-3-일메톡시)페닐 또는 4-(테트라히드로티오펜-3-일메톡시)페닐; C1-C4-플루오로알카노일옥시에 의해 치환된 페닐, 예컨대 2,2,2-트리플루오로아세톡시페닐 또는 3,3,3-트리플루오로프로피오닐옥시페닐이다.
특히 R7, R8, R9 및 R10은 서로 독립적으로 C1-C4알킬, 페닐, 및 OH 및 C1-C4-알킬로부터 선택된 1개 이상의 라디칼에 의해 치환된 페닐, 특히 메틸, 에틸, n-부틸, 페닐 및 4-히드록시페닐로부터 선택된다.
또한, 화학식 Ia에서 M이
- 1개 이상의 동일하거나 상이한 라디칼 RMa에 의해 치환될 수 있고/거나 1개 이상의 비-인접 기 RMi가 개재될 수 있는 C1-C12알킬렌, 또는
- 1개 이상의 라디칼 RMc에 의해 치환될 수 있는 페닐렌
이고,
여기서 RMa 및 RMc가 상기 정의된 바와 같은 것인
화학식 Ia의 화합물이 바람직하다.
특히, M은
- C1-C12알킬렌;
- F, Cl, Br, I, C1-C12알킬, C1-C12할로알킬, CN, SR19, OR20, COR21, COOR22, CONR23R24, C6-C10아릴, 헤테로아릴, 또는 F, Cl, Br, I, C1-C12알킬, C1-C12할로알킬, CN, NO2, SR19, OR20, COR21, COOR22 및 CONR23R24로부터 선택된 1개 이상의 동일하거나 상이한 라디칼에 의해 치환된 C6-C10아릴로부터 선택된 1개 이상, 예를 들어 1, 2 또는 3개의 동일하거나 상이한 라디칼에 의해 치환된 C1-C12알킬렌;
- O, S, -O-페닐렌 또는 페닐렌 (여기서, 마지막에 언급된 2개의 기는 F, Cl, Br, I, C1-C12알킬, C1-C12할로알킬, SR19, OR20, COR21, COOR22, CONR23R24 및 페닐로부터 선택된 1개 이상의 라디칼에 의해 치환될 수 있음)으로부터 선택된 1개 이상, 예를 들어 1, 2 또는 3개의 동일하거나 상이한 비-인접 기가 개재된 C1-C12알킬렌;
- F, Cl, Br, I, C1-C12-알킬, C1-C12-할로알킬, CN, SR19, OR20, COR21, COOR22, CONR23R24, C6-C10아릴, 헤테로아릴, 또는 F, Cl, Br, I, C1-C12알킬, C1-C12할로알킬, CN, NO2, SR19, OR20, COR21, COOR22 및 CONR23R24로부터 선택된 1개 이상의 동일하거나 상이한 라디칼에 의해 치환된 C6-C10아릴로부터 선택된 1개 이상, 예를 들어 1, 2 또는 3개의 동일하거나 상이한 라디칼에 의해 치환되고 O, S, -O-페닐렌 또는 페닐렌 (여기서, 마지막에 언급된 2개의 기는 F, Cl, Br, I, C1-C12알킬, C1-C12할로알킬, SR19, OR20, COR21, COOR22, CONR23R24 및 페닐로부터 선택된 1개 이상의 라디칼에 의해 치환될 수 있음)으로부터 선택된 1개 이상의 비-인접 기가 개재된 C1-C12알킬렌, 또는
- F, Cl, Br, I, C1-C12알킬, C1-C12할로알킬, SR19, OR20, COR21, COOR22, CONR23R24 및 페닐로부터 선택된 1개 이상, 예를 들어, 1, 2 또는 3개의 동일하거나 상이한 라디칼에 의해 치환될 수 있는 페닐렌
이고;
여기서 R19, R20, R22, R23 및 R24는 상기 정의된 바와 같고, 바람직한 의미 중 하나를 갖는다.
보다 바람직하게는, M은 O, S, -O-페닐렌 및 페닐렌 (여기서, 마지막에 언급된 기는 C1-C12알킬, C1-C12할로알킬, CN, NO2, SR19, OR20, COR21, COOR22, CONR23R24 및 페닐로부터 선택된 1, 2, 3 또는 4개의 라디칼에 의해 치환될 수 있음)으로부터 선택된 1, 2, 3, 4, 5 또는 6개의 비-인접 기가 개재된 C2-C8알킬렌이다. 특히, M은 1개의 페닐렌 기가 개재된 C2-C8-알킬렌, 또는 산소 및 -O-페닐렌으로부터 선택된 1, 2, 3 또는 4개의 기가 개재된 C2-C8-알킬렌이다. 보다 더 바람직하게는, M은 -CH2-C6H4-O-CH2CH2CH2O-C6H4-CH2- 또는 -CH2-C6H4-CH2-이다.
Y는 예를 들어 O, O(CO), O(CO)O, O(CO)NR11, O(CO)NR11(CO), OSO2 또는 O(CS)NR11이고; 여기서 이들 라디칼 각각에 대해 산소 원자는 X에 직접 결합되거나; 또는 Y는 예를 들어 O(CO), O(CO)O, O(CO)NR11, OSO2 또는 O(CS)NR11이다.
R1은 예를 들어 수소, C3-C30시클로알킬, C3-C30시클로알킬-C1-C18알킬, C1-C18알킬, C4-C30시클로알케닐이거나,
또는 1개 이상의 O, CO, O(CO) 또는 NR14(CO)가 개재된 C2-C18알킬이거나,
또는 1개 이상의 O, CO, O(CO) 또는 NR14(CO)가 개재된 C3-C30시클로알킬이거나,
R1은 NR12R13이거나,
또는 1개 이상의 O, CO, O(CO) 또는 NR14(CO)가 개재된 C3-C30시클로알킬-C1-C18알킬이고,
여기서 C1-C18알킬, C4-C30시클로알케닐, 개재된 C2-C18알킬, 개재된 C3-C30시클로알킬-C1-C18알킬은 비치환되거나 또는 1개 이상의 Z1에 의해 치환된다.
C1-C18알킬에 대한 치환기로서의 Z1은 바람직하게는 메틸, 에틸, 프로필, 부틸 또는 헥실이다.
C4-C30시클로알케닐에 대한 치환기로서의 Z1은 바람직하게는 시클로펜테닐, 시클로헥세닐,
Figure 112014109866223-pct00022
또는
Figure 112014109866223-pct00023
이다.
C3-C30시클로알킬-C1-C18알킬에 대한 치환기로서의 Z1은 바람직하게는
Figure 112014109866223-pct00024
또는
Figure 112014109866223-pct00025
이다.
R2 및 R3은 예를 들어 서로 독립적으로 C3-C30시클로알킬렌, C1-C18알킬렌, C4-C30시클로알케닐렌 또는 직접 결합이며, 단 R2 및 R3 둘 다가 동시에 직접 결합은 아니다. 특히, R2 및 R3은 C1-C18알킬렌이다.
신규 화합물의 일반적 제조 방법
화학식 I, Ia 및 Ib의 상기 기재된 신규 술포늄 화합물은 일반적으로, 예를 들어 바람직한 술포늄 클로라이드, 브로마이드, 아이오다이드, 히드로겐 술포네이트, 술포네이트, 테트라플루오로보레이트, 트리플루오로아세테이트, 토실레이트, 메탄술포네이트 또는 메틸술포네이트와, 양이온으로서 암모늄, 테트라메틸암모늄, 피리디늄, 나트륨, 리튬, 칼륨 또는 은을 갖는 바람직한 술포네이트 염 사이의 이온-교환 반응에 의해 제조될 수 있다. 이러한 반응은 통상적으로 불활성 용매, 예를 들어 물, 알칸올, 예컨대 메탄올 또는 에탄올, 할로겐화 탄화수소, 예컨대 디클로로메탄, 트리클로로메탄 또는 클로로벤젠, 지방족 탄화수소, 예컨대 펜탄, 헥산, 시클로헥산 및 석유 에테르, 방향족 탄화수소, 예컨대 톨루엔, o-, m- 및 p-크실렌, 에테르, 예컨대 디에틸 에테르, 메틸 에틸 케톤, 디이소프로필 에테르, tert-부틸 메틸 에테르, 디옥산, 디메톡시에탄, 아니솔 및 테트라히드로푸란, 니트릴, 예컨대 아세토니트릴 및 프로피오니트릴, 케톤 예컨대 아세톤, 메틸 에틸 케톤, 디에틸 케톤 및 tert-부틸 메틸 케톤 및 또한 에틸 아세테이트 또는 디메틸포름아미드 (DMF) 또는 이러한 용매의 혼합물 중에서 수행된다. 용매의 조합, 예를 들어 물 및 에틸 아세테이트는 2상 시스템을 제공한다. 이러한 2상 시스템은 또한 이온-교환 반응에 적합하다. 이러한 반응은 당업자에게 널리 공지되어 있고, 일반적으로 0 내지 120℃, 바람직하게는 0 내지 60℃ 범위의 온도에서 수행된다.
상기 정의된 바와 같은 음이온 A 및 A1은 예를 들어 WO 2011104127에 기재된 바와 같이 제조된다.
출발 물질로서 필요한 술포늄 염은, 예를 들어 문헌 [George Andrew Olah in Onium ions, p. 167 또는 J. V. Crivello in Advances in Polymer Science 62, 1-48, (1984)]에 기재된 다양한 방법에 의해 수득될 수 있다. 트리알킬(아릴)술포늄의 일반적 제조 방법은 각각 알킬화제 (아릴화제)로서 알킬 할라이드, 또는 알킬 할라이드 / 은 테트라플루오로보레이트, 알킬 할라이드 / HCl, 디알킬 술포네이트, 술폰산 에스테르, 알콜 (강한 양성자성 산의 존재 하에), 에스테르 / 트리플루오로메탄술폰산, 벤질 할라이드 / 루이스 산, 또는 트리알킬(아릴)옥소늄 염을 사용한 디알킬, 디아릴 및 알킬아릴 술피드의 알킬화 또는 아릴화를 포함한다.
바람직한 술포늄 염은, 예를 들어 술폭시드를 강산, 예컨대 황산, 폴리인산, 메탄술폰산 등의 존재 하에 사용된 강산의 술포늄 염이 형성되도록 아릴 화합물과 축합시킴으로써 제조될 수 있다.
본 발명의 조성물에서 성분 (a)의 예는 에폭시 기, 옥세탄 기 및 비닐 에테르 기로부터 선택된 하나 이상의 기를 갖는 화합물이다.
적합한 예는 다음과 같다:
- 산소- 또는 황-함유 포화 헤테로사이클을 포함하는 화합물,
- 양이온성 메카니즘에 의해 중합가능한 에틸렌계 불포화 화합물,
- 열 경화성 관능기를 함유하는 페놀-포름알데히드 수지, 아크릴 수지, 알키드 수지 또는 폴리에스테르 수지의 예비중합체,
- 열 경화성 화합물, 및 상이한 메카니즘, 예를 들어 자유 라디칼 또는 UV 조사에 의해 중합가능한 화합물의 혼합물,
- 그의 혼합물.
산소- 또는 황-함유 포화 헤테로사이클을 포함하는 화합물 (a)는 바람직하게는 3, 4, 5 또는 6개의 고리원을 갖는 1개 이상의 헤테로사이클을 포함한다.
산소- 또는 황-함유 포화 헤테로사이클을 포함하는 바람직한 화합물 (a)는 1개 이상의 에폭시 기, 옥세탄, 옥솔란, 시클릭 아세탈, 시클릭 락톤, 티이란, 티에탄 및 그의 혼합물을 함유하는 화합물로부터 선택된다.
1개의 에폭시 기를 함유하는 적합한 화합물 (a)는 에틸렌 옥시드, 프로필렌 옥시드, 스티렌 옥시드, 페닐 글리시딜 에테르, 부틸 글리시딜 에테르 등이다.
본 발명의 바람직한 실시양태에서, 화합물 (a)는 에폭시 수지로부터 선택된다. 본 발명의 경화성 조성물의 기재내용에 사용된 용어 "에폭시 수지"는 넓은 의미로 이해되며, 다수 (2, 3, 4, 5, 6개 또는 6개 초과)의 에폭시 기를 함유하는 임의의 단량체, 이량체, 올리고머 또는 중합체 에폭시 물질을 포함한다. 용어 "에폭시 수지"는 또한 2개 이상의 에폭시드 기를 포함하는 예비중합체를 포괄하고, 여기서 에폭시드 기의 일부 (옥시란 고리)는 또한 히드록실 기로 개방될 수 있다. 상기 용어는 또한 부분-경화된 에폭시 수지, 즉 적합한 경화제에 의해 가교된 에폭시 수지를 확인한다. 성분 (a)가 부분 경화된 에폭시 수지인 경우에, 이는 양이온 중합이 여전히 일어날 수 있는 열-경화성 에폭시 기를 여전히 함유한다. 용어 "에폭시 수지"는 또한, 예를 들어 카르복실산 또는 알콜과의 반응에 의해 수득가능한 개질된 에폭시 수지, 예컨대 에스테르화 또는 에테르화된 에폭시 수지를 포괄한다. 또한, 본 발명에 따른 조성물에 사용된 개질된 에폭시 수지는 양이온 중합이 여전히 일어날 수 있는 열 경화성 에폭시 기를 여전히 함유한다. 용어 "에폭시 수지"의 완전한 정의는, 예를 들어 문헌 [Ullmann's Encyclopedia of Industrial Chemistry, 5th edition, on CD-ROM, 1997, Wiley-VCH]의 "에폭시 수지" 섹션에서 확인된다.
