KR101360537B1 - 하이드로탈사이트류 화합물 입자, 당해 입자를 이용한 수지안정제, 할로겐 함유 수지 조성물 및 당해 입자를 이용한음이온 포착재 - Google Patents

하이드로탈사이트류 화합물 입자, 당해 입자를 이용한 수지안정제, 할로겐 함유 수지 조성물 및 당해 입자를 이용한음이온 포착재 Download PDF

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Abstract

본 발명은, 탄소수 3 이상의 유기 화합물로 표면 처리되어 있고, 비표면적이 5㎡/g 내지 150㎡/g이며, 온도 25℃, 습도 50％로 250시간 폭로한 경우의 수증기 흡착 곡선으로부터 산출되는 마이크로 포어 및 울트라 마이크로 포어에 상당하는 개념값 x 및 매크로 포어 및 마이크로 포어 용적에 상당하는 개념값 y가 특정 범위 내인 하이드로탈사이트류 화합물 입자에 있다. 본 발명에 관한 하이드로탈사이트류 화합물 입자는 각종 수지 중의 미량 할로겐을 포착하고, 우수한 열화 억제 효과를 발휘한다. 또한, 본 발명에 관한 하이드로탈사이트류 화합물 입자는 하이드로탈사이트류 화합물 입자 자체가 용해하지 않고, 분말상 또는 성형체로서, 용액으로부터 음이온성의 유기·무기 화합물을 포착하는 기능을 최대한으로 발휘한다.
하이드로탈사이트류 화합물 입자, 수지 안정제, 할로겐 함유 수지 조성물, 할로겐 포착재, 음이온 포착재

Description

하이드로탈사이트류 화합물 입자, 당해 입자를 이용한 수지 안정제, 할로겐 함유 수지 조성물 및 당해 입자를 이용한 음이온 포착재{HYDROTALCITE PARTICLES, RESIN STABILIZERS COMPRISING THE SAME, HALOGEN-CONTAINING RESIN COMPOSITIONS, AND ANION SCAVENGERS COMPRISING THE PARTICLES}
본 발명은, 하이드로탈사이트류 화합물 입자, 당해 입자를 이용한 수지 안정제, 할로겐 함유 수지 조성물 및 당해 입자를 이용한 음이온 포착재에 관한 것이다. 상세하게는, 본 발명은 수지에 첨가한 경우에 열 안정성 및 초기 착색의 억제에 우수한 효과를 발휘하는 하이드로탈사이트류 화합물 입자, 당해 입자를 이용한 수지 안정제, 할로겐 함유 수지 조성물 및 당해 입자를 이용한 음이온 포착재에 관한 것이다.
종래, 할로겐 함유 수지의 특히 가열 가공시의 열적 안정성을 얻기 위해서 납 화합물의 첨가가 행해져 왔다. 그러나 근년, 납 화합물의 환경이나 인체에 대한 영향이 문제시되고, 납 화합물 대신에, 환경이나 인체로의 부하가 더 작은 주석 화합물, 점토 광물인 하이드로탈사이트류 화합물 등이 사용되도록 이루어져 왔다.
하이드로탈사이트류 화합물은 일반적으로 다음 화학식에 의해 표시된다.
[M2 + 1- xM3 + x(OH)2]x+[An - x/n·yH2O]x-
(M2 +는 Mg2 +, Zn2 +, Ca2 +, Fe2 +, Co2 +, Ni2 + 및 Cu2 +의 이가 금속 이온으로부터 선택되는 적어도 1종 또는 Li+이고, M3 +는 Al3 +, Fe3 +, Mn3 + 및 Cr3 +의 삼가 금속 이온으로부터 선택되는 적어도 1종이고, An-는 OH-, Cl-, CO3 2 -, SO4 2 -나 무기물 음이온 유기물 음이온 등의 n가의 음이온이고, x는 0.2 내지 0.56의 범위이다. y는 통상 0.5인데, 흡착수에 의해 0.5를 초과하거나, 반대로 탈수 처리에 의해 0.4 또는 0.2로 된다. 그리고, x가 0에 한없이 가깝게 가는 처리를 하면, 하이드로탈사이트류 화합물의 구조가 붕괴하고, 산화물 또는 복합 산화물로 된다. 그 때문에, 결정수는 사용되는 용도에 따라 일반적으로 제어되어 있다.)
하이드로탈사이트류 화합물의 결정 구조는, 양전하를 가지는 정팔면체의 수활석(brucite) 단위가 늘어선 이차원 기본층과 음전하를 가지는 중간층으로 이루어지는 적층 구조이다. 본 발명의 하이드로탈사이트류 화합물로서는, 상기 화학식에서, M2 +가 Ni2 +, Cu2 +, Fe2 +, Mg2 +, Ca2 +, Zn2 + 또는 Li+이고, M3 +가 Al3 + 또는 Fe3 +이고, x=0.2 내지 0.56이고, An -가 특별히 한정되지 않는 하이드로탈사이트류 화합물이 바람직하게 사용된다.
그리고, 하이드로탈사이트류 화합물 입자를 수지의 안정제로서 사용하는 경우, 입자의 분산성을 향상시키기 위해서, 및 할로겐 함유 수지를 가열하여 가공할 때에 발생하는 할로겐에 의한 하이드로탈사이트류 화합물 입자 자체의 열화를 억제하기 위해서, 입자 표면이 통상 유기 화합물로 표면 처리되어 있다.
표면 처리로서는, 특히 할로겐으로부터 하이드로탈사이트류 화합물 입자 자체를 보호하기 위해서, 입자 표면의 전체를 유기 화합물에 의해 두껍게 피복하도록 설계된다. 그러나, 유기 화합물에 의한 표면 피복을 두껍게 하는 것은, 하이드로탈사이트류 화합물 입자의 기능을 저하시키게 되어, 안정제나 수지 조성물의 열 안정성에 대하여 우수한 효과를 발휘할 수 없는 결점을 일으킨다.
또한, 배수 중에 포함되는 할로겐 화합물, 할로겐 이온 또는 분자, 음이온성의 유기·무기 화합물을 제거하기 위해서, 하이드로탈사이트류 화합물이 이용되고 있다.
예를 들면, 배수 중에 미량으로 포함되는 요오드나 음이온 유기 화합물 등을 제거하는 방법으로서는, 하이드로탈사이트류 화합물을 분말 또는 각종 성형체로 가공한 것을 당해 배수에 접촉시키고, 접촉 면적 외에 온도나 시간, 통수량 등을 관리함으로써, 거의 모든 요오드나 음이온 유기 화합물 등을 제거하는 방법이 예시된다. 또한, 활성탄을 하이드로탈사이트류 화합물과 병용함으로써, 우선, 요오드나 음이온 유기 화합물량이 더 많은 영역에서의 흡착을 활성탄으로 행한 후, 요오드나 음이온 유기 화합물이 미량인 영역에서의 흡착을 하이드로탈사이트류 화합물로 행하는 방법도 있다.
그러나, 이 할로겐 포착 또는 흡착의 용도에 사용되는 하이드로탈사이트류 화합물은 Mg, Al계나 Ca, Al계 또는 이들의 혼상이 베이스인 경우가 많아, 배수와 접촉함으로써, 알칼리 토류 금속 원소인 Mg나 Ca가 용출할 뿐만 아니라, 배수가 고알칼리 또는 강산성이면 Al의 용출도 심해지기 때문에, 유기 화합물에 의한 표면 처리에 의해 하이드로탈사이트류 화합물 입자를 보호할 필요가 있다. 그러나, 종래의 표면 처리는 유기 화합물의 종류 및 처리량의 점에서 불충분하고, 그 결과, 표면 처리한 하이드로탈사이트류 화합물 입자를 할로겐 포착 또는 흡착의 용도에 사용한 경우, 할로겐 포착 또는 흡착 처리 후의 배수로부터, 용출된 Mg, Ca, Al 등의 원소를 제거하기 위해서 당해 배수의 pH 조정을 행하여 침전·여별 처리할 필요가 있어 여분의 설비 부대를 피할 수 없다.
한편, 폴리올레핀 수지의 생성시, 폴리올레핀 수지나 폴리아미드 수지 등으로 난연성을 부여할 때에 첨가하는 할로겐 함유 난연제 또는 할로겐 함유 난연 조제에 의해, 이들 수지에는 미량의 할로겐이 포함되어 있다. 그 결과, 열 가공시에 수지의 열화 등의 문제가 일어난다. 그리고, 이 열화를 억제하기 위해서, 할로겐 포착재로서 통상 하이드로탈사이트류 화합물 입자가 사용된다.
이 경우, 분산성을 향상시키기 위해서, 및 할로겐 함유 수지를 가열하여 가공할 때에 발생하는 할로겐에 의한 하이드로탈사이트류 화합물 입자 자체의 열화를 억제하기 위해서, 사용하는 하이드로탈사이트류 화합물 입자의 표면을 유기 화합물로 표면 처리하는 것이 요구되고 있다.
당해 표면 처리에서는, 특히 할로겐으로부터 하이드로탈사이트류 화합물 입자의 열화를 방지하기 위해서, 그 입자 표면의 전부를 유기 화합물에 의해 두껍게 피복하고자 하는 강한 요망이 있다. 그러나, 하이드로탈사이트류 화합물 입자 표 면의 전부를 유기 화합물에 의해 두껍게 피복하면, 할로겐과 하이드로탈사이트류 화합물 입자의 입자 표면과의 접촉 기회가 부족하고, 할로겐 캡처로서의 기능이 저하한다.
전술한 문제를 해결하기 위해서 여러 표면 처리제가 제안되어 있다(예를 들면, 특허 문헌 1 내지 12 참조).
그러나, 상기 특허 문헌에서는, 할로겐 함유 수지의 열 안정성이나 초기 착색 억제의 관점으로부터의 표면 처리제의 종류와 양의 조합의 최적화에 대해서는 전혀 고려되어 있지 않다.
