KR101303978B1 - 회전 롤의 세정기구 및 회전 롤의 세정 방법 - Google Patents

회전 롤의 세정기구 및 회전 롤의 세정 방법 Download PDF

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Abstract

본 발명은 회전 롤의 세정기구 및 회전 롤의 세정 방법에 관한 것으로서 회전 롤 (90)의 하면측에, 회전 롤 (90)의 하면을 그 형상을 따라 덮는 세정액저장 용기 (120)이 설치된다. 세정액저장 용기 (120)과 회전 롤 (90)의 사이에는 일정한 간격 (D)가 형성된다. 세정액저장 용기 (120)에는 세정액공급구 (130)이 형성된다. 세정액저장 용기 (120)은 이동 기구에 의해 회전 롤 (90)의 표면을 따라 원주 방향으로 이동 자유롭다. 회전 롤 (90)을 세정할 때에는 세정액저장 용기 (120)을 회전 롤 (90)의 하면측에 배치해 세정액저장 용기 (120)에 세정액을 저장한다. 회전 롤 (90)을 회전시켜 세정액저장 용기 (120)의 세정액과 회전 롤 (90)의 표면을 접촉시켜 회전 롤 (90)을 세정한다. 세정 후 세정액저장 용기 (120)을 회전 롤 (90)의 표면을 따라 회전시켜 기울여 세정액 저장 용기 (120)으로부터 세정액을 낙하시켜 제거하는 회전 롤을 세정하기 위한 세정액의 사용량을 저감하는 기술을 제공한다.

Description

회전 롤의 세정기구 및 회전 롤의 세정 방법{CLEANING MECHANISM OF ROTATION ROLLER AND CLEANING METHOD OF ROTATION ROLLER}
도 1은 본 실시의 형태에 있어서의 도포 현상 처리 장치의 구성의 개략을 나타내는 평면도이다.
도 2는 레지스트 도포 처리 유니트의 구성의 개략을 나타내는 종단면의 설명도이다.
도 3은 레지스트 도포 처리 유니트의 구성의 개략을 나타내는 평면도이다.
도 4는 노즐의 설명도이다.
도 5는 회전 롤의 세정기구의 구성의 개략을 나타내는 종단면의 설명도이다.
도 6은 세정액저장 용기의 사시도이다.
도 7은 세정액저장 용기의 이동 기구의 구성을 모식적으로 나타내는 설명도이다.
도 8은 세정액저장 용기상에 세정액을 공급했을 때의 회전 롤의 세정기구의 종단면의 설명도이다.
도 9는 세정액저장 용기를 기울였을 때의 회전 롤의 세정기구의 종단면의 설명도이다.
도 10은 건조시의 회전 롤의 세정기구의 종단면의 설명도이다.
도 11은 세정액저장 용기를 기울여 배치했을 경우의 회전 롤의 세정기구의 종단면의 설명도이다.
도 12는 세정액저장 용기를 요동시킨 경우의 회전 롤의 세정기구의 종단면의 설명도이다.
도 13은 세정액저장 용기의 이동 기구의 다른 구성예를 나타내는 설명도이다.
**주요부위를 나타내는 도면부호의 설명**
1 :도포 현상 처리 장치
24 : 레지스트 도포 처리 유니트
90 : 회전 롤
110 : 프레임체
111 : 덮개
1111a : 개구부
112 : 통기구
120 : 세정액저장 용기
130 : 세정액공급구
150 : 배기구
D : 간격
H : 세정액
G : 유리 기판
본 발명은 노즐로부터 기판에 도포액이 토출되기 전에 노즐로부터 도포액이 공급되는 회전 롤의 세정기구와 그 회전 롤의 세정 방법에 관한다.
예를 들면, 액정 디스플레이의 제조 프로세스의 포트리소그래피 공정에서는, 유리 기판상에 레지스트액을 도포해 레지스트막을 형성하는 레지스트 도포 처리를 하고 있다.
이 레지스트 도포 처리는 통상 레지스트 도포 처리 유니트에 있어서 행해지고 예를 들면 스테이지상에 유리 기판이 재치되어 그 유리 기판의 상면을 노즐이 이동하면서 레지스트액을 토출하는 것으로 행해지고 있다.
그런데, 상술한 바와 같은 레지스트 도포 처리 유니트에서는 도포시의 노즐의 토출 상태를 안정시키기 위하여 도포전에 노즐의 선단부를 회전 롤의 상부 표면에 접근해 회전 롤을 회전시키면서 노즐로부터 회전 롤에 레지스트액을 시출하는 처리가 행해진다.
또, 레지스트액으로 더러워진 회전 롤을 그대로 두면 다음의 시출시에 노즐이 더러워지므로, 시출의 종료후에 회전 롤을 세정하는 처리를 한다. 종래부터, 이 회전 롤의 세정 처리는 탱크에 저장된 세정액내에 회전 롤의 하부를 침전 해, 회전 롤을 회전시키는 것에 의해 행해지고 있었다(특허 문헌 1 참조).
[특허 문헌 1] 일본국 특개평10-76205호 공보
그렇지만, 상술한 것처럼 탱크에 세정액을 저장해 회전 롤을 세정하는 경우, 회전 롤이 들어가도록 용적이 큰 탱크에 세정의 번에 매회 세정액을 바꿔 넣을 필요가 있으므로 세정액의 사용량이 현저하게 많아지고 있었다. 이 때문에, 레지스트 도포 처리 유니트의 런닝 코스트가 높아지고 있었다.
본 발명은, 관련딘 점에 비추어 이루어진 것이고, 회전 롤을 세정하는 세정액의 사용량을 저감 해, 레지스트 도포 처리 유니트등의 도포 처리 유니트의 런닝 코스트를 저감 하는 것을 그 목적으로 한다.
상기 목적을 달성하기 위한 본 발명은, 노즐로부터 기판에 도포액이 토출되기 전에, 노즐로부터 도포액이 공급되는 회전 롤의 세정기구로서, 회전 롤의 하면을 그 하면의 형상을 따라 덮고 상기 회전 롤의 하면의 사이에 세정액을 저장하는 세정액저장 부재와 상기 세정액저장 부재와 회전 롤의 사이에 세정액을 공급하는 세정액공급구와 상기 세정액저장 부재를 상기 회전 롤의 표면을 따른 원주 방향으로 이동시켜 기울이는 이동 기구를 가지는 것을 특징으로 한다.
본 발명에 의하면, 세정액저장 부재와 회전 롤의 사이의 간격에 세정액을 공급해 회전 롤을 세정할 수 있으므로 세정액의 사용량을 저감 할 수 있어 코스트를 저감 할 수 있다.
상기 세정액저장 부재의 상기 회전 롤의 표면에 대향하는 면은 원호 형상으로 만곡하고 있어, 그 원호 형상의 면에 상기 세정액공급구가 형성되고 있어도 된다.
상기 세정액공급구는 상기 세정액저장 부재를 기우는 방향의 상기 원호 형상의 면의 단부로 형성되고 있어도 된다.