대부분의 상업용 에폭시 수지는 에피클로로히드린을 2개 이상의 반응성 수소 원자를 보유하는 화합물, 예컨대 폴리페놀, 모노아민 및 디아민, 아미노페놀, 헤테로시클릭 이미드 및 아미드, 지방족 디올 또는 폴리올, 또는 이량체 지방산에 커플링시킴으로써 제조된다. 에피클로로히드린으로부터 유도된 에폭시 수지는 글리시딜계 수지로 지칭된다.
현재 상업적으로 입수가능한 대부분의 에폭시 수지는 비스페놀 A의 디글리시딜 에테르 (DGEBA 수지)로부터 유도되며, 하기 화학식을 보유한다.
Figure 112014109866223-pct00026
R =
Figure 112014109866223-pct00027
이고, n은 0 내지 대략 40이다.
다른 중요한 에폭시 수지는 페놀계 및 크레졸계 에폭시 노볼락, 예를 들어 비스페놀 F의 디글리시딜 에테르로부터 유도된 에폭시 수지이다. 노볼락은 포름알데히드 및 페놀 또는 크레졸의 산-촉매화 축합에 의해 제조된다. 노볼락의 에폭시화는 에폭시 노볼락을 생성한다.
글리시딜계 에폭시 수지의 다른 부류는, 예를 들어 지방족 디올, 예컨대 부탄-1,4-디올, 헥산-1,6-디올, 펜타에리트리톨 또는 수소화 비스페놀 A의 글리시딜 에테르; 방향족 글리시딜아민, 예를 들어 p-아미노페놀의 트리글리시딜 부가물 또는 메틸렌디아닐리드의 테트라글리시딜아민; 헤테로시클릭 글리시딜이미드 및 아미드, 예를 들어 트리글리시딜 이소시아누레이트; 및 글리시딜 에스테르, 예컨대 이량체 리놀레산의 디글리시딜 에스테르로부터 유도된다.
에폭시 수지 (a)는 또한 다른 에폭시드 (비-글리시딜 에테르 에폭시 수지)로부터 유도될 수 있다. 그 예는 시클로지방족 디엔의 디에폭시드, 예컨대 3,4-에폭시시클로헥실메틸 3,4-에폭시시클로헥산카르복실레이트 및 4-에폭시에틸-1,2-에폭시시클로헥산이다.
상업적으로 입수가능한 에폭시 수지의 예는 비스페놀 A 유형 에폭시 수지, 예컨대 다이니폰 잉크 앤드 케미칼스 인크.(Dainippon Ink & Chemicals Inc.)에 의해 제조된 에피쿨론(Epiculon) N-3050, N-7050, N-9050, XAC-5005, GT-7004, 6484T, 6099; 비스페놀 S 유형 에폭시 수지, 예컨대 니폰 가야쿠 캄파니, 리미티드(Nippon Kayaku Co., Ltd.)에 의해 제조된 BPS-200, ACR 캄파니(ACR Co.)에 의해 제조된 EPX-30, 다이니폰 잉크 앤드 케미칼스 인크.에 의해 제조된 에피쿨론 EXA-1514 등; 비스페놀 F 유형 에폭시 수지, 예컨대 도토 가세이 캄파니(Tohto Kasei Co.)에 의해 제조된 YDF-2004, YDF2007 등; 비스페놀 플루오렌 유형 에폭시 수지, 예컨대 오사카 가스 케미칼스(Osaka Gas Chemicals)에 의해 제조된 OGSOL PG, PG-100, EG, EG-210; 디글리시딜 프탈레이트 수지, 예컨대 니폰 오일 앤드 팻츠 캄파니, 리미티드(Nippon Oil and Fats Co., Ltd.)에 의해 제조된 블레머(Blemmer) DGT 등; 헤테로시클릭 에폭시 수지, 예컨대 닛산 케미칼 인더스트리즈, 리미티드(Nissan Chemical Industries, Ltd.)에 의해 제조된 TEPIC, 헌츠만(Huntsman)에 의해 제조된 아랄다이트(Araldite) PT810 등; 빅시레놀 유형 에폭시 수지, 예컨대 유카 쉘 캄파니(Yuka Shell Co.)에 의해 제조된 YX-4000 등; 비페놀 유형 에폭시 수지, 예컨대 유카 쉘 캄파니에 의해 제조된 YL-6056 등; 테트라글리시딜 크실레노일에탄 수지, 예컨대 도토 가세이 캄파니에 의해 제조된 ZX-1063 등; 노볼락 유형 에폭시 수지, 예컨대 니폰 가야쿠 캄파니, 리미티드에 의해 제조된 EPPN-201, EOCN-103, EOCN-1020, EOCN-1025 및 BRRN, 아사히 케미칼 인더스트리 캄파니, 리미티드(Asahi Chemical Industry Co., Ltd.)에 의해 제조된 ECN-278, ECN-292 및 ECN-299, 시바 스페셜티 케미칼스 인크.(Ciba Specialty Chemicals Inc.)에 의해 제조된 GY-1180, ECN-1273 및 ECN-1299, 도토 가세이 캄파니에 의해 제조된 YDCN-220L, YDCN-220HH, YDCN-702, YDCN-704, YDPN-601 및 YDPN-602, 다이니폰 잉크 앤드 케미칼스 인크.에 의해 제조된 에피쿨론-673, N-680, N-695, N-770 및 N-775 등; 비스페놀 A의 노볼락 유형 에폭시 수지, 예컨대 아사히 케미칼스 인더스트리 캄파니, 리미티드에 의해 제조된 EPX-8001, EPX-8002, EPPX-8060 및 EPPX-8061, 다이니폰 잉크 앤드 케미칼스 인크.에 의해 제조된 에피쿨론 N-880 등; 킬레이트 유형 에폭시 수지, 예컨대 아데카(Adeka)에 의해 제조된 EPX-49-69 및 EPX-49-30 등; 글리옥살 유형 에폭시 수지, 예컨대 도토 가세이 캄파니에 의해 제조된 YDG-414 등; 아미노 기-함유 에폭시 수지, 예컨대 도토 가세이 캄파니에 의해 제조된 YH-1402 및 ST-110, 유카 쉘 캄파니에 의해 제조된 YL-931 및 YL-933 등; 고무-개질 에폭시 수지, 예컨대 다이니폰 잉크 앤드 케미칼스 인크.에 의해 제조된 에피쿨론 TSR-601, 아데카에 의해 제조된 EPX-84-2 및 EPX-4061 등; 디시클로펜타디엔 페놀계 유형 에폭시 수지, 예컨대 산요-고쿠사쿠 펄프 캄파니, 리미티드(Sanyo-Kokusaku Pulp Co., Ltd.)에 의해 제조된 DCE-400 등; 실리콘-개질 에폭시 수지, 예컨대 아데카에 의해 제조된 X-1359 등; ε-카프로락톤-개질 에폭시 수지, 예컨대 다이셀 케미칼 인더스트리즈, 리미티드(Dicel Chemical Industries, Ltd.)에 의해 제조된 플라크(Plaque) G-402 및 G-710 등, 및 기타이다.
다른 중요한 에폭시 수지는 글리시딜 아크릴레이트, 글리시딜 메타크릴레이트, 3,4-에폭시부틸 아크릴레이트, 3,4-에폭시부틸 메타크릴레이트, 비닐벤질글리시딜 에테르 및 알릴 글리시딜 에테르와 같은 분자에 1개 이상의 에폭시드 기를 포함하는 에틸렌계 불포화 화합물, 및 분자에 에폭시드 기를 포함하지 않는 에틸렌계 불포화 화합물의 공중합체이다.
분자에 에폭시드 기를 포함하지 않는 에틸렌계 불포화 화합물의 예는 알킬 라디칼에 1 내지 20개의 탄소 원자를 포함하는 아크릴산 및 메타크릴산의 비치환 및 치환된 알킬 에스테르, 보다 특히 메틸 아크릴레이트, 메틸 메타크릴레이트, 에틸 아크릴레이트, 에틸 메타크릴레이트, 부틸 아크릴레이트, 부틸 메타크릴레이트, 2-에틸헥실 아크릴레이트, 2-에틸헥실 메타크릴레이트, 2-히드록시에틸 아크릴레이트, 2-히드록시에틸 메타크릴레이트, 2-히드록시프로필 아크릴레이트, 2-히드록시프로필 메타크릴레이트, 4-히드록시부틸 아크릴레이트, 4-히드록시부틸 메타크릴레이트, 1,2-디히드록시에틸 아크릴레이트 및 1,2-디히드록시에틸 메타크릴레이트이다.
분자에 에폭시드 기를 포함하지 않는 에틸렌계 불포화 화합물의 추가 예는 불포화 산, 예컨대 아크릴산 및 메타크릴산, 산 아미드, 예컨대 아크릴아미드 및 메타크릴아미드, 비닐 방향족 화합물, 예컨대 스티렌, 메틸스티렌, 히드록시스티렌 및 비닐톨루엔, 니트릴, 예컨대 아크릴로니트릴 및 메타크릴로니트릴, 비닐 할라이드 및 비닐리딘 할라이드, 예컨대 비닐 클로라이드 및 비닐리딘 플루오라이드, 비닐 에스테르, 예컨대 비닐 아세테이트 및 히드록실-함유 단량체, 예컨대 히드록시에틸 아크릴레이트 및 히드록시에틸 메타크릴레이트이다.
분자에 에폭시드 기를 포함하지 않는 에틸렌계 불포화 화합물의 추가 예는 N-페닐말레이미드, N-시클로헥실말레이미드 및 N-벤질말레이미드이다.
적합한 옥세탄 (a)는 트리메틸렌 옥시드, 3,3-디메틸옥세탄, 3,3-디(클로로메틸)옥세탄, 3-에틸-3-히드록시메틸 옥세탄, 2-에틸헥실옥세탄, 크실렌 비스옥세탄, 3-에틸-3[[(3-에틸옥세탄-3-일)메톡시]메틸]옥세탄 등이다.
상업적으로 입수가능한 옥세탄의 예는 예를 들어 도아고세이 캄파니, 리미티드(Toagosei Co., Ltd.)로부터의 아론 옥세탄 OXT-101, OXT-212, OXT-121, OXT-221이다.
다른 중요한 옥세탄 수지는 3-메틸-3-아크릴로일옥시메틸 옥세탄, 3-메틸-3-메타크릴로일옥시메틸 옥세탄, 3-에틸-3-아크릴로일옥시메틸 옥세탄 및 3-에틸-3-메타크릴로일옥시메틸 옥세탄과 같은 분자에 1개 이상의 옥세탄 기를 포함하는 에틸렌계 불포화 화합물, 및 상기 언급된 바와 같은 분자에 에폭시드 기를 포함하지 않는 에틸렌계 불포화 화합물의 공중합체이다.
적합한 옥솔란 (a)는 테트라히드로푸란, 2,3-디메틸테트라히드로푸란 등이다.
적합한 시클릭 아세탈 (a)는 트리옥산, 1,3-디옥솔란, 1,3,6-트리옥사시클로옥탄 등이다.
적합한 시클릭 락톤 (a)는 β-프로피오락톤, ε-카프로락톤, β-프로피오락톤 및 ε-카프로락톤의 알킬 유도체 등이다.
적합한 티이란 (a)는 에틸렌 술피드, 1,2-프로필렌 술피드, 티오에피클로로히드린 등이다.
적합한 티에탄 (a)는 1,3-프로필렌 술피드, 3,3-디메틸티에탄 등이다.
추가의 적합한 화합물 (a)는 모노- 및 디올레핀, 스티렌, 알릴벤젠, 비닐시클로헥산, 비닐 에테르, 비닐 에스테르, 디히드로피란 유도체 및 그의 혼합물로부터 선택된, 양이온성 메카니즘에 의해 중합가능한 에틸렌계 불포화 화합물이다.
적합한 모노- 및 디올레핀 (a)는 이소부텐, 1-옥텐, 부타디엔, 이소프렌 등이다.
적합한 비닐 에테르 (a)는 비닐 메틸 에테르, 비닐 이소부틸 에테르, 에틸렌 글리콜 디비닐 에테르 등이다.
적합한 비닐 에스테르 (a)는 비닐 아세테이트, 비닐 스테아레이트 등이다.
적합한 디히드로피란 유도체 (a)는 3,4-디히드로-2H-피란-2-카르복실산 에스테르, 2-히드록시메틸-3,4-디히드로-2H-피란 등이다.
추가의 적합한 화합물 (a)는 열 경화성 화합물과, 상이한 메카니즘, 예를 들어 자유 라디칼 또는 UV 조사에 의해 중합가능한 화합물과의 혼합물이다. 예를 들어, 에폭시 수지와 단량체 또는 올리고머 아크릴산 또는 메타크릴산 에스테르와의 혼합물이 적합하다. 이 경우에, 중합은 양이온성 메카니즘 및 상이한 메카니즘, 예를 들어 자유 라디칼 중합 또는 UV 경화에 의해 일어난다.
본 발명에 따른 열 경화성 조성물은 용매; 반응성 희석제; 반응성 희석제와 상이한 에틸렌계 불포화 화합물; 화합물 (a), 반응성 희석제와 상이하고, 에틸렌계 불포화 화합물과 상이한 결합제 수지; 광개시제; 자유 라디칼 개시제; 증감제; 안료; 충전제; 분산제; 화학식 I, Ia 및 Ib의 화합물과 상이한 열 경화 촉진제; 추가의 첨가제; 및 그의 혼합물로부터 선택된 하나 이상의 추가의 성분을 포함할 수 있다.
