KR100966660B1 - 플루오르화 포스폰산 - Google Patents
플루오르화 포스폰산 Download PDFInfo
- Publication number
- KR100966660B1 KR100966660B1 KR1020047019311A KR20047019311A KR100966660B1 KR 100966660 B1 KR100966660 B1 KR 100966660B1 KR 1020047019311 A KR1020047019311 A KR 1020047019311A KR 20047019311 A KR20047019311 A KR 20047019311A KR 100966660 B1 KR100966660 B1 KR 100966660B1
- Authority
- KR
- South Korea
- Prior art keywords
- carbon atoms
- mixture
- alkylene group
- solution
- hydrogen
- Prior art date
Links
- 150000003009 phosphonic acids Chemical class 0.000 title claims abstract description 17
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 claims abstract description 51
- -1 alkali metal cation Chemical class 0.000 claims abstract description 46
- 125000002947 alkylene group Chemical group 0.000 claims abstract description 35
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims abstract description 25
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 claims abstract description 21
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 claims abstract description 21
- 229910052783 alkali metal Inorganic materials 0.000 claims abstract description 19
- 125000004435 hydrogen atom Chemical class [H]* 0.000 claims abstract description 13
- 125000005010 perfluoroalkyl group Chemical group 0.000 claims abstract description 13
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 claims abstract description 9
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 13
- 239000002356 single layer Substances 0.000 claims description 10
- 125000004430 oxygen atom Chemical group O* 0.000 claims description 4
- 125000000325 methylidene group Chemical group [H]C([H])=* 0.000 claims 6
- 101100001678 Emericella variicolor andM gene Proteins 0.000 abstract 1
- 238000011282 treatment Methods 0.000 abstract 1
- 239000000203 mixture Chemical class 0.000 description 66
- VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N n-Hexane Chemical compound CCCCCC VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 60
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 60
- OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N Methanol Chemical compound OC OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 51
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 33
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 33
- UIIMBOGNXHQVGW-UHFFFAOYSA-M Sodium bicarbonate Chemical compound [Na+].OC([O-])=O UIIMBOGNXHQVGW-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 32
- RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N Diethyl ether Chemical compound CCOCC RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 26
- WEVYAHXRMPXWCK-UHFFFAOYSA-N Acetonitrile Chemical compound CC#N WEVYAHXRMPXWCK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 24
- YMWUJEATGCHHMB-UHFFFAOYSA-N Dichloromethane Chemical compound ClCCl YMWUJEATGCHHMB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 24
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 23
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 22
- 239000000463 material Substances 0.000 description 17
- 239000011541 reaction mixture Substances 0.000 description 17
- 235000017557 sodium bicarbonate Nutrition 0.000 description 16
- 229910000030 sodium bicarbonate Inorganic materials 0.000 description 16
- QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N Acetic acid Chemical compound CC(O)=O QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 15
- BDZBKCUKTQZUTL-UHFFFAOYSA-N triethyl phosphite Chemical compound CCOP(OCC)OCC BDZBKCUKTQZUTL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 14
- 238000000746 purification Methods 0.000 description 13
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N Hydrochloric acid Chemical compound Cl VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- CSNNHWWHGAXBCP-UHFFFAOYSA-L Magnesium sulfate Chemical compound [Mg+2].[O-][S+2]([O-])([O-])[O-] CSNNHWWHGAXBCP-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 12
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- DCAYPVUWAIABOU-UHFFFAOYSA-N hexadecane Chemical compound CCCCCCCCCCCCCCCC DCAYPVUWAIABOU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- 238000009835 boiling Methods 0.000 description 11
- 239000012043 crude product Substances 0.000 description 11
- 239000012074 organic phase Substances 0.000 description 11
- 229920006395 saturated elastomer Polymers 0.000 description 11
