KR101202141B1 - 기판 처리 장치 - Google Patents
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Abstract
노즐 초기화 기구에서 이용되는 세정액을 유효 이용함과 더불어, 배관 구성을 간략화할 수 있는 기판 처리 장치를 제공하는 것으로, 기판 처리 장치(1)의 노즐 메인터넌스 유닛(9)은, 롤러(95)와, 롤러(95)를 수납하는 롤러 배트(96)와, 노즐의 세정에 이용되는 노즐 세정 유닛(40)과, 노즐 세정 유닛(40)이 대기하는 대기 배트(41)를 구비하고 있다. 이 롤러 배트(96)와 대기 배트(41)는 연결관(42)으로 연결되어 있고, 대기 배트(41) 상의 용액은 모두 롤러 배트(96)로 송액된다. 그 때문에, 슬릿 노즐(55)이나 노즐 세정 유닛(40)으로부터 배출된 세정액이나 처리액은 모두, 롤러 배트(96)에 일단 저류되며, 예비 토출로 처리액이 토출된 롤러(95) 외주면의 세정에 재이용할 수 있다. 또, 배기 배관(25) 및 오버플로우 폐액 배관(23), 롤러 배트 폐액 배관(24)을 롤러 배트(96)에 설치하면 되기 때문에 배관 구성이 간략화된다.
Description
본 발명은, 예를 들면, 액정용 유리각형 기판, 반도체 기판, 필름 액정용 플렉서블 기판, 포토마스크용 기판, 칼라 필터용 기판 등의 정밀 전자 장치용 기판, 혹은 그것에 비슷한 각종 기판의 기판 처리 장치에 관한 것이다.
종래, 각종 기판의 제조 공정에 있어서는, 기판의 표면에 처리액을 도포하는 기판 처리 장치가 이용되고 있다. 이와 같은 기판 처리 장치로서, 슬릿 노즐로부터 처리액을 토출하면서 이 슬릿 노즐을 기판에 대해서 상대적으로 직진 이동시켜, 기판 전체에 처리액을 도포하는 슬릿 코터가 알려져 있다.
슬릿 코터에 있어서의 도포 처리가, 고정밀도로 실행되기 위해서는, 슬릿 노즐의 선단부가 그 길이 방향, 폭방향에 있어서 균일한 상태로 되어 있는 것이 중요하다. 그렇지만, 도포 처리를 반복하여 행함으로써, 슬릿 노즐의 선단부에는, 아무리 해도 처리액이 부착하기 때문에, 슬릿 노즐의 선단부를 균일한 상태로 유지하는 것은 어려우며, 도포 처리의 정밀도를 저하시키는 원인이 된다. 그 때문에, 슬릿 코터에 있어서는, 슬릿 노즐의 선단부를 세정하여, 균일한 상태로 하기 위한 노즐 메인터넌스 유닛이 필요하게 된다.
예를 들면, 특허문헌 1에 기재되어 있는 바와 같이, 기판에 도포 처리를 행하기 전에, 슬릿 노즐 선단의 세정 처리를 행하고 나서, 회전하고 있는 대략 원통 형상의 롤러의 외주면에 슬릿 노즐을 근접시킨 상태에서, 일정한 처리액을 토출시켜, 노즐의 선단부를 균일한 상태로 조정하는 처리(이하, 「예비 토출 처리」라고 칭한다)를 위한 노즐 초기화 기구를 갖는 기판 처리 장치가 알려져 있다.
그렇지만, 상기의 노즐 초기화 기구에서는, 슬릿 노즐의 예비 토출을 행하는 예비 토출 기구, 슬릿 노즐의 토출구의 세정을 행하는 노즐 세정 기구, 그리고 노즐이 대기하는 대기 포트가, 각각 따로따로 나누어진 구성이었다. 이 각각의 기구에서 발생하여, 처리에 이용된 세정액은, 그 농도나 사용 상태에 관계없이 특별히 유효 이용되는 일이 없었다.
또, 각각의 기구에, 계외에 용액을 배출하기 위한 폐액 배관이나, 용액 분위기를 배출하는 배기 배관을 설치하지 않으면 안 되었기 때문에, 배관 구성이 복잡하게 되어 있어, 메인터넌스성에 문제가 있었다.
본 발명은 상기와 같은 문제를 감안하여 이루어진 것이고, 노즐 초기화 기구에 있어서, 각각의 기구에서 이용된 세정액을 유효 이용할 수 있는 기판 처리 장치를 제공하는 것을 제1의 목적으로 한다.
본 발명의 제2의 목적은, 노즐 초기화 기구에서의 배관 구성을 간략화하는 것이다.
청구항 1에 관련된 발명은, 기판에 소정의 처리액을 도포하는 기판 처리 장치로서, 대략 수평인 제1 방향을 따라 반송되는 상기 기판의 상방에 설치되고, 상기 처리액을 토출 가능하며, 상기 제1 방향으로 직교하는 대략 수평인 제2 방향을 따라 연장된 노즐과, 상기 제2 방향을 따라 연장되고, 외주면에 상기 노즐로부터 상기 처리액을 토출시킴으로써, 상기 노즐의 선단부의 처리액을 소정의 상태로 조정하는 예비 토출을 위한 롤러와, 상기 제2 방향을 따라 연장되어 있고, 상기 롤러를 수용하는 하우징과, 세정액으로 상기 노즐의 세정을 행하는 노즐 세정 기구를 구비하며, 상기 노즐로부터의 토출액과, 상기 노즐 세정 기구로부터의 배출액이, 공통의 상기 하우징 내에 저류되는 것을 특징으로 한다.
청구항 2에 관련된 발명은, 청구항 1에 기재된 기판 처리 장치로서, 상기 하우징과 연결되어, 상기 노즐 세정 기구를 그 상방에 대기시키는 대기 배트와, 상기 노즐 세정 기구의 대기 배트 내의 액체를 상기 하우징 내에 도입시키는 배관을 더 구비하는 것을 특징으로 한다.
청구항 3에 관련된 발명은, 청구항 1에 기재된 기판 처리 장치로서, 상기 하우징과 상기 노즐 세정 기구 중, 상기 하우징에만, 폐액 배관 및 배기 배관이 설치되어 있는 것을 특징으로 한다.
청구항 4에 관련된 발명은, 청구항 2에 기재된 기판 처리 장치로서, 상기 하우징과 상기 노즐 세정 기구와 상기 대기 배트 중, 상기 하우징에만, 상기 폐액 배관과 상기 배기 배관이 설치되어 있는 것을 특징으로 한다.
청구항 5에 관련된 발명은, 청구항 1 내지 4 중 어느 한 항에 기재된 기판 처리 장치로서, 상기 노즐 세정 기구로부터 상기 노즐의 선단부를 향해 토출된 세정액과, 기판으로의 처리액의 토출 전에 상기 노즐로부터 상기 롤러에 예비 토출된 처리액이, 공통의 상기 하우징 내에 저류되는 것을 특징으로 한다.
청구항 6에 관련된 발명은, 청구항 1 내지 4의 중 어느 한 항에 기재된 기판 처리 장치로서, 상기 노즐 내부를 통과하여 상기 노즐로부터 토출된 세정액과, 기판으로의 처리액의 토출 전에 상기 노즐로부터 상기 롤러에 예비 토출된 처리액이, 공통의 상기 하우징 내에 저류되는 것을 특징으로 한다.
청구항 7에 관련된 발명은, 청구항 1 내지 4 중 어느 한 항에 기재된 기판 처리 장치로서, 상기 노즐 세정 기구로부터 상기 노즐의 선단부를 향해 토출된 세정액과, 상기 노즐 내부를 통과하여 상기 노즐로부터 토출된 세정액과, 기판으로의 처리액의 토출 전에 상기 노즐로부터 상기 롤러에 예비 토출된 처리액이, 공통의 상기 하우징 내에 저류되는 것을 특징으로 한다.
청구항 8에 관련된 발명은, 청구항 1 내지 4 중 어느 한 항에 기재된 기판 처리 장치로서, 상기 하우징 내에 저류하여 상기 세정액을 포함하는 저류액에 상기 롤러의 하부가 침지됨으로써, 상기 저류액이 상기 롤러의 세정에 사용되는 것을 특징으로 한다.