상기 회전 롤은 프레임체에 수용되고 상기 프레임체의 상면에는 덮개가 형성되어 상기 덮개에는 상기 노즐을 회전 롤의 상부의 표면에 근접하기 위한 개구부가 형성되고 상기 회전 롤과 상기 덮개의 사이에는 상기 프레임체의 외부의 기체를 상기 개구부로부터 프레임체의 내부에 도입하기 위한 통기구가 형성되어 상기 프레임체에는 프레임체의 내부의 기체를 배기하는 배기구가 형성되고 있어도 된다.
상기 통기구를 형성하는 상기 덮개의 회전 롤측의 면은 회전 롤의 표면의 형상을 따라 만곡하고 있어도 된다.
상기 이동 기구는 상기 프레임체내에 있어서 세정액저장 부재를 회전 롤의 하면측으로부터 하나의 방향측에 이동시켜 기울일 수가 있고 상기 배기구는, 상기 세정액저장 부재의 상기 하나의 방향과 반대측의 프레임체의 측벽으로 형성되고 있어도 된다.
상기 세정액저장 부재를 기울이는 상기 하나의 방향측에 있는 상기 덮개와 상기 회전 롤의 사이의 통기구는 그 반대측에 있는 덮개와 회전 롤의 사이의 통기구보다 넓게 형성되고 있어도 된다.
상기 이동 기구에 의해 상기 세정액저장 부재가 상기 원주 방향으로 이동했을 때에 상기 세정액저장 부재와 회전 롤의 사이의 간격과 상기 통기구가 접속되어도 된다.
상기 프레임체의 하면에는 세정액의 배출구가 형성되고 있어도 된다.
상기 세정액저장 부재는 기수성 재료에 의해 형성되고 있어도 된다.
다른 관점에 의한 본 발명은 청구항 1~10중 어느한항에 기재의 회전 롤의 세정기구를 이용한 회전 롤의 세정 방법으로서, 세정액저장 부재를 회전 롤의 하면측에 배치하고 세정액저장 부재와 회전 롤의 표면의 사이에 세정액을 저장하는 제1의 공정과 상기 세정액저장 부재의 세정액과 상기 회전 롤의 표면을 접촉시키면서, 상기 회전 롤을 회전시키는 제2의 공정과 상기 세정액저장 부재를 회전 롤의 표면을 따라 원주 방향으로 이동시키고 기울여 세정액저장 부재로부터 세정액을 낙하시키는 제3의 공정과 상기 회전 롤의 표면에 기류를 형성해 상기 회전 롤을 건조하는 제4의 공정을 가지는 것을 특징으로 한다.
상기 제1의 공정에 있어서 상기 세정액저장 부재의 중심 위치가 회전 롤의 최하점으로부터 어긋나도록 상기 세정액저장 부재를 기울여 배치하고 상기 제2의 공정에 있어서, 상기 세정액저장 부재와 회전 롤의 사이에 세정액을 계속 공급하도록 해도 된다.
상기 제2의 공정에 있어서, 상기 세정액저장 부재를 상기 회전 롤에 대해서 요동 시켜도 좋다.
상기 제3의 공정에 있어서, 상기 세정액저장 부재와 회전 롤의 표면의 사이에 세정액을 공급해도 된다.
상기 제3의 공정에 있어서, 상기 세정액저장 부재와 회전 롤의 표면의 사이에 하강기류를 형성해도 좋다.
상기 제3의 공정에 있어서 회전 롤의 회전 방향측에 상기 세정액저장 부재를 기울이도록 해도 된다.
상기 제4의 공정에 있어서 상기 제3의 공정의 세정액저장 부재의 기울어 상태를 유지해, 그 세정액저장 부재의 기울기 방향과 반대측으로부터 회전 롤의 주변 환경을 배기해, 회전 롤의 표면에 기류를 형성해도 좋다.
상기 제4의 공정에 있어서, 상기 회전 롤을 회전시켜도 된다.
이하, 본 발명의 바람직한 실시의 형태에 대해서 설명한다. 도 1은, 본 실시의 형태에 관련되는 회전 롤의 세정기구가 탑재된 도포 현상 처리 장치 (1)의 구성의 개략을 나타내는 평면도이다.
도포 현상 처리 장치 (1)은 도 1에 나타나는 바와 같이 예를 들면 복수의 유리 기판 (G)를 카셋트 단위로 외부에 대해서 반입출하기 위한 카셋트 스테이션 (2)와 포트리소그래피 공정 중에서 매엽식으로 소정의 처리를 가하는 각종 처리 유니트가 배치된 처리 스테이션 (3)과 처리 스테이션 (3)에 인접해 설치되어 처리 스테이션 (3)과 노광 장치 (4)의 사이에 유리 기판 (G)의 수수를 실시하는 인터페이스 스테이션 (5)를 일체로 접속한 구성을 가지고 있다.
카셋트 스테이션 (2)에는 카셋트 재치대 (10)이 설치되어 상기 카셋트 재치대 (10)은 복수의 카셋트 (C)를 X방향(도 1중의 상하 방향)으로 일렬로 재치 자유롭게 되어 있다. 카셋트 스테이션 (2)에는 반송로 (11)상을 X방향을 향해 이동 가능한 기판 반송체 (12)가 설치되고 있다. 기판 반송체 (12)는 카셋트 (C)에 수용된 유리 기판 (G)의 배열 방향(Z방향,;연직 방향)으로도 이동 자유롭고, X방향으로 배 열된 각 카셋트 (C)내의 유리 기판 (G)에 대해서 선택적으로 액세스 할 수 있다.
기판 반송체 (12)는 Z축 주위의 θ방향으로 회전 가능하고, 후술하는 처리 스테이션 (3)측의 엑시머 UV조사 유니트 (20)이나 제6의 열처리 유니트군 (34)의 각 유니트에 대해서도 액세스 할 수 있다.
처리 스테이션 (3)은 예를 들면 Y방향(도 1의 좌우 방향)으로 연장하는 2열의 반송 라인 (A, B)를 갖추고 있다. 이 반송 라인 (A, B)에 있어서는 회전자 반송이나 아암에 의한 반송 등에 의해 유리 기판 (G)를 반송할 수 있다. 처리 스테이션 (3)의 정면측인 X방향 부방향측 (도 1의 하측)의 반송 라인 (A)에는, 카셋트 스테이션 (2)측으로부터 인터페이스 스테이션 (5)측에 향하여 차례로 예를 들면 유리 기판 (G)상의 유기물을 제거하는 엑시머 UV조사 유니트 (20), 유리 기판 (G)를 세정하는 스크러버 세정 유니트 (21), 제1의 열처리 유니트군 (22), 제2의 열처리 유니트군 (23), 유리 기판 (G)에 레지스트액을 도포하는 레지스트 도포 처리 유니트 (24), 유리 기판 (G)를 감압 건조하는 감압 건조 유니트 (25) 및 제3의 열처리 유니트군 (26)이 직선적으로 일렬로 배치되고 있다.