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 10
- 235000012431 wafers Nutrition 0.000 description 10
- XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N Ethyl acetate Chemical compound CCOC(C)=O XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 9
- 239000012141 concentrate Substances 0.000 description 9
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 9
- 230000008018 melting Effects 0.000 description 9
- 238000002844 melting Methods 0.000 description 9
- 239000003039 volatile agent Substances 0.000 description 9
- AATNZNJRDOVKDD-UHFFFAOYSA-N 1-[ethoxy(ethyl)phosphoryl]oxyethane Chemical compound CCOP(=O)(CC)OCC AATNZNJRDOVKDD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N Nickel Chemical compound [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 239000012267 brine Substances 0.000 description 8
- IYYIVELXUANFED-UHFFFAOYSA-N bromo(trimethyl)silane Chemical compound C[Si](C)(C)Br IYYIVELXUANFED-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 8
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 8
- HPALAKNZSZLMCH-UHFFFAOYSA-M sodium;chloride;hydrate Chemical compound O.[Na+].[Cl-] HPALAKNZSZLMCH-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 8
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 8
- RSJKGSCJYJTIGS-UHFFFAOYSA-N undecane Chemical compound CCCCCCCCCCC RSJKGSCJYJTIGS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- PGRFXXCKHGIFSV-UHFFFAOYSA-N 1,1,1,2,2,3,3,4,4-nonafluoro-4-iodobutane Chemical compound FC(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)I PGRFXXCKHGIFSV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 7
- 239000000706 filtrate Substances 0.000 description 7
- 238000001914 filtration Methods 0.000 description 7
- UIZVMOZAXAMASY-UHFFFAOYSA-N hex-5-en-1-ol Chemical compound OCCCCC=C UIZVMOZAXAMASY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- 239000002002 slurry Substances 0.000 description 7
- OZAIFHULBGXAKX-UHFFFAOYSA-N 2-(2-cyanopropan-2-yldiazenyl)-2-methylpropanenitrile Chemical compound N#CC(C)(C)N=NC(C)(C)C#N OZAIFHULBGXAKX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- BMYNFMYTOJXKLE-UHFFFAOYSA-N 3-azaniumyl-2-hydroxypropanoate Chemical compound NCC(O)C(O)=O BMYNFMYTOJXKLE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N Isopropanol Chemical compound CC(C)O KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- IMNFDUFMRHMDMM-UHFFFAOYSA-N N-Heptane Chemical compound CCCCCCC IMNFDUFMRHMDMM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N Zinc Chemical compound [Zn] HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 238000004821 distillation Methods 0.000 description 6
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N sulfuric acid Substances OS(O)(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N Chromium Chemical compound [Cr] VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 230000003373 anti-fouling effect Effects 0.000 description 5
- 229910052804 chromium Inorganic materials 0.000 description 5
- 239000011651 chromium Substances 0.000 description 5
- 150000002431 hydrogen Chemical class 0.000 description 5
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 5
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 5
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 5
- TVMXDCGIABBOFY-UHFFFAOYSA-N octane Chemical compound CCCCCCCC TVMXDCGIABBOFY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 239000000047 product Substances 0.000 description 5
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 description 5
- JVBXVOWTABLYPX-UHFFFAOYSA-L sodium dithionite Chemical compound [Na+].[Na+].[O-]S(=O)S([O-])=O JVBXVOWTABLYPX-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 5
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N Tetrahydrofuran Chemical compound C1CCOC1 WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 4
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000001273 butane Substances 0.000 description 4
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 4
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 4
- 125000001495 ethyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 4
- IJDNQMDRQITEOD-UHFFFAOYSA-N n-butane Chemical compound CCCC IJDNQMDRQITEOD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- OFBQJSOFQDEBGM-UHFFFAOYSA-N n-pentane Natural products CCCCC OFBQJSOFQDEBGM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 description 4