하기에서, 아크릴산 및 메타크릴산으로부터 유도될 수 있는 화합물은 일부 경우에 아크릴산으로부터 유도된 화합물에 음절 "(메트)"를 붙여 약기한다.
본 발명의 열 경화성 조성물은 용매계 또는 수성계일 수 있다. 이와 관련하여, 용매계는 코팅 조성물의 휘발성 구성성분이 실질적으로, 즉 전체 휘발성 구성성분을 기준으로 하여 51 중량% 이상, 바람직하게는 60 중량% 이상의 정도로 유기 용매 (존재하는 경우에, 반응성 희석제 포함)를 포함하는 것을 의미한다. 이와 관련하여, 수계는 코팅 조성물의 휘발성 구성성분이 실질적으로, 즉 전체 휘발성 구성성분을 기준으로 하여 51 중량% 이상, 바람직하게는 60 중량% 이상, 보다 특히 80 중량% 이상 정도로 물을 포함하는 것을 의미한다. 코팅 조성물은 원칙적으로 휘발성 및 비휘발성 구성성분으로 구성된다. 코팅 조성물의 비휘발성 분획은 하기 시험 조건을 이용하여 DIN EN ISO 3251로 결정될 수 있다: (1 ± 0.1) g의 초기 질량, 이어서 23℃에서 24시간 건조, 그 후 105℃에서 1시간 (DIN EN ISO 3251 부록 B1에 따름). 휘발성 분획은 총량과 비휘발성 분획 사이의 차이에 의해 제시된다.
용매계 코팅 조성물과 달리, 수성 코팅 조성물은 그의 용매로서 실질적으로 물을 갖고, 유기 용매를 거의 또는 전혀 갖지 않는다. 수성 코팅 조성물에서, 유기 용매의 분획은 바람직하게는 코팅 조성물에 포함된 휘발성 구성성분의 총 중량을 기준으로 하여 30 중량% 이하, 보다 바람직하게는 20 중량% 이하, 보다 특히 10 중량% 이하이다.
용매계 코팅 조성물에 대한 적합한 용매는 지방족, 지환족, 헤테로시클릭, 방향족 및 헤테로방향족 탄화수소, 지방족 카르복실산과 C2-C10알칸올 또는 폴리알킬렌 글리콜의 에스테르, 케톤, 락톤, 락탐, 에테르, 1가 또는 다가 알콜, 및 그의 혼합물이다. 이어서, 용매는 바람직하게는 톨루엔, 크실렌, 용매 나프타, 화이트 스피릿, 리그로인, 에틸 아세테이트, 프로필 아세테이트, 부틸 아세테이트, 아밀 아세테이트, 메톡시에틸 아세테이트, 메톡시프로필 아세테이트, 에톡시에틸 아세테이트, 에톡시프로필 아세테이트, 에틸 에톡시프로피오네이트, 아세톤, 메틸 에틸 케톤, 메틸 이소부틸 케톤, 시클로펜타논, 시클로헥사논, N-메틸피롤리돈, 디프로필렌 글리콜, 디부틸글리콜, 메탄올, 에탄올, n-프로판올, 이소프로판올, 부탄올, 프로필렌 글리콜 모노메틸 에테르 아세테이트, 프롤릴렌 글리콜 모노메틸 에테르, γ-부티로락톤, 에틸 락테이트 및 그의 혼합물로부터 선택된다.
바람직하게는 용매의 비점은 열 경화성 조성물의 경화 과정 중에 이들이 수지 조성물로부터 증발하는 점이다.
대안적 실시양태에서, 중합은 또한 용매없이 (용융 상태로) 수행될 수 있다.
종종, 용매의 사용은 수득된 수지 부피의 원치 않는 감소 (수축) 또는 기공의 형성을 야기하는데, 이는 경화된 물질의 기계적 특성, 예컨대 파괴 저항성 또는 표면 특성에 대해 부정적인 영향을 가질 수 있다.
통상적인 용매의 단점은 반응성 희석제의 사용을 통해 피할 수 있다. 용매와 유사하게, 반응성 희석제는 저분자량의 물질이지만, 공유 결합을 형성하도록 사용된 성분 (a)의 상보적 관능기 및/또는 추가적인 경화제의 관능기와 반응할 수 있는 관능기를 갖는다는 점에서 통상적인 용매와 상이하다.
반응성 희석제는 마찬가지로 수지의 점도를 낮춘다. 이들은 경화 과정 중에 증발되지 않고, 따라서 경화 과정 중에 형성되는 대로 수지 매트릭스로 공유적으로 혼입된다. 적합한 반응성 희석제는 바람직하게는 250 달톤 이하, 예를 들어 100 내지 250 달톤 범위의 분자량을 갖는 저분자량 화합물이다. 반응성 희석제는 바람직하게는 옥시란 기, 보다 바람직하게는 글리시딜 기를, 예를 들어 글리시딜 에테르 기, 글리시딜 에스테르 기 또는 글리시딜 아미드 기의 형태로 함유한다. 에폭시드 관능가, 즉 분자당 에폭시드 기의 수는, 반응성 희석제의 경우에 전형적으로 1 내지 4 범위, 보다 특히 1.1 내지 3, 특히 1.2 내지 2.5 범위이다.
그 중에서도, 특히, 바람직하게는 1, 2, 3 또는 4개의 OH 기 및 2 내지 20개 또는 4 내지 20개의 C 원자를 갖는 지방족 또는 시클로지방족 알콜의 글리시딜 에테르, 및 또한 4 내지 20개의 C 원자를 갖는 지방족 폴리에테롤의 글리시딜 에테르가 바람직하다. 이들의 예는 하기와 같다:
- 2 내지 20개의 C 원자를 갖는 포화 알칸올의 글리시딜 에테르, 예컨대 C2-C20-알킬 글리시딜 에테르, 예컨대 예를 들어 2-에틸헥실 글리시딜 에테르;
- 2 내지 20개의 C 원자를 갖는 포화 알칸폴리올의 글리시딜 에테르, 예를 들어 1,4-부탄디올, 1,6-헥산디올, 트리메틸올프로판 또는 펜타에리트리톨의 글리시딜 에테르 (상기 언급된 글리시딜 에테르 화합물은 일반적으로 1 내지 3.0 범위, 바람직하게는 1.2 내지 2.5 범위의 에폭시드 관능가를 가짐);
- 4 내지 20개의 C 원자를 갖는 폴리에테롤의 글리시딜 에테르, 예를 들어 디에틸렌 글리콜, 트리에틸렌 글리콜, 테트라에틸렌 글리콜, 디프로필렌 글리콜 및 트리프로필렌 글리콜의 글리시딜 에테르;
- 5 내지 20개의 C 원자를 갖는 시클로지방족 알콜의 글리시딜 에테르, 예컨대 예를 들어 시클로헥산-1,4-디일의 비스글리시딜 에테르, 고리-수소화 비스페놀 A 또는 고리-수소화 비스페놀 F의 비스글리시딜 에테르;
- 2 내지 4개의 C 원자를 갖는 폴리알킬렌 옥시드의 글리시딜 에테르, 예컨대 폴리에틸렌 옥시드 또는 폴리프로필렌 옥시드;
및 상기 물질의 혼합물.
반응성 희석제에 대한 개관은 [P.K.T. Oldring (Editor), Chemistry & Technology of UV & EB Formulations for Coatings, Inks & Paints, Vol. II, Chapter III: Reactive Diluents for UV & EB Curable Formulations, Wiley and SITA Technology, London 1997]에서 확인할 수 있다. 상기 문헌의 개시내용은 본원에 참조로 포함된다.
본 발명에 따른 열 경화성 조성물은 하나 이상의 에틸렌계 불포화 화합물을 포함할 수 있다. 생성된 조성물은 열 뿐만 아니라 상이한 경화 메카니즘, 특히 UV 조사에 의해 경화가능하다. UV- 및 열-경화성 조성물은 또한 이중 경화 조성물로 칭해진다.
적합한 에틸렌계 불포화 화합물은 하나 이상의 열 경화성 관능기를 추가로 포함할 수 있다. 분자에 1개 이상의 에폭시드 기를 포함하는 에틸렌계 불포화 화합물, 보다 특히 글리시딜 에테르 기의 형태가 바람직하다. 적합한 에틸렌계 불포화 화합물은 또한 분자에 에폭시드 기를 포함하지 않을 수 있다. 아크릴산 또는 메타크릴산의 에스테르가 바람직하다.
분자에 1개 이상의 에폭시드 기를 포함하는 에틸렌계 불포화 단량체의 예는 글리시딜 아크릴레이트, 글리시딜 메타크릴레이트, 및 알릴 글리시딜 에테르이다.
분자에 에폭시드 기를 포함하지 않는 에틸렌계 불포화 단량체의 예는 알킬 라디칼에 1 내지 20개의 탄소 원자를 포함하는 아크릴산 및 메타크릴산의 알킬 에스테르이고, 보다 특히 메틸 아크릴레이트, 메틸 메타크릴레이트, 에틸 아크릴레이트, 에틸 메타크릴레이트, 부틸 아크릴레이트, 부틸 메타크릴레이트, 2-에틸헥실아크릴레이트 및 2-에틸헥실 메타크릴레이트이다.
분자에 에폭시드 기를 포함하지 않는 에틸렌계 불포화 단량체의 다른 예는 불포화 산, 예컨대 아크릴산 및 메타크릴산, 산 아미드, 예컨대 아크릴아미드 및 메타크릴아미드, 비닐 방향족 화합물, 예컨대 스티렌, 메틸스티렌, 및 비닐톨루엔, 니트릴, 예컨대 아크릴로니트릴 및 메타크릴로니트릴, 비닐 할라이드 및 비닐리딘 할라이드, 예컨대 비닐 클로라이드 및 비닐리딘 플루오라이드, 비닐 에스테르, 예컨대 비닐 아세테이트, 및 히드록실-함유 단량체, 예컨대 히드록시에틸 아크릴레이트 및 히드록시에틸 메타크릴레이트이다.
분자에 2개 이상의 에틸렌계 불포화 이중 결합을 갖고 에폭시드 기를 갖지 않는 단량체의 예는 디올 또는 폴리올로부터 유도된 아크릴산의 에스테르, 바람직하게는 지방족 다가 폴리알콜 및 그의 알콕실화 생성물이다. 이들은 바람직하게는 헥산디올 디아크릴레이트, 헥산디올 디메타크릴레이트, 옥탄디올 디아크릴레이트, 옥탄디올 디메타크릴레이트, 노난디올 디아크릴레이트, 노난디올 디메타크릴레이트, 데칸디올 디아크릴레이트, 데칸디올 디메타크릴레이트, 시클로헥산디올 디(메트)아크릴레이트, 비스(히드록시메틸에틸)시클로헥산 디(메트)아크릴레이트, 트리메틸올에탄 트리(메트)아크릴레이트, 트리메틸올프로판 트리(메트)아크릴레이트, 펜타에리트리톨 테트라(메트)아크릴레이트, 디펜타에리트리톨 펜타(메트)아크릴레이트, 디펜타에리트리톨 헥사(메트)아크릴레이트 및 그의 혼합물로부터 선택된다.
본 발명에 따른 열 경화성 조성물은 상기 언급된 화합물 (a), 반응성 희석제 및 에틸렌계 불포화 화합물과 상이한 하나 이상의 결합제 수지를 포함할 수 있다.
추가적인 결합제 수지는 물리적 건조 중합체 조성물, 자기-가교 중합체 조성물, UV-경화성 중합체 조성물, 열경화성 중합체 조성물, 가교제의 첨가에 의해 가교가능한 중합체 조성물 (2-성분 분산액) 또는 이중-경화 시스템일 수 있다.
자기-가교 또는 가교성 중합체는 결합의 형성과 함께 서로 또는 포함되어 있는 가교제 물질과 반응하는 반응성 기를 함유한다. 자기-가교 중합체는 에틸렌계 불포화 단량체를 기재로 할 수 있다. 또한, 상응하는 단량체의 혼입을 통해 및/또는 폴리우레탄-형성 단량체의 화학량론의 선택을 통해 바람직한 관능기를 함유하는 폴리우레탄계 중합체가 적합하다.
열경화성 중합체 조성물의 경우에, 조성물은 폴리우레탄을 기재로 할 수 있거나, 또는 에틸렌계 불포화 단량체의 중합체, 히드록실 기, 케토 기, 우레아 기, 에폭시드 기 및/또는 카르복실 기를 함유하는 중합체 성분, 및 상기 명시된 바와 같은 2개 이상의 반응성 기를 갖는 1개 이상의 저분자량 또는 중합체 가교제를 기재로 할 수 있다.
결합제 수지의 예는 아크릴레이트 및 메타크릴레이트의 단독중합체 및 공중합체, 예를 들어 메틸 메타크릴레이트/에틸 아크릴레이트/메타크릴산의 공중합체, 폴리(메타크릴산 알킬 에스테르), 폴리(아크릴산 알킬 에스테르); 페놀계 수지, 셀룰로스 유도체, 예컨대 셀룰로스 에스테르 및 에테르, 예를 들어 셀룰로스 아세테이트, 셀룰로스 아세테이트 부티레이트, 메틸 셀룰로스, 에틸 셀룰로스; 폴리비닐 부티랄, 폴리비닐 포르말, 폴리올레핀, 환화 고무, 폴리에테르, 예컨대 폴리에틸렌 옥시드, 폴리프로필렌 옥시드, 폴리테트라히드로푸란; 폴리스티렌, 폴리카르보네이트, 폴리우레탄, 염소화 폴리올레핀, 폴리비닐 클로라이드, 비닐 클로라이드/비닐리덴 클로라이드의 공중합체, 비닐리덴 클로라이드와 아크릴로니트릴의 공중합체, 메틸 메타크릴레이트 및 비닐 아세테이트, 폴리비닐 아세테이트, 코폴리(에틸렌/비닐 아세테이트), 폴리카프로락탐 및 폴리(헥사메틸렌아디프아미드)와 같은 중합체, 폴리(에틸렌 글리콜 테레프탈레이트) 및 폴리(헥사메틸렌 글리콜 숙시네이트)와 같은 폴리에스테르; 및 폴리아미드이다.