또한, 상기 특허 문헌에서는, 폴리올레핀 수지를 생성할 때에 포함되는 미량의 할로겐의 포착이나, 폴리올레핀 수지, 폴리아미드 수지 등에 첨가되는 할로겐 난연제에 의한 가공시의 수지 열화의 억제를 위한 표면 처리제의 종류와 양의 조합을 최적화한 하이드로탈사이트류 화합물 입자에 대해서는 고려되어 있지 않다.
또한, 상기 특허 문헌에서는, 배수 등의 용액에 포함된 음이온의 흡착이나 하이드로탈사이트류 화합물 입자의 용해를 최소한으로 억제하기 위한 하이드로탈사이트류 화합물 입자의 표면 처리제의 종류와 양의 조합의 최적화에 대해서는 고려되어 있지 않다.
특허 문헌 1: 일본 특개 제2002-212355호 공보
특허 문헌 2: 일본 특개 제2003-147227호 공보
특허 문헌 3: 일본 특개 제2002-293535호 공보
특허 문헌 4: 일본 특개 제2003-040614호 공보
특허 문헌 5: 일본 특개 평06-345963호 공보
특허 문헌 6: 일본 특개 평07-062162호 공보
특허 문헌 7: 일본 특개 평05-214177호 공보
특허 문헌 8: 일본 특개 제2001-019428호 공보
특허 문헌 9: 일본 특개 제2000-024658호 공보
특허 문헌 10: 일본 특개 제2002-121461호 공보
특허 문헌 11: 일본 특개 평11-349850호 공보
특허 문헌 12: 일본 특표 제2002-506910호 공보
<발명의 개시>
<발명이 해결하고자 하는 과제>
본 발명은 상기한 문제점을 감안하여 이루어진 것으로, 본 발명의 목적은 수지에 첨가한 경우의 열 안정성 및 초기 착색의 억제가 우수하며, 폴리올레핀이나 폴리아미드 등의 각종 수지에 포함되는 미량의 할로겐 포착에 우수한 효과를 발휘하는 하이드로탈사이트류 화합물 입자를 제공한다.
본 발명의 다른 목적은 열 안정성 및 초기 착색의 억제에 우수한 효과를 발휘하는, 하이드로탈사이트류 화합물 입자를 이용한 수지 안정제를 제공한다.
본 발명의 다른 목적은 열 안정성이 우수하며 초기 착색이 억제된 할로겐 함유 수지 조성물을 제공한다.
본 발명의 다른 목적은 용액으로부터 음이온성의 유기·무기 화합물을 포착하는 기능을 가지는, 하이드로탈사이트류 화합물 입자를 이용한 음이온 포착제를 제공한다.
<과제를 해결하기 위한 수단>
상기 과제를 해결하기 위해서 예의 연구를 거듭한 결과, 특정의 유기 화합물로 표면 처리되고, 특정의 비표면적과 마이크로 포어 및 울트라 마이크로 포어 용적에 상당하는 특정의 개념값 x와 매크로 포어 및 마이크로 포어 용적에 상당하는 특정의 개념값 y를 가지는 하이드로탈사이트류 화합물 입자가, 수지에 첨가한 경우의 열 안정성 및 초기 착색의 억제에 우수한 효과를 발휘하는 것을 발견하여, 본 발명을 이루기에 이르렀다.
본 발명의 제1 요지는, 탄소수가 3 이상인 유기 화합물로 표면 처리되어 있고, 비표면적이 5㎡/g 내지 150㎡/g이며, 하이드로탈사이트류 화합물 입자를 온도 25℃, 습도 50％로 250시간 폭로한 경우의 P/PO=0.045 내지 0.355의 범위에서의 수증기 흡착 곡선으로부터 구해지는, 식:x=(P/(V×(PO-P)))/(P/PO)(단, V는 수증기 흡착량을 나타내고, P는 측정장 압력을 나타내고, PO는 대기압을 나타낸다.)의 x에 상당하는 값이 0.035 내지 0.60의 범위이고, 식:y=Vm/SBET(단, Vm은 P/PO=0.2에서의 수증기 흡착량을 나타내고, SBET는 시료의 비표면적을 나타낸다.)의 y에 상당하는 값이 0.22 내지 0.30인 하이드로탈사이트류 화합물 입자에 있다.
본 발명의 제2 요지는, 제1 요지의 하이드로탈사이트류 화합물 입자를 포함하는 수지 안정제에 있다.
본 발명의 제3 요지는, 할로겐 함유 수지 100중량부에 대하여, 제1 요지의 하이드로탈사이트류 화합물 입자를 0.01 내지 30중량부 함유하는 할로겐 함유 수지 조성물에 있다.
본 발명의 제4 요지는, 폴리올레핀 수지에 포함되는 미량의 할로겐 및/또는 수지 중의 할로겐계 첨가제로부터 발생하는 할로겐을 포착하는, 제1 요지의 하이드로탈사이트류 화합물 입자를 포함하는 할로겐 포착재에 있다.
본 발명의 제5 요지는, 용액으로부터의 음이온을 포착하는 제1 요지의 하이드로탈사이트류 화합물 입자를 분말상 또는 성형체상으로 가공하여 이루어지는 음이온 포착제에 있다.
<발명의 효과>
본 발명에 관한 하이드로탈사이트류 화합물 입자는 각종 수지 중의 미량 할로겐을 포착할 수 있어, 우수한 열화 억제 효과를 발휘할 수 있다. 또한, 본 발명에 관한 하이드로탈사이트류 화합물 입자는 하이드로탈사이트류 화합물 입자 자체가 용해하지 않고, 분말상 또는 성형체로서, 용액으로부터 음이온성의 유기·무기 화합물을 포착하는 기능을 최대한으로 발휘한다.
<발명을 실시하기 위한 최선의 형태>
본 발명의 구성을 상세하게 설명하면, 다음과 같다. 본 발명의 제1 요지의 하이드로탈사이트류 화합물 입자는, 탄소수가 3 이상인 유기 화합물로 표면 처리되어 있고, 비표면적이 5㎡/g 내지 150㎡/g이며, 하이드로탈사이트류 화합물 입자를 온도 25℃, 습도 50％로 250시간 폭로한 경우의 P/PO=0.045 내지 0.355의 범위에서의 수증기 흡착 곡선으로부터 구해지는, 식:x=(P/(V×(PO-P)))/(P/PO)(단, V는 수증기 흡착량을 나타내고, P는 측정장 압력을 나타내고, PO는 대기압을 나타낸다.)의 x에 상당하는 값이 0.035 내지 0.60의 범위이고, 식:y=Vm/SBET(단, Vm은 P/PO=0.2에서의 수증기 흡착량을 나타내고, SBET는 시료의 비표면적을 나타낸다.)의 y에 상당하는 값이 0.22 내지 0.30이다.
본 발명에 관한 탄소수가 3 이상인 유기 화합물로 표면 처리되어 있는 하이드로탈사이트류 화합물 입자의 비표면적은 5㎡/g 내지 150㎡/g, 바람직하게는 5㎡/g 내지 148㎡/g, 더 바람직하게는 5㎡/g 내지 145㎡/g이다.
비표면적이 5㎡/g 미만인 하이드로탈사이트류 화합물 입자를 공업적으로 생산하기는 어렵다. 비표면적이 150㎡/g을 초과하는 하이드로탈사이트류 화합물 입자는 할로겐에 의한 공격을 받아 용해하기 쉽기 때문에 사용할 수 없다.
본 발명에 관한 하이드로탈사이트류 화합물 입자는, 마이크로 포어 및 울트라 마이크로 포어 용적에 상당하는 개념값 x가 0.035 내지 0.60, 바람직하게는 0.04 내지 0.60, 더 바람직하게는 0.06 내지 0.59의 범위이다. 매크로 포어 및 마이크로 포어 용적에 상당하는 개념값 y가 0.22 내지 0.30, 바람직하게는 0.22 내지 0.28, 더 바람직하게는 0.225 내지 0.260의 범위이다. 마이크로 포어 및 울트라 마이크로 포어 용적에 상당하는 개념값 x 및 매크로 포어 및 마이크로 포어 용적에 상당하는 개념값 y는 하이드로탈사이트류 화합물 입자 표면으로의 산이나 할로겐 등에 의한 공격에 대한 내성의 파라미터이며, 할로겐이나 그 외 음이온의 포착능의 파라미터이다.
개념값 x가 0.035 미만인 경우에는, 하이드로탈사이트류 화합물 입자의 노출 표면이 지나치게 많기 때문에, 할로겐으로부터의 공격을 받기 쉬워 바람직하지 못하다. 개념값 x가 0.60을 초과하는 경우에는, 하이드로탈사이트류 화합물 입자와 할로겐의 접촉이 극단적으로 어려워진다.
개념값 y에 상당하는 값이 0.30을 초과하는 경우에는, 하이드로탈사이트류 화합물 입자의 노출 표면적이 지나치게 많기 때문에, 할로겐으로부터의 공격을 심하게 받기 쉬워 바람직하지 못하다. 개념값 y가 0.22 미만인 경우에는, 하이드로탈사이트류 화합물 입자와 할로겐의 접촉 표면적이 극단적으로 낮아져서 원하는 할로겐 포착 능력을 발휘할 수 없다.
본 발명에 관한 하이드로탈사이트류 화합물 입자의 입자 표면에 적당한 마이크로 포어 및 울트라 마이크로 포어가 존재함으로써, 할로겐의 포착 능력이 최대한 발휘된다.
전술한 개념값 x 및 y에 대해서는, 문헌[「흡착」, 케이이 토미나가 저, 쿄리츠출판주식회사, 1965년 초판 발행]을 참조하여 이끌어 냈다. 또한, 본 발명에서 매크로 포어는 50㎚ 이상의 구멍을 의미하고, 마이크로 포어는 메소 포어를 포함하며 크기 50 내지 2㎚의 구멍을 의미하고, 울트라 마이크로 포어는 크기 2㎚ 이하의 구멍을 의미한다.