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 4
- UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N Hydrogen Chemical compound [H][H] UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- CBENFWSGALASAD-UHFFFAOYSA-N Ozone Chemical compound [O-][O+]=O CBENFWSGALASAD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M Sodium hydroxide Chemical compound [OH-].[Na+] HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 description 3
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 description 3
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 3
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 3
- 229960000735 docosanol Drugs 0.000 description 3
- 239000003480 eluent Substances 0.000 description 3
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 3
- 125000001570 methylene group Chemical group [H]C([H])([*:1])[*:2] 0.000 description 3
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 3
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 3
- 230000003068 static effect Effects 0.000 description 3
- XVKJSLBVVRCOIT-UHFFFAOYSA-N 1,1,1,2,2,3,3,4,4,5,5,6,6,7,7,8,8-heptadecafluoro-10-iododecane Chemical compound FC(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)CCI XVKJSLBVVRCOIT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CXHFIVFPHDGZIS-UHFFFAOYSA-N 1,1,1,2,2,3,3,4,4-nonafluoro-6-iodohexane Chemical compound FC(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)CCI CXHFIVFPHDGZIS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- LRHPLDYGYMQRHN-UHFFFAOYSA-N 1-butanol Substances CCCCO LRHPLDYGYMQRHN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- SYRKDLKVQPWGRT-UHFFFAOYSA-N 12,12,13,13,14,14,15,15,15-nonafluoro-10-iodopentadecan-1-ol Chemical compound OCCCCCCCCCC(I)CC(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)F SYRKDLKVQPWGRT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QBYBWDQEXIEUMU-UHFFFAOYSA-N 12,12,13,13,14,14,15,15,16,16,17,17,18,18,19,19,19-heptadecafluoro-10-iodononadecan-1-ol Chemical compound OCCCCCCCCCC(I)CC(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)F QBYBWDQEXIEUMU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- GZPAINIKTKBDHV-UHFFFAOYSA-N 12,12,13,13,14,14,15,15,16,16,17,17,18,18,19,19,19-heptadecafluorononadecan-1-ol Chemical compound OCCCCCCCCCCCC(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)F GZPAINIKTKBDHV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CGGQUPOCGJBCMK-UHFFFAOYSA-N 19-bromo-1,1,1,2,2,3,3,4,4,5,5,6,6,7,7,8,8-heptadecafluorononadecane Chemical compound FC(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)CCCCCCCCCCCBr CGGQUPOCGJBCMK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QRCWNXLGRHSPPF-UHFFFAOYSA-N 9,9,10,10,11,11,12,12,12-nonafluoro-7-iodododecan-1-ol Chemical compound OCCCCCCC(I)CC(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)F QRCWNXLGRHSPPF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- HEDRZPFGACZZDS-UHFFFAOYSA-N Chloroform Chemical compound ClC(Cl)Cl HEDRZPFGACZZDS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000005481 NMR spectroscopy Methods 0.000 description 2
- KDLHZDBZIXYQEI-UHFFFAOYSA-N Palladium Chemical compound [Pd] KDLHZDBZIXYQEI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N Titan oxide Chemical compound O=[Ti]=O GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 2
- 125000000484 butyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 2
- DKPGJRQAKBRCNH-UHFFFAOYSA-N docos-21-en-1-ol Chemical compound OCCCCCCCCCCCCCCCCCCCCC=C DKPGJRQAKBRCNH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 2
- 239000012280 lithium aluminium hydride Substances 0.000 description 2
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 2
- WXPWPYISTQCNDP-UHFFFAOYSA-N oct-7-en-1-ol Chemical compound OCCCCCCC=C WXPWPYISTQCNDP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229960004624 perflexane Drugs 0.000 description 2
- 239000013545 self-assembled monolayer Substances 0.000 description 2
- 125000004434 sulfur atom Chemical group 0.000 description 2
- 239000006228 supernatant Substances 0.000 description 2
- YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N tetrahydrofuran Natural products C=1C=COC=1 YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000005406 washing Methods 0.000 description 2