제 1 및 제2의 열처리 유니트군 (22, 23)에는, 유리 기판 (G)를 가열하는 복수의 가열 처리 유니트와 유리 기판 (G)를 냉각하는 냉각 처리 유니트가 다단으로 적층되고 있다. 제1의 열처리 유니트군 (22)와 제2의 열처리 유니트군 (23)의 사이에는 이 유니트군 (22, 23) 사이에서 유리 기판 (G)의 반송을 실시하는 반송체 (27)이 설치되고 있다. 제3의 열처리 유닉복군 (26)에도 동일하게 가열 처리 유니트와 냉각 처리 유니트가 다단으로 적층되고 있다.
처리 스테이션 (3)의 배후측인 X방향 정방향측(도 1의 윗쪽측)의 반송 라인 (B)에는 인터페이스 스테이션 (5)측으로부터 카셋트 스테이션 (2)측에 향하여 차례로, 예를 들면 제4의 열처리 유니트군 (30), 유리 기판 (G)를 현상 처리하는 현상 처리 유니트 (31), 유리 기판 (G)의 탈색 처리를 실시하는 i선 UV조사 유니트 (32), 제5의 열처리 유니트군 (33) 및 제6의 열처리 유니트군 (34)가 직선 형상으로 일렬로 배치되고 있다.
제4~ 제6의 열처리 유니트군 (30, 33, 34)에는 각각 가열 처리 유니트와 냉각 처리 유니트가 다단으로 적층되고 있다. 또, 제5의 열처리 유니트군 (33)과 제6의 열처리 유니트군 (34)의 사이에는, 이 유니트군 (33, 34) 사이에서 유리 기판 (G)의 반송을 실시하는 반송체 (40)이 설치되고 있다.
반송 라인 (A)의 제3의 열처리 유니트군 (26)과 반송 라인 (B)의 제4의 열처리 유니트군 (30)의 사이에는, 이 유니트군 (26, 30)간의 유리 기판 (G)의 반송을 실시하는 반송체 (41)이 설치되고 있다. 이 반송체 (41)은 후술 하는 인터페이스 스테이션 (5)의 익스텐션·쿨링 유니트 (60)에 대해서도 유리 기판 (G)를 반송할 수 있다.
반송 라인 (A)와 반송 라인 (B)의 사이에는 Y방향을 따른 직선적인 공간 (50)이 형성되고 있다. 공간 (50)에는 유리 기판 (G)를 재치하여 반송 가능한 셔틀 (51)이 설치되고 있다. 셔틀 (51)은 처리 스테이션 (3)의 카셋트 스테이션 (2)측의 단부로부터 인터페이스 스테이션 (5)측의 단부까지 이동 자유롭고 처리 스테이션 (3)내의 각 반송체 (27, 40, 41)에 대해서 유리 기판 (G)를 수수할 수가 있다.
인터페이스 스테이션 (5)에는 예를 들면 냉각 기능을 갖고 유리 기판 (G)의 수수를 실시하는 익스텐션·쿨링 유니트 (60)과 유리 기판 (G)를 일시적으로 수용하는 버퍼 카셋트 (61)과 외부 장치 블럭 (62)가 설치되고 있다. 외부 장치 블럭 (62)에는 기판 (G)에 생산관리용의 코드를 노광하는 타이틀러와 유리 기판 (G)의 주변부를 노광하는 주변 노광 장치가 설치되고 있다. 인터페이스 스테이션 (5)에는 상기 익스텐션·쿨링 유니트 (60), 버퍼 카셋트 (61), 외부 장치 블럭 (62) 및 노광 장치 (4)에 대해서, 유리 기판 (G)를 반송 가능한 기판 반송체 (63)이 설치되고 있다.
이 도포 현상 처리 장치 (1)에 있어서는, 카셋트 스테이션 (2)로부터 반입된 유리 기판 (G)가 세정 처리, 열처리, 레지스트 도포 처리, 건조 처리 등을 차례로 실시하면서, 반송 라인 (A)를 통하여 인터페이스 스테이션 (5)에 반송된다. 그리고, 유리 기판 (G)가 인터페이스 스테이션 (5)로부터 노광 장치 (4)에 반송되어 노광 장치 (4)로 노광 처리가 종료한 유리 기판 (G)가 열처리, 현상 처리, 열처리등을 실시하면서, 반송 라인 (B)를 통하여 카셋트 스테이션 (2)에 되돌려진다.
다음에, 회전 롤의 세정기구를 가지는 레지스트 도포 처리 유니트 (24)의 구성에 대해서 설명한다.
레지스트 도포 처리 유니트 (24)에는 예를 들면 도 2 및 도 3에 나타나는 바와 같이 반송 라인 (A)를 따른 Y방향으로 긴 스테이지 (70)이 설치되고 있다. 스테이지 (70)의 상면에는, 도 3에 나타나는 바와 같이 다수의 가스 분출구 (71)이 형성되고 있다. 스테이지 (70)의 폭방향(X방향)의 양측에는 Y방향으로 연장하는 한 쌍의 제1의 가이드 레일 (72)가 형성되고 있다. 제1의 가이드 레일 (72)에는 유리 기판 (G)의 폭방향의 단부를 보지해 제1의 가이드 레일 (72)상을 이동하는 한 쌍의 보지 아암 (73)이 각각 설치되고 있다. 가스 분출구 (71)로부터 가스를 분출함으로써, 유리 기판 (G)를 부상시켜 그 부상한 유리 기판 (G)의 양단부를 보지 아암 (73)에 의해 보지해, 유리 기판 (G)를 반송 라인 (A)를 따라 이동시킬 수가 있다.
레지스트 도포 처리 유니트 (24)의 스테이지 (70)상에는 유리 기판 (G)에 레지스트액을 토출하는 노즐 (80)이 설치되고 있다. 노즐 (80)은 예를 들면 도 3 및 도 4에 나타나는 바와 같이 X방향을 향해 긴 대략 직방체 형상으로 형성되고 있다. 노즐 (80)은 예를 들면 유리 기판 (G)의 X방향의 폭보다 길게 형성되고 있다. 노즐 (80)의 하단부에는 도 4에 나타나는 바와 같이 슬릿 형상의 토출구 (80a)가 형성되고 있다. 노즐 (80)의 상부에는 레지스트액 공급원 (81)에 통하는 레지스트액 공급관 (82)가 접속되고 있다.
도 3에 나타나는 바와 같이 노즐 (80)의 양측에는 Y방향으로 연장하는 제2의 가이드 레일 (83)이 형성되고 있다. 노즐 (80)은, 제2의 가이드 레일 (83)상을 이동하는 노즐 아암 (84)에 의해 보지되고 있다. 노즐 (80)은 노즐 아암 (84)의 구동 기구에 의해 제2의 가이드 레일 (83)을 따라 Y방향으로 이동할 수 있다. 또, 예를 들면 노즐 아암 (84)에는 승강기구가 설치되고 있어 노즐 (80)은 소정의 높이에 승강할 수 있다. 관련되는 구성에 의해, 노즐 (80)은 유리 기판 (G)에 레지스트액을 토출하는 토출 위치 (E)와 그보다 Y방향 부방향측에 있는 후술 하는 회전 롤 (90)및 대기부 (91)의 사이를 이동할 수 있다.