본 발명에 관한 하이드로탈사이트류 화합물 입자의 평균 판면 직경은 통상 0.05 내지 1.0㎛, 바람직하게는 0.1 내지 0.8㎛, 더 바람직하게는 0.1 내지 0.6㎛이다. 하이드로탈사이트류 화합물 입자의 판면 직경이 0.05㎛ 미만인 경우에는, 하이드로탈사이트류 화합물 입자의 노출 표면이 지나치게 많기 때문에, 할로겐으로부터의 공격을 받기 쉬워 바람직하지 못하다. 1.0㎛를 초과하는 하이드로탈사이트류 화합물 입자는, 공업적으로 생산이 어려운 점과, 할로겐을 포착하기 위한 하이드로탈사이트류 화합물 입자의 층간 단면적의 대비 표면적 값이 적어져서 할로겐과의 접촉 및 포착의 기회가 적어지고, 할로겐 포착 기능이 떨어져서 바람직하지 못하다.
본 발명에 관한 하이드로탈사이트류 화합물 입자의 X선 회절 측정 결과를 이용하여 쉐러(Scherrer) 식으로부터 구한 입자의 결정자 크기는, 통상 100Å 내지 700Å, 바람직하게는 110Å 내지 700Å, 더 바람직하게는 115Å 내지 700Å이다. 하이드로탈사이트류 화합물 입자의 결정자 크기가 100Å 미만인 경우에는, 하이드로탈사이트류 화합물 입자의 노출 표면이 지나치게 많기 때문에, 할로겐으로부터의 공격을 받기 쉬워 바람직하지 못하다. 700Å를 초과한 하이드로탈사이트류 화합물 입자의 공업적인 생산이 어렵다.
본 발명에 관한 JIS R 1622에 준한 입도 분포 측정법에서의 하이드로탈사이트류 화합물 입자의 응집 입자의 최대 입자 직경은 통상 25㎛ 이하, 바람직하게는 10 내지 24㎛, 더 바람직하게는 11 내지 23㎛ 이하이다. 응집 입자 직경이 25㎛를 초과하는 경우에는, 수지 중에서의 분산성이 나빠서 수지의 안정화 효과 또는 열화 억제 효과에 문제가 있다. 나아가서는 용액이나 기체 등으로부터의 음이온 포착능을 충분히 발휘할 수 없다.
본 발명에 관한 JIS R 1622에 준한 입도 분포 측정법에서의 하이드로탈사이트류 화합물 입자의 응집 입자의 입도 분포에서의 50％ 평균에서의 입자 직경 D50은, 통상 0.04 내지 5.0㎛, 바람직하게는 0.08 내지 4.8㎛이다.
피처리 입자인 하이드로탈사이트류 화합물 입자로서는 특별히 한정되지 않지만, 예를 들면 하기 조성식으로 표시되는 Mg-Zn-Al계 하이드로탈사이트형 입자를 들 수 있다.
(Mg1 - zZnz)1-x·Alx·(OH)2·Ann - x/n·yH2O
(0.2≤x≤0.5, 0.003≤z≤0.6, 0＜y≤2, An:n가의 음이온)
표면 처리제인 탄소수가 3 이상인 유기 화합물로서는, 올레산, 올레산 금속염, 라우르산, 라우르산 금속염, 스테아르산, 스테아르산 금속염, 팔미트산, 글리세린, 에틸렌글리콜, 프로필렌글리콜, 말산, 숙신산, 실란 커플링제, 티탄 커플링제, 알루미 커플링제, 리놀레산, 푸마르산, 타르타르산, 염화비닐, 폴리에틸렌, 폴리비닐알코올, 젖산, 무수 아세트산, 말레산, 메타크릴산, 아크릴산, 시클로헥산, 로진, 말토오스, 글루타민산, 살리실산 등을 들 수 있다. 그 중에서도, 올레산, 실란 커플링제, 스테아르산, 라우르산, 로진 등의 화합물, 또는 이들의 금속염 화합물이 바람직하다.
본 발명에 관한 하이드로탈사이트류 화합물 입자의 표면 처리제의 양은 표면 처리의 화합물종과 처리제량에 따라 수증기 흡착 측정으로부터 구해지는 개념값 x값 및 개념값 y값이 변하기 때문에 특별히 한정되지 않지만, 표면 처리제의 양은 탄소 환산으로 하이드로탈사이트류 화합물 입자의 양에 대하여 통상 0 초과 10wt％ 이하, 바람직하게는 0.005 내지 8wt％, 더 바람직하게는 0.01 내지 5wt％이다.
다음에, 본 발명에 관한 하이드로탈사이트류 화합물 입자의 제조법에 대하여 설명한다.
본 발명에 관한 하이드로탈사이트류 화합물 입자는 미리 통상법에 따라서 하이드로탈사이트류 화합물 입자를 제조하고, 이어서 탄소수가 3 이상인 유기 화합물로 표면 처리하여 얻어진다.
피처리 입자인 하이드로탈사이트류 화합물 입자는 통상법에 따라서 제조하면 된다. 그 제조 방법으로서, 예를 들면 각종 원료를 혼합·가열하여 얻는 방법, 수열 합성에 의해 얻는 방법, 각 원료 산화물 및/또는 복합 산화물을 재구축법에 의해 얻는 방법 등을 들 수 있다.
본 발명에 관한 하이드로탈사이트류 화합물 입자를 얻기 위한 표면 처리의 방법으로서는, 여러 공지의 방법을 들 수 있는데, 울트라 마이크로 포어, 마이크로 포어 및 매크로 포어의 상태를 제어할 필요가 있다. 이들 상태는 수증기 흡착 측정에 의해 분석할 수 있다. 예를 들면, 울트라 마이크로 포어 및 마이크로 포어에 대해서는, 하이드로탈사이트류 화합물 입자를 온도 25℃, 습도 50％에서 250시간 폭로한 경우의 P/PO=0.045 내지 0.355의 범위에서의 수증기 흡착 곡선으로부터 구해지는 식:x=(P/(V×(PO-P)))/(P/PO)(단, V는 수증기 흡착량을 나타내고, P는 측정장 압력을 나타내고, PO는 대기압을 나타낸다.)에 의해 그들의 용적을 구할 수 있으며, 마이크로 포어 및 매크로 포어에 대해서는, 하이드로탈사이트류 화합물 입자를 온도 25℃, 습도 50％에서 250시간 폭로한 경우의 P/PO=0.045 내지 0.355의 범위에서의 수증기 흡착 곡선으로부터 구해지는 식:y=Vm/SBET(단, Vm은 P/PO=0.2에서의 수증기 흡착량을 나타내고, SBET는 시료의 비표면적을 나타낸다.)에 의해 그들 합계의 용적을 이끌어 낼 수 있다.
하이드로탈사이트류 화합물 입자에 대한 표면 처리제의 첨가량은, 탄소 환산으로 하이드로탈사이트류 화합물 입자에 대하여 통상 0을 초과 10wt％ 이하, 바람직하게는 0.005 내지 8wt％, 더 바람직하게는 0.01 내지 5wt％이다.
하이드로탈사이트류 화합물 입자의 표면 처리는 다음과 같이 하여 행한다. 예를 들면, 수용성의 올레산 금속염이나 스테아르산 금속염을 표면 처리용 유기 화합물로서 사용하는 경우, 하이드로탈사이트류 화합물 입자의 생성 종료 후의 슬러리를 물로 통상 20 내지 200％ 희석한 슬러리에, 올레산 금속염이나 스테아르산 금속염이 고형분으로서 통상 0을 초과 1.5wt％ 이하 포함되는 용액을 20 내지 50분의 시간을 들여 적하하고, 이어서 통상 15 내지 30분간 숙성한 후, 바로 수세한다.
전술한 각 조건이 범위 외인 경우에는, 원하는 표면 처리가 실시되지 않고, 본 발명에 관한 하이드로탈사이트류 화합물 입자를 얻기가 어렵다. 예를 들면, 표면 처리제의 숙성 시간을 연장하면, 물에 용해한 올레산 음이온이나 스테아르산 음이온이 하이드로탈사이트류 화합물 입자 표면뿐만 아니라 하이드로탈사이트류 화합물 입자의 층간에 도입하여, 수증기 흡착량으로부터 구해지는 x값 및 y값이 전술한 범위를 벗어날 뿐만 아니라, 각종 수지의 안정화의 저해나 음이온 포착능의 저하를 초래한다.
표면 처리제로서, 스테아르산이나 올레산 등의 직쇄계의 탄화수소 카르복실산 화합물을 사용하는 경우에는, 이들을 디에틸에테르 등의 유기계 용액상 용매에 용해시킨 후에, 스테아르산 금속염이나 올레산 금속염에 의한 표면 처리 종료 후의 건조 또는 미건조 상태의 하이드로탈사이트류 화합물 입자의 분말이나 케이크, 성형물 등에 표면 처리하는 것이 바람직하다. 또한, 각종 커플링제를 사용하는 경우에는, 에탄올 등에 의해 통상 10배 이상 희석시킨 용액으로서 이용하고, 스테아르산 금속염이나 올레산 금속염에 의한 표면 처리 종료 후의 건조 또는 미건조 상태의 하이드로탈사이트류 화합물 입자의 가루나 케이크 등에 스프레이 도포나 헨셀, 샌드밀, 하이스피드 믹서, 니더 등을 이용하여 처리하는 것이 바람직하다.
전술한 유기 화합물 이외의 탄소수가 3 이상인 표면 처리용 유기 화합물을 사용하는 경우에는, 하이드로탈사이트류 화합물 입자에 부착한 후에, 헨셀, 샌드밀, 하이스피드 믹서, 니더 등을 이용하여 처리하는 것이 바람직하다.