- KWXGJTSJUKTDQU-UHFFFAOYSA-N 1,1,1,2,2,3,3,4,4,5,5,6,6,7,7,8,8-heptadecafluoro-8-iodooctane Chemical compound FC(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)I KWXGJTSJUKTDQU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QORLGCSXHJRPPR-UHFFFAOYSA-N 10-diethoxyphosphoryl-1,1,1,2,2,3,3,4,4-nonafluorodecane Chemical compound CCOP(=O)(OCC)CCCCCCC(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)F QORLGCSXHJRPPR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LLUDBZXPNDZBHD-UHFFFAOYSA-N 12,12,13,13,14,14,15,15,16,16,17,17,18,18,19,19,19-heptadecafluorononadecylphosphonic acid Chemical compound OP(O)(=O)CCCCCCCCCCCC(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)F LLUDBZXPNDZBHD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VPSVMWBVPGZAJT-UHFFFAOYSA-N 15-diethoxyphosphoryl-1,1,1,2,2,3,3,4,4-nonafluoropentadecane Chemical compound CCOP(=O)(OCC)CCCCCCCCCCCC(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)F VPSVMWBVPGZAJT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VKQGDKNAURQCGB-UHFFFAOYSA-N 19-diethoxyphosphoryl-1,1,1,2,2,3,3,4,4,5,5,6,6,7,7,8,8-heptadecafluorononadecane Chemical compound CCOP(=O)(OCC)CCCCCCCCCCCC(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)F VKQGDKNAURQCGB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000005160 1H NMR spectroscopy Methods 0.000 description 1
- ZSPTYLOMNJNZNG-UHFFFAOYSA-N 3-Buten-1-ol Chemical compound OCCC=C ZSPTYLOMNJNZNG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WAKUXSKQHJFZNX-UHFFFAOYSA-N 7,7,8,8,9,9,10,10,10-nonafluoro-5-iododecan-1-ol Chemical compound OCCCCC(I)CC(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)F WAKUXSKQHJFZNX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QZDCHCYMFXJOCS-UHFFFAOYSA-N 7,7,8,8,9,9,10,10,10-nonafluorodecan-1-ol Chemical compound OCCCCCCC(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)F QZDCHCYMFXJOCS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CPELXLSAUQHCOX-UHFFFAOYSA-M Bromide Chemical compound [Br-] CPELXLSAUQHCOX-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M Ilexoside XXIX Chemical compound C[C@@H]1CC[C@@]2(CC[C@@]3(C(=CC[C@H]4[C@]3(CC[C@@H]5[C@@]4(CC[C@@H](C5(C)C)OS(=O)(=O)[O-])C)C)[C@@H]2[C@]1(C)O)C)C(=O)O[C@H]6[C@@H]([C@H]([C@@H]([C@H](O6)CO)O)O)O.[Na+] DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M 0.000 description 1
- 239000005909 Kieselgur Substances 0.000 description 1
- WHXSMMKQMYFTQS-UHFFFAOYSA-N Lithium Chemical compound [Li] WHXSMMKQMYFTQS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000005654 Michaelis-Arbuzov synthesis reaction Methods 0.000 description 1
- ZLMJMSJWJFRBEC-UHFFFAOYSA-N Potassium Chemical compound [K] ZLMJMSJWJFRBEC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N Silver Chemical compound [Ag] BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N Titanium Chemical compound [Ti] RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NRTOMJZYCJJWKI-UHFFFAOYSA-N Titanium nitride Chemical compound [Ti]#N NRTOMJZYCJJWKI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000002411 adverse Effects 0.000 description 1
- 150000001340 alkali metals Chemical class 0.000 description 1
- 150000001336 alkenes Chemical class 0.000 description 1
- 150000001348 alkyl chlorides Chemical class 0.000 description 1
- 239000000956 alloy Substances 0.000 description 1
- 229910045601 alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- YYCNOHYMCOXPPJ-UHFFFAOYSA-N alumane;nickel Chemical compound [AlH3].[Ni] YYCNOHYMCOXPPJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N aluminium oxide Inorganic materials [O-2].[O-2].[O-2].[Al+3].[Al+3] PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000003667 anti-reflective effect Effects 0.000 description 1
- 239000008346 aqueous phase Substances 0.000 description 1
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 description 1
- 210000001217 buttock Anatomy 0.000 description 1
- 239000003153 chemical reaction reagent Substances 0.000 description 1
- 239000012230 colorless oil Substances 0.000 description 1
- 238000004440 column chromatography Methods 0.000 description 1
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 1
- QUQFTIVBFKLPCL-UHFFFAOYSA-L copper;2-amino-3-[(2-amino-2-carboxylatoethyl)disulfanyl]propanoate Chemical compound [Cu+2].[O-]C(=O)C(N)CSSCC(N)C([O-])=O QUQFTIVBFKLPCL-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 238000005260 corrosion Methods 0.000 description 1
- 230000007797 corrosion Effects 0.000 description 1
- 230000001627 detrimental effect Effects 0.000 description 1