청구항 9에 관련된 발명은, 청구항 1 내지 4 중 어느 한 항에 기재된 기판 처리 장치로서, 상기 하우징의 내부 측면에 설치되고, 상기 하우징 내에 세정액을 공급하는 세정액 공급 수단과, 상기 하우징 내의 액면 높이를 검지하는 액면 검지 수단과, 상기 액면 검지 수단에 의해 검지된 액면 레벨이 소정의 기준 레벨을 하회했을 때에, 상기 세정액 공급 수단으로부터 상기 하우징 내에 세정액을 공급시키는 세정액 공급 제어 수단을 더 구비한다.
청구항 10에 관련된 발명은, 청구항 1 내지 4 중 어느 한 항에 기재된 기판 처리 장치로서, 상기 노즐이 상기 하우징의 내부에 하강한 상태에서, 상기 노즐로부터 상기 세정액의 토출을 행함으로써, 상기 노즐의 내부 세정이 행해지는 것을 특징으로 한다.
청구항 1 내지 10에 기재된 발명에 따르면, 노즐로부터의 토출액과, 노즐 세정 기구로부터의 배출액을, 공통의 하우징 내에 저류할 수 있다. 하우징 내에는, 롤러가 설치되어 있고, 롤러에 부착한 처리액을 세정하기 위해 하우징 내의 용액을 이용할 수 있다. 이것에 의해, 하우징에 공급되는 세정액의 공급량의 삭감과 폐액량의 삭감이 가능하고, 처리 비용을 줄일 수 있다. 또, 배기나 폐액 등을 위한 배관은 공통의 하우징에 설치하면 되기 때문에, 배관 구성을 종래보다 간략화하는 것이 가능하다.
또, 특히 청구항 2에 기재된 발명에 따르면, 노즐 세정 기구의 대기 배트 내에 수집된 액에 대해서도, 배관에 의해 공통의 하우징 내에 도입시킬 수 있다.
또, 특히 청구항 3에 기재된 발명에 따르면, 하우징과 노즐 세정 기구의 각각에 폐액 배관과 배기 배관을 설치할 필요가 없기 때문에, 폐액 배관과 배기 배관의 사용수를 삭감할 수 있다.
또, 특히 청구항 4에 기재된 발명에 따르면, 하우징과 노즐 세정 기구와 노즐 세정 기구의 대기 배트의 각각에 폐액 배관과 배기 배관을 설치할 필요가 없기 때문에, 폐액 배관과 배기 배관의 사용수를 삭감할 수 있다.
또, 특히 청구항 5에 기재된 발명에 따르면, 노즐로부터 롤러에 예비 토출된 처리액과, 노즐 세정 기구로부터 노즐의 선단부를 향해 토출된 세정액을, 공통의 하우징 내에 저류시킬 수 있다.
또, 특히 청구항 6에 기재된 발명에 따르면, 노즐로부터 롤러에 예비 토출된 처리액과, 내부 세정으로서 노즐 내부를 통과하여 노즐로부터 토출된 세정액을, 공통의 하우징 내에 저류시킬 수 있다.
또, 특히 청구항 7에 기재된 발명에 따르면, 예비 토출을 위해 노즐로부터 롤러에 토출된 처리액과, 노즐을 세정하기 위해 노즐 세정 기구로부터 노즐의 선단부를 향해 토출된 세정액과, 내부 세정으로서 노즐 내부를 통과하여 노즐로부터 토출된 세정액이, 공통의 하우징에 저류된다.
또, 특히 청구항 8에 기재된 발명에 따르면, 하우징 내에 저류된 저류액을 롤러의 세정에 사용하는 것이 가능하다. 그 때문에, 롤러 세정을 위해 하우징 내에 공급되는 세정액의 신액의 사용량을 삭감할 수 있다. 또, 폐액량의 삭감에도 연결되기 때문에 폐액의 처리에 드는 비용의 삭감도 가능하다.
또, 특히 청구항 9에 기재된 발명에 따르면, 액면 검지 수단에 의해, 하우징 내의 액면 높이가 검지되므로, 그것에 의거하여 세정액 공급 수단으로부터 하우징 내에 세정액을 공급할 수 있다. 그 때문에, 하우징 내의 액체량이 부족하여, 롤러의 세정 불량이 일어나는 것을 방지하는 것이 가능하다.
또, 특히 청구항 10에 기재된 발명에 따르면, 노즐로부터 토출되는 세정액이, 주위에 비산하는 것을 막을 수 있다.
도 1은 본 발명의 실시 형태에 관련된 기판 처리 장치의 상면도이다.
도 2는 기판 처리 장치의 제어 기구를 나타낸 블록도이다.
도 3은 본 발명의 실시 형태에 관련된 기판 처리 장치의 YZ 단면도이다.
도 4는 본 발명의 실시 형태에 관련된 기판 처리 장치의 노즐 메인터넌스 유닛의 XZ 단면도이다.
도 5는 본 발명의 실시 형태에 관련된 기판 처리 장치의 노즐 메인터넌스 유닛의 상면도이다.
도 6은 본 발명의 실시 형태에 관련된 기판 처리 장치의 노즐 메인터넌스 유닛에 있어서의 처리의 흐름을 부분적으로 나타낸 XZ 단면도이다.
도 7은 본 발명의 실시 형태에 관련된 기판 처리 장치의 노즐 메인터넌스 유닛에 있어서의 처리의 흐름을 부분적으로 나타낸 XZ 단면도이다.
도 8은 본 발명의 실시 형태에 관련된 기판 처리 장치의 노즐 메인터넌스 유닛에 있어서의 처리의 흐름을 부분적으로 나타낸 XZ 단면도이다.
도 9는 본 발명의 변형예에 관련된 기판 처리 장치의 노즐 메인터넌스 유닛에 있어서의 처리의 흐름을 부분적으로 나타낸 XZ 단면도이다.
도 2는 기판 처리 장치의 제어 기구를 나타낸 블록도이다.
도 3은 본 발명의 실시 형태에 관련된 기판 처리 장치의 YZ 단면도이다.
도 4는 본 발명의 실시 형태에 관련된 기판 처리 장치의 노즐 메인터넌스 유닛의 XZ 단면도이다.
도 5는 본 발명의 실시 형태에 관련된 기판 처리 장치의 노즐 메인터넌스 유닛의 상면도이다.
도 6은 본 발명의 실시 형태에 관련된 기판 처리 장치의 노즐 메인터넌스 유닛에 있어서의 처리의 흐름을 부분적으로 나타낸 XZ 단면도이다.
도 7은 본 발명의 실시 형태에 관련된 기판 처리 장치의 노즐 메인터넌스 유닛에 있어서의 처리의 흐름을 부분적으로 나타낸 XZ 단면도이다.
도 8은 본 발명의 실시 형태에 관련된 기판 처리 장치의 노즐 메인터넌스 유닛에 있어서의 처리의 흐름을 부분적으로 나타낸 XZ 단면도이다.
도 9는 본 발명의 변형예에 관련된 기판 처리 장치의 노즐 메인터넌스 유닛에 있어서의 처리의 흐름을 부분적으로 나타낸 XZ 단면도이다.
이하, 도면을 참조하면서 본 발명의 실시 형태에 대해 설명한다.
또한, 이하의 설명에 있어서는, 방향 및 배향을 나타낼 때에, 적절히 도면 중에 나타내는 3차원의 XYZ 직교 좌표를 이용한다. 여기서, X축 및 Y축 방향은 수평 방향, Z축 방향은 연직 방향(+Z측이 상측, -Z측이 하측)을 나타낸다. 또, 편의상, X축 방향을 좌우 방향(+X측이 하류측, -X측이 상류측)으로 하고, Y축 방향을 안길이 방향(+Y측, -Y측)으로 한다.