광개시제는 바람직하게는 본 발명에 따른 열 경화성 조성물의 총 중량을 기준으로 하여 0.001 중량% 내지 15 중량%, 보다 바람직하게는 0.01 내지 10 중량%의 양으로 사용된다.
본 발명에 따른 열 경화성 조성물에 대한 적합한 광개시제는 광의 작용 하에 반응성 양이온 (예를 들어 루이스 또는 브뢴스테드 산)을 생성하는 양이온성 광개시제로 일컬어지고, 따라서 양이온 중합을 개시하는데 적합하다. 적합한 양이온성 광개시제는, 특히 양이온의 중심 원자로서 질소, 인, 산소, 황, 셀레늄 또는 아이오딘을 갖는, 안정한 유기 오늄 염으로부터 유도된다. 복합 음이온을 갖는 방향족 술포늄 및 아이오도늄 염, 페나실술포늄 염, 히드록실페닐술포늄 염 및 술폭소늄 염이 바람직하다. 알루미늄함유 유기 화합물의 존재 하에 UV 조사시 실란올을 방출하는 유기 규소 화합물을 사용하는 것이 또한 가능하다.
이러한 종류의 개시제는, 예를 들어 바스프 에스이(BASF SE)로부터 상표명 이르가큐어(Irgacure)® 250, 유니온 카바이드(Union Carbide)로부터 시라큐어(CYRACURE)® UVI-6990, 시라큐어® UVI-6974, 데구사(Degussa)로부터 데가큐어(DEGACURE)® KI 85, 아데카로부터 SP-55, SP-150, SP-170, 제너럴 일렉트릭(General Electric)으로부터 GE UVE 1014, 사토머(Sartomer)로부터 사캣(SarCat)® CD 1012, 사캣® KI-85, 사캣® CD 1010; 사캣® CD 1011 하에 상업적으로 입수가능한 제품이다.
적합한 양이온성 광개시제는 또한 증감제를 통해 여기되는 오늄 염이다. 적합한 증감제는 하기에 언급된다.
UV-경화성 조성물은 일반적으로 에틸렌계 불포화 이중 결합의 중합을 개시할 수 있는 하나 이상의 광개시제 (라디칼 광개시제)를 포함한다. 이들은 예를 들어 벤조페논 및 그의 유도체, 예컨대 4-페닐벤조페논 및 4-클로로벤조페논, 미힐러(Michler) 케톤, 안트론, 아세토페논 유도체, 예컨대 1-벤조일시클로헥산-1-올, 2-히드록시-2,2-디메틸아세토페논, 벤조인 및 벤조인 에테르, 예컨대 메틸, 에틸, 및 부틸 벤조인 에테르, 벤질 케탈, 예컨대 벤질 디메틸 케탈, 2-메틸-1-(4-메틸티오페닐)-2-모르폴리노프로판-1-온, (4-모르폴리노벤조일)-1-벤질-1-디메틸아미노프로판, (4-모르폴리노벤조일)-1-(4-메틸벤질)-1-디메틸아미노프로판, 안트라퀴논 및 그의 유도체, 예컨대 β-메틸안트라퀴논 및 tert-부틸안트라퀴논, 옥심 에스테르, 예컨대 1,2-옥탄디온 1-[4-(페닐티오)페닐]-2-(O-벤조일옥심) 및 에타논 1-[9-에틸-6-(2-메틸벤조일)-9H-카르바졸-3-일]-1-(O-아세틸옥심), 아실포스핀 옥시드, 예컨대 2,4,6-트리메틸벤조일디페닐포스핀 옥시드, 에틸 2,4,6-트리메틸벤조일-페닐포스피네이트 및 비스아실포스핀 옥시드, 예컨대 비스(2,4,6-트리메틸벤조일)-페닐포스핀 옥시드를 포함한다. 이러한 종류의 개시제는 예를 들어 바스프 에스이로부터 상표명 이르가큐어® 184, 다로큐어(Darocur)® 1173, 이르가큐어® 127, 이르가큐어® 2959, 이르가큐어® 651, 이르가큐어® 907, 이르가큐어® 369, 이르가큐어® 379, 이르가큐어® OXE01, 이르가큐어® OXE02, 루시린(Lucirin)® TPO, 이르가큐어® 819, 이르가큐어® 784, 이르가큐어® 754, 아데카로부터 아데카 옵토머(Optomer) N-시리즈 N-1414, N-1717, N-1919, 또는 란(Rahn)으로부터 게노큐어(Genocure)® 하에 상업적으로 입수가능한 제품이다.
본 발명에 따른 열 경화성 조성물에 적합한 자유-라디칼 개시제는 상기 목적에 통상적인 퍼옥소 및/또는 아조 화합물, 예를 들어 알칼리 금속 또는 암모늄 퍼옥시디술페이트, 디아세틸 퍼옥시드, 디벤조일 퍼옥시드, 숙시닐 퍼옥시드, 디-tert-부틸 퍼옥시드, tert-부틸 퍼벤조에이트, tert-부틸 퍼피발레이트, tert-부틸 퍼옥시-2-에틸헥사노에이트, tert-부틸 퍼말레에이트, 쿠멘 히드로퍼옥시드, 디이소프로필 퍼옥시디카르바메이트, 비스(o-톨루오일) 퍼옥시드, 디데카노일 퍼옥시드, 디옥타노일 퍼옥시드, 디라우로일 퍼옥시드, tert-부틸 퍼이소부티레이트, tert-부틸 퍼아세테이트, 디-tert-아밀 퍼옥시드, tert-부틸 히드로퍼옥시드, 아조비스이소부티로니트릴, 2,2'-아조비스(2-아미디노프로판)디히드로클로라이드 또는 2,2'-아조비스(2-메틸부티로니트릴)이다. 이들 개시제의 혼합물이 또한 적합하다.
에틸렌계 불포화 이중 결합을 함유하는 화합물을 기재로 하는 본 발명에 따른 조성물은 승온에 대한 노출시 이들 기의 중합을 생성하여 자유-라디칼 가교를 생성하는 것을 하나 이상 포함할 수 있다. 이들은 열불안정성 자유-라디칼 개시제, 예컨대 유기 퍼옥시드, 유기 아조 화합물 또는 C-C-절단 개시제, 예컨대 디알킬 퍼옥시드, 퍼옥소카르복실산, 퍼옥소디카르보네이트, 퍼옥시드 에스테르, 히드로퍼옥시드, 케톤 퍼옥시드, 아조 디니트릴 또는 벤즈피나콜 실릴 에테르를 포함한다.
자유 라디칼 개시제는 바람직하게는 본 발명에 따른 열 경화성 조성물의 총 중량을 기준으로 하여 0.001 중량% 내지 15 중량%, 보다 바람직하게는 0.01 내지 10 중량%의 양으로 사용된다.
증감제는 바람직하게는 본 발명에 따른 열 경화성 조성물의 총 중량을 기준으로 하여 0.001 중량% 내지 15 중량%, 보다 바람직하게는 0.01 내지 10 중량%의 양으로 사용된다.
적합한 증감제는 통상적으로 상기 언급된 양이온성 광개시제 또는 라디칼 광개시제 중 적어도 하나와 조합되어 사용된다. 양이온성 광개시제에 대해 바람직한 증감제는 폴리시클릭 방향족 화합물, 예컨대 안트라센, 나프탈렌 및 그의 유도체이다 (또한 미국 특허 번호 6,313,188, EP 0927726, WO 2006/073021, 미국 특허 번호 4,997,717, 미국 특허 번호 6,593,388, 및 WO 03/076491 참조). 바람직한 조합은 폴리시클릭 방향족 화합물로부터 선택된 하나 이상의 증감제, 및 하나 이상의 아이오도늄 광개시제를 포함한다. 라디칼 광개시제에 대한 바람직한 증감제는 방향족 화합물, 예컨대 티오크산톤, 벤조페논, 쿠마린 및 그의 유도체이다.
본 발명의 열 경화성 조성물은 하나 이상의 안료를 포함할 수 있다.
원칙적으로 무기 안료, 유기 안료 및 그의 혼합물이 적합하다.
안료는 착색 안료, 효과 안료, 투명 안료 또는 그의 혼합물일 수 있다.
적합한 무기 안료의 예는 백색 안료, 예컨대 바람직하게는 루틸 형태의 이산화티타늄, 황산바륨, 산화아연, 황화아연, 염기성 탄산납, 삼산화안티모니, 리토폰 (황화아연 + 황산바륨) 또는 착색된 안료, 예를 들어 산화철, 카본 블랙, 흑연, 아연 옐로우, 아연 그린, 울트라마린, 망가니즈 블랙, 안티모니 블랙, 망가니즈 바이올렛, 파리 블루 또는 슈바인푸르트 그린을 포함한다. 적합한 유기 착색 안료는 다양한 발색단을 갖는 광범위한 염료 클래스, 예를 들어 안트라퀴논 염료, 모노아조 및 디아조 염료, 인디고 및 인디고이드 염료, 퀴노프탈론, 메틴 및 아자메틴 염료, 나프탈이미드 염료, 나프토퀴논 염료, 니트로 염료, 퀴나크리돈 안료, 프탈로시아닌 안료, 이소인돌리논 안료 및 금속 착물 안료 등으로부터 유래할 수 있다. 적합한 유기 착색 안료의 예는 인단트렌 블루, 크로모프탈 레드, 이르가진 오렌지 및 헬리오겐 그린이다.
사용되는 효과 안료는, 예를 들어 금속 박편 안료 예컨대 DE-A-36 36 183에 따른 상업적 알루미늄 브론즈, 크롬화 알루미늄 브론즈 및 상업적 스테인레스 스틸 브론즈, 및 또한 비금속성 효과 안료, 예컨대 진주광택 안료 및 간섭 안료일 수 있다. 광 산란을 증가시키기 위해 공기를 내포하는 합성 백색 안료, 예컨대 로파크(Rhopaque)® 분산액이 또한 적합하다.
적합한 효과 안료의 다른 예는 문헌 [Roempp-Lexikon, Lacke und Druckfarben, Georg Thieme Verlag, 1998, page 176]으로부터 명백하다.
열 경화성 조성물의 일부로서의 안료의 분획은 매우 폭넓게 달라질 수 있다. 유리하게는, 분획은 각 경우에 본 발명의 열 경화성 조성물의 총 중량을 기준으로 하여 1 중량% 내지 95 중량%, 바람직하게는 2 중량% 내지 90 중량%, 보다 바람직하게는 3 중량% 내지 85 중량%, 보다 특히 4 중량% 내지 80 중량%이다.
적합한 충전제는 유기 및 무기 충전제, 예를 들어 알루미노실리케이트, 예컨대 장석, 실리케이트, 예컨대 카올린, 활석, 운모, 마그네사이트, 알칼리 토금속 카르보네이트, 예컨대 방해석 또는 백악 형태의 탄산칼슘, 예를 들어 탄산마그네슘, 돌로마이트, 알칼리 토금속 술페이트, 예컨대 황산칼슘, 이산화규소 등이다. 적합한 유기 충전제는, 예를 들어 텍스타일 섬유, 셀룰로스 섬유, 폴리에틸렌 섬유 또는 목분이다. 코팅 물질에서, 물론, 미분된 충전제가 바람직하다. 충전제는 개별 성분으로서 사용될 수 있다. 실제로, 충전제의 혼합물, 예를 들어 탄산칼슘/카올린, 탄산칼슘/활석이 또한 특히 적절한 것으로 입증되었다. 추가 상세사항을 위해 문헌 [Roempp-Lexikon, Lacke und Druckfarben, Georg Thieme Verlag, 1998, pages 250 ff., "fillers"]을 참조한다.
코팅 조성물의 일부로서의 충전제의 분획은 바람직하게는 각 경우에 본 발명의 코팅 조성물의 총 중량을 기준으로 하여 0 중량% 내지 95 중량%, 보다 바람직하게는 0.5 중량% 내지 90 중량%, 보다 특히 1 중량% 내지 75 중량%, 특히 4 중량% 내지 80 중량%이다.
본 발명의 열 경화성 조성물은 또한 하나 이상의 분산제를 포함할 수 있다. 적합한 분산제는 원칙적으로 공지된 유화제 및 보호 콜로이드 (표면 활성 물질)이다.
적합한 유화제는 음이온성, 비이온성 및 양이온성 유화제이다. 분산제는 특히 열 경화성 조성물이 수성 매질을 포함하는 경우에 사용된다. 용어 "수성 매질"은 물, 및 물과 하나 이상의 수혼화성 유기 용매의 혼합물을 나타낸다. 특정한 실시양태에서, 열 경화성 조성물은 수성 코팅 조성물로서 제제화된다.