상기한 수법에 의해서만, 매크로 포어, 마이크로 포어, 울트라 마이크로 포어의 제어가 가능하고, 본 발명에 관한 하이드로탈사이트류 화합물 입자가 얻어진다.
다음에, 본 발명의 제2 요지의 수지 안정제에 대하여 설명한다. 본 발명에 관한 수지 안정제는 제1 요지의 하이드로탈사이트류 화합물 입자와 임의의 성분인 첨가물로 이루어진다.
즉, 본 발명에 관한 수지 안정제는, 제1 요지의 하이드로탈사이트류 화합물 입자와, 수지, 금속 비누, 활제, 가소제, 탄산칼슘, 산화티탄, 산화규소, 산화알루미늄, 산화철, 제올라이트, 다가 알코올, 힌더드 아민 화합물, 폴리올, 데히드로아세트산아연, β디케톤, 산화 방지제 등으로부터 선택되는 2종류 이상의 임의의 성분인 첨가물로 이루어진다.
본 발명에 관한 수지 안정제에서의 하이드로탈사이트류 화합물 입자의 양은 금속 비누 화합물 100중량부에 대하여 통상 2.5 내지 15000중량부, 바람직하게는 5.5 내지 8000중량부, 더 바람직하게는 13 내지 7000중량부이다.
수지로서는, 염화 비닐 수지 외에, 폴리올레핀 수지, 폴리아미드 수지, 아세트산비닐 수지, 폴리이미드 수지, 폴리스티롤, 폴리프로필렌 수지 등을 들 수 있고, 특히 염화비닐 수지 단독만 또는 염화비닐 수지를 주로 하여 그 외의 수지를 적어도 1종류 이상을 혼합한 혼합 수지가 좋다.
금속 비누로서는, 예를 들면 스테아르산아연, 스테아르산칼슘, 스테아르산마그네슘, 스테아르산나트륨, 스테아르산칼륨, 스테아르산납, 스테아르산리튬, 스테아르산바륨, 스테아르산알루미늄, 1,2-히드록시스테아르산아연, 1,2-히드록시스테아르산칼슘, 1,2-히드록시스테아르산마그네슘, 1,2-히드록시스테아르산알루미늄, 1,2-히드록시스테아르산바륨, 1,2-히드록시스테아르산리튬, 1,2-히드록시스테아르산나트륨, 몬탄산칼슘, 몬탄산아연, 몬탄산마그네슘, 몬탄산알루미늄, 몬탄산리튬, 몬탄산나트륨, 베헨산칼슘, 베헨산아연, 베헨산마그네슘, 베헨산리튬, 베헨산나트륨, 베헨산은, 라우릴산칼슘, 라우릴산아연, 라우릴산바륨, 라우릴산리튬, 옥틸산알루미늄, 세바신산나트륨, 운데실렌산아연, 리시놀레산아연, 리시놀레산바륨, 미리스트산아연, 팔미트산아연 등을 들 수 있다.
활제로서는, 예를 들면 부틸스테아레이트, 스테아릴알코올, 글리세린지방산에스테르, 소르비탄지방산에스테르 등의 내부 활제, 스테아르산, 아세테르왁스, 에틸렌비스스테아릴아마이드, 폴리에틸렌왁스, 파라핀왁스 등의 외부 활제 등을 들 수 있다.
가소제로서는, 예를 들면 프탈산디-2-에틸헥실, 프탈산디이소노닐, 프탈산디이소데실, 프탈산디노르말옥틸, 인산트리크레실, 에폭시화대두유, 트리멜리트산트리옥틸, 폴리에스테르계 가소제, 염소화 파라핀 가소제 등을 들 수 있다.
다가 알코올로서는, 예를 들면 글리세린, 에틸렌글리콜, 디에틸렌글리콜, 트리메틸올프로판, 트리메틸올에탄, 펜타에리스리톨, 시클로헥산디메탄올, 1,3-프로판디올, 1,2-프로판디올, 1,4-부탄디올, 1,3-부탄디올, 1,2-부탄디올, 1,5-헥산디올, 1,6-헥산디올, 2-에틸-1,3-헥산디올, 3-메틸-1,5-펜탄디올, 1,8-옥탄디올, 1,2-옥탄디올, 1,9-노난디올, 2-메틸-1,8-옥탄디올, 2,2-이소프로필렌비스(4-히드록시시클로헥산), 2,2,4-트리메틸-1,3-펜탄디올 등을 들 수 있다.
힌더드 아민 화합물로서는, 예를 들면 2,2,6,6-테트라메틸-4-피페리딜벤조에이트, 1,2,2,6,6-펜타메틸-4-피페리딜스테아레이트, 비스(1,2,2,6,6-펜타메틸-4-피페리딜)세바케이트, 비스(2,2,6,6-테트라메틸-4-피페리딜)세바케이트, 비스(1,2,2,6,6-펜타메틸-4-피페리딜)·디(트리데실)-1,2,3,4-부탄테트라카르복실레이트, 3,9-비스[1,1-디메틸-2-{트리스(2,2,6,6-테트라메틸-4-피페리딜옥시카르보닐옥시)부틸카르보닐옥시}에틸]-2,4,8,10-테트라옥사스피로[5.5]운데칸, 1-(2-히드록시에틸)-2,2,6,6-테트라메틸-4-피페리디놀/숙신산디에틸 중축합물, 1,6-비스(2,2,6,6-테트라에틸-4-피페리딜아미노)헥산/디브로모에탄 중축합물, 1,6-비스(2,2,6,6-테트라메틸-4-피페리딜아미노)헥산/2,4-디클로로-6-모르폴리노-s-트리아진 중축합물, 1,6-비스(2,2,6,6-테트라메틸-4-피페리딜아미노)헥산/2,4-디클로로-6-제3옥틸아미노-s-트리아진 중축합물, 2,2,6,6-테트라메틸-4-페페리딜스테아레이트, 1,5,8,12-테트라키스[2,4-비스(N-부틸-N-(2,2,6,6-테트라메틸-4-피페리딜)아미노)-s-트리아진-6-일]-1,5,8,12-테트라아자도데칸, 테트라키스(2,2,6,6-테트라메틸-4-피페리딜)부탄테트라카르복실레이트, 3,9-비스[1,1-디메틸-2-{트리스(1,2,2,6,6-펜타메틸-4-피페리딜옥시카르보닐옥시)부틸카르보닐옥시}에틸]-2,4,8,10-테트라옥사스피로[5.5]운데칸, 1,5,8,12-테트라키스[2,4-비스(N-부틸-N-(1,2,2,6,6-펜타메틸-4-피페리딜)아미노)-s-트리아진-6-일]-1,5,8,12-테트라아자도데칸, 비스(1,2,2,6,6-펜타메틸-4-피페리딜)-2-부틸-2-(3,5-디제3부틸-4-히드록시벤질)말로네이트, 1,6,11-트리스[2,4-비스(N-부틸-N-(2,2,6,6-테트라메틸-4-피페리딜)아미노)-s-트리아진-6-일아미노]운데칸, 1,6,11-트리스[2,4-비스(N-부틸-N-(1,2,2,6,6-펜타메틸-4-피페리딜)아미노)-s-트리아진-6-일아미노]운데칸, 테트라키스(1,2,2,6,6-펜타메틸-4-피페리딜)부탄테트라카르복실레이트 등을 들 수 있다.
폴리올로서는, 예를 들면 글리세린, 디펜타에리트리톨, 펜타에리트리톨, 펜타에리트리톨 또는 디펜타에리트리톨의 스테아르산하프에스테르, 트리메틸올프로판, 디트리메틸올프로판, 폴리펜타에리트리톨, 비스(디펜타에리트리톨)아디페이트, 트리스(2-히드록시에틸)이소시아누레이트 등을 들 수 있다.