〈1. 기판 처리 장치(1)의 개요〉
도 1은 이 발명의 실시 형태인 기판 처리 장치(1)의 상면도이다. 기판 처리 장치(1)는, 처리액을 토출하는 슬릿이 형성된 장척의 노즐과 기판 W를 상대적으로 이동시켜 기판 W의 표면에 처리액을 도포하는 장치(슬릿 코터)로서 구성되어 있다. 이 기판 처리 장치(1)는, 기판 W의 표면에 형성된 전극층 등을 선택적으로 에칭하는 전처리로서, 처리액으로서의 레지스트액을 기판에 도포하는 프로세스 등에 이용된다. 슬릿 코터의 도포 대상이 되는 기판 W는, 대표적으로 액정 표시 장치에 화면 패널을 제조하기 위한 각형의 유리 기판이지만, 반도체 기판, 필름 액정용 플렉서블 기판, 포토마스크용 기판, 칼라 필터용 기판 등의 다른 기판이어도 된다.
기판 처리 장치(1)에는, 반송을 주된 목적으로 하여, 상류 유닛으로부터 보내져 온 기판 W를 반송하는 롤러 컨베이어(30), 압축 공기에 의해 기판 W를 부상시키는 입구 부상 스테이지(10), 롤러 컨베이어(30)로부터 입구 부상 스테이지(10)에 기판 W를 이재하는 이재 유닛(6) 및 기판 W의 양측단을 흡착 유지하고, 하류에 반송하는 기판 반송 척(8)을 구비하고 있다.
또, 기판 W에 처리액을 도포하기 위해, 처리액을 토출 가능한 슬릿 노즐(55)을 구비한 노즐 유닛(5), 슬릿 노즐(55)의 세정을 행하는 노즐 메인터넌스 유닛(9), 도포 처리가 행해지는 도포 스테이지(4)를 구비하고 있다.
도 2는, 기판 처리 장치(1)의 제어부(7)와, 그것에 의해 주로 제어되는 각 기능부의 관계를 나타내는 도면이다. 제어부(7)는 컴퓨터를 이용해 구성되어 있고, 컴퓨터에 인스톨된 프로그램과, 장치 각 부의 특성 데이터, 및 각 기판 W의 처리 절차(레시피)에 따라, 장치 각 부를 제어하여, 일련의 기판 W의 연속 처리가 행해진다.
도 3은 기판 반송 척(8)과 노즐 유닛(5)과 노즐 메인터넌스 유닛(9)의 YZ 단면도이다.
기판 반송 척(8)은, 하면이 비접촉 상태에 있는 기판 W의 에지를 유지하여 기판 W를 하류 방향으로 반송하기 위한 장치이다. 원점 상태에 있어서 기판 반송 척(8)은, 부상 배트(64)와 입구 부상 스테이지(10)에 걸쳐 정지한 기판 W의, X축 방향으로 평행한 양단부의 직하에 위치하고 있다.
도 3에 나타내는 바와 같이 기판 반송 척(8)은, 좌우 대칭(+Y측과 -Y측으로 대칭) 구조로 되어 있고, 좌우 각각으로, X축 방향으로 이동하기 위한 반송 척 주행 가이드(81)와, 그 이동을 위한 구동력을 발생시키는 반송 척 리니어 모터(83)와, 기판 W의 위치를 검출하기 위한 반송 척 리니어 스케일(82)을, 구비하고 있다.
기판 반송로의 양단(-Y측, +Y측)으로, 노즐 유닛 주행 가이드(51)보다 내측의 위치에, X축 방향을 따라 반송 척 주행 가이드(81)가 설치되어 있다.
2개의 반송 척 리니어 모터(83)(-Y측, +Y측)의 각각의 고정자는 기판 처리 장치(1)의 Y축 방향에 있어서의 가장 내측의 측면에 X축 방향을 따라 설치되어 있다. 각각의 이동자는 기판 반송 척(8)에 고설(固設)되어 있다. 이들의 고정자와 이동자의 사이에 발생하는 자기 상호 작용에 의해 기판 반송 척(8)은, 반송 척 주행 가이드(81)를 따라 이동한다.
2개의 반송 척 리니어 스케일(82)에 대해서도, 기판 처리 장치(1)의 양단(-Y측, +Y측)에, 각각 설치되어 있다. 이 반송 척 리니어 스케일(82)이 기판 반송 척(8)의 이동 위치를 검출하기 위해, 제어부(7)는 그 검출 결과에 의거하여 기판 위치의 제어를 행한다.
기판 W의 표면에 레지스트액을 도포하는 노즐 유닛(5)은, 도포 스테이지(4)의 상방에 설치되어 있고, 도 3에 나타내는 가교 구조를 가진다. 이와 같은 가교 구조는, 예를 들면 카본 파이버 보강 수지를 골재로 하는 노즐 지지부와, 그 양단을 지지해 승강시키는 승강 기구로 구성되어 있다. 노즐 지지부에는 슬릿 노즐(55)이 설치되어 있다. 슬릿 노즐(55)은, 처리액 공급 기구(도시하지 않음)로부터 공급되는 레지스트액을, 그 하단에 형성되어 있는 슬릿형장의 토출구(55a)로부터 기판 W의 상면에 토출한다. 이 토출구(55a)는, 도포 스테이지(4)에 대해서 대략 수평이며, Y축 방향을 따라 연장되어 있다.
슬릿 노즐(55)의 승강 기구는 노즐 지지부의 양단에 설치되어 있고, 주로 구동원인 승강 모터(59)와, 볼 나사(58)에 의해 구성되어 있다. 이 승강 모터(59)에 의해, 노즐 지지부는 도포 스테이지(4)에 대해서 연직 방향으로 연장된 볼 나사(58)를 따라 승강 구동되어, 슬릿 노즐(55)의 토출구(55a)와 기판 W의 간격은 조절된다.
이 승강 기구에는, 기판 반송로의 양단(-Y측, +Y측)으로 기판 W와 접하지 않는 위치에 X축 방향을 따라 노즐 유닛 주행 가이드(51)가 설치되어 있다.
2개의 노즐 유닛 리니어 모터(53)(-Y측, +Y측)의 각각의 고정자는 본체 장치의 Y축 방향의 측면에 X축 방향을 따라 설치되어 있고, 각각의 이동자는 승강 기구의 외측에 고설되어 있다. 이들의 고정자와 이동자의 사이에 발생하는 자기 상호 작용에 의해서, 노즐 유닛(5)은, 노즐 유닛 주행 가이드(51)를 따라 이동한다.
2개의 노즐 유닛 리니어 스케일(52)에 대해서도, 본 기판 처리 장치(1)의 양단(-Y측, +Y측)에, 각각 설치되어 있다. 이 노즐 유닛 리니어 스케일(52)이 노즐 유닛(5)의 이동 위치를 검출하기 위해, 제어부(7)는 그 검출 결과에 의거하여 노즐 유닛 리니어 모터(53)의 구동을 제어하고, 노즐 유닛(5)의 X축 방향에 있어서의 이동, 즉 슬릿 노즐(55)에 의한 기판 표면으로의 주사를 제어한다.
도포 처리를 행할 때에는, 슬릿 노즐(55)의 토출구(55a)로부터 레지스터액을 토출한 상태에서, 기판 반송 척(8)이 기판 W의 양단을 유지하여 (+X)축 방향으로 소정의 속도로 수평 이동시킨다.
〈2. 기판 처리 장치(1)에 있어서의 기판 W의 처리의 흐름〉
이 기판 처리 장치(1)에서 기판 W에 행해지는 처리의 흐름으로서는, 이하와 같이 된다.
상류 유닛에서 사전 처리된 기판 W는, 롤러 컨베이어(30)의 구동에 의해, 하류 방향으로 반송된다. 롤러 컨베이어(30)의 하류측에는 이재 유닛(6)이 설치되어 있다. 이 이재 유닛(6)은, 형성된 작은 구멍으로부터 분출되는 공기의 압력에 의해 기판 W를 부상시키는 부상 패드(64)와, 이재 승강 롤러 컨베이어(60)를 구비하고 있고, Y축 방향을 따라 부상 패드(64)의 공극에 이재 승강 롤러 컨베이어(60)의 롤러군이 설치된 구성으로 되어 있다.