보호 콜로이드와 달리, 상대 분자량이 전형적으로 2000 미만인 유화제가 바람직하다. 이들은 음이온성, 양이온성 또는 비이온성일 수 있으며, 음이온성 유화제, 및 그의 비이온성 유화제와의 조합이 바람직하다. 음이온성 유화제는, 예를 들어 알킬 술페이트 (알킬 라디칼: C8-C12)의 알칼리 금속 염 및 암모늄 염, 에톡실화 알칸올 (EO도: 2 내지 50, 알킬 라디칼: C12-C18)과의 및 에톡실화 알킬페놀 (EO도: 3 내지 50, 알킬 라디칼: C4-C9)과의 황산 모노에스테르의 알칼리 금속 염 및 암모늄 염, 알킬술폰산 (알킬 라디칼: C12-C18)의 알칼리 금속 염 및 암모늄 염, 알킬아릴술폰산 (알킬 라디칼: C9-C18)의 알칼리 금속 염 및 암모늄 염, 및 모노- 및 디알킬디페닐 에테르 술포네이트의 알칼리 금속 염 및 암모늄 염 (US 4,269,749에 기재된 바와 같음)을 포함한다. 적합한 비이온성 유화제는 아르지방족 또는 지방족 비이온성 유화제, 예를 들어 에톡실화 모노-, 디-, 및 트리알킬페놀 (EO도: 3 내지 50, 알킬 라디칼: C4-C9), 장쇄 알콜의 에톡실레이트 (EO도: 3 내지 50, 알킬 라디칼: C8-C36) 및 폴리에틸렌 옥시드/폴리프로필렌 옥시드 블록 공중합체이다. 장쇄 알칸올의 에톡실레이트 (알킬 라디칼: C10-C22, 평균 에톡실화도: 3 내지 50)가 바람직하고, 이들 중 선형 또는 분지형 C12-C18 알킬 라디칼을 갖고 에톡실화도가 8 내지 50인 옥소 공정 알콜 및 천연 알콜 기재의 것들이 특히 바람직하다.
적합한 보호 콜로이드는, 예를 들어 폴리비닐 알콜, 전분 유도체 및 셀룰로스 유도체, 또는 비닐피롤리돈을 포함하는 공중합체이다. 추가의 적합한 보호 콜로이드의 포괄적 설명은 문헌 [Houben-Weyl, Methoden der organischen Chemie, volume XIV/1, Makromolekulare Stoffe, Georg-Thieme-Verlag, Stuttgart 1961, pp. 411-420]에서 확인된다.
적합한 분산제의 다른 예는 중합체 분산제이다.
중합체 분산제는 안료 친화성 기를 갖는 고분자량 중합체를 포함한다. 그 예는, 예를 들어 스티렌 유도체, (메트)아크릴레이트 및 (메트)아크릴아미드로 구성된 통계적 공중합체, 및 후속 개질에 의해 개질된 상기 통계적 공중합체; 예를 들어 스티렌 유도체, (메트)아크릴레이트 및 (메트)아크릴아미드로 구성된 블록 공중합체 및/또는 빗살형 중합체, 및 후속 개질에 의해 개질된 상기 블록 공중합체 및/또는 빗살형 중합체; 예를 들어 폴리에스테르로 정교화된 폴리에틸렌이민; 예를 들어 폴리에스테르로 정교화된 폴리아민; 및 다양한 종류의 (개질된) 폴리우레탄이다.
중합체 분산제가 또한 사용될 수 있다. 적합한 중합체 분산제는 예를 들어 빅(BYK)의 디스퍼빅(DISPERBYK)® 101, 115, 130, 140, 160, 161, 162, 163, 164, 166, 168, 169, 170, 171, 180, 182, 2000, 2001, 2009, 2020, 2025, 2050, 2090, 2091, 2095, 2096, 2150, 시바(Ciba)의 시바® EFKA® 4008, 4009, 4010, 4015, 4046, 4047, 4050, 4055, 4060, 4080, 4300, 4310, 4330, 4340, 4400, 4401, 4402, 4403, 4406, 4500, 4510, 4520, 4530, 4540, 4550, 4560, 아지노모토 파인 테크노(Ajinomoto Fine Techno)의 PB®711, 821, 822, 823, 824, 827, 루브리졸(Lubrizol)의 솔스퍼스(SOLSPERSE)® 1320, 13940, 17000, 20000, 21000, 24000, 26000, 27000, 28000, 31845, 32500, 32550, 32600, 33500, 34750, 36000, 36600, 37500, 39000, 41090, 44000, 53095 및 그의 조합이다.
바스프의 EFKA® 4046, 4047, 4060, 4300, 4310, 4330, 4340, 디스퍼빅® 161, 162, 163, 164, 165, 166, 168, 169, 170, 2000, 2001, 2020, 2050, 2090, 2091, 2095, 2096, 2105, 2150, PB®711, 821, 822, 823, 824, 827, 솔스퍼스® 24000, 31845, 32500, 32550, 32600, 33500, 34750, 36000, 36600, 37500, 39000, 41090, 44000, 53095 및 그의 조합을 분산제로서 사용하는 것이 바람직하다.
적합한 텍스쳐 개선제는, 예를 들어 지방산, 예컨대 스테아르산 또는 베헨산 및 지방 아민 예컨대 라우릴아민 및 스테아릴아민이다. 게다가, 지방 알콜 또는 에톡실화 지방 알콜, 폴리올, 예컨대 지방족 1,2-디올 또는 에폭시화 대두 오일, 왁스, 수지산 및 수지산 염이 이러한 목적을 위해 사용될 수 있다.
적합한 안료 유도체는, 예를 들어 구리 프탈로시아닌 유도체, 예컨대 EFKA® 6745, 루브리졸의 솔스퍼스® 5000, 12000, 빅의 시너지스트(SYNERGIST) 2100 및 아조 유도체, 예컨대 EFKA® 6750, 솔스퍼스® 22000 및 시너지스트 2105이다.
안료에 대한 상기 언급된 분산제 및 계면활성제는, 예를 들어 레지스트 제제로서 특히 컬러, 필터 제제에서 사용되는 본 발명의 조성물에 사용된다.
본 발명의 열 경화성 조성물이 하나 이상의 표면-활성 물질을 포함하는 경우에, 그의 분획은 전형적으로 조성물의 총 중량을 기준으로 하여 0.01 중량% 내지 10 중량%, 바람직하게는 0.1 중량% 내지 5 중량%이다.
본 발명에 따른 열 경화성 조성물은 결합제의 반응성 관능기의 성질에 따라 공지된 방식으로 지시되는 하나 이상의 추가적인 열 경화 촉진제를 포함할 수 있다.
적합한 열 경화 촉진제 촉매는 유기 또는 무기 산, 이미다졸 및 이미다졸 유도체, 4급 암모늄 화합물, 및 아민의 술포늄 및 포스포늄 염이다.
상업적으로 입수가능한 열 경화 촉진제의 예는 산신 케미칼(Sanshin Chemical)에 의해 제조된 산-에이드(San-Aid) SI 시리즈, SI-60L, SI-80L, SI-100L, SI-110L, SI-145, SI-150, SI-160, SI-180L이다.
바람직한 경우에, 열 경화 촉진제는 바람직하게는 본 발명에 따른 열 경화성 조성물의 총 중량을 기준으로 하여 0.001 중량% 내지 약 10 중량%의 양으로 사용된다.
바람직한 실시양태에서, 화학식 I, Ia 및 Ib의 화합물과 상이한 열 경화 촉진제는 필요하지 않다.
본 발명의 열 경화성 조성물에 하기와 같은 다양한 공지된 첨가제를 첨가하여 목적하는 적용에 비추어 특정 적용 특성을 개질하는 것이 허용된다.
적합한 추가의 첨가제는 경화제, 가교제, 강화 물질, 염료, 유동 조절 보조제, UV 안정화제, 열 안정화제, 내후성 개선제, 레올로지 개질제, 난연제, 항산화제, 변색 억제제, 살생물제, 대전방지제, 가소제, 윤활제, 슬립 첨가제, 습윤제, 필름-형성 보조제, 접착 촉진제, 부식 억제제, 동결방지제, 탈포제, 이형제, 광잠재성 산 등, 및 그의 혼합물로부터 선택된다.
이들은 각각 이러한 첨가제에 대해 전형적인 양으로 포함된다.
본 발명에 따른 조성물은 하나 이상의 경화제를 함유할 수 있다. 화합물 (a)가 에폭시 수지를 포함하는 경우에, 경화제가 특히 사용된다.
적합한 경화제는 지방족 및 방향족 폴리아민, 폴리아미도아민, 우론, 아미드, 구아니딘, 아미노플라스트 및 페노플라스트, 폴리카르복실산 폴리에스테르, 폴리카르복실산 및 폴리카르복실산 무수물, 디히드록시 및 폴리히드록시 화합물, 티올, 이미다졸, 이미다졸린, 및 특정 이소시아네이트, 및 또한 잠재성 다관능성 경화제를 포함한다.
폴리아민 경화제는 폴리아민의 1급 또는 2급 아미노 관능기와 에폭시 수지의 말단 에폭시드 기와의 반응을 통해 에폭시 수지를 가교시킨다. 적합한 폴리아민은, 예를 들어 지방족 폴리아민 예컨대 에틸렌디아민, 1,2- 및 1,3-프로필렌디아민, 네오펜탄디아민, 헥사메틸렌디아민, 옥타메틸렌디아민, 1,10-디아미노데칸, 1,12-디아미노도데칸, 디에틸렌트리아민, 트리에틸렌테트라민, 테트라에틸렌펜타민 등; 시클로지방족 디아민, 예컨대 1,2-디아미노시클로헥산, 1,3-비스(아미노메틸)시클로헥산, 1-메틸-2,4-디아미노시클로헥산, 4-(2-아미노프로판-2-일)-1-메틸시클로헥산-1-아민, 이소포론디아민, 4,4'-디아미노디시클로헥실메탄, 3,3'-디메틸-4,4'-디아미노-디시클로헥실메탄, 노르보르난디아민, 메탄디아민, 멘텐디아민 등; 방향족 디아민, 예컨대 톨릴렌디아민, 크실릴렌디아민, 보다 특히 메타-크실릴렌디아민, 비스(4-아미노페닐)메탄 (MDA 또는 메틸렌디아닐린), 비스(4-아미노페닐) 술폰 (또한 DADS, DDS 또는 답손으로 공지됨) 등; 시클릭 폴리아민, 예컨대 피페라진, N-아미노에틸피페라진 등; 폴리에테르-디아민, 예를 들어 폴리프로필렌 옥시드 또는 폴리에틸렌 옥시드 또는 부틸렌 옥시드 또는 펜틸렌 옥시드 또는 폴리(1,4-부탄디올) 또는 폴리테트라히드로푸란, 또는 마지막에 언급된 5종의 알킬렌 옥시드의 혼합물과 암모니아 함유 프로필렌 옥시드의 반응 생성물, 예를 들어 4,7,10-트리옥사트리데칸-1,3-디아민, 4,7,10-트리옥사트리데칸-1,13-디아민, XTJ-500, XTJ-501, XTJ-511, XTJ-542, XTJ-559, XTJ-566, XTJ-568 (헌츠만), 1,8-디아미노-3,6-디옥사옥탄 (헌츠만으로부터의 XTJ-504), 1,10-디아미노-4,7-디옥사데칸 (헌츠만으로부터의 XTJ-590), 1,12-디아미노-4,9-디옥사도데칸 (바스프), 1,3-디아미노-4,7,10-트리옥사트리데칸 (바스프), 폴리에테르아민 T 5000, 제파민 등; 및 이량체 지방산 (예를 들어, 이량체 리놀레산)과 저분자량 폴리아민, 예컨대 디에틸렌트리아민 또는 트리에틸렌테트라민의 반응을 통해 수득가능한 폴리아미드 디아민 (아미도폴리아민)이다.
적합한 경화제의 추가의 부류는 우론 (우레아 유도체)으로서 공지된 것들, 예컨대 3-(4-클로로페닐)-1,1-디메틸우레아 (모누론), 3-(3,4-디클로로페닐)-1,1-디메틸우레아 (디우론), 3-페닐-1,1-디메틸우레아 (페누론), 3-(3-클로로-4-메틸페닐)-1,1-디메틸우레아 (클로르톨루론) 등이다.
적합한 경화제는 또한 카르바미드, 예컨대 톨릴-2,4-비스(N,N-디메틸카르바미드) 및 테트라알킬구아니딘, 예컨대 N,N,N'N'-테트라메틸구아니딘이다.
멜라민-, 우레아-, 및 페놀-포름알데히드 부가물 (또한 각각 아미노플라스트 또는 페노플라스트로 지칭됨)은 적합한 경화제의 추가의 부류를 형성한다.
분말 코팅에서 경화제로서 폴리카르복실산 폴리에스테르의 사용이 증가하고 있다. 가교는 유리 카르복실 기와, 예를 들어 에폭시 수지의 에폭시드 기와의 반응에 의해 일어난다.