산화 방지제로서는, 예를 들면 4,4'-티오비스(6-제3부틸-m-크레졸), 2,2'-메틸렌비스(4-메틸-6-제3부틸페놀), 4,4,'-부틸리덴비스(2,6-디제3부틸페놀), 4,4'-부틸리덴비스(6-제3부틸-3-메틸페놀), 2,2'-에틸리덴비스(4,6-디제3부틸페놀), 1,1,3-트리스(2-메틸-4-히드록시-5-제3부틸페닐)부탄, 스테아릴(3,5-디제3부틸-4-히드록시페닐)프로피오네이트, 티오디에틸렌비스[(3,5-디제3부틸-4-히드록시페닐)프로피오네이트], 1,3,5-트리스[(3,5-디제3부틸-4-히드록시페닐)프로피오닐옥시에틸]이소시아누레이트, 테트라키스[메틸렌-3-(3',5'-디제3부틸-4'-히드록시페닐)프로피오네이트]메탄, 3,9-비스[2-(3-제3부틸-4-히드록시-5-메틸히드로신나모일옥시)-1,1-디메틸에틸]-2,4,8,10-테트라옥사스피로[5.5]운데칸, 트리에틸렌글리콜비스[β-(3-제3부틸-4-히드록시-5-메틸페닐)프로피오네이트], 트리페닐포스파이트, 트리스(2,4-디제3부틸페닐)포스파이트, 트리스(2,5-디제3부틸페닐)포스파이트, 트리스(노닐페닐)포스파이트, 트리스(디노닐페닐)포스파이트, 트리스(모노, 디혼합노닐페닐)포스파이트, 디페닐애시드포스파이트, 2,2'-메틸렌비스(4,6-디제3부틸페닐)옥틸포스파이트, 디페닐데실포스파이트, 디페닐옥틸포스파이트, 디(노닐페닐)펜타에리트리놀디포스파이트, 페닐디이소데실포스파이트, 트리부틸포스파이트, 트리스(2-에틸헥실)포스파이트, 트리데실포스파이트, 트리라우릴포스파이트, 디부틸애시드포스파이트, 디라우릴애시드포스파이트, 트리라우릴트리티오포스파이트, 비스(네오펜틸글리콜)·1,4-시클로헥산디메틸디포스파이트, 비스(2,4-디제3부틸페닐)펜타에리트리톨디포스파이트, 비스(2,5-디제3부틸페닐)펜타에리트리톨디포스파이트, 비스(2,6-디제3부틸-4-메틸페닐)펜타에리트리톨디포스파이트, 비스(2,4-디쿠밀페닐)펜타에리트리톨디포스파이트, 디스테아릴펜타에리트리톨디포스파이트, 테트라(C12-15혼합알킬)-4,4'-이소프로필리덴디페닐포스파이트, 비스[2,2'-메틸렌비스(4,6-디아밀페닐)]·이소프로필리덴디페닐포스파이트, 테트라트리데실·4,4'-부틸리덴비스(2-제3부틸-5-메틸페놀)디포스파이트, 헥사(트리데실)·1,1,3-트리스(2-메틸-5-제3부틸-4-히드록시페닐)부탄·트리포스파이트, 테트라키스(2,4-디제3부틸페닐)비페닐렌디포스포네이트, 트리스(2-[(2,4,7,9-테트라키스제3부틸디벤조[d,f][1,3,2]디옥사포스페핀-6-일)옥시]에틸)아민, 9,10-디하이드로-9-옥사-10-포스파페난트렌-10-옥사이드, 2-부틸-2-에틸프로판디올·2,4,6-트리제3부틸페놀모노포스파이트, 티오디프로피온산의 디라우릴, 디미리스틸, 미리스틸스테아릴, 디스테아릴에스테르 등의 디알킬티오디프로피오네이트류 및 펜타에리트리톨테트라(β-도데실메르캅토프로피오네이트) 등의 폴리올의 β-알킬메르캅토프로피온산에스테르 등을 들 수 있다.
다음에, 본 발명의 제3 요지의 할로겐 함유 수지 조성물에 대하여 설명한다. 본 발명의 제3 요지의 할로겐 함유 수지 조성물은, 제1 요지의 하이드로탈사이트류 화합물 입자 통상 0.01 내지 30중량부와 할로겐 함유 수지 100중량부로 이루어진다.
하이드로탈사이트류 화합물 입자의 양은, 할로겐 함유 수지 100중량부에 대하여 통상 0.01 내지 30중량부, 바람직하게는 0.02 내지 25중량부이다.
또한, 본 발명에 관한 할로겐 함유 수지 조성물의 다른 양태는, 제1 요지의 하이드로탈사이트류 화합물 입자 통상 0.01 내지 30중량부와, 할로겐 함유 수지 100중량부와, 가소제 통상 0 내지 70중량부와, 금속 비누 통상 0.05 내지 50중량부로 이루어진다.
수지로서는, 전술한 수지를 들 수 있고, 예를 들면 염화비닐 수지, 폴리올레핀 수지, 폴리아미드 수지, 아세트산비닐 수지, 폴리이미드 수지, 폴리스티롤, 폴리프로필렌 수지 등을 사용할 수 있다. 특히, 염화비닐 수지 단체만 또는 염화비닐 수지를 주로 하여 그 외의 수지를 적어도 1종류 이상을 혼합한 혼합 수지가 좋다.
가소제의 양은, 할로겐 함유 수지 100중량부에 대하여 통상 0 내지 70중량부, 바람직하게는 0 내지 65중량부, 더 바람직하게는 0 내지 60중량부이다. 금속 비누의 양은, 할로겐 함유 수지 100중량부에 대하여 통상 0.05 내지 50중량부, 바람직하게는 0.08 내지 40중량부, 더 바람직하게는 0.1 내지 38중량부이다.
전술한 할로겐 함유 수지 조성물은, 투명성이 높은 열 안정성 및 초기 착색의 억제가 우수한 할로겐 함유 수지 조성물이다.
본 발명에 관한 하이드로탈사이트류 화합물 입자는, 입자 표면에 탄소수가 3 이상인 유기 화합물로 표면 처리되어 있지 않은 적당한 마이크로 포어 및 울트라 마이크로 포어가 존재하기 때문에, 할로겐의 포착 능력이 최대한 발휘됨과 함께, 할로겐 함유 수지 가공시의 가열 등에 의해 발생한 할로겐으로부터의 공격에 대한 내성을 충분히 겸비하며, 입자 표면이 소수화 및 유기 화합물에 의해 적당히 피복되어 있기 때문에 할로겐 함유 수지 가공시에서의 그 하이드로탈사이트류 화합물 입자의 분산성이 높은 점으로부터, 할로겐 함유 수지 조성물로서 높은 열 안정성 및 우수한 초기 착색 억제를 부여할 수 있다.
하이드로탈사이트는 할로겐 함유 수지와 거의 동일한 굴절률을 가지고 있는 점으로부터, 투명성이 높은 수지 조성물을 부여할 수 있다. 또한, 하이드로탈사이트류 화합물 입자의 상기 화학식에서의 M2 +와 M3 +의 몰비나 함수량 y의 값을 조정함으로써, 할로겐 함유 수지 조성물의 투명성을 한층더 부여할 수 있다.
또한, 본 발명에 관한 할로겐 함유 수지 조성물의 다른 양태는, 제1 요지의 하이드로탈사이트류 화합물 입자 통상 0.01 내지 30중량부와, 할로겐 함유 수지 100중량부와, 가소제 통상 0 내지 70중량부와, 금속 비누 통상 0.05 내지 50중량부와, 탄산칼슘 및/또는 이산화티탄 1 내지 50중량부로 이루어진다.
서술한 할로겐 함유 수지 조성물은, 열 안정성 및 초기 착색의 억제에 더 우수하다.
탄산칼슘 및/또는 이산화티탄의 양은, 할로겐 함유 수지 100중량부에 대하여 통상 1 내지 50중량부, 바람직하게는 1 내지 48중량부, 더 바람직하게는 1.2 내지 45중량부이다.
본 발명에 관한 하이드로탈사이트류 화합물 입자를 폴리올레핀 수지나 폴리아미드 수지 등에 첨가함으로써, 이들 수지의 열화 억제에 우수한 효과를 발휘한다. 즉, 본 발명의 제4 요지의 할로겐 포착재는, 폴리올레핀 수지에 포함되는 미량의 할로겐 및/또는 수지 중의 할로겐계 첨가제로부터 발생하는 할로겐을 포착하는, 제1 요지의 하이드로탈사이트류 화합물 입자로 이루어진다.
즉, 폴리에틸렌이나 폴리프로필렌 등의 폴리올레핀 수지를 중합 생성할 때에, 지글러-나타 촉매로서 염화티탄이 사용된다. 이 촉매에 포함되는 염소는 수지 중에서는 매우 약간만 존재하지만, 폴리올레핀 수지의 열 가공시 등에서, 이 염소가 수지의 열화를 강하게 촉진시킨다. 본 발명에 관한 하이드로탈사이트류 화합물 입자는, 탄소수가 3 이상인 유기 화합물로 표면 처리되어 있지 않은 적당한 마이크로 포어 및 울트라 마이크로 포어가 표면에 존재하기 때문에, 염소 포착 능력을 최대한 발휘함과 함께, 폴리올레핀 수지 가공시의 가열 등에 의해 발생한 염소로부터의 공격에 대한 내성을 충분히 겸비하며, 표면이 소수화 및 유기 화합물에 의해 적당히 피복되어 있기 때문에 폴리올레핀 수지 가공시에서의 그 하이드로탈사이트류 화합물 입자의 분산성이 높은 것에 의해, 폴리올레핀 열화에 우수한 억제 효과를 부여할 수 있다.
또한, 폴리아미드 수지 등에서 난연성을 부여하는 경우, 할로겐계의 난연제가 첨가된다. 할로겐계의 난연제로서는, 방향족 할로겐 화합물, 할로겐화 에폭시 수지, 할로겐화 폴리카보네이트, 할로겐화 방향족 비닐계 공중합체, 할로겐화 시아누레이트 수지, 할로겐화 폴리페닐렌에테르 등을 들 수 있고, 예를 들면 데카브로모디페닐옥사이드, 1,2-(펜타브로모페닐)-에탄, 펜타브로모벤질폴리아크릴레이트, 테트라브로모비스페놀A, 테트라브로모비스페놀A의 올리고머, 브롬화비스페놀계 에폭시 수지, 브롬화비스페놀계 페녹시 수지, 브롬화비스페놀계 폴리카보네이트, 브롬화폴리스티렌, 브롬화 가교 폴리스티렌, 폴리펜타브로모화벤질계 아크릴 수지, 브롬화폴리페닐렌옥사이드, 폴리디브롬페닐렌옥사이드, 데카브롬디페닐옥사이드비스페놀 축합물 및 할로겐인산에스테르 등이 예시된다.
이들 할로겐계 난연제를 함유하는 폴리아미드 수지 등을 가열·가공하면, 할로겐계 난연제의 일부가 분해를 시작하여 할로겐이 발생하고, 그 결과, 폴리아미드 수지 등의 열화가 촉진하고, 가공물에 얼룩진 흑점과 같은 열화가 발생한다.
본 발명에 관한 하이드로탈사이트류 화합물 입자는, 탄소수가 3 이상인 유기 화합물로 표면 처리되어 있지 않은 적당한 마이크로 포어 및 울트라 마이크로 포어가 표면에 존재하기 때문에, 염소 포착 능력을 최대한 발휘함과 함께, 폴리아미드 수지 등의 가공시의 가열 등에 의해 발생한 염소로부터의 공격에 대한 내성을 충분히 겸비하며, 표면이 소수화 및 유기 화합물에 의해 적당히 피복되어 있기 때문에 폴리아미드 수지 등의 가공시에서의 그 하이드로탈사이트류 화합물 입자의 분산성이 높은 것에 의해, 폴리아미드 수지 등의 내열 열화 억제에 우수한 효과를 발휘한다.