이재 승강 롤러 컨베이어(60)는 기판 반송 경로에 대해서 연직 방향으로 승강 가능하고, 상승 위치에 있는 경우는, 이재 승강 롤러 컨베이어(60)의 롤러의 외주면의 정상부는, 롤러 컨베이어(30)의 롤러의 외주면의 정상부와 동등의 높이에 위치하며, 하강시에는, 부상 패드(64)의 상면보다 하방으로 하강한다. 상류 유닛으로부터 기판 W가 반송되어 왔을 때에는, 이재 승강 롤러 컨베이어(60)는 상승 위치에 있는 상태에서, 롤러 컨베이어(30)와 함께 구동함으로써, 기판 W는 롤러 컨베이어(30)로부터 이재 유닛(6), 그리고 입구 부상 스테이지(10)로 반송된다. 입구 부상 스테이지(10)는, 1개의 판 형상 스테이지면의 전면에 걸쳐, 다수의 작은 구멍이 분포 형성되어 있고, 작은 구멍으로부터는 압축 공기의 분출이 행해져 있다. 그 때문에, 압축 공기의 분출에 의한 기체 압력으로, 입구 부상 스테이지(10) 상에 있어서는, 기판 W는 부상 상태가 된다.
이재 유닛(6)에 기판 W의 후단이 옮겨타면, 이재 승강 롤러 컨베이어(60)는 부상 패드(64)의 상면보다 하방으로 하강한다. 그 때문에, 이재 유닛(6)에 의한 기판 W의 지지는, 부상 패드(64)에 의한 부상력만이 되고, 입구 부상 스테이지(10)에서의 부상력과 협동해 기판 W를 부상시켜, 롤러 등의 하부 기구와는 비접촉 상태로 이행한다. 이와 같이 비접촉 상태에 있는 기판 W의 반송 방향과 평행한 2변의 양단을 유지해, 하류 방향으로 반송하는 것이, 기판 반송 척(8)이다. 기판 반송 척(8)이 기판 W를 유지하여 구동함으로써, 기판 W는 소정의 속도로 입구 부상 스테이지(10), 도포 스테이지(4), 그리고 출구 부상 스테이지(11)로, 순차적으로 반송된다.
도포 스테이지(4) 상에는, 노즐 유닛(5)과 노즐 메인터넌스 유닛(9)이 위치하고 있다. 노즐 메인터넌스 유닛(9)에 있어서 세정 및 예비 토출 처리가 행해진 노즐 유닛(5)의 슬릿 노즐(55)은, 기판 W에 도포 처리를 행하기 위해, 도포 스테이지(4) 상의 도포 개시 위치까지 하강한다. 도포 개시 위치에 있어서의 슬릿 노즐(55)의 토출구(55a)와 도포 스테이지(4)의 상면의 사이를, 기판 반송 척(8)의 구동에 의해 기판 W가 반송된다. 이 때, 슬릿 노즐(55)의 토출구(55a)로부터 처리액이 기판 W의 표면에 공급되고, 기판 W로의 도포 처리가 행해진다.
도포 처리가 행해진 기판 W는 출구 부상 스테이지(11)로 반송된다. 출구 부상 스테이지(11)에 있어서, 기판 반송 척(8)에 의한 흡착 유지는 해제된다. 그리고 출구 부상 스테이지(11)에 설치된 리프트 핀(115)군의 상승 구동에 의해, 기판 W의 하면은 지지되어, 들어올려진다. 상승한 리프트 핀(115)군의 사이에 이재 로봇(36)의 이재 포크가 진입함으로써, 리프트 핀(115)군으로부터 기판 W를 받아, 하류에 설치된 감압 건조 유닛(37, 38)의 어느것에 이재되고, 도포된 처리액의 감압 건조를 받는다. 그 후, 감압 건조 유닛(38)과 상하 방향으로 적층된 수수 위치(39)에 기판 W가 이재되고, 또한 다음의 공정을 위한 다른 장치에 반출된다. 이상이, 본 기판 처리 장치(1)에 기판 W가 반입되고 반출될 때까지의 일련의 흐름이 된다.
〈3. 노즐 메인터넌스 유닛(9)의 개요〉
노즐 메인터넌스 유닛(9)은, 기판 W의 표면에 도포 처리가 행해진 슬릿 노즐(55)의 토출구(55a)에 부착한 처리액을 세정하고, 다음의 도포 처리를 향해 슬릿 노즐(55)의 토출구(55a)의 상태를 조정하기 위해 소정의 롤러 상에 예비 토출(예비 도포)을 행하여 처리액의 토출을 원활히 행할 수 있는 상태로 하는 장치이다. 그 때문에, 슬릿 노즐(55)로부터의 레지스트액의 토출 대상이 되는 대략 원통형상의 롤러(95)를 구비하고 있다.
도 1 및 도 3에 나타내는 바와 같이, 이 노즐 메인터넌스 유닛(9)은, X축 방향을 따라, 기판 반송로보다 외측에서, 또한 노즐 유닛(5)보다 내측의 위치에 있어서 하방으로부터 지지되어 있다. 노즐 메인터넌스 유닛(9)에 있어서도, 좌우(-Y측, +Y측) 각각에, 노즐 메인터넌스 유닛 주행 가이드(91), 노즐 메인터넌스 유닛 리니어 모터(93), 그리고 노즐 메인터넌스 유닛 리니어 스케일(92)이 구비되어 있다.
노즐 메인터넌스 유닛 주행 가이드(91)는, Y축 방향으로 보았을 경우, 노즐 유닛 주행 가이드(51)와 반송 척 주행 가이드(81)의 사이에 위치하고 있고, X축 방향을 따르도록, 기판 반송로의 양단(-Y측, +Y측)에 설치되어 있다. 노즐 메인터넌스 유닛 주행 가이드(91)는, 기판 반송 경로를 따라 입구 부상 스테이지(10), 도포 스테이지(4) 및 출구 부상 스테이지(11)의 양측부뿐만 아니라, 이재 유닛(6)의 양측부에 있어서도 연장되어 있다.
양단(-Y측, +Y측)에 설치된 2개의 노즐 메인터넌스 유닛 리니어 모터(93)는, 각각의 고정자가 기판 처리 장치(1)의 Y축 방향에 있어서의 내측의 측면에 X축 방향을 따라 설치되어 있다. 또 각각의 이동자는 노즐 메인터넌스 유닛(9)에 고설되어 있다. 이들의 고정자와 이동자의 사이에 발생하는 자기 상호 작용에 의해 노즐 메인터넌스 유닛(9)은, 노즐 메인터넌스 유닛 주행 가이드(91)를 따라 이동한다.
2개의 노즐 메인터넌스 유닛 리니어 스케일(92)에 대해서도, 기판 처리 장치(1)의 양단(-Y측, +Y측)에 각각 설치되어 있다. 이 노즐 메인터넌스 유닛 리니어 스케일(92)이 노즐 메인터넌스 유닛(9)의 이동 위치를 검출하기 위하여, 제어부(7)는 그 검출 결과에 의거해 노즐 메인터넌스 유닛(9)의 위치에 대해서 제어가 가능하다.
이와 같이 노즐 메인터넌스 유닛(9)은, 노즐 메인터넌스 유닛 주행 가이드(91)를 따라 기판 처리 장치(1)의 X축 방향과 대략 평행으로, 이동시키는 것이 가능하다. 따라서, 노즐 메인터넌스 유닛(9) 하부에 있어서의 보전 작업을 행하는 경우 등, 노즐 메인터넌스 유닛(9)을 이동시킬 수 있기 때문에, 용이하게 작업을 행할 수 있다. 또, 작업자가 작업을 행하기 쉬운 위치에 이동시킨 다음에, 노즐 메인터넌스 유닛(9) 자체의 보전 작업을 행하는 것도 가능해진다.
도 4는 노즐 메인터넌스 유닛(9)의 XZ 단면도이다. 이 노즐 메인터넌스 유닛(9)은, 슬릿 노즐(55)로부터 처리액을 예비 토출시켜 롤러(95)의 둘레면 상에 도포시키고, 그것에 의해 슬릿 노즐(55)의 선단부에 있어서의 처리액의 상태를 사전에 조정하는 토출 조정부(9A)와, 슬릿 노즐(55)의 선단부를 세정하는 노즐 세정부(9B)와, 이들의 토출 조정부(9A)와 노즐 세정부(9B)의 결합체를 지지하는 기대(基臺)(9C)를 구비하여 구성되어 있다.