도 2 및 도 3에 나타나는 바와 같이 노즐 (80)의 토출 위치 (E)보다 상류측, 즉 노즐 (80)의 토출 위치 (E)의 Y방향 부방향측에는 노즐 (80)의 시출을 하는 회전 롤 (90)이 설치되고 있다. 회전 롤 (90)은, 회전축을 X방향을 향해, 예를 들면 노즐 (80)보다 길게 형성되고 있다. 이 회전 롤 (90)의 최상부에 노즐 (80)의 토출구 (80a)를 근접시켜, 회전 롤 (90)을 회전시키면서 토출구 (80a)로부터 회전 롤 (90)에 레지스트액을 토출하는 것으로 노즐 (80)의 토출구 (80a)에 있어서의 레지스트액의 부착 상태를 정돈해, 레지스트액의 토출 상태를 안정시킬 수가 있다.
회전 롤 (90)의 더 상류측에는, 노즐 (80)의 대기부 (91)이 설치되고 있다. 이 대기부 (91)에는 예를 들면 노즐 (80)을 세정하는 기능이나 노즐 (80)의 건조를 방지하는 기능이 설치되고 있다.
회전 롤 (90)에는 회전 롤 (90)을 세정하는 세정기구 (100)이 설치되고 있다. 이하, 이 회전 롤 (90)의 세정기구 (100)에 대해서 설명한다.
회전 롤 (90)은 예를 들면 도 5에 나타나는 바와 같이 프레임체 (110)에 수용되고 있다. 프레임체 (110)은 예를 들면 회전 롤 (90)의 축방향을 따라 긴 대략 직방체 형상으로 형성되어 회전 롤 (90)의 전체를 수용하고 있다. 프레임체 (110)의 상면에는 판 모양의 덮개 (111)이 형성되고 있다. 덮개 (111)의 중앙부에는, 도 3에 나타나는 바와 같이 회전 롤 (90)의 축방향을 따른 슬릿 형상의 개구부 (111a)가 형성되고 있다. 개구부 (111a)는 적어도 노즐 (80)보다 길고 회전 롤 (90)의 양단부 사이에 걸쳐서 형성되고 있다. 도 5에 나타나는 바와 같이 회전 롤 (90)의 상부는, 개구부 (111a)내에 위치하고 있다. 개구부 (111a)에 노즐 (80)을 이동시키는 것으로 노즐 (80)의 토출구 (80a)를 회전 롤 (90)의 최상부에 근접시켜 노즐 (80)으로부터 회전 롤 (90)에 레지스트액을 공급할 수가 있다.
회전 롤 (90)의 상부는 덮개 (111)과 동일한 정도의 높이에 위치하고, 덮개 (111)의 개구부 (111a)측의 내측면 (111b)와 회전 롤 (90)의 표면의 사이에는 통기구 (112)가 형성되고 있다. 덮개 (111)의 내측면 (111b)는 회전 롤 (90)의 표면의 형상을 따른 원호형상으로 형성되고 있어 통기구 (112)의 간격은, 일정하게 형성되고 있다. 통기구 (112)의 간격은 예를 들면 1 mm이하, 바람직하게는 100~300μm정도로 설정되어 있다. 통기구 (112)에 의해, 프레임체 (110)의 외부의 기체를 프레임체 (110)의 내부에 도입할 수가 있다. 회전 롤 (90)에 대해서 노즐 (80)의 토출 위치 (E)측(Y방향 정방향측)에 있는 통기구 (112a)는 역측(Y방향 부방향측)의 통기구 (112b) 보다 넓게 설정되어 있다. 이것에 의해, 회전 롤 (90)에 대해서 Y방향 정방향측의 통기구 (112a)로부터 보다 많은 기체를 유입할 수 있다.
회전 롤 (90)의 하측에는 세정액을 저장하는 세정액저장 부재로서의 세정액저장 용기 (120)이 설치되고 있다. 세정액저장 용기 (120)은 예를 들면 도 6에 나타나는 바와 같이 원통을 축방향으로 절단 한 배형의 형상을 가지고 있다. 세정액저장 용기 (120)은 예를 들면 발수성을 가지는 것, 예를 들면 불소계의 수지나, 금속 표면에 불소 수지를 코팅한 것에 의해 형성되고 있다. 세정액저장 용기 (120)은 예를 들면 회전 롤 (90)의 표면에 대향하는 원호면 (120a)와 그 원호면 (120a)의 양측을 막는 측면 (120b)를 갖추고 있다. 원호면 (120a)는 회전 롤 (90)의 표면 형상을 따라 만곡한 얇은판 형상으로 형성되어 회전 롤 (90)의 표면을 예를 들면 70~90˚정도 가리고 있다. 도 5에 나타내는 원호면 (120a)와 회전 롤 (90)의 표면과의 간격 (D)는 예를 들면 상술의 덮개 (111)의 통기구 (112a)의 간격과 동일한 예를 들면 1 mm이하, 보다 바람직하게는 100μm~300μm정도로 설정되어 있다.
세정액저장 용기 (120)의 원호면 (120a)에는 레지스트액의 용제 등의 세정액을 토출하는 세정액공급구 (130)이 형성되고 있다. 세정액공급구 (130)은 예를 들면 원호면 (120a)의 중심보다 어긋난 위치, 예를 들면 Y방향 정방향측의 단부에 형성되고 있다. 세정액공급구 (130)은 예를 들면 도 6에 나타나는 바와 같이 회전 롤 (90)의 축방향을 따라 일렬로 복수 나열하여 형성되고 있다.
세정액공급구 (130)은 도 5에 나타나는 바와 같이 배관 (131)에 의해, 세정액공급 장치 (132)에 접속되고 있다. 세정액공급 장치 (132)로부터의 세정액의 공급에 의해 세정액공급구 (130)으로부터 회전 롤 (90)과 원호면 (120a)의 사이에 세정액을 공급해 세정액저장 용기 (120)에 세정액을 저장할 수 있다.
세정액저장 용기 (120)에는 예를 들면 도 7에 나타나는 바와 같이 이 세정액저장 용기 (120)을 회전 롤 (90)의 원주 방향으로 이동시키는 이동 기구 (140)이 설치되고 있다. 예를 들면 회전 롤 (90)의 축으로는 회전 롤 (90)과 독립해 회전 가능한 풀리 (141)이 장착된다. 풀리 (141)에는, 연접봉 (142)에 의해 세정액저장 용기 (120)이 고정되고 있다. 풀리 (141)은 벨트 (143)에 의해 모터의 구동축 (144)에 접속되고 있다. 구동축 (144)를 회전시키는 것으로, 벨트 (143)을 개입시켜 풀리 (141)이 회전해 거기에 따라 세정액저장 용기 (120)을 회전 롤 (90)의 주위 방향으로 회전할 수 있다. 이것에 의해, 세정액저장 용기 (120)을 회전 롤 (90) 의 하면으로부터 윗쪽측에 이동시켜 기울여 세정액저장 용기 (120)내의 세정액을 낙하시킬 수가 있다. 예를 들면 세정액저장 용기 (120)의 회전 방향, 회전 각도등의 동작은 구동축 (144)의 모터의 동작을 제어하는 제어부 (145)에 의해 제어되고 있다. 또한 본 실시의 형태에 있어서, 이동 기구 (140)은 풀리 (141), 연접봉 (142), 벨트 (143), 구동축 (144) 및 제어부 (145)에 의해 구성되고 있다.