상기 폴리아미드 수지는 열가소성인 것이 바람직하다. 예를 들면, 폴리아미드로서는, 나일론 6, 나일론 46, 나일론 66, 나일론 69, 나일론 610, 나일론 6/66, 나일론 612, 나일론 611, 나일론 11, 나일론 12, 나일론 61, 나일론 6T/6I, 나일론 66/6T, 폴리비스(4-아미노시클로헥실)메탄도데카미드(나일론 PACM12), 폴리비스(3-메틸-4-아미노시클로헥실)메탄도데카미드(나일론디메틸 PACM12), 폴리메타크실렌아디포아미드(MXD6), 폴리운데카메틸렌테레프탈아미드(나일론 11T) 또는 폴리운데카메틸렌헥사히드로테레프탈아미드<나일론 11T(H)>(여기서, I는 이소프탈산을, T는 테레프탈산을 의미한다)를 들 수 있다. 또한, 폴리아미드 수지로서는, 상기 나일론의 2종 이상의 혼합물 또는 공중합물이어도 된다.
본 발명의 제5 요지의 용액으로부터 음이온을 포착하는 음이온 포착재는, 제1 요지의 하이드로탈사이트류 화합물 입자를 분말상 또는 성형체상으로 가공하여 이루어진다.
성형체는, 당해 하이드로탈사이트류 화합물 입자를 코제라이트 등의 성형체에 도포한 것이나, 당해 하이드로탈사이트류 화합물 입자 그 자체를, 또는 필요에 따라 공지의 첨가제, 예를 들면 규소산 화합물, 산화알루미늄이나 수산화알루미늄 화합물 등을 첨가하여 성형체로 한 것을 의미하고, 그 형상은 허니콤, 원기둥상, 통상, 구상 등으로 특별히 한정되지 않는다.
하이드로탈사이트류 화합물 입자를 이용하여 용매 중의 음이온을 포착 처리하는 피처리 용액으로서는, 예를 들면 인산염, 질산염, 황산염 등의 무기 음이온 함유 폐액 및/또는 비누 음이온염, 음이온 염료 등의 유기 음이온 함유 폐액 등을 들 수 있다.
이들 피처리 용액 중의 음이온을 포착하는 조건으로서는, 특별히 한정되지 않지만, 예를 들면 피처리 용액의 온도가 통상의 0℃ 내지 80℃, 바람직하게는 5 내지 75℃, pH가 6 내지 14, 바람직하게는 6.5 내지 13이다.
본 발명에서의 포인트는, 입자 표면을 탄소수가 3 이상인 유기 화합물로 표면 피복한 하이드로탈사이트류 화합물 입자를 온도 25℃, 습도 50％로 250시간 폭로한 경우의 수증기 흡착 곡선으로부터 구해지는 값이 특정의 범위에 있는 경우에는, 하이드로탈사이트류 화합물 입자가 높은 열 안정성을 발휘함과 함께, 초기 착색의 억제에 우수한 효과를 발휘한다고 하는 사실이다.
본 발명에 관한 하이드로탈사이트류 화합물 입자는, 마이크로 포어 및 울트라 마이크로 포어 용적에 상당하는 개념값 x가 0.035 내지 0.60의 범위이고, 매크로 포어 및 마이크로 포어 용적에 상당하는 개념값 y가 0.22 내지 0.30의 범위이다. x 및 y를 이들 범위에 한정하는 것은, 하이드로탈사이트류 화합물 입자 자체에 산이나 할로겐 등에 의한 공격에 내성을 부여함과 함께, 할로겐이나 그 외 음이온의 포착능의 저감을 가급적 억제하기 위함이다.
본 발명에 관한 하이드로탈사이트류 화합물 입자는, 입자 표면에 탄소수 3 이상인 유기 화합물로 표면 처리되어 있지 않은 적당한 마이크로 포어 및 울트라 마이크로 포어가 존재하기 때문에, 할로겐의 포착 능력이 최대한 발휘됨과 함께, 할로겐 함유 수지 가공시의 가열 등에 의해 발생한 할로겐으로부터의 공격에 대한 내성을 충분히 가진다. 또한, 본 발명에 관한 하이드로탈사이트류 화합물 입자는, 입자 표면이 소수화제 및 유기 화합물에 의해 적당히 피복되어 있기 때문에, 할로겐 함유 수지 가공시에서의 그 하이드로탈사이트류 화합물 입자의 분산성이 높은 점으로부터, 할로겐 함유 수지 조성물에 높은 열 안정성을 부여할 수 있음과 함께, 할로겐 함유 수지 조성물의 초기 착색을 억제할 수 있다. 그리고, 할로겐 함유 수지 조성물은 특히 전선 용도 등에 적합하다.
하이드로탈사이트의 2가 원소 및/또는 1가 원소와 3가 원소의 몰비, 입자의 크기, 응집 입자 직경의 크기에 최적인 탄소수 3 이상의 유기 화합물에 의한 표면 처리종 및 양을 선택함으로써, 입자 표면에 적당한 마이크로 포어 및 울트라 마이크로 포어가 존재하기 때문에, 할로겐의 포착 능력이 최대한 발휘된다.
본 발명에 관한 하이드로탈사이트류 화합물 입자를 사용함으로써, 열 안정성이 우수하고 초기 착색의 억제가 우수한 할로겐 함유 수지 조성물이나, 수지에 우수한 열 안정성을 부여하고 수지의 초기 착색을 억제하는 수지 안정제의 제공이 가능하다. 또한, 각종 수지의 열화 억제를 높일 수도 있다. 또한, 용액 중에 존재하는 음이온의 유용한 보족제로서도 유용하다.
본 발명에 관한 하이드로탈사이트류 화합물 입자는, 매크로 포어, 마이크로 포어 및 울트라 마이크로 포어가 특정의 범위에 제어되어 있기 때문에, 할로겐 함유 수지에 우수한 열 안정성을 부여할 수 있음과 함께, 수지의 초기 착색을 억제할 수 있다.
또한, 본 발명에 관한 하이드로탈사이트류 화합물 입자는, 폴리올레핀이나 폴리아미드 등의 각종 수지에 포함되는 미량의 할로겐 포착에 매우 유용하다.
또한, 용액에 포함되는 음이온의 포착능도 우수하고, 용액 중에 존재하는 음이온을 포착하기 위한 유용한 포착제로서도 유용하다.
이하, 본 발명에서의 실시예를 나타내고, 본 발명을 구체적으로 설명한다. 단, 본 발명은 이들 실시예에만 한정되는 것은 아니다.
(1) BET 비표면적 값은, 질소에 의한 B.E.T.법에 의해 측정하였다.
(2) 수증기 흡착량은, 자동 증기 흡착량 측정 장치(닛폰벨주식회사, 벨소프(BELSORP)18)를 이용하여 측정하였다.
(3) 하이드로탈사이트류 화합물 입자의 판면 직경은, 투과형 전자 현미경(닛폰전자주식회사, JEM-1200EXII)을 이용하여 측정하였다.
(4) 하이드로탈사이트류 화합물 입자의 결정자 크기는, 분말 X선 회절 장치(주식회사 리가쿠·RINT2500)를 이용하여 측정한 데이터를 쉐러의 식 p(㎚)=180Kλ/πX를 이용하여 계산하여 이끌어 냈다. 여기서, p는 결정자 크기, K는 쉐러 상수이고 계산은 K=0.9로 행하였다. λ는 X선의 파장, π는 원주율, X는 로렌츠 파라미터(Lorentz Parameter; 대상 프로파일 파라미터)이다. 계산에 사용하는 X선 회절면은 하이드로탈사이트의 d(006)면으로 하였다. 또한 선원종은 Cu로 하였다.
(5) 표면 처리된 하이드로탈사이트류 화합물 입자의 입도 분포 측정은, JIS R 1622에 준하여, 마이크로 트랙 입자 직경 분포 측정 장치(닛키소주식회사, 9320HRA(X-100))로 측정하였다. 분말의 분산 방법은, 시료 분말 0.7g을 칭량하여 몸체 내경 31㎜φ의 유리병에 넣고, 이것에 시약 특급 에탄올 5ml, 0.2wt％의 헥사메탈린산 소다 수용액을 70ml 첨가하였다. 이것을 출력 150W, 칩 크기 20㎜φ의 초음파 호모지나이저(주식회사 닛폰세이키제작소, US-150T)로, 칩 위치 5.5㎜에서 3.0분간의 초음파 조사 처리를 행하였다. 이 분산액을 2.0ml 채취하여, 순수를 순환하고 있는 마이크로 트랙 입자 직경 분포 측정 장치에 적하하고, 순환을 180초간 한 후, 입도 분포의 측정을 하였다. 시료 분말의 입도 분포의 측정은 최저 2회 행하였다. 이 측정으로부터 최대의 입자 직경의 값과 입도 분포의 50％ 평균으로의 입자 직경 D50을 구하였다.
실시예 1<하이드로탈사이트의 조제>:
Mg(NO3)2·6H2O 73.3g과 Al(NO3)3·9H2O 42.9g을 물로 용해시켜 600ml로 하였다. 별도로 NaOH 60ml(14mol/L 농도)와 Na2CO3 10.5g을 용해시킨 것을 합한 400ml의 알칼리 혼합 용액을 준비하였다. 이 알칼리 혼합 용액에 상기 마그네슘염과 알루미늄염의 혼합 용액을 첨가하고, 150℃에서 5시간 숙성을 행한 후에 물을 첨가하여 50％ 희석하고, 65℃에서 별도로 500ml에 용해해 둔 스테아르산 소다를 하이드로탈사이트 대비 2.0wt％ 투입하여 숙성하였다. 이것을 여별 분리하고, 135℃에서 건조하여, 타니나카식 분쇄기로 조분쇄한 후, 실란 커플링제 첨가 후 타니나카식 분쇄기로 3분간 분쇄 처리 후, 다시 글리세린을 첨가하여 타니나카식 분쇄기로 3분간 분쇄를 하였다. 이 때의 실란 커플링제 및 글리세린의 첨가량은, 각각 하이드로탈사이트 대비 0.12wt％ 및 0.05wt％ 첨가로 하였다.