토출 조정부(9A)에 있어서는, 예비 토출 처리를 위해서 슬릿 노즐(55)로부터 토출되는 처리액의 받이부재가 되는 롤러(95)가, 하우징으로서의 롤러 배트(96) 내에 설치되어 있다. 이 롤러(95)는, 슬릿 노즐(55)의 Y축 방향의 길이보다, 약간 긴 대략 원통형상의 부재이며, 길이 방향이 Y축 방향과 평행이 되도록, 배치되어 있다. 이 롤러(95)의 회전축의 한쪽에는, 롤러 회전 모터(98)가 설치되어 있고, 롤러 회전 모터(98)의 구동에 의해, 롤러(95)는, 도 4에 있어서는 시계 방향으로 회전한다.
토출 조정부(9A)의 롤러 배트(96)는, 박스 형상으로 되어 있고, 그 상부로부터 한쪽의 측방부(도 4에 있어서는, (-X)방향의 좌측방부)는 개구되어 있다. 이 개구부에 있어서, 롤러(95)의 정상부가 롤러 배트(96)의 상부로부터 상방으로 약간 나오도록, 그리고 세정액의 신액을 공급하는 세정액 공급 배관(26)이 롤러 배트(96) 내를 세정하면서 세정액을 공급할 수 있도록, 롤러(95)는 롤러 배트(96) 내부에서 (+X)측의 길이 방향의 측면 근방에 설치되어 있다. 롤러 배트(96) 내에는, 롤러(95)의 하단 부분만이 침지할 정도로, 세정액이 저류되어 있다. 그 때문에, 롤러(95)가 회전함으로써, 예비 토출에 의해 슬릿 노즐(55)로부터 처리액이 토출된 롤러(95)의 외주면은, 순차적으로 저류된 세정액에 담그어진다. 그리고, 저류된 세정액에 담그어진 외주면은, 롤러(95)의 회전에 의해 세정액으로부터 끌어올려진다.
롤러(95)에 부착한 처리액의 액 분리를 양호하게 유지하기 위해, 롤러 배트(96) 내에 저류되는 세정액의 농도는 40% 이하가 바람직하고, 처리액의 농도는 80% 이하, 특히 40% 이하가 바람직하다. 롤러 배트(96) 내에 저류된 처리액의 농도를 조절하기 위하여, 롤러 배트(96) 내에 유입하는 용액량과 유출하는 용액량은, 제어부(7)에 의해 모니터링되어, 제어가 행해져 있다. 구체적으로 유입량에 대해서는, 세정액의 공급 유로에 장착된 적산 유량계의 값과, 처리액의 제어 펌프의 구동으로부터 산출되는 값에 의거해, 제어부(7)에 있어서 연산이 행해진다. 유출량에 대해서는, 각 폐액 배관에 장착된 적산 유량계의 값과, 시간 경과에 대해서 산출된 증발량의 값에 의거해, 제어부(7)에 있어서 연산이 행해진다. 이와 같이 하여 롤러 배트(96) 내의 처리액과 세정액의 농도는 관리되어 있다.
노즐 세정부(9B)는, 노즐 세정 유닛(40)과, 노즐 세정 유닛(40)을 그 상방에 대기시키기 위한 대기 장소를 제공하는 대기 배트(41)를 구비하여 구성되어 있다. 토출 조정부(9A)의 롤러 배트(96)의 (-X)측의 측방부와, 대기 배트(41)의 (+X)측의 측방부는 연결되어 있고, 또한 이 대기 배트(41)와 롤러 배트(96)는, 연결관(42)에 의해 접속되어 있다. 이 연결관(42)은, 연직 방향인 Z축 방향으로 연장되어 대기 배트(41)의 저면(底面)에 개구한 제1 배관 부분과, 수평 방향인 X축 방향으로 연장되어 롤러 배트(96)의 측면으로 개구하는 평행한 제2 배관 부분이 서로 연통하도록 직각으로 접속된 구성으로 되어 있다. 대기 배트(41) 상에 낙하한 세정액이나 처리액은, 대기 배트(41)에서 집액된 후, 대기 배트(41)의 저면에 형성한 연결관(42)의 입구 개구로부터 연결관(42)의 내부에 떨어져 자중(自重)으로 흘러내리고, 롤러 배트(96)의 측면에 형성한 연결관(42)의 출구 개구로부터 롤러 배트(96) 내로 유출한다.
롤러 배트(96)의 내부에, 롤러(95)의 측방에는 블레이드(27)가 설치되어 있다. 이 블레이드(27)는 롤러(95)를 따라 Y축 방향으로 연장된 판 형상이며, 롤러(95)의 외주면과 맞닿고 있다. 롤러(95)가 회전함으로써, 블레이드(27)는 롤러(95)의 외주면을 주사하고, 롤러(95)의 외주면에 부착한 세정액 및 잔존 처리액은, 긁어내진다.
롤러 배트(96)의 내부 측면에서, 롤러 배트(96)와 대기 배트(41)가 연결된 개소와 연결관(42)의 출구 사이의 위치에, 롤러 배트(96) 내에 세정액의 신액을 공급하기 위한 세정액 공급 배관(26)이 설치되어 있다. 이 세정액 공급 배관(26)은 Y축 방향을 따라 연장된 직관이며, 세정액 공급 기구(도시하지 않음)와 접속되어 있어, 롤러 배트(96) 내에 세정액의 토출 개구를 가지고 있다. 이와 같이, 연결관(42)의 출구 개구보다 상방에, 또한 롤러 배트(96) 내부의 측면 상방에 세정액 공급 배관(26)의 토출 개구가 형성되어 있기 때문에, 대기 배트(41)로부터 연결관(42)을 통과하여 롤러 배트(96)의 내벽면에 유출하는 처리액이나 세정액 외에, 슬릿 노즐(55)로부터 토출된 후에 롤러(95)의 회전에 의해 비산한 처리액이나 세정액도 또, 세정액 공급 배관(26)으로부터 토출된 세정액의 신액에 의해 떠내려가게 된다. 이것에 의해 롤러 배트(96)의 내벽면이 세정됨과 더불어, 사용이 끝난 처리액이나 세정액을 롤러 배트(96)의 저부(底部)에 확실히 저류시킬 수 있다.
롤러 배트(96)의 외부 측방에는, 롤러 배트(96)의 측면의 하부와, 롤러 배트(96) 내의 저류액(처리액이나 세정액)의 상한 레벨보다 높은 위치의 사이에, 대략 コ자형의 연결 배관(28)의 양단이 각각 접속되어 개구하고 있다. 그 때문에, 롤러 배트(96) 내의 용액은 대략 コ자형의 연결 배관(28) 내에도 흘러, 롤러 배트(96) 내의 저류액의 액면의 높이와, 연결 배관(28) 내의 액면의 높이와는 동일해진다. 이 연결 배관(28)의 소정 위치에는 액면 검지 센서(29)가 설치되어 있고, 롤러 배트(96) 내의 저류액의 액면의 높이를 검출한다. 이 액면 검지 센서(29)로 검출된 액면 레벨이 소정의 기준 레벨 이하일 때에는, 롤러 배트(96) 내의 저류액의 액량이 부족한 것을 나타내고 있으며, 액면 검지 센서(29)의 검지 신호에 의거해 제어부(7)에서 발생한 지령 신호에 응답하여, 세정액 공급 배관(26)으로부터 추가의 세정액이 공급된다.
롤러 배트(96) 내에는 하면에, 롤러 배트(96) 내의 저류액을 외부에 배출하기 위한, 오버플로우 폐액 배관(23)과 롤러 배트 폐액 배관(24)의 2종류의 폐액 배관이 설치되어 있고, 이들의 배관(23, 24)은 기대(9C)를 관통하여 하방으로 연장되어 있다.