추가의 다관능성 경화제는 2개 이상의 히드록실 기를 갖는 방향족 화합물을 포함한다. 그의 예는 페놀 또는 알킬화 페놀, 예컨대 크레졸과, 포름알데히드, 예를 들어 페놀 노볼락, 크레졸 노볼락 및 디시클로펜타디엔 노볼락과의 반응에 의해 수득가능한 수지; 추가로, 질소-함유 헤테로방향족의 수지, 예컨대 벤조구아나민-페놀-포름알데히드 수지 또는 벤조구아나민-크레졸-포름알데히드 수지, 아세토구아나민-페놀-포름알데히드 수지 또는 아세토구아나민-크레졸-포름알데히드 수지, 및 멜라민-페놀-포름알데히드 수지 또는 멜라민-크레졸-포름알데히드 수지, 및 또한 히드록실화 아렌, 예컨대 히드로퀴논, 레조르시놀, 1,3,5-트리히드록시벤젠, 1,2,3-트리히드록시벤젠 (피로갈롤), 1,2,4-트리히드록시벤젠 (히드록시히드로퀴논), 3,4,5-트리히드록시벤조산 (갈산) 또는 그의 유도체, 1,8,9-트리히드록시안트라센, (디트라놀 또는 1,8,9-안트라센트리올), 1,2,10-트리히드록시안트라센 (안트라로빈) 및 2,4,5-트리히드록시피리미딘; 추가로, 히드록실화 아렌에 의해 치환된 알칸, 예컨대 트리페놀메탄, 트리페놀에탄 및 테트라페놀에탄이다. 추가 예는 WO 2006/034445 (그 전문이 본원에 참조로 포함됨)에 기재된 바와 같은, 히드로퀴논 및 나프토퀴논으로부터 유도된 포스피네이트 및 포스포네이트이다.
추가의 다관능성 경화제는 티올, 이미다졸, 예컨대 이미다졸, 1-메틸이미다졸, 2-메틸이미다졸, 2-에틸-4-메틸이미다졸, 1-시아노에틸이미다졸 및 2-페닐이미다졸 및 이미다졸린, 예컨대 2-페닐이미다졸린을 포함한다.
블로킹된 이소시아네이트는 수계 코팅을 위한 잠재성 경화제로서 보다 최근에 사용되었다.
디시안디아미드 (디시), HN=C(NH2)(NHCN)은 분말 코팅 및 전기 라미네이트에 빈번히 사용되는 잠재성 다관능성 경화제이다.
또한, 비스구아니딘으로 공지된, 디시와 아민의 반응 생성물, 예컨대 반티코(Vantico)로부터의 HAT 2844가 적합하다.
추가의 적합한 잠재성 다관능성 경화제는 붕소 트리플루오라이드-아민 부가물, 예컨대 BF3-모노에틸아민 및 4급 포스포늄 화합물이다.
본 발명에 따른 조성물은 하나 이상의 가교제를 함유할 수 있다.
적합한 가교제는 멜라민 화합물, 예를 들어 멜라민, 모노메티롤 멜라민, 디메티롤 멜라민, 트리메티롤 멜라민, 테트라메티롤 멜라민, 펜타메티롤 멜라민, 헥사메티롤 멜라민, 모노부티롤 멜라민, 디부티롤 멜라민, 트리부티롤 멜라민, 테트라부티롤 멜라민, 펜타부티롤 멜라민, 헥사부티롤 멜라민, 모노메톡시메틸 멜라민, 디메톡시메틸 멜라민, 트리메톡시메틸 멜라민, 테트라메톡시메틸 멜라민, 펜타메톡시메틸 멜라민, 헥사메톡시메틸 멜라민, 모노부톡시메틸 멜라민, 디부톡시메틸 멜라민, 트리부톡시메틸 멜라민, 테트라부톡시메틸 멜라민, 펜타부톡시메틸 멜라민, 헥사부톡시메틸 멜라민 및 구아나민 화합물, 예를 들어 아세토구아나민, 벤조구아나민, 모노메티롤 벤조구아나민, 디메티롤 벤조구아나민, 트리메티롤 벤조구아나민, 테트라메티롤 벤조구아나민 및 알킬화 메티롤 벤조구아나민을 추가로 포함한다.
본 발명의 열 경화성 조성물은 또한 첨가제로서 하나 이상의 염료를 포함할 수 있다. 해당 염료는 예를 들어 이러한 조성물에 대해 전형적인 분자적 분산 가용성 염료, 또는 용매 염료일 수 있다.
적합한 유동 조절 보조제는 예를 들어 개질된 실리콘 오일, 예컨대 알타나-빅(Altana-Byk)의 빅® 제품, 또는 고분자량 폴리아크릴레이트, 예컨대 월리(Worlee)의 레지플로우(Resiflow)® 제품이다.
첨가제로서 적합한 UV 안정화제 (광 안정화제)는 예를 들어 4,4-디아릴부타디엔, 신남산 에스테르, 트리아졸, 트리아진, 벤조페논, 디페닐시아노아크릴레이트, 옥사미드 (옥살아미드), 옥사닐리드 등이다. 적합한 입체 장애 아민은 예를 들어 2,2,6,6-테트라메틸피페리딘, 2,6-디-tert-부틸피페리딘 또는 그의 유도체, 예를 들어 비스(2,2,6,6-테트라메틸-4-피페리딜) 세바케이트이다. UV 안정화제는 전형적으로 열 경화성 조성물의 총 중량을 기준으로 하여 0.1 중량% 내지 5.0 중량%, 바람직하게는 0.5 중량% 내지 3.5 중량%의 양으로 사용된다.
적합한 습윤제는 예를 들어 실록산, 플루오린-함유 화합물, 카르복실산 모노에스테르, 인산 에스테르, 폴리아크릴산 및 그의 공중합체 또는 폴리우레탄이다.
적합한 필름-형성 보조제의 예는 셀룰로스 유도체이다.
본 발명의 코팅 조성물은 또한 첨가제로서 하나 이상의 레올로지 제어 첨가제를 포함할 수 있다. 적합한 레올로지 제어 첨가제는, 예를 들어 WO 94/22968, EP-A-0 276 501, EP-A-0 249 201 또는 WO 97/12945에 기재되어 있다. 또한, EP-A-0 008 127에 개시된 종류의 가교 중합체 마이크로입자; 예를 들어 무기 필로실리케이트, 바람직하게는 스멕타이트, 보다 특히 몬모릴로나이트 및 헥토라이트, 예컨대 알루미늄 마그네슘 실리케이트, 소듐 마그네슘 필로실리케이트 및 소듐 마그네슘 플루오린 리튬 필로실리케이트 (몬모릴로나이트 유형), 또는 무기 필로실리케이트, 예컨대 알루미늄 마그네슘 실리케이트, 소듐 마그네슘 필로실리케이트 및 소듐 마그네슘 플루오린 리튬 필로실리케이트 (몬모릴로나이트 유형), 실리카, 예컨대 에어로실(Aerosil) 또는 이온성 및/또는 회합 기와의 합성 중합체, 예컨대 폴리비닐 알콜, 폴리(메트)아크릴아미드, 가교 폴리(메트)아크릴산, 폴리비닐피롤리돈, 스티렌-말레산 무수물 또는 에틸렌-말레산 무수물 공중합체 및 그의 유도체, 또는 소수성 개질된 폴리아크릴레이트, 또는 문헌 [Roempp-Lexikon, Lacke und Druckfarben, Georg Thieme Verlag, Stuttgart, New York, 1998, "thickeners", pp. 599-600] 및 교본 ["Lackadditive" by Johan Bieleman, Wiley-VCH, Weinheim, New York, 1998, pp. 51-59 and 65]에 기재된 종류의 기타 폴리우레탄계 회합 증점제가 적합하다.
적합한 광잠재성 산의 예는 퀴논디아지드 화합물, 예를 들어 폴리히드록시 화합물의 1,2-퀴논디아지드술폰산 에스테르 화합물이다. 1,2-퀴논디아지드술포닐 기, 예를 들어 1,2-벤조퀴논디아지드-4-술포닐 기, 1,2-나프토퀴논디아지드-4-술포닐 기, 1,2-나프토퀴논디아지드-5-술포닐 기, 1,2-나프토퀴논디아지드-6-술포닐 기 등을 갖는 화합물이 바람직하다. 1,2-나프토퀴논디아지드-4-술포닐 기 또는 1,2-나프토퀴논디아지드-5-술포닐 기를 갖는 화합물이 특히 바람직하다. (폴리)히드록시페닐 아릴 케톤, 예컨대 2,3,4-트리히드록시벤조페논, 2,4,6-트리히드록시벤조페논, 2,3,4,4'-테트라히드록시벤조페논, 2,2',3,4-테트라히드록시벤조페논, 2,3,4,4'-테트라히드록시벤조페논, 2,2',4,4'-테트라히드록시벤조페논, 2,2',3,4,4'-펜타히드록시벤조페논, 2,2',3,2,6'-펜타히드록시벤조페논, 2,3,3',4,4'5'-헥사히드록시벤조페논, 2,3',4,4',5',6-헥사히드록시벤조페논 등의 1,2-퀴논디아지드술폰산 에스테르; 비스-[(폴리)히드록시페닐]알칸, 예컨대 비스(4-히드록시페닐)에탄, 비스(2,4-디히드록시페닐)에탄, 2,2-비스(4-히드록시페닐)프로판, 2,2-비스(2,4-디히드록시페닐)프로판, 2,2-비스-(2,3,4-트리히드록시페닐)프로판 등의 1,2-퀴논디아지드술폰산 에스테르; (폴리)히드록시페닐알칸, 예컨대 4,4'-디히드록시트리페닐메탄, 4,4'4"-트리히드록시트리페닐메탄, 4,4'5,5'-테트라메틸-2,2'2"-트리히드록시트리페닐메탄, 2,2,5,5'-테트라메틸-4,4',4"-트리히드록시트리페닐메탄, 1,1,1-트리스(4-히드록시페닐)에탄, 1,1-비스(4-히드록시페닐)-1-페닐에탄, 1,1-비스(4-히드록시페닐)-1-(4-[1-(히드록시페닐)-1-메틸에틸]페닐)에탄 등의 1,2-퀴논디아지드술폰산 에스테르; (폴리)히드록시페닐플라반, 예컨대 2,4,4-트리메틸-2',4',7-트리히드록시-2-페닐플라반, 2,4,4-트리메틸-2',4',5',6,7-펜타히드록시-2-페닐플라반 등의 1,2-퀴논디아지드술폰산 에스테르 등이 특히 적합하다.
적합한 코팅 첨가제의 추가 예는 교본 ["Lackadditive" by Johan Bieleman, Wiley-VCH, Weinheim, New York, 1998]에 기재되어 있다.
본 발명에 따른 조성물은 이러한 목적에 통상적인 장치에서 성분들을 혼합함으로써 제조된다.
본 발명에 따른 열 경화성 조성물은 임의의 유형의 기판에 코팅제로서 탁월하게 적합하다.
적합한 기판은 금속 (바람직하게는 주기율표의 8, 9, 10 또는 11 족의 금속, 예를 들어 Au, Ag, Cu), 산화물 물질 (예컨대 유리, 석영, 세라믹, SiO2), 절연 물질 (예를 들어 Si3N4), 반도체 (예를 들어, 도핑된 Si, 도핑된 Ge 및 GaAs), 금속 합금 (예를 들어, Au, Ag, Cu 등을 기재로 함), 반도체 합금, 중합체 (예를 들어, 폴리비닐클로라이드, 폴리올레핀, 예컨대 폴리에틸렌 및 폴리프로필렌, 폴리에스테르, 플루오로중합체, 폴리아미드, 폴리우레탄, 폴리알킬(메트)아크릴레이트, 폴리스티렌, 고무 및 그의 혼합물 및 복합체), 세라믹, 유리, 종이, 목재, 직물, 콘크리트, 세라믹 등이다.
기판은 목적하는 적용의 요건에 따라 곡면 또는 평면 모양을 갖는 가요성 또는 비가요성 고체 기판일 수 있다.
코팅된 기판은, 예를 들어 용액 또는 현탁액의 형태로 본 발명에 따른 열 경화성 조성물을 제조함으로써 제조될 수 있다. 용매 및 농도의 선택은 주로 조성물의 유형 및 코팅 공정에 따라 달라진다.
용액 또는 현탁액은 당업자에게 공지된 방법에 의해 기판에 균일하게 적용될 수 있다. 예를 들어, 스프레딩, 스프레잉, 딥핑, 롤링, 브러싱, 나이프코팅, 휠러-코팅, 커튼 코팅 공정, 리버스-롤 코팅, 정전기 방법 등에 의한 적용이 적합하다.
본 발명의 열 경화성 조성물은 프라이머, 서페이서, 착색된 탑코트 또는 베이스코트로서, 또는 클리어코트로서 사용될 수 있다. 이는 단독 코팅 조성물로서 또는 다층 코팅 중 하나 이상의 층에서 사용될 수 있다. 이는 또한 전처리된 기판, 예컨대 금속을 통상의 프라이머 등으로 코팅하는데 특히 적합하다. 코팅 조성물은 1 단계로 또는 달리 2 단계 또는 그 초과의 단계, 예컨대 예를 들어 1, 2 또는 3단계로 적용될 수 있다. 멀티코트 - 예를 들어, 2-, 3-, 4- 또는 5-코트 - 코팅 시스템이 얻어지도록 2종 이상의 코팅 조성물을, 예를 들어 하나 이상의 프라이머를 하나 이상의 탑코트와 조합하여 성공적으로 적용하는 것이 추가로 가능하다. 개별 적용 단계 사이에, 건조 및/또는 경화 단계를 수행할 수 있다. 코팅 조성물의 성질 및 목적 코팅의 성질에 따라, 코팅 조성물은 또한 웨트 온 웨트(wet on wet)로 적용될 수 있다.
적용된 조성물의 양은 처리된 표면의 바람직한 특성에 따라 통상의 방식으로 지시되고, 전형적으로 1 내지 500 g/m2 범위로 존재하고, 코팅 조성물의 비휘발성 구성성분으로 간주된다. 멀티코트 시스템의 경우에, 코팅 조성물의 양은 전형적으로 코트당 1 내지 200 g/m2이다.