얻어진 표면 처리된 하이드로탈사이트류 화합물 입자의 비표면적은 14.2㎡/g, 판면 직경은 0.25㎛, 결정자 크기는 534Å, 수증기 흡착량으로부터 구해지는 개념값 x는 0.2545, 수증기 흡착량으로부터 구해지는 개념값 y는 0.2550, 응집 입자 직경의 최대는 15.2㎛, D50=2.22㎛였다.
<할로겐 함유 수지 안정제를 이용한 할로겐 함유 수지 조성물>
상기 하이드로탈사이트류 화합물 입자를 이용하여 염화비닐 수지 안정제를 이용한 염화비닐 수지 조성물을 제작하였다. 염화비닐 수지 조성물의 조성은, 하기와 같다.
염화비닐 수지(중합도 1300, 신에츠화학공업주식회사, TK-1300) 100중량부
비스2-에틸헥실프탈레이트(다이하치화학공업주식회사) 50중량부
스테아르산아연(시약) 0.5중량부
하이드로탈사이트류 화합물 입자 2중량부
이들을 혼합하여 얻어진 50g을 열간 롤로 160℃, 롤 극간 0.75㎜, 혼련 시간 4분의 조건으로 혼련하여 시트를 얻었다. 얻어진 혼련 시트에 대하여 JIS K 6723에 준한 열 안정성 시험을 행하여 내열성의 시간을 측정하였다. 또한 얻어진 혼련 시트를 15㎝각, 두께 0.5㎜로 하기 위해서 열간 프레스로 190℃, 5분 및 30분의 처리를 행하여 프레스 시트를 얻었다. 얻어진 프레스 시트의 착색 정도를 초기 착색이라고 정의하고 A 내지 E의 5단계로 착색 정도를 표기하였다.
또한, A는 착색이 거의 없는 상태, B는 충분 허용 범위이면서 매우 희미하게 착색이 인정되는 상태, C는 약간 착색이 있는 상태이면서 허용 범위, D는 착색이 있으면서도 허용 범위의 한계인 상태, E는 착색이 심하게 허용 범위 외이다.
실시예 2:
Mg(NO3)2·6H2O 73.3g과 Al(NO3)3·9H2O 42.9g을 물로 용해시켜 600ml로 하였다. 별도로 NaOH 60ml(14mol/L 농도)와 Na2CO3 10.5g을 용해시킨 것을 합한 400ml의 알칼리 혼합 용액을 준비하였다. 이 알칼리 혼합 용액에 상기 마그네슘염과 알루미늄염의 혼합 용액을 첨가하고, 150℃에서 5시간 숙성을 행한 후 스테아르산을 하이드로사이트 대비 3.8wt％ 투입하여 숙성하였다. 다시 물을 첨가하여 50％ 희석하고, 128℃에서 건조하여, 타니나카식 분쇄기로 조분쇄한 후, 로진을 하이드로탈사이트 대비 0.1wt％ 첨가하여, 타니나카식 분쇄기로 7분간 분쇄하였다.
얻어진 표면 처리된 하이드로탈사이트류 화합물 입자의 비표면적은 14.0㎡/g, 판면 직경은 0.31㎛, 결정자 크기는 535Å, 수증기 흡착량으로부터 구해지는 개념값 x는 0.5644, 수증기 흡착량으로부터 구해지는 개념값 y는 0.2328, 응집 입자 직경의 최대는 23.8㎛, D50=4.67㎛였다.
이 하이드로탈사이트류 화합물 입자를 이용하여 염화비닐 수지 안정제를 이용한 염화비닐 수지 조성물을 제작하였다. 염화비닐 수지 조성물의 조성은, 하기와 같다.
염화비닐 수지(중합도 1300, 신에츠화학공업주식회사, TK-1300) 100중량부
트리스(2-에틸헥실)트리멜리테이트(카오주식회사, 트리멕스T-08) 48중량부
탄산칼슘 15중량부
이산화티탄 5중량부
스테아르산아연 0.5중량부
스테아르산칼슘 0.15중량부
하이드로탈사이트류 화합물 입자 4.2중량부
이들을 혼합하여 얻어진 50g을 열간 롤로 160℃, 롤 극간 1.0㎜, 혼련 시간 7분의 조건으로 혼련하여 시트를 얻었다. 얻어진 혼련 시트에 대하여 JIS K 6723에 준한 열 안정성 시험을 행하여 내열성의 시간을 측정하였다.
또한 얻어진 혼련 시트를 15㎝각, 두께 0.5㎜로 하기 위해서 열간 프레스로 190℃, 5분 및 30분의 처리를 행하여 프레스 시트를 얻었다. 얻어진 프레스 시트의 착색 정도를 초기 착색이라고 정의하고 A 내지 E의 5단계로 착색 정도를 표기하였다.
또한, A는 착색이 거의 없는 상태, B는 충분 허용 범위이면서 매우 희미하게 착색이 인정되는 상태, C는 약간 착색이 있는 상태이면서 허용 범위, D는 착색이 있으면서도 허용 범위의 한계인 상태, E는 착색이 심하게 허용 범위 외이다.
실시예 3:
실시예 1과 마찬가지로 하여, Mg(NO3)2·6H2O 70.2g과 Al(NO3)3·9H2O 45.3g, NaOH 32ml(14mol/L 농도)와 Na2CO3 13.8g을 이용하여 170℃에서 15시간 반응을 행하였다. 이것에 1L의 물을 첨가하고, 이어서, 70℃에서 별도로 500ml에 용해해 둔 스테아르산 소다를 하이드로탈사이트 대비 1.0wt％ 첨가하여 30분간 숙성하였다. 이것을 여별 분리하고, 105℃에서 건조하여, 타니나카식 분쇄기로 1분간 분쇄한 후, 로진을 하이드로탈사이트 대비 1.2wt％ 첨가하여 타니나카식 분쇄기로 8분간 분쇄를 하였다. 얻어진 표면 처리된 하이드로탈사이트류 화합물 입자의 비표면적은 8.2㎡/g, 판면 직경은 0.38㎛, 결정자 크기는 662Å, 수증기 흡착량으로부터 구해지는 개념값 x는 0.3409, 수증기 흡착량으로부터 구해지는 개념값 y는 0.2335, 응집 입자 직경의 최대는 12.0㎛, D50=0.2101㎛였다.
상기에서 얻어진 하이드로탈사이트류 화합물 입자를 이용하여 염화비닐 수지 안정제를 이용한 염화비닐 수지 조성물을 제작하였다. 염화비닐 수지 조성물의 조성은 하기와 같다.
염화비닐 수지(중합도 1300, 신에츠화학공업주식회사, TK-1300) 100중량부
비스2-에틸헥실프탈레이트(다이하치화학공업주식회사) 60중량부
탄산칼슘 20중량부
스테아르산아연 0.5중량부
스테아르산칼슘 0.1중량부
하이드로탈사이트류 화합물 입자 3.5중량부
이들을 혼합하여 얻어진 50g을 열간 롤로 160℃, 롤 극간 1.0㎜, 혼련 시간 7분의 조건으로 혼련하고, 시트를 얻었다. 얻어진 혼련 시트에 대하여 JIS K 6723에 준한 열 안정성 시험을 행하여 내열성의 시간을 측정하였다.
또한 얻어진 혼련 시트를 15㎝각, 두께 0.5㎜로 하기 위해서 열간 프레스로 190℃, 5분 및 30분의 처리를 행하여 프레스 시트를 얻었다. 얻어진 프레스 시트의 착색 정도를 초기 착색이라고 정의하고 A 내지 E의 5단계로 착색 정도를 표기하였다.
또한, A는 착색이 거의 없는 상태, B는 충분 허용 범위이면서 매우 희미하게 착색이 인정되는 상태, C는 약간 착색이 있는 상태이면서 허용 범위, D는 착색이 있으면서도 허용 범위의 한계인 상태, E는 착색이 심하게 허용 범위 외이다.
실시예 4:
에틸렌과 1-부텐을 할로겐화된 티탄 화합물이나 마그네슘 화합물 등의 지글러-나타 촉매 존재 하에서 공중합시켜 공중합체를 얻었다. 이것에 실시예 1에서 얻어진 하이드로탈사이트류 화합물 입자를 수지 100중량부에 대하여 0.10중량부, 비스(2,4-디-제3부틸페닐)펜타에리트리톨디포스파이트를 0.08중량부, 스테아르산칼슘 0.10중량부를 첨가하여, 열간 롤로 105℃에서 20분간 혼련하여, 두께 2㎜의 혼련 시트를 얻었다. 이어서 열간 프레스로 120℃에서 5분 및 30분간 가열하여 두께 2㎜의 프레스 시트를 제작하고, 그 황색변을 상기와 마찬가지로 5단계로 평가하였다.
실시예 5:
나일론 4,6 수지 40중량부, 브롬화스티렌의 (공)중합체 22중량부, 삼산화안티몬 5중량부, 실시예 1에서 얻어진 하이드로탈사이트류 화합물 입자를 1.5중량부, 소성 카올린 20중량부를 혼합하고, 열간 롤로 327℃에서 30분간 혼련하여, 두께 2㎜의 혼련 시트를 얻었다. 이 시트의 흑점의 발생 빈도를 A 내지 C로 나타내고, A는 흑점이 적고, C는 흑점이 많는 것을 의미한다. 동시에 수지의 변색의 정도를 A 내지 E로 착색 정도를 표기하였다.