도 5에 나타나는 바와 같이 프레임체 (110)의 Y방향 부방향측의 측벽 (110a)에는 배기구 (150)이 형성되고 있다. 배기구 (150)은 측벽 (110a)의 상부, 예를 들면 덮개 (111)에 가까운 적어도 회전 롤 (90)의 축 보다 높은 위치로 형성되고 있다. 배기구 (150)은 예를 들면 배기관 (151)에 의해, 진공 펌프 등의 부압발생 장치 (152)에 접속되고 있다. 부압발생 장치 (152)에 의해 배기구 (150)으로부터 프레임체 (110)내의 기체를 강제적으로 배기해, 그 배기에 의한 부압에 의해 통기구 (112)로부터 기체를 유입시켜 회전 롤 (90)의 표면에 기류를 형성해 회전 롤 (90)을 건조시킬 수가 있다.
프레임체 (110)의 바닥부에는 배출구 (160)이 형성되고 있다. 배출구 (160)은, 예를 들면 배출관 (161)을 통해서 공장 배액부에 접속되고 있다.
덧붙여 세정액공급 장치 (132), 부압발생 장치 (152)등의 동작의 제어는 예를 들면 상술의 제어부 (145)에 의해 행해지고 있어 세정액공급구 (130)으로부터의 세정액의 토출의 타이밍이나 토출압, 배기구 (150)으로부터의 배기의 타이밍이나 배기압 등은 제어부 (145)에 의해 제어되고 있다.
다음에, 이상과 같이 구성된 회전 롤 (90)의 세정기구 (100)의 동작을, 유리 기판 (G)의 레지스트 도포 처리의 프로세스와 함께 설명한다.
예를 들면 유리 기판 (G)가 레지스트 도포 처리 유니트 (24)의 스테이지 (70)상에 반송되기 전에, 도 2에 나타나는 바와 같이 노즐 (80)이 대기부 (91)로부터 회전 롤 (90)상으로 이동해, 도 5에 나타나는 바와 같이 노즐 (80)의 토출구 (80a)가 회전 롤 (90)의 최상부에 근접된다. 이 때 회전 롤 (90)이 수용되고 있는 프레임체 (110)에서는 배기구 (150)으로부터 약한 배기가 행해지고 프레임체 (110)내에는, 통기구 (112)로부터 배기구 (150)에 향하여 완만한 기류가 형성되고 있다.
다음에, 회전 롤 (90)이 회전 방향 (F)측에 회전되어 노즐 (80)의 토출구 (8 Oa)로부터 회전 롤 (90)의 표면에 레지스트액이 토출되어, 레지스트액이 시출된다. 이렇게 해, 토출구 (80a)에 있어서의 레지스트액의 부착 상태가 정돈되어 노즐 (80)의 토출 상태가 안정된다. 또한 이 시출시에는, 세정액저장 용기 (120)은 회전 롤 (90)의 하면측에 대기해 세정액공급구 (130)으로부터 세정액은 토출되어 있지 않다.
노즐 (80)의 토출구 (80a)에 있어서의 레지스트액의 부착 상태가 정돈된 후, 노즐 (80)의 토출이 정지되어 노즐 (80)은 도 2에 나타나는 바와 같이 소정의 토출 위치 (E)로 이동한다. 노즐 (80)이 토출 위치 (E)로 이동한 후, 유리 기판 (G)가 레지스트 도포 처리 유니트 (24)의 스테이지 (70)상을 반송 라인 (A)를 따라 이동된다. 유리 기판 (G)가 노즐 (80)의 하부를 통과할 때에 노즐 (80)으로부터 레지스트액이 토출되어 유리 기판 (G)의 표면의 전면에 레지스트액이 도포된다.
한편, 노즐 (80)이 회전 롤 (90)의 최상부로부터 토출 위치 (E)로 이동한 후 회전 롤 (90)의 세정이 개시된다. 먼저, 도 8에 나타나는 바와 같이 세정액공급구 (130)으로부터 세정액 저장 용기 (120)상에 레지스트액의 용제인 세정액 (H)가 공급되어 저장된다. 공급된 세정액 (H)는 세정액저장 용기 (120)과 회전 롤 (90)의 간격 (D)에 충전된다. 그 후, 간격 (D)의 세정액 (H)와 접촉한 상태로 회전 롤 (90)이 회전 방향 (F)측에 회전되어 회전 롤 (90)의 표면의 레지스트액이 세정된다. 회전 롤 (90)은 예를 들면 2회 정도 회전된다. 또한 이 세정시에 있어서도, 배기구 (150)으로부터 약한 배기가 계속해 행해진다.
세정 후, 예를 들면 회전 롤 (90)이 계속하여 회전된 상태로, 세정액저장 용기 (120)이 도 9에 나타나는 바와 같이 이동 기구 (140)에 의해 회전 롤 (90)의 회전 방향 (F)측에 예를 들면 90°정도 회전되어 기울여진다. 이 때, 세정액저장 용기 (120)은, 회전 방향 (F)측의 선단부가 덮개 (111)의 하면에 접할 때까지 회전되어 덮개 (111)의 통기구 (112a)와 세정액저장 용기 (120)의 간격 (D)가 접속되어 회전 롤 (90)의 표면을 따른 유로가 형성된다. 세정액저장 용기 (120)을 기울여짐으로써, 세정액저장 용기 (120)의 더러워진 세정액 (H)가 낙하해 제거된다. 또, 이것과 동시에 세정액저장 용기 (120)의 세정액공급구 (130)으로부터 새로운 세정액 (H)가 공급되어 세정액저장 용기 (120)의 더러워진 세정액 (H)가 새로운 세정액 (H)에 의해 세정된다. 세정액저장 용기 (120)으로부터 프레임체 (110)의 바닥부에 낙하한 세정액 (H)는, 배출구 (160)으로부터 배출된다. 또한 이 세정액의 제거시에는 회전 롤 (90)은 정지되어 있어도 된다.