바람직하게는, 에폭시 수지의 경화는, 바람직하게는 5 내지 300℃, 보다 바람직하게는 20 내지 250℃, 보다 더 바람직하게는 50 내지 230℃, 보다 특히 80 내지 230℃의 온도로 조성물을 가열함으로써 열적으로 달성된다. 적합한 온도는 특정한 화합물 (a), 화합물 (b) 및 임의로 조성물의 화합물 및 목적 경화 속도에 따라 달라진다. 적합한 온도 범위는 각각의 개별 경우에, 예를 들어 간단한 예비 시험을 기초로 당업자에 의해 결정될 수 있다.
대안적으로, 경화는 마이크로웨이브 유도를 사용하여 수행된다.
UV-경화 시스템은 화학 방사선, 예컨대 UV 광 또는 전자 빔의 적용에 의해 경화된다. 이중-경화 시스템의 경우에, 일반적 접근법은 먼저 UV 경화를 수행하고 이어서 열 경화를 수행하는 것일 것이다.
공지된 바와 같이, 불포화 화합물의 광중합은 특히 박층에서 대기중 산소에 의해 억제될 수 있다. 이러한 효과는 공지된 통상의 방법, 예를 들어 폴리비닐 알콜의 일시적 커버 층의 적용, 또는 불활성 기체 하의 (전-)노출 또는 (전-)컨디셔닝에 의해 감소될 수 있다. 적합한 불활성 기체는 질소, 헬륨, 아르곤 등이다. 다수의 경우에, 불활성 기체의 스트림에 의해 산소 농도를 감소시키는 것이 충분하다.
본 발명에 따른 조성물의 노출은 다수의 다양한 광원에 의해 수행될 수 있다. 점광원 및 2차원 이미터 (램프 카펫) 둘 다가 적합하다. 그 예는 탄소 아크 램프, 크세논 아크 램프, 수은 증기 램프, 적절한 경우 금속 할라이드로 도핑된 것 (금속 할라이드 램프), 형광 램프, 백열 아르곤 램프, 전자 섬광 및 사진 투광이다. 400 내지 480 nm의 스펙트럼 영역에서 비교적 높은 방사선 강도를 갖는 램프가 특히 적합하다. 램프 및 본 발명에 따른 이미지 물질 사이에 거리는 적용 및 램프의 유형 또는 강도에 따라 달라질 수 있으며, 예를 들어 2 cm 내지 150 cm이다.
본 발명에 따른 조성물은 액정 디스플레이의 층의 제조에 특히 유용하다. 따라서, 이들은 예를 들어 컬러 필터의 오버코트 층 또는 액정 디스플레이의 절연 층 또는 유전 층을 제조하기 위해 사용될 수 있다.
특정한 실시양태에서, 본 발명에 따른 조성물은 컬러 필터의 오버코트 층을 형성하기 위해 사용된다. 컬러 필터는 액정 디스플레이 패널의 중요한 부분이고, 다양한 요건을 충족해야 한다. 예를 들어 컬러 필터의 내열성 및 내화학성이 중요하다. 전자 디스플레이는 통상적으로 녹색 필터 층을 갖는 녹색 컬러 필터; 청색 필터 층을 갖는 청색 컬러 필터; 적색 필터 층을 갖는 적색 컬러 필터 (RGB 컬러 필터) 및 임의로 블랙 매트릭스를 포함하는 컬러 필터 세트를 함유한다. 액정 디스플레이 패널을 형성하기 위해, 투명 층 (오버코트 층)은 컬러 필터 상에 형성되어야 하고 추가로 투명 전극으로 처리되어야 한다. RGB 컬러 필터 소자 및 블랙 매트릭스를 적용한 후에 투명 전극 층이 침착되는 경우에, 보호 층으로서 추가의 오버코트 필름이 전극 층의 침착 전에 컬러 필터 층 상에 적용될 수 있다. LCD에 대한 컬러 필터의 제조는, 예를 들어 US 5650263 (본원에 참조로 포함됨)에 기재되어 있다.
컬러 필터의 오버코트 층을 형성하기 위해, 통상적으로 열경화성 조성물이 사용된다. 본 발명의 조성물은 또한 이러한 오버코트 층을 형성하기 위해 열경화성 조성물로서 사용될 수 있다.
본 발명의 조성물의 경화 필름은 하기 유리한 특성 중 적어도 하나를 갖는다: 탁월한 평탄성, 우수한 경도, 우수한 내화학성 및/또는 내열성, 특히 가시 영역에서의 우수한 투명성, 다양한 기판에 대한 우수한 접착성, 투명 전도성 필름, 예를 들어 ITO 필름을 형성하는 것에 대한 적합성.
예를 들어 기판을 절단하기 위한 스크라이빙 선 및 고체 이미지 센서의 결합 패드 상에서 보호 층의 불필요한 부분을 기판으로부터 용이하게 제거할 수 있어야 하는 것이 보호 층에 요구된다 (예를 들어, JP57-42009-A, JP1-130103-A 및 JP1-134306-A 참조). 열적으로만 경화된 수지는 본 적용에 항상 최적이지는 않다. 놀랍게도, 본 발명에 이르러, 광중합성 성분을 포함하는 본 발명에 따른 열경화성 조성물 (이중 경화 조성물)이 포토리소그래피에 의해 보호 층의 불필요한 부분을 용이하게 제거하도록 하는 것으로 밝혀졌다.
본 발명에 따른 감광성 성분을 포함하는 열경화성 조성물은, 스위칭 장치로서 박막 트랜지스터 (TFT)를 갖는 능동 매트릭스 유형 디스플레이 및 스위칭 장치가 없는 수동 매트릭스 유형을 비롯한 액정 디스플레이에서 층간 절연 층 또는 유전 층을 제조하는데 또한 적합하다.
최근에, 액정 디스플레이는, 예를 들어 그의 얇은 두께 및 가벼운 중량으로 인해 포켓형 TV 세트 및 통신용 단말기 장치에 광범위하게 사용되고 있다. 배면광을 사용할 필요가 없는 반사 유형 액정 디스플레이가 초박형이고 경량이기 때문에 특히 요구되며, 이는 전력 소비를 현저하게 감소시킬 수 있다. 그러나, 배면광이 현재 입수가능한 투과 유형 컬러 액정 디스플레이로부터 제거되고 광 반사 플레이트가 디스플레이의 하부 표면에 부가될지라도, 광 이용 효율이 낮다는 점에서 문제를 초래할 것이며, 실용적인 휘도를 갖는 것이 가능하지 않다.
이러한 문제에 대한 해결책으로서, 광 이용 효율을 증진시키기 위한 다양한 반사 유형 액정 디스플레이가 제안되어 왔다. 예를 들어, 특정 반사 유형 액정 디스플레이가 반사 기능을 갖는 픽셀 전극을 포함하도록 고안된다.
반사 유형 액정 디스플레이는 절연 기판, 및 절연 기판과 이격된 대향 기판을 포함한다. 기판 사이의 공간은 액정으로 충전된다. 게이트 전극은 절연 기판 상에 형성되고, 게이트 전극 및 절연 기판은 둘 다 게이트 절연 필름으로 피복된다. 이어서, 반도체 층은 게이트 전극 위의 게이트 절연 필름 상에 형성된다. 소스 전극 및 드레인 전극은 또한 반도체 층과 접촉하여 게이트 절연 필름 상에 형성된다. 소스 전극, 드레인 전극, 반도체 층 및 게이트 전극은 상호 공조함으로써 스위칭 장치로서 하부 게이트 유형 TFT를 구성한다. 층간 절연 필름은 소스 전극, 드레인 전극, 반도체 층, 및 게이트 절연 필름이 이로 피복되도록 형성된다. 콘택트 홀은 드레인 전극 상의 층간 절연 필름 전반에 걸쳐 형성된다. 알루미늄으로 제조된 픽셀 전극은 층간 절연 필름 및 콘택트 홀의 내부 측벽 둘 다에 형성된다. 그 결과, TFT의 드레인 전극은 층간 절연 필름을 통해 픽셀 전극과 접촉하게 된다. 층간 절연 층은, 일반적으로 조면화된 표면을 가져서 픽셀 전극이 보다 넓은 시야각 (가시각)이 수득되도록 광을 확산시키는 반사 플레이트로서 작용하도록 고안된다. 반사 유형 액정 디스플레이는 픽셀 전극이 광 반사 플레이트로 작용함으로써 광 이용 효율을 두드러지게 증진시킨다.
상기 언급된 반사 유형 액정 디스플레이에서, 층간 절연 필름은 포토리소그래피에 의해 돌출부 및 오목부를 갖도록 고안된다. 표면 조도에 있어서 마이크로미터 단위로 미세한 형태의 돌출부 및 오목부를 형성 및 제어하기 위해, 및 콘택트 홀을 형성하기 위해, 포지티브 및 네가티브 포토레지스트를 사용하는 포토리소그래피 방법이 사용된다. 이러한 레지스트를 위해, 본 발명에 따른 조성물이 특히 적합하다.
층간 절연 필름은 또한 투과 유형 액정 디스플레이에 사용될 수 있다.
본 발명에 따른 열경화성 조성물은 액정 디스플레이 패널에서 칼럼 스페이서를 제조하는데 추가로 사용될 수 있다. 액정 디스플레이 장치에서, 이미지를 디스플레이할 수 있는 액정 층은 일반적으로 예정된 배향에 따라 한 쌍의 기판 사이에 배열된다. 기판 사이에 균일한 거리를 유지하는 것, 즉 액정 층의 균일한 두께를 유지하는 것은 이미지 품질을 결정하는 한가지 요소이다. 이 목적을 위해, 스페이서를 배치하여 액정 층의 두께를 균일하게 유지한다. 기판 사이에 거리는 일반적으로 "셀 두께"로 칭해진다.
셀 두께는 통상적으로 액정 층의 두께, 즉 디스플레이 영역에서 액정에 전기장을 적용하기 위한 2개의 전극 사이의 거리를 나타낸다.
스페이서는 산란 비드에 의해 형성된다. 그러나, 최근 몇 년 동안, 스페이서는 감광성 조성물을 사용하는 포토리소그래피에 의해 높은 위치 정밀도로 형성되었다. 감광성 조성물을 사용하여 형성된 이러한 스페이서는 포토스페이서로 칭해진다.
액정 디스플레이에서 액정 층을 통해 투과 또는 반사되는 광의 특성은 셀 갭에 의존하기 때문에, 픽셀 어레이에 걸친 두께 정확성 및 균일성이 액정 디스플레이 유닛의 성능에 대한 결정적 파라미터이다. 스페이서로서 셀 갭에서 칼럼을 형성하는 방법이 개발되었다. 상기 방법에서, 수지의 칼럼이 픽셀 어레이 영역과 상대 전극 사이의 영역에 스페이서로서 형성되어, 소정의 셀 갭이 형성된다.
예를 들어 컬러 필터의 제조 공정에서, 포토리소그래피를 사용한 접착 특성을 갖는 감광성 물질이 통상적으로 사용된다. 이러한 방법은, 스페이서 비드를 사용하는 통상의 방법에 비해 스페이서의 배치, 개수 및 높이가 자유롭게 제어될 수 있다는 점에서 유리하다. 컬러 액정 디스플레이 패널에서, 이러한 스페이서는 컬러 필터 소자의 블랙 매트릭스 하의 비이미지화 영역에 형성된다. 따라서, 감광성 조성물을 사용하여 형성된 스페이서는 휘도 및 광학 개구를 감소시키지 않는다.
컬러 필터를 위한 스페이서를 갖는 보호 층을 제조하기 위한 감광성 조성물은 JP2000-81701A에 개시되어 있으며, 스페이서 물질을 위한 건조 필름 유형 포토레지스트는 또한 JP11-174459A 및 JP11-174464A에 개시되어 있다. 상기 문헌에 기재된 바와 같이, 감광성 조성물, 액체 및 건조 필름 포토레지스트는 적어도 알칼리 또는 산 가용성 결합제 중합체, 라디칼 중합성 단량체, 및 라디칼 개시제를 포함하고 있다. 에폭시드 및 옥세탄과 같은 열 가교성 성분이 추가로 포함된다.
감광성 조성물을 사용하여 스페이서를 형성하는 단계는 하기와 같다:
감광성 조성물을 기판, 예를 들어 컬러 필터 패널에 적용하고, 기판을 프리베이킹한 후, 이를 마스크를 통해 광에 노광시킨다. 이어서, 기판을 현상제로 현상하고, 패턴화하여, 목적하는 스페이서를 형성한다. 포스트베이킹을 수행하여, 조성물을 열 경화시킨다.
본 발명에 따른 광경화성 열경화성 조성물은 액정 디스플레이를 위한 스페이서 (상기 기재된 바와 같음)를 제조하는데 특히 적합하고, 탁월한 적용 특성, 예를 들어 탁월한 경도, 내화학성 및/또는 내열성 및 우수한 변형 복원성을 갖는 경화 필름으로 이어진다.
본 발명에 따른 감광성 성분을 포함하는 열경화성 조성물은, 스위칭 장치로서 TFT를 갖는 능동 매트릭스 유형 디스플레이 및 스위칭 장치 및 기타 장치 예컨대 이미지 센서가 없는 수동 매트릭스 유형을 비롯한 액정 디스플레이를 위한 컬러 필터를 제조하는데 또한 적합하다.