또한 A는 착색이 거의 없는 상태, B는 충분 허용 범위이면서 매우 희미하게 착색이 인정되는 상태, C는 약간 착색이 있는 상태이면서 허용 범위, D는 착색이 있으면서도 허용 범위의 한계인 상태, E는 착색이 심하게 허용 범위 외이다.
비교예 1:
상기 실시예 1의 하이드로탈사이트류 화합물 입자의 표면 처리제의 종류와 양을, 스테아르산 소다 5.2wt％, 실란 커플링제 0.22wt％, 글리세린 0.1wt％로 하였다. 단 표면 처리는 이들 3개의 표면 처리제를 모두 한꺼번에 하이드로탈사이트류 화합물 입자에 첨가한 후에 타니나카식 분쇄기로 3분간 분쇄 처리를 행하였다. 비표면적은 13.6㎡/g, 판면 직경은 0.27㎛, 결정자 크기는 536Å, 수증기 흡착량으로부터 구해지는 개념값 x는 0.6341, 수증기 흡착량으로부터 구해지는 개념값 y는 0.2239, 응집 입자 직경의 최대는 14.8㎛, D50=2.18㎛였다. 이것을 실시예 1의 할로겐 함유 수지 조성물과 마찬가지로 하여 혼련 시트 및 프레스 시트를 얻고, 착색 정도를 상기와 마찬가지로 5단계로 평가하였다.
비교예 2:
상기 실시예 3의 표면 처리되어 있지 않은 하이드로탈사이트류 화합물 입자의 표면 처리제의 종류와 양을, 스테아르산 0.9wt％, 로진 0.2wt％, 글리세린 1.5wt％로 하였다. 단 표면 처리는 이들 3개의 표면 처리제를 모두 한꺼번에 건식으로 하이드로탈사이트류 화합물 입자에 첨가한 후에 유발에서 1분간 분쇄 처리를 행하였다. 비표면적은 7.9㎡/g, 판면 직경은 0.33㎛, 결정자 크기는 533Å, 수증기 흡착량으로부터 구해지는 개념값 x는 0.1801, 수증기 흡착량으로부터 구해지는 개념값 y는 0.31, 응집 입자 직경의 최대는 24.1㎛, D50=5.1㎛였다. 이것을 실시예 3의 할로겐 함유 수지 조성물과 마찬가지로 하여 혼련 시트 및 프레스 시트를 얻고, 착색 정도를 상기와 마찬가지로 5단계로 평가하였다.
비교예 3:
상기 비교예 1의 하이드로탈사이트류 화합물 입자를 실시예 4와 마찬가지로 하여 황색변을 측정하였다.
수지 종류 착색 정도
실시예 1 염화비닐 B
실시예 2 염화비닐 A
실시예 3 염화비닐 A
실시예 4 에틸렌-1-부텐 공중합체 B
실시예 5 나일론 4,6 수지 브롬화스티렌 공중합체 B
비교예 1 염화비닐 C
비교예 2 염화비닐 D
비교예 3 에틸렌-1-부텐 공중합체 D
실시예 6:
실시예 1과 마찬가지로 하여, Mg(NO3)2·6H2O 70.5g과 Al(NO3)3·9H2O 46.9g, NaOH 52ml(14mol/L 농도)와 Na2CO3 18.1g을 이용하여 75℃에서 6시간 반응을 행하였다. 이것을 여별 분리하고, 90℃에서 건조하여, 타니나카식 분쇄기로 1분간 분쇄한 후, 에탄올로 15배 희석한 하이드로탈사이트 대비 0.6wt％의 실란 커플링제를 첨가하고, 다시 타니나카식 분쇄기로 5분간 분쇄를 하였다. 이어서, 에틸렌글리콜을 하이드로탈사이트 대비 0.23wt％ 첨가하여 타니나카식 분쇄기로 2.5분간 분쇄 처리를 하였다. 얻어진 표면 처리된 하이드로탈사이트류 화합물 입자의 비표면적은 94.8㎡/g, 판면 직경은 0.08㎛, 결정자 크기는 204Å, 수증기 흡착량으로부터 구해지는 개념값 x는 0.1094, 수증기 흡착량으로부터 구해지는 개념값 y는 0.2445, 응집 입자 직경의 최대는 22.3㎛, D50=4.38㎛였다.
상기에서 얻어진 하이드로탈사이트류 화합물 입자 5g을, KCl을 에탄올-50vol％/순수에 용해시켜 50℃로 유지한 용액 100g(Cl- 함유량이 0.4mol/L)에 첨가하여, 50℃를 유지한 채로 20시간과 70시간 각각 숙성하여 Cl-의 포착 능력 및 용액 중의 Mg와 Al의 용해한 양을 검토하였다.
또한, Mg와 Al의 용해한 양은, 하이드로탈사이트류 화합물 입자를 여별시킨 KCl/에탄올/순수 용액 40ml에 염산을 1ml 첨가하고, 90℃로 승온하여 30분 유지한 용액을 ICP로 분석하였다. 또한, Cl-의 포착량은, 하이드로탈사이트류 화합물 입자를 여별시킨 KCl/에탄올/순수 용액을 ICP로 분석하였다.
참고예 1:
상기 실시예 6의 하이드로탈사이트류 화합물 입자의 표면 처리제의 첨가를 행하지 않고 타니나카식 분쇄기로 1분간 분쇄를 행하였다. 비표면적은 104.7㎡/g, 판면 직경은 0.07㎛, 결정자 크기는 198Å, 수증기 흡착량으로부터 구해지는 개념값 x는 0.033, 수증기 흡착량으로부터 구해지는 개념값 y는 0.2165, 응집 입자 직경의 최대는 22.9㎛, D50=5.07㎛였다.
얻어진 하이드로탈사이트류 화합물 입자를, 상기 실시예 6과 마찬가지로 하여 Cl-의 포착 능력 및 용액 중의 Mg와 Al의 용해한 양을 검토하였다.
반응 시간
(시간)		 Cl- 포착률
(％)		 Mg 용출량
(㎎/L)		 Al 용출량
(㎎/L)
실시예 6 20 42 1.2 0
참고예 1 20 45 5.7 0.20
실시예 6 70 84 1.3 0
참고예 1 70 88 6.8 0.22

Claims (13)

  1. 탄소수가 3 이상인 유기 화합물로 표면 처리되어 있고, 비표면적이 5㎡/g 내지 150㎡/g이고, 하이드로탈사이트류 화합물 입자를 온도 25℃, 습도 50％로 250시간 폭로한 경우의 P/PO=0.045 내지 0.355의 범위에서의 수증기 흡착 곡선으로부터 구해지는, 식:x=(P/(V×(PO-P)))/(P/PO)(단, V는 수증기 흡착량을 나타내고, P는 측정장 압력을 나타내고, PO는 대기압을 나타낸다.)의 x에 상당하는 값이 0.06 내지 0.59의 범위이고, 식:y=Vm/SBET(단, Vm은 P/PO=0.2에서의 수증기 흡착량을 나타내고, SBET는 시료의 비표면적을 나타낸다.)의 y에 상당하는 값이 0.225 내지 0.260인 하이드로탈사이트류 화합물 입자.
  2. 제1항에 있어서, 평균 판면 직경이 0.05㎛ 내지 1.0㎛, X선 회절 측정 결과를 이용하여 쉐러(Scherrer) 식으로부터 구한 입자의 결정자 크기가 100Å 내지 700Å인 하이드로탈사이트류 화합물 입자.
  3. 제1항에 있어서, JIS R 1622에 준하는 입도 분포 측정법에서의 응집 입자의 최대 입자 직경이 25㎛ 이하이고 D50이 0.04 내지 5.0㎛인 하이드로탈사이트류 화합물 입자.
  4. 제1항에 있어서, 탄소수가 3 이상인 유기 화합물의 양이 0 초과 10wt％ 이하인 하이드로탈사이트류 화합물 입자.
  5. 제1항의 하이드로탈사이트류 화합물 입자와 금속 비누를 포함하는 수지 안정제.
  6. 제5항에 있어서, 첨가물이 더 함유되는 수지 안정제.
  7. 제6항에 있어서, 첨가제가 수지, 활제, 가소제, 탄산칼슘, 산화티탄, 산화규소, 산화알루미늄, 산화철, 제올라이트, 다가 알코올, 힌더드 아민 화합물, 폴리올, 데히드로아세트산아연, β디케톤 및 산화 방지제로부터 선택되는 적어도 2종류 이상인 수지 안정제.
  8. 제6항에 있어서, 금속 비누 100중량부에 대하여 2.5 내지 15,000중량부의 하이드로탈사이트류 화합물 입자를 함유하는 수지 안정제.
  9. 제1항의 하이드로탈사이트류 화합물 입자 0.01 내지 30중량부와 할로겐 함유 수지 100중량부를 포함하는 할로겐 함유 수지 조성물.
  10. 제9항에 있어서, 할로겐 함유 수지 100중량부에 대하여, 가소제 0 내지 70중량부, 금속 비누 0.05 내지 50중량부를 더 함유하는 할로겐 함유 수지 조성물.
  11. 제9항에 있어서, 할로겐 함유 수지 100중량부에 대하여, 가소제 0 내지 70중량부, 금속 비누 0.05 내지 50중량부, 탄산칼슘 및/또는 이산화티탄 1 내지 50중량부를 더 함유하는 할로겐 함유 수지 조성물.
  12. 제1항의 하이드로탈사이트류 화합물 입자를 포함하는 할로겐 포착재.
  13. 제1항의 하이드로탈사이트류 화합물 입자의 분말 또는 그의 성형체를 포함하는, 용액으로부터의 음이온을 포착하는 음이온 포착재.
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