- 238000010790 dilution Methods 0.000 description 1
- 239000012895 dilution Substances 0.000 description 1
- APBCNLYLPJQPGB-UHFFFAOYSA-N docos-21-enoic acid Chemical compound OC(=O)CCCCCCCCCCCCCCCCCCCC=C APBCNLYLPJQPGB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 1
- 150000002148 esters Chemical class 0.000 description 1
- GATNOFPXSDHULC-UHFFFAOYSA-N ethylphosphonic acid Chemical compound CCP(O)(O)=O GATNOFPXSDHULC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000011156 evaluation Methods 0.000 description 1
- 239000012530 fluid Substances 0.000 description 1
- 229910052731 fluorine Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011737 fluorine Substances 0.000 description 1
- 125000001153 fluoro group Chemical group F* 0.000 description 1
- NBVXSUQYWXRMNV-UHFFFAOYSA-N fluoromethane Chemical compound FC NBVXSUQYWXRMNV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000007429 general method Methods 0.000 description 1
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 1
- 239000004519 grease Substances 0.000 description 1
- 125000004051 hexyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 229930195733 hydrocarbon Natural products 0.000 description 1
- 150000002430 hydrocarbons Chemical class 0.000 description 1
- XMBWDFGMSWQBCA-UHFFFAOYSA-N hydrogen iodide Chemical compound I XMBWDFGMSWQBCA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000002209 hydrophobic effect Effects 0.000 description 1
- 238000007654 immersion Methods 0.000 description 1
- AMGQUBHHOARCQH-UHFFFAOYSA-N indium;oxotin Chemical compound [In].[Sn]=O AMGQUBHHOARCQH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052744 lithium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910003002 lithium salt Inorganic materials 0.000 description 1
- 159000000002 lithium salts Chemical class 0.000 description 1
- 229910044991 metal oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000004706 metal oxides Chemical class 0.000 description 1
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 1
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 description 1
- 239000000693 micelle Substances 0.000 description 1
- 229910003455 mixed metal oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000006082 mold release agent Substances 0.000 description 1
- 150000004767 nitrides Chemical class 0.000 description 1
- 239000012299 nitrogen atmosphere Substances 0.000 description 1
- 125000006344 nonafluoro n-butyl group Chemical group FC(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)* 0.000 description 1
- 125000005246 nonafluorobutyl group Chemical group FC(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)* 0.000 description 1
- 239000003921 oil Substances 0.000 description 1
- JRZJOMJEPLMPRA-UHFFFAOYSA-N olefin Natural products CCCCCCCC=C JRZJOMJEPLMPRA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000004812 organic fluorine compounds Chemical class 0.000 description 1
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 description 1
- 125000005003 perfluorobutyl group Chemical group FC(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)* 0.000 description 1
- 125000005005 perfluorohexyl group Chemical class FC(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)* 0.000 description 1
- 125000005008 perfluoropentyl group Chemical group FC(C(C(C(C(F)(F)F)(F)F)(F)F)(F)F)(F)* 0.000 description 1
- ABLZXFCXXLZCGV-UHFFFAOYSA-N phosphonic acid group Chemical group P(O)(O)=O ABLZXFCXXLZCGV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920001296 polysiloxane Polymers 0.000 description 1
- 229910052700 potassium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011591 potassium Substances 0.000 description 1
- 238000000425 proton nuclear magnetic resonance spectrum Methods 0.000 description 1
- 230000002940 repellent Effects 0.000 description 1
- 239000005871 repellent Substances 0.000 description 1
- 238000012552 review Methods 0.000 description 1
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 description 1
- 239000002094 self assembled monolayer Substances 0.000 description 1
- 229910052709 silver Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000004332 silver Substances 0.000 description 1
- 238000002791 soaking Methods 0.000 description 1
- 229910052708 sodium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011734 sodium Substances 0.000 description 1