세정액저장 용기 (120)이 기울여지고 세정액 (H)가 제거된 후, 회전 롤 (90) 이 회전된 상태로, 배기구 (150)으로부터의 배기를 강하게 할 수 있다. 이것에 의해 도 10에 나타나는 바와 같이 프레임체 (110)의 외부로부터 많은 기체가 통기구 (112)를 통하여 프레임체 (110)내에 유입해, 회전 롤 (90)의 표면을 따라 흐르는 강한 기류가 형성된다. 이 기류에 의해, 회전 롤 (90)이 건조된다. 상술한 바와 같이 덮개 (111)의 통기구 (112a)와 세정액저장 용기 (120)의 간격 (D)가 접속되고 있기 때문에, 통기구 (112a)로부터 프레임체 (110)내에 도입된 기체는 통기구 (112a)와 세정액저장 용기 (120)의 간격 (D)를 통하여 회전 롤 (90)의 표면을 회전 방향 (F)와 역회전으로 유도되어 회전 롤 (90)의 회전을 3/4회전 정도 흘러, 배기구 (150)으로부터 배기된다. 또, 통기구 (112a)는 통기구 (112b)보다 넓게 형성되고 있으므로 이 통기구 (112a)로부터 유입하는 회전 방향 (F)와 역회전의 기류가, 통기구 (112b)로부터 유입하는 기류보다 강해진다.
회전 롤 (90)이 건조되면 배기구 (150)으로부터의 배기를 약하게 할 수 있어 세정액저장 용기 (120)이 회전 롤 (90)의 하면측에 되돌려져 회전 롤 (90)의 세정 처리가 종료한다.
이상의 실시의 형태에 의하면 회전 롤 (90)의 하면측에, 회전 롤 (90)의 하면의 형상을 따른 형상의 세정액저장 용기 (120)이 설치되어 그 세정액저장 용기 (120)과 회전 롤 (90)의 표면의 사이에 세정액 (H)를 모아 회전 롤 (90)의 세정을 실시했으므로, 종래와 같이 탱크에 세정액을 저장하는 경우에 비해 세정액 (H)의 사용량을 비약적으로 저감 할 수 있다. 또, 세정액저장 용기 (120)을 회전 롤 (90)의 원주 방향으로 이동 가능하게 했으므로 세정액저장 용기 (120)을 기울여, 세정 액저장 용기 (120)이 더러워진 세정액 (H)를 제거할 수가 있다.
세정액저장 용기 (120)의 원호면 (120a)에 세정액공급구 (130)이 형성되고 있으므로 세정액저장 용기 (120)과 회전 롤 (90)의 협소한 간격 (D)에 적정하게 세정액 (H)를 공급할 수 있다.
세정액저장 용기 (120)의 경사 방향측(회전 롤 (90)의 회전 방향 (F)측)의 단부에 세정액공급구 (130)이 형성되었으므로, 세정액저장 용기 (120)을 기울였을 때에, 세정액저장 용기 (120)의 높은 위치로부터 새로운 세정액 (H)를 흘려, 더러워진 세정액 (H)를 씻어낼 수가 있다. 또한 상기 실시의 형태에서는, 세정액공급구 (130)이 세정액저장 용기 (120)에 복수 형성되고 있었지만, 세정액공급구 (130)은 세정액저장 용기 (120)의 긴 방향을 따라 슬릿 형상으로 형성되고 있어도 된다.
프레임체 (110)의 덮개 (111)과 회전 롤 (90)의 사이에 통기구 (112)가 형성되어 프레임체 (110)의측벽 (110a)에 배기구 (150)이 형성되었으므로, 회전 롤 (90)의 표면을 따라 흐르는 기류를 형성해 그 기류에 의해 회전 롤 (90)을 건조할 수 있다.
통기구 (112)를 형성하는 덮개 (111)의 내측면 (111b)는 회전 롤 (90)의 표면의 형상을 따라 만곡하고 있으므로, 개구부 (111a)로부터 도입된 기체를 회전 롤 (90)의 표면을 따라 흘릴 수가 있다. 또, 세정액저장 용기 (120)을 기울였을 때에, 세정액저장 용기 (120)의 간격 (D)와 통기구 (112a)를 접속할 수가 있으므로, 통기구 (112a)와 세정액저장 용기 (120)의 간격 (D)에 의해 회전 롤 (90)의 표면을 따른 유로를 형성할 수 있다. 이 결과, 개구부 (111a)로부터 유입한 기류를 회전 롤 (90)의 표면을 따라 유도해, 회전 롤 (90)의 표면을 효과적으로 건조시킬 수가 있다.
세정액저장 용기 (120)의 경사 방향과 반대측의 프레임체 (110)의측벽 (110a)에 배기구 (150)이 형성되었으므로 통기구 (112a)와 세정액저장 용기 (120)의 간격 (D)에 의해 유도된 기체를 더욱 회전 롤 (90)의 Y방향 부방향측의 표면까지 유도할 수가 있다. 이 결과, 회전 롤 (90)의 표면의 넓은 부분에, 회전 롤 (90)의 회전 방향 (F)와 역방향의 기류가 형성되어 회전 롤 (90)의 표면과 기류의 상대속도가 더하므로 회전 롤 (90)의 건조를 촉진할 수 있다.
또, 회전 롤 (90)의 Y방향 부방향측의 통기구 (112b)보다 Y방향 정방향측의 통기구 (112a)의 폭이 넓게 형성되었으므로, 회전 롤 (90)을 회전 방향 (F)와 역방향으로 흐르는 강한 기류가 형성된다. 이 결과, 회전 롤 (90)의 건조를 한층 더 촉진할 수 있다.
프레임체 (110)의 하면에 배출구 (160)이 형성되었으므로 세정액저장 용기 (120)으로부터 낙하한 세정액 (H)를 배출할 수 있다. 또, 세정액저장 용기 (120)이 발수성 재료에 의해 형성되었으므로, 세정액저장 용기 (120)을 기울여졌을 때에, 세정액 (H)를 적정하게 제거할 수가 있다.
이상의 실시의 형태에 있어서 세정액 (H)가 저장된 세정액저장 용기 (120)상에서 회전 롤 (90)을 회전시켜 회전 롤 (90)을 세정할 때에, 세정액공급구 (130)으로부터 세정액 (H)를 공급을 지속하여도 좋다. 이렇게 하는 것으로, 세정액저장 용기 (120)과 회전 롤 (90)의 간격 (D), 항상 새로운 세정액 (H)가 공급되어 회전 롤 (90)의 세정을 효과적으로 실시할 수가 있다. 또, 이 예에 있어서, 회전 롤 (90)의 세정 시에, 도 11에 나타나는 바와 같이 세정액저장 용기 (120)의 중심 위치가 회전 롤 (90)의 최하점으로부터 어긋나도록 세정액저장 용기 (120)을 기울여 배치해도 된다. 이 세정액저장 용기 (120)의 경사 동작은 예를 들면 이동 기구 (140)에 의해 행하여도 된다. 이 경우, 세정액공급구 (130)으로부터 공급된 세정액 (H)가, 세정액저장 용기 (120)의 낮은 쪽의 단부로부터 흘러나온다. 이것에 의해, 세정액저장 용기 (120)상에 세정액 (H)의 흐름이 형성되어 이 세정액 (H)의 흐름에 의해 회전 롤 (90)의 더러움을 효과적으로 떨어뜨릴 수가 있다. 특히, 세정액공급구 (130)이 형성되고 있는 회전 방향 (F)측에 세정액저장 용기 (120)을 경사시킨 경우에는, 세정액저장 용기 (120)과 회전 롤 (90)의 간격 (D)에 회전 롤 (90)의 회전 방향 (F)와 역방향을 향하는 세정액 (H)의 흐름이 형성된다. 그러므로, 회전 롤 (90)과 세정액 (H)의 상대속도가 증가하여 회전 롤 (90)의 표면의 세정이 한층 더 효과적으로 행해진다.