오버플로우 폐액 배관(23)의 상단부(23a)는 항상 「열림」의 상태이며, 롤러 배트(96) 내에 위치하는 일단(계외로의 도출구)은, 롤러 배트(96) 내에 있어서의 저류액의 상한 레벨에 위치하고 있다. 그 때문에, 세정액이나 처리액 등이 유입해 와, 롤러 배트(96) 내의 저류량의 상한 레벨을 초과했다고 해도, 이 오버플로우 폐액 배관(23)으로부터 계외에 배출되기 때문에, 롤러 배트(96) 내의 저류액은 결코 허용 저류량의 상한을 초과하는 일은 없다.
롤러 배트 폐액 배관(24)의 상단부(24a)는, 롤러 배트(96)의 저면에 설치되어 있다. 통상의 처리시에 있어서는 롤러 배트 폐액 배관(24)에 병설한 밸브는 「닫음」으로 되어 있으며, 세정액이나 처리액 등을 저류할 수 있도록 되어 있다. 그러나, 롤러 배트(96) 내의 저류액을 모두 배출하고 싶은 경우에는, 제어부(7)로부터의 신호에 의해, 롤러 배트 폐액 배관(24)의 밸브는 「열림」이 되고, 롤러 배트(96) 내의 저류액은 모두 계외에 배출된다.
이 롤러 배트(96)의 X축 방향과 평행한 면의 상부에 있어서, 배기 배관(25)(도 5)이 설치되어 있다. 배기 배관(25)은, 롤러 배트(96)의 양단(-Y측과 +Y측)에 설치되어 있고, 롤러 배트(96) 내의 저류액의 분위기는 계외로 배기된다.
노즐 세정 유닛(40)은, 도포 처리가 행해진 후의 슬릿 노즐(55)의 토출구(55a)를 외부로부터 직접 세정하며, 통상시는, 대기 배트(41)의 상방에 위치하고 있다(이하, 「퇴피 위치」라고 칭한다). 노즐 세정 유닛(40)에는 노즐 세정 유닛 실린더(도시하지 않음)가 접속되어 있고, 이 실린더의 구동에 의해, 노즐 세정 유닛(40)은, 하방에 롤러 배트(96)가 존재하는 위치(이하, 「세정 위치」라고 칭한다)까지 (+X)방향으로 이동한다. 이 세정 위치에서, 노즐 세정 유닛(40)은 슬릿 노즐(55)의 토출구(55a)의 세정을 행한다.
도 5에 나타내는 바와 같이, 노즐 세정 유닛(40)은 Y축 방향을 따라 이동 가능하고, 모터와 볼 나사를 이용한 일반적인 직동 기구를 채용할 수 있다. 이 노즐 세정 유닛(40)은 XZ 단면도에 있어서 슬릿 노즐(55)의 선단 형상과 적합하도록 V자형으로 패어 있다. 이 팬 곳이 슬릿 노즐(55)의 토출구(55a)와 적합한 위치에서, 소정의 거리를 두고, 세정액 공급 기구로부터 공급되는 세정액을 슬릿 노즐(55)의 토출구(55a)를 향해 토출한다. 슬릿 노즐(55)은 Y축 방향을 따라 연장되어 있기 때문에, 노즐 세정 유닛(40)은 처리액의 토출을 행하면서 Y축 방향을 따라 이동하며, 슬릿 노즐(55)의 토출구(55a)를 외측으로부터 세정한다.
〈4, 노즐 메인터넌스 유닛(9)에 있어서의 처리 동작〉
노즐 메인터넌스 유닛(9)에서 행해지는 처리에 대해 설명한다. 도 6은 노즐 세정 유닛(40)에 의한 슬릿 노즐(55)의 토출구(55a)의 세정 처리를 행할 때의 위치 관계를 나타내고 있다. 대기 배트(41) 상의 퇴피 위치에서 정지하고 있던 노즐 세정 유닛(40)은, 노즐 세정 유닛 실린더의 구동에 의해, X축 방향과 대략 평행으로, 세정 위치로 이동한다. 슬릿 노즐(55)은, 노즐 유닛(5)의 승강 이동과, 노즐 메인터넌스 유닛(9)과 노즐 유닛(5)의 수평 방향의 상대 이동에 의해 노즐 세정 유닛(40)의 상방까지, 이동한다.
노즐 세정 유닛(40)과 슬릿 노즐(55)이 세정 위치에 도달한 단계에서, 노즐 세정 유닛(40)은 슬릿 노즐(55)의 토출구(55a)를 따라, 세정액을 토출시키면서, Y축 방향으로 이동한다. 이와 같이 슬릿 노즐(55)의 토출구(55a)가 주사됨으로써, 슬릿 노즐(55)의 토출구(55a)에 부착하고 있던 처리액은, 노즐 세정 유닛(40)으로부터 토출된 세정액에 의해, 씻겨 내려보내진다. 이 때의 세정액과 세정액에 의해 씻겨 내려보내진 처리액은, 그대로 하방에 위치하는 롤러 배트(96) 내에 집액된다. 롤러 배트 내에는 원래 세정액이 저류되어 있지만, 노즐 세정에 이용된 세정액 및 세정액에 의해 씻겨 내려보내진 처리액은 그대로 저류되고, 저류량을 초과했을 경우에는, 오버플로우 폐액 배관(23)의 상단부(23a)로부터 배출된다.
도 7은 노즐의 예비 토출 처리가 행해질 때의 슬릿 노즐(55)과 노즐 세정 유닛(40)의 위치 관계를 나타내고 있다.
노즐 세정 유닛(40)에 의해, 슬릿 노즐(55)의 세정이 행해진 후에, 도 7에 나타내는 바와 같이 슬릿 노즐(55)은, 노즐 세정 유닛(40)에 의한 세정이 행해져 있던 세정 위치로부터 롤러(95)의 외주면의 정상부로 이동하고, 롤러(95)의 외주면과 소정의 간격을 두고 배치된다. 롤러(95)는 도 7에 있어서는 시계 방향으로 회전을 시작하며, 회전하고 있는 롤러(95)의 외주면을 향해, 슬릿 노즐(55)로부터 일정량의 처리액이, 일정 시간 토출된다.
롤러(95)의 외주면에서 처리액이 토출된 영역은, 롤러(95)의 회전에 의해, 순차적으로 롤러(95)의 하방에서, 롤러 배트(96) 내의 저류액 중에 침지된다. 이 저류액의 농도는, 용액의 공급량, 폐액량 그리고 증발량의 값에 의거해 제어부(7)에 의해 관리되어 있고, 저류액의 농도는 충분히 그 효과를 발휘할 수 있는 정도로 제어되어 있다. 따라서, 롤러(95)의 외주면에 부착한 처리액은 저류액 중의 세정액 성분의 효과에 의해, 롤러(95)의 외주면으로부터 제거된다.
회전에 의해, 저류액 중으로부터 끌어올려진 롤러(95)는, 순차적으로 롤러(95)의 측방에 설치된 블레이드(27)에 의해, 외주면을 상대적으로 주사한다. 이것에 의해, 제거할 수 없었던 잔류 처리액이나, 롤러(95)의 외주면에 부착한 세정액, 저류액 중에 존재하여 롤러(95)의 외주면에 부착한 이물 등은, 긁어내진다. 이와 같이, 예비 토출 처리로서 슬릿 노즐(55)로부터 처리액의 토출이 행해지는 처리는, 항상 롤러(95)의 외주면에 처리액이나 세정액이 부착하고 있지 않는 상태에서 행해진다.
예비 토출이 행해지고 있는 동안, 노즐 세정 유닛(40)은, 대기 배트(41) 상의 퇴피 위치로 이동하고 있다. 노즐 세정 유닛(40)으로부터 토출된 세정액이나 노즐 세정시에 부착한 처리액 등은, 대기 배트(41) 상에 집액된다. 이 대기 배트(41)와 롤러 배트(96)는, 연결관(42)에 의해 접속되어 있기 때문에, 대기 배트(41)에 모아진 세정액은 모두 롤러 배트(96)에 흘러내리고, 롤러 배트(96) 내의 저류량의 상한 레벨을 초과하지 않는 한은 저류된다.