- AKHNMLFCWUSKQB-UHFFFAOYSA-L sodium thiosulfate Chemical compound [Na+].[Na+].[O-]S([O-])(=O)=S AKHNMLFCWUSKQB-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 235000019345 sodium thiosulphate Nutrition 0.000 description 1
- 239000012265 solid product Substances 0.000 description 1
- 238000004528 spin coating Methods 0.000 description 1
- 238000005507 spraying Methods 0.000 description 1
- 238000010186 staining Methods 0.000 description 1
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 1
- 125000001424 substituent group Chemical group 0.000 description 1
- 239000002344 surface layer Substances 0.000 description 1
- 238000003786 synthesis reaction Methods 0.000 description 1
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010936 titanium Substances 0.000 description 1
- DQWPFSLDHJDLRL-UHFFFAOYSA-N triethyl phosphate Chemical compound CCOP(=O)(OCC)OCC DQWPFSLDHJDLRL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000001771 vacuum deposition Methods 0.000 description 1
- 229910052725 zinc Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011701 zinc Substances 0.000 description 1
Classifications
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B82—NANOTECHNOLOGY
- B82Y—SPECIFIC USES OR APPLICATIONS OF NANOSTRUCTURES; MEASUREMENT OR ANALYSIS OF NANOSTRUCTURES; MANUFACTURE OR TREATMENT OF NANOSTRUCTURES
- B82Y30/00—Nanotechnology for materials or surface science, e.g. nanocomposites
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07F—ACYCLIC, CARBOCYCLIC OR HETEROCYCLIC COMPOUNDS CONTAINING ELEMENTS OTHER THAN CARBON, HYDROGEN, HALOGEN, OXYGEN, NITROGEN, SULFUR, SELENIUM OR TELLURIUM
- C07F9/00—Compounds containing elements of Groups 5 or 15 of the Periodic Table
- C07F9/02—Phosphorus compounds
- C07F9/28—Phosphorus compounds with one or more P—C bonds
- C07F9/38—Phosphonic acids [RP(=O)(OH)2]; Thiophosphonic acids ; [RP(=X1)(X2H)2(X1, X2 are each independently O, S or Se)]
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B82—NANOTECHNOLOGY
- B82Y—SPECIFIC USES OR APPLICATIONS OF NANOSTRUCTURES; MEASUREMENT OR ANALYSIS OF NANOSTRUCTURES; MANUFACTURE OR TREATMENT OF NANOSTRUCTURES
- B82Y40/00—Manufacture or treatment of nanostructures
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07F—ACYCLIC, CARBOCYCLIC OR HETEROCYCLIC COMPOUNDS CONTAINING ELEMENTS OTHER THAN CARBON, HYDROGEN, HALOGEN, OXYGEN, NITROGEN, SULFUR, SELENIUM OR TELLURIUM
- C07F9/00—Compounds containing elements of Groups 5 or 15 of the Periodic Table
- C07F9/02—Phosphorus compounds
- C07F9/28—Phosphorus compounds with one or more P—C bonds
- C07F9/38—Phosphonic acids [RP(=O)(OH)2]; Thiophosphonic acids ; [RP(=X1)(X2H)2(X1, X2 are each independently O, S or Se)]
- C07F9/3804—Phosphonic acids [RP(=O)(OH)2]; Thiophosphonic acids ; [RP(=X1)(X2H)2(X1, X2 are each independently O, S or Se)] not used, see subgroups
- C07F9/3808—Acyclic saturated acids which can have further substituents on alkyl
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07F—ACYCLIC, CARBOCYCLIC OR HETEROCYCLIC COMPOUNDS CONTAINING ELEMENTS OTHER THAN CARBON, HYDROGEN, HALOGEN, OXYGEN, NITROGEN, SULFUR, SELENIUM OR TELLURIUM
- C07F9/00—Compounds containing elements of Groups 5 or 15 of the Periodic Table
- C07F9/02—Phosphorus compounds
- C07F9/28—Phosphorus compounds with one or more P—C bonds
- C07F9/38—Phosphonic acids [RP(=O)(OH)2]; Thiophosphonic acids ; [RP(=X1)(X2H)2(X1, X2 are each independently O, S or Se)]
- C07F9/40—Esters thereof
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C10—PETROLEUM, GAS OR COKE INDUSTRIES; TECHNICAL GASES CONTAINING CARBON MONOXIDE; FUELS; LUBRICANTS; PEAT
- C10M—LUBRICATING COMPOSITIONS; USE OF CHEMICAL SUBSTANCES EITHER ALONE OR AS LUBRICATING INGREDIENTS IN A LUBRICATING COMPOSITION
- C10M105/00—Lubricating compositions characterised by the base-material being a non-macromolecular organic compound
- C10M105/74—Lubricating compositions characterised by the base-material being a non-macromolecular organic compound containing phosphorus
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C10—PETROLEUM, GAS OR COKE INDUSTRIES; TECHNICAL GASES CONTAINING CARBON MONOXIDE; FUELS; LUBRICANTS; PEAT
- C10M—LUBRICATING COMPOSITIONS; USE OF CHEMICAL SUBSTANCES EITHER ALONE OR AS LUBRICATING INGREDIENTS IN A LUBRICATING COMPOSITION
- C10M2223/00—Organic non-macromolecular compounds containing phosphorus as ingredients in lubricant compositions