이상의 실시의 형태에 있어서, 세정액 (H)의 저장된 세정액저장 용기 (120)상에서 회전 롤 (90)을 회전시켜 회전 롤 (90)을 세정할 때에 도 12에 나타나는 바와 같이 세정액저장 용기 (120)을 회전 롤 (90)의 표면을 따라 요동시켜도 된다. 이 세정액저장 용기 (120)의 요동, 예를 들면 이동 기구 (140)에 의해 행해도 된다. 이 경우, 회전 롤 (90)의 더러움을 효과적으로 떨어뜨릴 수가 있다.
이상의 실시의 형태에 있어서, 세정액저장 용기 (120)을 기울여 간격 (D)의 세정액 (H)를 제거할 때에, 세정액공급구 (130)으로부터 세정액 (H)를 공급하고 있 었지만, 예를 들면 그 세정액 (H)의 공급후에, 배기구 (150)으로부터의 배기를 강하게 해, 세정액저장 용기 (120)과 회전 롤 (90)의 간격 (D)에 강한 하강기류를 형성해도 좋다. 이렇게 하는 것으로, 세정액저장 용기 (120)의 세정액 (H)가 확실히 제거된다. 또, 이 경우 반드시 세정액공급구 (130)으로부터 세정액 (H)를 공급할 필요는 없고, 기류만으로 간격 (D)의 세정액 (H)를 제거해도 된다.
이상, 첨부 도면을 참조하면서 본 발명의 매우 적합한 실시의 형태에 대해서 설명했지만, 본 발명은 관련된 예로 한정되지 않는다. 당업자이면, 특허 청구의 범위에 기재된 사상의 범위내 에 있어서, 각종의 변경예 또는 수정예에 상도할 수 있는 것은 분명하고, 그들에 대해서도 당연히 본 발명의 기술적 범위에 속하는 것으로 이해된다.
예를 들면 이상의 실시의 형태로 기재한 이동 기구 (140)은, 풀리 (141), 구동축(144)나 벨트 (143)을 이용해 세정액저장 용기 (120)을 회전시키는 것이었지만, 다른 구성으로서도 좋다. 예를 들면 도 13에 나타나는 바와 같이 실린더 (170)의 피스톤 (171)과 세정액저장 용기 (120)을 연접봉 (172)에 의해 접속해, 세정액저장 용기 (120)과 회전 롤러 (90)의 축을 연접봉 (173)에 의해 접속한다. 그리고, 피스톤 (171)의 왕복 이동에 의해 세정액저장 용기 (120)을 회전 롤러 (90) 회전에 회전이동시킨다.
또, 이상의 실시의 형태에서는 세정액저장 용기 (120)을 회전 롤 (90)의 회전 방향 (F)측에 경사시키고 있었지만 반대측에 경사시켜도 된다. 이 경우, 배기구 (150)을 프레임체 (110)의 Y방향 정방향측의 측벽에 설치해도 좋다. 또한 본 발명 을 레지스트액의 시출을 하는 회전 롤의 세정에 대해서 적용하고 있었지만, 현상액등의 다른 도포액의 시출을 하는 회전 롤의 세정에 적용해도 된다. 또, 세정액 (H)도 용제에 한정되지 않고, 순수 등 다른 액체로서도 좋다. 본 발명은, 유리 기판 (G) 이외의 FPD(플랫 패널 디스플레이)나 포토마스크용의 마스크레티클, 반도체 웨이퍼 등의 다른 기판에 도포액을 도포하는 경우에도 적용할 수 있다.
본 발명은, 회전 롤을 세정하는 세정액의 소비량을 저감 할 때에 유용하다.
본 발명에 의하면, 회전 롤의 세정 처리에 있어서의 세정액의 사용량을 저감 할 수 있으므로, 예를 들면 도포 처리 유니트의 런닝 코스트를 저감 할 수 있다.

Claims (18)

  1. 노즐로부터 기판에 도포액이 토출되기 전에, 노즐로부터 도포액이 공급되는 회전 롤의 세정기구로서,
    회전 롤의 하면을 그 하면의 형상을 따라 덮고, 상기 회전 롤의 하면과의 사이에 세정액을 저장하는 세정액저장 부재와,
    상기 세정액저장 부재와 회전 롤의 사이에 세정액을 공급하는 세정액공급구와,
    상기 세정액저장 부재를 상기 회전 롤의 표면을 따른 원주 방향으로 이동시켜 기울이는 이동 기구를 구비하며,
    상기 회전 롤은 프레임체에 수용되고,
    상기 프레임체의 상면에는 덮개가 형성되고,
    상기 덮개에는 상기 노즐을 회전 롤의 상부의 표면에 근접하기 위한 개구부가 형성되고,
    상기 회전 롤과 상기 덮개의 사이에는, 상기 프레임체의 외부의 기체를 상기 개구부로부터 프레임체의 내부에 도입하기 위한 통기구가 형성되고,
    상기 프레임체에는 프레임체의 내부의 기체를 배기하는 배기구가 형성되며,
    상기 이동 기구에 의해 상기 세정액저장 부재가 상기 원주 방향으로 이동했을 때에, 상기 세정액저장 부재와 회전 롤의 사이의 간격과 상기 통기구가 접속되는 것을 특징으로 하는 회전 롤의 세정기구.
  2. 노즐로부터 기판에 도포액이 토출되기 전에, 노즐로부터 도포액이 공급되는 회전 롤의 세정기구로서,
    회전 롤의 하면을 그 하면의 형상을 따라 덮고, 상기 회전 롤의 하면과의 사이에 세정액을 저장하는 세정액저장 부재와,
    상기 세정액저장 부재와 회전 롤의 사이에 세정액을 공급하는 세정액공급구와,
    상기 세정액저장 부재를 상기 회전 롤의 표면을 따른 원주 방향으로 이동시켜 기울이는 이동 기구를 구비하며,
    상기 회전 롤은 프레임체에 수용되고,
    상기 프레임체의 상면에는 덮개가 형성되고,
    상기 덮개에는 상기 노즐을 회전 롤의 상부의 표면에 근접하기 위한 개구부가 형성되고,
    상기 회전 롤과 상기 덮개의 사이에는, 상기 프레임체의 외부의 기체를 상기 개구부로부터 프레임체의 내부에 도입하기 위한 통기구가 형성되고,
    상기 프레임체에는 프레임체의 내부의 기체를 배기하는 배기구가 형성되며,
    상기 이동 기구는, 상기 프레임체내에 있어서 세정액저장 부재를 회전 롤의 하면측으로부터 하나의 방향측에 이동시켜 기울일 수가 있고,
    상기 배기구는 상기 세정액저장 부재의 상기 하나의 방향과 반대측의 프레임체의 측벽으로 형성되고 있는 것을 특징으로 하는 회전 롤의 세정기구.