이와 같이, 종래라면 폐액으로서 다루어져 있던, 대기 배트(41) 상에 모아진 세정액이나 처리액, 노즐 세정에 사용된 세정액이나 씻겨 내려보내진 처리액을, 공통의 롤러 배트(96)에 일단 저류하는 것이 이 실시 형태의 장치에서는 가능하다. 그 때문에, 롤러 배트(96)에 있어서의 슬릿 노즐(55)의 예비 토출 처리에서, 롤러(95)의 외주면에 토출된 처리액을 세정하기 위하여 이용하는 것이 가능하다. 롤러 배트(96) 내의 세정액과 처리액의 농도는, 제어부(7)에 의해 관리되어 있고, 세정액의 효과를 충분히 발휘할 수 있을 정도의 농도로 제어되어 있다. 이것에 의해, 롤러 배트(96) 내에 저류되는 용액의 부족분을, 항상 세정액 공급 배관(26)으로부터 공급되는 세정액의 신액으로 보충할 필요가 없어지기 때문에, 세정액의 신액의 추가 공급량을 삭감할 수 있다. 또, 이에 수반해 노즐 메인터넌스 유닛(9)으로부터의 폐액량도 삭감할 수 있기 때문에, 폐액 처리에 관련된 비용을 억제하는 것도 가능하다.
도 8은 노즐 내부 세정을 행하는 경우의 배치를 나타내고 있다. 이와 같이 슬릿 노즐(55)은 노즐 세정 유닛(40)에 의해 세정이 행해지는 세정 위치로부터 더 하방에서, 롤러 배트(96)의 측면과, 롤러(95) 측면 사이의 위치(이하, 「내부 위치」라고 칭한다)로 하강한다.
노즐 내부 세정이란, 슬릿 노즐(55)의 내부 배관에 세정액을 흐르게 하고, 토출구(55a)로부터 외부를 향해 세정액을 토출시킴으로써, 토출구(55a)에 이르는 내부 배관의 세정을 행하는 것을 말한다. 노즐 세정 유닛(40)을 이용해, 슬릿 노즐(55)의 토출구(55a)만의 세정을 행하고 있던 노즐 세정과는 상이하다. 노즐 내부 세정에서는, 노즐 세정보다 다량의 세정액을 사용하여, 토출구(55a)로부터 세정액의 토출이 행해지기 때문에, 슬릿 노즐(55)이 내부 위치인 롤러 배트(96)의 내부 하방으로 이동함으로써, 토출액의 주위로의 비산을 최소한으로 억제할 수 있다.
도포 처리의 대기시에, 슬릿 노즐(55)의 토출구(55a)의 처리액이 굳어지지 않도록, 슬릿 노즐(55)로부터 처리액을 토출시키는 경우나, 처리액을 교환하기 위해 내부 배관 내의 처리액을 외부에 다 내보내는 경우에 있어서도, 슬릿 노즐(55)은 내부 위치로 이동한 다음에, 세정액 혹은 처리액의 토출이 행해진다.
이와 같이, 내부 위치에서의 슬릿 노즐(55)로부터의 세정액 혹은 처리액의 토출, 특히 노즐 내부 세정에 있어서, 슬릿 노즐(55)로부터 토출되는 세정액에 대해서는, 노즐 세정에 의해 사용된 세정액이나 씻겨 내려보내진 처리액, 대기 배트 상에서 집액된 세정액이나 처리액과 마찬가지로, 롤러 배트(96)에 일단 저류된다. 그 때문에, 슬릿 노즐(55)의 예비 토출에 의해 처리액이 부착한 롤러 외주면을 세정하기 위해서 이용하는 것이 가능하다.
노즐 내부 세정에서는, 노즐 세정시보다 다량의 세정액이 사용되고, 슬릿 노즐(55)로부터 토출되지만, 종래는 모두 폐액으로서 처리가 행해져 있었다. 그것들을 재이용할 수 있기 때문에, 롤러 배트(96) 내에 신액으로서 공급되는 세정액의 사용량을 삭감하는 것이 가능해진다. 또, 폐액량도 삭감하는 것이 가능하기 때문에, 폐액 처리에 관련된 비용을 억제하는 것도 가능하다.
또, 종래라면, 노즐 세정 유닛(40)이나 대기 배트(41), 롤러 배트(96)의 각각에, 용액 분위기를 배기하기 위한 배기 배관(25), 그리고 집액된 세정액, 처리액을 외부에 배출하기 위한 폐액 관로(오버플로우 폐액 배관(23), 롤러 배트 폐액 배관(24)에 상당하는 관로)를 설치할 필요가 있었다. 그렇지만, 이 실시 형태의 장치에 따르면, 노즐 메인터넌스 유닛(9) 상에서 배출되는 처리액이나 세정액은, 모두 롤러 배트(96)에 일단 저류되게 되기 때문에, 배기 배관(25) 및 폐액 관로(오버플로우 폐액 배관(23), 롤러 배트 폐액 배관(24))는, 노즐 세정 유닛(40), 대기 배트(41), 그리고 롤러 배트(96) 중, 롤러 배트(96)에만 설치하면 된다. 그 때문에, 노즐 메인터넌스 유닛(9)에서 필요로 되는 배관수는 삭감하는 것이 가능하며, 노즐 메인터넌스 유닛(9)의 장치 구성을 간략화하는 것이 가능해진다.
〈5, 변형예〉
상기의 실시 형태에서는, 대기 배트(41)가 설치된 구성으로 되어 있었지만, 이와 같은 형태로는 한정되지 않는다.
도 9는, 변형예에 있어서의 노즐 메인터넌스 유닛(9)의 XZ 단면도이다. 이 예에서는, 대기 배트(41)를 설치하지 않고, 노즐 세정 유닛(40)을 롤러 배트(96) 내에 고정적으로 설치하고 있다. 도 9의 도시 방향에서는 노즐 세정 유닛(40)은 롤러 배트(96) 중에 떠 있는 것처럼 보이지만, 실제로는 +Y방향 및 -Y방향의 단부에서 노즐 세정 유닛(40)은 롤러 배트(96)에 연결되어 있다. 이 경우, 노즐 세정 유닛(40)은 미리 롤러 배트(96) 내에 설치되어 있기 때문에, 노즐 세정 유닛 실린더를 장착할 필요는 없다. 그 때문에 노즐 메인터넌스 유닛(9) 전체를 더 축소시키는 것이 가능하다.
슬릿 노즐(55)이 내부 위치로 이동하는 경우에는, 노즐 세정 유닛(40)의 (+X)측의 측방과 롤러(95)의 (-X)측의 측방의 사이의 공간에 슬릿 노즐(55)은 하강한다.
상기 실시 형태와 마찬가지로, 이 변형예에 있어서도, 노즐 세정, 혹은 노즐 내부 세정을 행했을 때에 배출된 세정액이나 씻겨 내려보내진 처리액을 모두 롤러 배트(96) 내에 일단 저류할 수 있기 때문에, 예비 토출 처리에서 롤러(95)에 부착한 처리액을 세정하기 위해 이용할 수 있다. 그 때문에, 롤러(95)에 부착한 처리액을 제외할 목적으로, 롤러 배트(96) 내에 신액으로서 공급되는 세정액의 사용량을 삭감하는 것이 가능해진다. 또, 폐액량도 삭감하는 것이 가능하기 때문에, 폐액 처리에 관련된 비용을 억제하는 것도 가능하다.
또, 종래라면, 노즐 세정 유닛(40)과 롤러 배트(96)의 각각에, 용액 분위기를 배기하기 위한 배기 배관(25), 그리고 집액된 세정액, 처리액을 외부에 배출하기 위한 폐액 관로(오버플로우 폐액 배관(23), 롤러 배트 폐액 배관(24))를 설치할 필요가 있었다. 그렇지만, 본원 발명에 따르면, 노즐 메인터넌스 유닛(9) 상에서 배출되는 처리액이나 세정액은, 모두 롤러 배트(96)에 일단 저류되게 되기 때문에, 배기 배관(25) 및 폐액 관로(오버플로우 폐액 배관(23), 롤러 배트 폐액 배관(24))는, 노즐 세정 유닛(40)과 롤러 배트(96) 중, 롤러 배트(96)에만 설치하면 된다. 그 때문에, 노즐 메인터넌스 유닛(9)에서 필요로 되는 배관수는 삭감하는 것이 가능하고, 노즐 메인터넌스 유닛(9)의 장치 구성을 간략화하는 것이 가능해진다.