- C10M2223/06—Organic non-macromolecular compounds containing phosphorus as ingredients in lubricant compositions having phosphorus-to-carbon bonds
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C10—PETROLEUM, GAS OR COKE INDUSTRIES; TECHNICAL GASES CONTAINING CARBON MONOXIDE; FUELS; LUBRICANTS; PEAT
- C10M—LUBRICATING COMPOSITIONS; USE OF CHEMICAL SUBSTANCES EITHER ALONE OR AS LUBRICATING INGREDIENTS IN A LUBRICATING COMPOSITION
- C10M2223/00—Organic non-macromolecular compounds containing phosphorus as ingredients in lubricant compositions
- C10M2223/06—Organic non-macromolecular compounds containing phosphorus as ingredients in lubricant compositions having phosphorus-to-carbon bonds
- C10M2223/061—Metal salts
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C10—PETROLEUM, GAS OR COKE INDUSTRIES; TECHNICAL GASES CONTAINING CARBON MONOXIDE; FUELS; LUBRICANTS; PEAT
- C10N—INDEXING SCHEME ASSOCIATED WITH SUBCLASS C10M RELATING TO LUBRICATING COMPOSITIONS
- C10N2030/00—Specified physical or chemical properties which is improved by the additive characterising the lubricating composition, e.g. multifunctional additives
- C10N2030/06—Oiliness; Film-strength; Anti-wear; Resistance to extreme pressure
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C10—PETROLEUM, GAS OR COKE INDUSTRIES; TECHNICAL GASES CONTAINING CARBON MONOXIDE; FUELS; LUBRICANTS; PEAT
- C10N—INDEXING SCHEME ASSOCIATED WITH SUBCLASS C10M RELATING TO LUBRICATING COMPOSITIONS
- C10N2050/00—Form in which the lubricant is applied to the material being lubricated
- C10N2050/015—Dispersions of solid lubricants
- C10N2050/02—Dispersions of solid lubricants dissolved or suspended in a carrier which subsequently evaporates to leave a lubricant coating
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C10—PETROLEUM, GAS OR COKE INDUSTRIES; TECHNICAL GASES CONTAINING CARBON MONOXIDE; FUELS; LUBRICANTS; PEAT
- C10N—INDEXING SCHEME ASSOCIATED WITH SUBCLASS C10M RELATING TO LUBRICATING COMPOSITIONS
- C10N2060/00—Chemical after-treatment of the constituents of the lubricating composition
- C10N2060/08—Halogenation
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10T—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
- Y10T428/00—Stock material or miscellaneous articles
- Y10T428/31504—Composite [nonstructural laminate]
- Y10T428/3154—Of fluorinated addition polymer from unsaturated monomers
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10T—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
- Y10T428/00—Stock material or miscellaneous articles
- Y10T428/31504—Composite [nonstructural laminate]
- Y10T428/31678—Of metal
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Nanotechnology (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- General Health & Medical Sciences (AREA)
- Molecular Biology (AREA)
- Crystallography & Structural Chemistry (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Health & Medical Sciences (AREA)
- Biochemistry (AREA)
- Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
- Composite Materials (AREA)
- Oil, Petroleum & Natural Gas (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- General Chemical & Material Sciences (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
- Other Surface Treatments For Metallic Materials (AREA)
Abstract
기질 표면 처리제로서 유용한 플루오르화 포스폰산 화합물은 화학식 I을 가지며, 식 중, R1은 3 내지 21개의 탄소 원자를 갖는 직쇄 알킬렌기, 2 내지 20개의 탄소 원자를 갖는 옥사-치환된 직쇄 알킬렌기 또는 2 내지 20개의 탄소 원자를 갖는 티아-치환된 직쇄 알킬렌기이고; R2는 4 내지 10개의 탄소 원자를 갖는 퍼플루오로알킬기이고; R3은 수소, 알칼리 금속 양이온 또는 1 내지 6개의 탄소 원자를 갖는 알킬기이고; M은 수소 또는 알칼리 금속 양이온이되, 단, R1이 비치환된 직쇄 알킬렌기이면 R1 및 R2의 탄소 원자수의 합은 10 이상이다.
기질 표면 처리제, 플루오르화 포스폰산
Description
본 발명은 자가조립하여 단층을 형성하는 플루오르화 유기 화합물, 특히 플루오르화 포스폰산에 관한 것이다.
자가조립 물질이란, 그 명칭이 내포하는 바와 같이, 다른 물질에 접촉했을 때 자발적으로 구조 (예를 들어, 마이셀 또는 단층)를 형성한다. 단층의 형성은 이것이 고체 기질 (예를 들어, 금속 조각)의 표면에서 발생할 때 특히 유용하다. 기질 표면에 낮은 표면 에너지를 부여하는 물질로부터 단층이 형성될 경우, 하나 이상의 유용한 특성, 예컨대 발수성, 내식성, 윤활성 및 접착 이형성과 같은 특성이 상기 표면에 부여될 수 있다. 표면 에너지가 충분히 낮을 경우, 발유성 및 방오성 (즉, 얼룩에 대한 저항)이 달성될 수 있다. 일반적으로, 이처럼 낮은 표면 에너지는 플루오르화탄소 물질을 사용함으로써 달성될 수 있다.
플루오르화 자가조립 단층은 방오성 코팅, 반사방지 유리 코팅 및 이형 코팅에 사용되어 왔다. 전형적인 자가조립 물질은 소수성 꼬리에 부착된 극성 머리 기로 이루어진다. 상대적으로 고가임에도 불구하고, 플루오르화 꼬리를 갖는 자가조립 물질은 산업적으로 널리 사용된다. 그 까닭은 이들이 전형적으로 대체 물질, 예컨대 탄화수소 또는 실리콘 꼬리를 갖는 물질보다, 예를 들어 접착 이형성 및 방 오성면에서 실질적으로 우수하기 때문이다. 이 분야의 시판품들은 전형적으로 7 및 8개의 탄소를 갖는 퍼플루오로알킬기를 갖는 물질을 이용해 왔다. 최근 당업계에서는 이러한 기에 대한 대체 물질을 찾고자 상당한 노력을 기울여 왔다.