  3. 청구항 1 또는 2에 있어서,
    상기 세정액저장 부재의 상기 회전 롤의 표면에 대향하는 면은 원호 형상으로 만곡하고 있고 상기 원호 형상의 면에 상기 세정액공급구가 형성되고 있는 것을 특징으로 하는 회전 롤의 세정기구.
  4. 청구항 1 또는 2에 있어서,
    상기 세정액공급구는, 상기 세정액저장 부재를 기우는 방향의 상기 원호 형상의 면의 단부에 형성되고 있는 것을 특징으로 하는 회전 롤의 세정기구.
  5. 청구항 1 또는 2에 있어서,
    상기 통기구를 형성하는 상기 덮개의 회전 롤측의 면은 회전 롤의 표면의 형상을 따라 만곡하고 있는 것을 특징으로 하는 회전 롤의 세정기구.
  6. 청구항 1 또는 2에 있어서,
    상기 세정액저장 부재를 기울이는 상기 하나의 방향측에 있는 상기 덮개와 상기 회전 롤의 사이의 통기구는 그 반대측에 있는 덮개와 회전 롤의 사이의 통기구보다 넓게 형성되고 있는 것을 특징으로 하는 회전 롤의 세정기구.
  7. 청구항 1 또는 2에 있어서,
    상기 프레임체의 하면에는, 세정액의 배출구가 형성되고 있는 것을 특징으로 하는 회전 롤의 세정기구.
  8. 청구항 1 또는 2에 있어서,
    상기 세정액저장 부재는 발수성 재료에 의해 형성되고 있는 것을 특징으로 하는 회전 롤의 세정기구.
  9. 노즐로부터 기판에 도포액이 토출되기 전에, 노즐로부터 도포액이 공급되는 회전 롤의 세정기구로서,
    회전 롤의 하면을 그 하면의 형상을 따라 덮고, 상기 회전 롤의 하면과의 사이에 세정액을 저장하는 세정액저장 부재와,
    상기 세정액저장 부재와 회전 롤의 사이에 세정액을 공급하는 세정액공급구와,
    상기 세정액저장 부재를 상기 회전 롤의 표면을 따른 원주 방향으로 이동시켜 기울이는 이동 기구를 구비한, 회전 롤의 세정기구를 이용한 회전 롤의 세정 방법으로서,
    세정액저장 부재를 회전 롤의 하면측에 배치하고, 세정액저장 부재와 회전 롤의 표면의 사이에 세정액을 저장하는 제1의 공정과,
    상기 세정액저장 부재의 세정액과 상기 회전 롤의 표면을 접촉시키면서, 상기 회전 롤을 회전시키는 제2의 공정과,
    상기 세정액저장 부재를 회전 롤의 표면을 따라 원주 방향으로 이동시켜 기울여 세정액저장 부재로부터 세정액을 낙하시키는 제3의 공정과,
    상기 회전 롤의 표면에 기류를 형성하고, 상기 회전 롤을 건조하는 제4의 공정을 가지는 것을 특징으로 하는 회전 롤의 세정 방법.
  10. 청구항 9에 있어서,
    상기 제1의 공정에 있어서, 상기 세정액저장 부재의 중심 위치가 회전 롤의 최하점으로부터 어긋나도록 상기 세정액저장 부재를 기울여 배치하고,
    상기 제2의 공정에 있어서, 상기 세정액저장 부재와 회전 롤과의 사이에 세정액을 공급 지속하는 것을 특징으로 하는 회전 롤의 세정 방법.
  11. 청구항 9에 있어서,
    상기 제2의 공정에 있어서, 상기 세정액저장 부재를 상기 회전 롤에 대해서 요동 시키는 것을 특징으로 하는 회전 롤의 세정 방법.
  12. 청구항 9에 있어서,
    상기 제3의 공정에 있어서, 상기 세정액저장 부재와 회전 롤의 표면의 사이에 세정액을 공급하는 것을 특징으로 하는 회전 롤의 세정 방법.
  13. 청구항 9에 있어서,
    상기 제3의 공정에 있어서, 상기 세정액저장 부재와 회전 롤의 표면의 사이에 하강기류를 형성하는 것을 특징으로 하는 회전 롤의 세정 방법.
  14. 청구항 9에 있어서,
    상기 제3의 공정에 있어서, 회전 롤의 회전 방향측에 상기 세정액저장 부재를 기울이는 것을 특징으로 하는 회전 롤의 세정 방법.
  15. 청구항 9에 있어서,
    상기 제4의 공정에 있어서, 상기 제3의 공정의 세정액저장 부재가 기운 상태를 유지하고, 상기 세정액저장 부재가 기우는 방향과 반대측으로부터 회전 롤의 주변 환경을 배기하여 회전 롤의 표면에 기류를 형성하는 것을 특징으로 하는 회전 롤의 세정 방법.
  16. 청구항 9에 있어서,
    상기 제4의 공정에 있어서, 상기 회전 롤을 회전시키는 것을 특징으로 하는, 회전 롤의 세정 방법.
  17. 삭제
  18. 삭제
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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN106733463A (zh) * 2016-12-29 2017-05-31 成都国珈星际固态锂电科技有限公司 涂布模头擦拭机构和涂布机以及擦拭涂布模头的方法

Families Citing this family (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR101450031B1 (ko) * 2007-11-30 2014-10-14 주식회사 케이씨텍 슬릿코터용 예비토출장치
KR102454446B1 (ko) * 2020-12-08 2022-10-17 세메스 주식회사 기판 처리 장치

Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH1016179A (ja) * 1996-07-01 1998-01-20 Nissha Printing Co Ltd インキ供給装置
JP2001310147A (ja) * 2000-05-02 2001-11-06 Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd スリットコータの予備吐出装置および予備吐出方法
JP2005161249A (ja) 2003-12-04 2005-06-23 Hirata Corp 流体塗布装置及び流体塗布制御方法

Family Cites Families (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH11342595A (ja) * 1998-05-29 1999-12-14 Kyoshin:Kk インキローラへのインキ供給装置
JP3877719B2 (ja) * 2002-11-07 2007-02-07 東京応化工業株式会社 スリットコータの予備吐出装置
JP4455102B2 (ja) * 2004-03-10 2010-04-21 大日本スクリーン製造株式会社 基板処理装置
JP4429073B2 (ja) * 2004-05-20 2010-03-10 東京応化工業株式会社 スリットコータの予備吐出装置

Patent Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH1016179A (ja) * 1996-07-01 1998-01-20 Nissha Printing Co Ltd インキ供給装置
JP2001310147A (ja) * 2000-05-02 2001-11-06 Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd スリットコータの予備吐出装置および予備吐出方法
JP2005161249A (ja) 2003-12-04 2005-06-23 Hirata Corp 流体塗布装置及び流体塗布制御方法

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN106733463A (zh) * 2016-12-29 2017-05-31 成都国珈星际固态锂电科技有限公司 涂布模头擦拭机构和涂布机以及擦拭涂布模头的方法

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