또, 상기 실시 형태에 있어서는, 노즐 세정 유닛(40)이 Y축 방향으로 이동하면서, 슬릿 노즐(55)의 토출구(55a)의 세정을 행하고 있었지만, 이와 같은 형태에는 한정되지 않는다.
노즐 세정 유닛(40)이 Y축 방향에 있어서, 적어도 슬릿 노즐(55)의 토출구(55a)의 Y축 방향과 동등의 길이를 가지고 있으면, Y축 방향으로 이동할 수 할 수 없어도 상관없다. 이 경우, 노즐 세정 유닛(40)은, 노즐 세정 유닛 실린더의 구동에 의해 세정 위치로 이동한 단계에서, 토출구(55a)를 Y축 방향으로 주사하지 않고, 토출구(55a)의 세정을 행하는 것이 가능해진다. 그 때문에, 노즐 세정 유닛(40)을 Y축 방향으로 이동시키기 위한 모터나 볼 나사라고 하는 직동 기구를 설치할 필요는 없다.
이와 같이, 노즐 세정 유닛(40)은 Y축 방향으로 이동할 필요가 없기 때문에, 슬릿 노즐(55)의 토출구(55a)의 세정을 행하는 시간은, 상기 실시 형태보다 단축하는 것이 가능해진다.
또, 상기 실시 형태에 있어서는, 노즐 메인터넌스 유닛(9)은 X축 방향으로 이동 가능한 기구이지만, 이동을 할 수 없어도 상관없다. 즉, 노즐 유닛(5)이 이동하는 형태이면 노즐 메인터넌스 유닛(9)이 고정되어 있어도 상관없다. 이 경우, 노즐 메인터넌스 유닛(9)의 노즐 메인터넌스 유닛 리니어 스케일(92), 노즐 메인터넌스 유닛 리니어 모터(93)는 설치되지 않는 구조가 된다. 노즐 메인터넌스 유닛(9)을 수동으로 이동할 수 있도록 노즐 메인터넌스 유닛 주행 가이드(91)만은 설치되어 있으며, 기판 처리 장치(1)가 가동하고 있는 동안은, 노즐 메인터넌스 유닛(9)이 움직이지 않도록 로크 기구에 의해 고정된다.
1 : 기판 처리 장치 5 : 노즐 유닛
7 : 제어부 8 : 기판 반송 척
9 : 노즐 메인터넌스 유닛 23 : 오버플로우 폐액 배관
24 : 롤러 배트 폐액 배관 25 : 배기 배관
26 : 세정액 공급 배관 27 : 블레이드
29 : 액면 검지 센서 40 : 노즐 세정 유닛
41 : 대기 배트 42 : 연결관
55 : 슬릿 노즐 55a : 토출구
95 : 롤러 96 : 롤러 배트(하우징)
98 : 롤러 회전 모터
7 : 제어부 8 : 기판 반송 척
9 : 노즐 메인터넌스 유닛 23 : 오버플로우 폐액 배관
24 : 롤러 배트 폐액 배관 25 : 배기 배관
26 : 세정액 공급 배관 27 : 블레이드
29 : 액면 검지 센서 40 : 노즐 세정 유닛
41 : 대기 배트 42 : 연결관
55 : 슬릿 노즐 55a : 토출구
95 : 롤러 96 : 롤러 배트(하우징)
98 : 롤러 회전 모터
Claims (10)
- 기판에 소정의 처리액을 도포하는 기판 처리 장치(1)로서,
수평인 제1 방향을 따라 반송되는 상기 기판의 상방에 설치되고, 상기 처리액을 토출 가능하며, 상기 제1 방향으로 직교하는 수평인 제2 방향을 따라 연장된 노즐과,
상기 제2 방향을 따라 연장되고, 외주면에 상기 노즐로부터 상기 처리액을 토출시킴으로써, 상기 노즐의 선단부의 처리액을 소정 상태로 조정하는 예비 토출을 위한 롤러(95)와,
상기 제2 방향을 따라 연장되어 있고, 상기 롤러(95)를 수용하는 하우징(96)과,
세정액으로 상기 노즐의 세정을 행하는 노즐 세정 기구를 구비하고,
상기 노즐로부터의 토출액과, 상기 노즐 세정 기구로부터의 배출액이, 공통의 상기 하우징(96) 내에 저류되는 것을 특징으로 하는 기판 처리 장치(1). - 청구항 1에 있어서,
상기 하우징(96)과 연결되어, 상기 노즐 세정 기구를 그 상방에 대기시키는 대기 배트(41)와,
상기 노즐 세정 기구의 대기 배트 내의 액체를 상기 하우징(96) 내에 도입시키는 배관을 더 구비하는 것을 특징으로 하는 기판 처리 장치(1). - 청구항 1에 있어서,
상기 하우징(96)과 상기 노즐 세정 기구 중, 상기 하우징(96)에만, 폐액 배관 및 배기 배관(25)이 설치되어 있는 것을 특징으로 하는 기판 처리 장치(1). - 청구항 2에 있어서,
상기 하우징(96)과 상기 노즐 세정 기구와 상기 대기 배트(41) 중, 상기 하우징(96)에만, 폐액 배관과 배기 배관(25)이 설치되어 있는 것을 특징으로 하는 기판 처리 장치(1). - 청구항 1 내지 청구항 4 중 어느 한 항에 있어서,
상기 노즐 세정 기구로부터 상기 노즐의 선단부를 향해 토출된 세정액과,
기판으로의 처리액의 토출 전에 상기 노즐로부터 상기 롤러(95)에 예비 토출된 처리액이, 공통의 상기 하우징(96) 내에 저류되는 것을 특징으로 하는 기판 처리 장치(1). - 청구항 1 내지 청구항 4 중 어느 한 항에 있어서,
상기 노즐 내부를 통과하여 상기 노즐로부터 토출된 세정액과,
기판으로의 처리액의 토출 전에 상기 노즐로부터 상기 롤러(95)에 예비 토출된 처리액이, 공통의 상기 하우징(96) 내에 저류되는 것을 특징으로 하는 기판 처리 장치(1). - 청구항 1 내지 청구항 4 중 어느 한 항에 있어서,
상기 노즐 세정 기구로부터 상기 노즐의 선단부를 향해 토출된 세정액과,
상기 노즐 내부를 통과하여 상기 노즐로부터 토출된 세정액과,
기판으로의 처리액의 토출 전에 상기 노즐로부터 상기 롤러(95)에 예비 토출된 처리액이, 공통의 상기 하우징(96) 내에 저류되는 것을 특징으로 하는 기판 처리 장치(1). - 청구항 1 내지 청구항 4 중 어느 한 항에 있어서,
상기 하우징(96) 내에 저류하여 상기 세정액을 포함하는 저류액에 상기 롤러(95)의 하부가 침지됨으로써, 상기 저류액이 상기 롤러(95)의 세정에 사용되는 것을 특징으로 하는 기판 처리 장치(1). - 청구항 1 내지 청구항 4 중 어느 한 항에 있어서,
상기 하우징(96)의 내부 측면에 설치되고, 상기 하우징(96) 내에 세정액을 공급하는 세정액 공급 수단과,
상기 하우징(96) 내의 액면 높이를 검지하는 액면 검지 수단과,
상기 액면 검지 수단에 의해 검지된 액면 레벨이 소정의 기준 레벨을 하회했을 때에, 상기 세정액 공급 수단으로부터 상기 하우징(96) 내에 세정액을 공급시키는 세정액 공급 제어 수단을 더 구비하는, 기판 처리 장치(1). - 청구항 1 내지 청구항 4 중 어느 한 항에 있어서,
상기 노즐이 상기 하우징(96)의 내부에 하강한 상태에서, 상기 노즐로부터 상기 세정액의 토출을 행함으로써, 상기 노즐의 내부 세정이 행해지는 것을 특징으로 하는 기판 처리 장치(1).
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