컬러 필터는 통상적으로 유리 기판 상에 적색, 녹색 및 청색 픽셀 및 임의로 블랙 매트릭스를 형성함으로써 제조된다. 특히 바람직한 사용 방법은, 적색, 녹색 및 청색의 착색 물질, 염료 및 안료를 본 발명의 감광성 수지 조성물에 첨가하고, 기판을 상기 조성물로 코팅하고, 코팅을 단시간 열 처리로 건조시키고, 코팅을 화학 방사선에 패턴형성방식으로 노출시킨 후, 패턴을 수성 알칼리 현상제 용액에서 현상하고, 열 처리하는 것을 포함한다. 따라서, 상기 공정을 사용하여 각각의 상부에 적색, 녹색 및 청색 착색된 코팅을 임의의 바람직한 순서로 순차적으로 적용함으로써, 적색, 녹색 및 청색 컬러 픽셀이 있는 컬러 필터 층이 제조될 수 있다.
컬러 필터를 제조하기 위한 네가티브 또는 포지티브 레지스트는 JP1995-281440, JP1996-334893, JP1997-325483, 1997-197660, JP1995-261015 및 WO9418274에 개시되어 있다.
본 발명에 따른 조성물은 또한 하기 적용에 유리하게 사용될 수 있다:
접착제, 예를 들어 전자 장치, 예컨대 반도체 IC, 반도체 장치, 인쇄 회로 기판, LCD 패널, PDP, EL, FED에서의 전자 또는 광학 물질용; 디스플레이 패널과 가요성 인쇄 회로 기판 (FPC) 사이, 또는 칩 온 FPC (COF)와 테이프 캐리어 패키지 (TCP) 사이의 접합용; 반도체 IC와 회로 기판 사이의 마이크로-접합용: 광학 부품 고정용.
전자 부품, 예컨대 반도체 소자, 및 지지 부재, 예컨대 리드 프레임 및 절연 지지 기판을 접합시키기 위한 다이 본딩 물질; 예를 들어, 다이싱 / 다이 본딩 테이프, 리드 프레임 고정 테이프 및 LOC 고정 테이프; 회로-상호연결 핫-멜트 접착 필름, 이방성 전도성 접착제, 감압성 접착제 및 접착 시트를 통한 전기 부품의 핫 프레스 본딩용.
실란트, 예를 들어 디스플레이 소자, 예컨대 액정 패널, 플라즈마 디스플레이 패널 및 전계발광 소자용; 광전자 반도체, 예컨대 LED 또는 CCD용; 반도체, 예컨대 다이오드, 트랜지스터, IC, VLSI의 전자 부품용; 고-밀도 기록 매체, 예컨대 자기-광학 디스크용; 태양 전지 및 광 도파관용.
절연 물질, 예를 들어 전기 또는 전자 부품, 예컨대 인쇄 회로 기판의 회로와 절연체 사이의 절연 층용; 절연 코일용; 와이어 절연용.
코팅 조성물, 예를 들어 보호 코팅, 장식 코팅, 절연 코팅, 분말 코팅, 표면-코팅, 텍스타일 코팅용; 자동차 탑코트 페인트로서 사용되는 통상의 유기 용매 유형 페인트의 코팅 필름.
함침 조성물, 예를 들어 금속, 목재, 시멘트 등을 위한 접착제의 제조에서; 강화 복합 생성물, 예컨대 라미네이트 생성물, 필라멘트 와인딩, 시트 성형 화합물 (SMC), 전기 라미네이트, 성형 분말, 유동층 분말, 포팅 화합물 등의 제조에서; 고전압 또는 저전압 부품 또는 전자 부품용; 액체 또는 고체 코팅, 전형적으로 페인트, 래커 또는 분말 코팅용; 함침 수지 또는 함침 테이프, 예컨대 유리 섬유 함침 테이프.
라미네이트, 예를 들어 전자 부품을 위한 라미네이팅 수지, 및 구리-배선 라미네이트 시트.
성형 물질, 예를 들어 저압 성형 화합물로서 또는 그것에서.
주조 물질, 예를 들어 변압기의, 특히 코일의, 예를 들어 자동차 점화 코일의 제조를 위한 주조 수지로서 또는 그것에서.
기판, 예를 들어 배선 기판에 반도체 소자 또는 반도체 집적 회로를 탑재하는데 사용되는 반도체 연결을 위한 기판 (즉, 인터포저), 예컨대 TAB-유형 패턴 처리 테이프 및 BGA 패키지용 인터포저; 디스플레이용 플라스틱 기판.
기타 용도는 예를 들어 인쇄 잉크, 페인트, 인쇄용 컬러-교정 물질, 래커, 바니시, 예컨대 글로스 바니시; 포팅 화합물, 특히 축전기를 위한 디핑 수지, 특히 캡슐화 또는 함침 대상을 위한 매트릭스 수지, 건축 재료, 렌즈, 솔더 레지스트 조성물이다.
하기 실시예는 본 발명을 더욱 상세히 예시하지만, 본 발명의 범위를 이들 실시예로만 제한하지는 않는다. 달리 언급되지 않는 한, 부 및 백분율은 나머지 상세한 설명 및 특허청구범위에서와 같이 중량 기준이다. 3개 초과의 탄소 원자를 갖는 알킬 라디칼이 구체적 이성질체에 대한 언급 없이 실시예에서 지칭되는 경우에는, 각 경우에 n-이성질체를 의미한다.
실시예 1
S1
Figure 112014109866223-pct00028
의 제조
벤질 알콜 0.66 g 및 시클로헥산티올 0.23 g에 메탄술폰산 1.54 g을 실온에서 첨가하고, 3.5시간 동안 교반하였다. 반응 혼합물을 NaHCO3 수용액으로 중화시킨 다음, 수성 층을 t-부틸 메틸 에테르로 3회 세척하였다. 수성 층에 WO2011104127에 따라 제조한 소듐 1,1,2-트리플루오로-3-히드록시프로판-1-술포네이트 0.44 g을 실온에서 첨가하고, 반응 혼합물을 30분 동안 교반하였다. 생성된 술포늄 술포네이트를 에틸 아세테이트로 추출하였다. 유기 층을 물로 2회 세척한 다음, 진공 하에 농축시켰다. 생성된 수지를 1,4-디옥산 및 헥산의 혼합 용매로 2회 세척하고, 백색 수지 0.68 g을 수득하였다.
실시예 4:
S4
Figure 112014109866223-pct00029
의 제조
벤질 알콜 0.17 g 및 1,4-비스(벤질티오)부탄 0.15 g에 메탄술폰산 0.58 g을 실온에서 첨가하고, 밤새 교반하였다. 반응 혼합물을 NaHCO3 수용액으로 중화시킨 후, 수성 층을 t-부틸 메틸 에테르로 세척하였다. 소듐 1,1,2-트리플루오로-3-히드록시프로판-1-술포네이트 0.25 g을 이 수성 층에 실온에서 첨가하고, 반응 혼합물을 1시간 동안 교반하였다. 생성된 술포늄 술포네이트를 에틸아세테이트 및 2-부타논으로 추출하였다. 유기 층을 반복해서 물로 세척한 다음, 진공 하에 농축시켰다. 생성된 수지를 t-부틸 메틸 에테르로 세척하고, 무색 수지 0.26 g을 수득하였다.
실시예 17:
S17
Figure 112014109866223-pct00030
의 제조
17.1 1,1,2-트리플루오로-3-벤조일옥시프로판-1-술포네이트의 제조
아세토니트릴 5 mL 중 소듐 1,1,2-트리플루오로-3-히드록시프로판-1-술포네이트 2.16 g의 현탁액에 아세토니트릴 1 mL 중 벤조일클로라이드 2.81 g에 이어서 아세토니트릴 1 mL 중 트리에틸아민 2.13 g을 실온에서 적가하였다. 밤새 교반한 후, 반응 혼합물을 농축시키고, 잔류물을 t-부틸 메틸 에테르로 세척하였다. 물 및 에틸 아세테이트를 이 잔류물에 첨가하고, 유기 층을 농축시켰다. 트리에틸암모늄 염 2.96 g을 무색 오일로서 수득하였다.
Figure 112014109866223-pct00031
17.2 S17의 제조
트리에틸암모늄 1,1,2-트리플루오로-3-벤조일옥시프로판-1-술포네이트 0.80 g을 물 중에 용해시키고, 이 수성 층을 t-부틸 메틸 에테르로 세척하였다. 이 수용액에 트리벤질술포늄 히드로겐술포네이트 0.81 g에 이어서 에틸 아세테이트 2 mL를 첨가하였다. 실온에서 1시간 동안 교반한 후, 2-부타논을 첨가하고, 유기 층을 분리하고, 물로 세척하였다. 백색 고체 1.13 g을 진공 하에 유기 용매를 제거한 후 수득하였다.
하기 신규 화합물을 유사한 방식으로 제조하였다.
Figure 112014109866223-pct00032
Figure 112014109866223-pct00033
Figure 112014109866223-pct00034
Figure 112014109866223-pct00035
Figure 112014109866223-pct00036
적용 실시예
실시예 A1: 에폭시 제제의 열 경화 시험
에폭시 제제를 하기를 혼합함으로써 제조하였다:
폴리[(o-크레실 글리시딜 에테르)-코-포름알데히드] (시그마-알드리치(Sigma-Ardrich)) 25.0 중량부
프로필렌 글리콜 모노메틸 에테르 아세테이트 75.0 중량부
실시예에 따른 술포늄 술포네이트 0.5 중량부
시험되는 술포늄 술포네이트를 폴리[(o-크레실 글리시딜 에테르)-코-포름알데히드]의 용액에 첨가하고, 혼합하였다. 혼합물을 스핀 코팅기 (1H-DX2, 미카사(MIKASA))를 사용하여 실리콘 웨이퍼에 적용하였다. 용매를 대류 오븐에서 80℃에서 2분 동안 가열함으로써 제거하였다. 건조 필름의 두께는 대략 1.2 μm였다. 코팅을 150℃에서 60분 동안 또는 180℃에서 60분 동안 추가로 베이킹하였다. 베이킹 중 에폭시 기의 전환율을 베이킹 전 및 후에 FT-IR 분광계 (FT-720, 호리바(HORIBA))를 사용하여 910 cm-1에서 IR 흡수를 측정함으로써 결정하였다. 전환율이 더 높을수록, 시험된 술포늄 술포네이트는 보다 더 활성이다. 시험 결과를 하기 표 2에 제시하였다.
비교 실시예 1 및 2의 화합물을 포함하는 제제를, 제제에서 C2의 함량이 0.5 중량부 대신에 1 중량부인 것을 제외하고는 상기 기재된 바와 같은 동일한 방식으로 처리하였다.
<표 2>
Figure 112014109866223-pct00037
C1:
Figure 112014109866223-pct00038
산-에이드 SI-80, 산신 케미칼 인더스트리 캄파니, 리미티드의 제품
C2:
Figure 112014109866223-pct00039
산-에이드 SI-110L, 산신 케미칼 인더스트리 캄파니, 리미티드의 제품

Claims (15)

  1. 하기 화학식의 화합물.
    Figure 112016037988466-pct00072

    Figure 112016037988466-pct00073

    Figure 112016037988466-pct00074
  2. (a) 양이온 중합이 일어날 수 있는 하나 이상의 화합물; 및
    (b) 제1항에서 정의된 하나 이상의 화합물
    을 포함하는 열-경화성 조성물.
  3. 제2항에 있어서, 양이온 중합이 일어날 수 있는 화합물이 에폭시 기, 옥세탄 기 및 비닐 에테르 기로부터 선택된 하나 이상의 기를 갖는 것인 열-경화성 조성물.
  4. 제2항에 있어서, 양이온 중합이 일어날 수 있는 화합물이 에폭시 수지인 열-경화성 조성물.
  5. 제2항 내지 제4항 중 어느 한 항에 있어서, 용매, 반응성 희석제, 광개시제, 광산 발생제, 안료, 분산제, 에틸렌계 불포화 화합물, 화합물 (a)와 상이하고 에틸렌계 불포화 화합물과 상이한 결합제, 증감제, 제1항에서 정의된 화합물과 상이한 열 경화 촉진제, 및 추가의 첨가제로부터 선택된 하나 이상의 추가의 성분을 포함하는 열-경화성 조성물.
  6. (a) 양이온 중합이 일어날 수 있는 하나 이상의 화합물; 및
    (b) 제1항에 정의된 하나 이상의 술포늄 화합물
    을 포함하는 조성물을 기판에 적용하고 상기 조성물을 열을 사용한 처리에 노출시키는 것을 포함하는, 양이온 중합성 조성물의 경화 방법.
  7. 열산 발생제 화합물로서 제1항에 정의된 화합물을 사용하는 방법.
  8. 제2항 내지 제4항 중 어느 한 항에 있어서, 평판 디스플레이의 층 또는 부재를 제조하기 위해 사용되는 열-경화성 조성물.
  9. 제8항에 있어서, 평판 디스플레이가 액정 디스플레이, OLED 디스플레이 또는 플라즈마 디스플레이 패널인 것인 열-경화성 조성물.
  10. 제8항에 있어서, 컬러 필터의 오버코트 층, 또는 절연 층 또는 유전 층을 제조하기 위해 사용되는 열-경화성 조성물.
  11. 제8항에 있어서, 착색 및 비착색 페인트, 인쇄 잉크, 인쇄 플레이트, 접착제, 치과용 조성물 또는 겔 코트를 제조하기 위해 사용되는 열-경화성 조성물.
  12. 제6항에 있어서, 평판 디스플레이의 층 또는 부재를 제조하기 위한 것인, 양이온 중합성 조성물의 경화 방법.
  13. 제6항에 있어서, 컬러 필터의 오버코트 층, 또는 절연 층 또는 유전 층을 제조하기 위한 것인, 양이온 중합성 조성물의 경화 방법.
  14. 제2항에 따른 조성물로 하나 이상의 표면 상에 코팅된 코팅 기판.
  15. 삭제
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