광범위한 기질상에서 자가조립되어 낮은 표면 에너지를 갖는 단층을 형성하는 신규 물질이 바람직할 것이며, 7 및 8개의 탄소를 갖는 퍼플루오로알킬기를 함유하지 않는 이러한 물질이 특히 바람직할 것이다.
<발명의 요약>
일면에서, 본 발명은 하기 화학식 I의 플루오르화 포스폰산 화합물을 제공한다.
상기 식에서,
R1은 3 내지 21개의 탄소 원자를 갖는 직쇄 알킬렌기, 2 내지 20개의 탄소 원자를 갖는 옥사-치환된 직쇄 알킬렌기 또는 2 내지 20개의 탄소 원자를 갖는 티아-치환된 직쇄 알킬렌기이고;
R2는 4 내지 10개의 탄소 원자를 갖는 퍼플루오로알킬기이고;
R3은 수소, 알칼리 금속 양이온 또는 1 내지 6개의 탄소 원자를 갖는 알킬기 이고;
M은 수소 또는 알칼리 금속 양이온이되,
단, R1이 비치환된 직쇄 알킬렌기이면 R1 및 R2의 탄소 원자수의 합은 10 이상이다.
또다른 면에서, 본 발명은 표면이 있는 기질을 제공하고, 하기 화학식 I의 플루오르화 포스폰산 화합물을 기질 표면에 적용하는 것을 포함하는, 물품 표면의 처리 방법을 제공한다.
<화학식 I>
상기 식에서,
R1은 3 내지 21개의 탄소 원자를 갖는 직쇄 알킬렌기, 2 내지 20개의 탄소 원자를 갖는 옥사-치환된 직쇄 알킬렌기 또는 2 내지 20개의 탄소 원자를 갖는 티아-치환된 직쇄 알킬렌기이고;
R2는 4 내지 10개의 탄소 원자를 갖는 퍼플루오로알킬기이고;
R3은 수소, 알칼리 금속 양이온 또는 1 내지 6개의 탄소 원자를 갖는 알킬기이고;
M은 수소 또는 알칼리 금속 양이온이되,
단, R1이 비치환된 직쇄 알킬렌기이면 R1 및 R2의 탄소 원자수의 합은 10 이상이다.
또다른 면에서, 본 발명은 하기 화학식 I의 플루오르화 포스폰산 화합물의 적어도 일부의 단층과 밀접하게 접촉된 표면을 갖는 기질을 포함하는 물품을 제공한다.
<화학식 I>
상기 식에서,
R1은 3 내지 21개의 탄소 원자를 갖는 직쇄 알킬렌기, 2 내지 20개의 탄소 원자를 갖는 옥사-치환된 직쇄 알킬렌기 또는 2 내지 20개의 탄소 원자를 갖는 티아-치환된 직쇄 알킬렌기이고;
R2는 4 내지 10개의 탄소 원자를 갖는 퍼플루오로알킬기이고;
R3은 수소, 알칼리 금속 양이온 또는 1 내지 6개의 탄소 원자를 갖는 알킬기이고;
M은 수소 또는 알칼리 금속 양이온이되,
단, R1이 비치환된 직쇄 알킬렌기이면 R1 및 R2의 탄소 원자수의 합은 10 이상이다.
또다른 면에서, 본 발명은 표면이 있는 기질을 제공하고, 하기 화학식 I의 플루오르화 포스폰산 화합물을 기질 표면에 적용하는 것을 포함하는 방법에 의해 제조한 물품을 제공한다.
<화학식 I>
상기 식에서,
R1은 3 내지 21개의 탄소 원자를 갖는 직쇄 알킬렌기, 2 내지 20개의 탄소 원자를 갖는 옥사-치환된 직쇄 알킬렌기 또는 2 내지 20개의 탄소 원자를 갖는 티아-치환된 직쇄 알킬렌기이고;
R2는 4 내지 10개의 탄소 원자를 갖는 퍼플루오로알킬기이고;
R3은 수소, 알칼리 금속 양이온 또는 1 내지 6개의 탄소 원자를 갖는 알킬기이고;
M은 수소 또는 알칼리 금속 양이온이되,
단, R1이 비치환된 직쇄 알킬렌기이면 R1 및 R2의 탄소 원자수의 합은 10 이상이다.
본 발명의 플루오르화 포스폰산은 매우 다양한 기질에 적용했을 때 자가조립 (예를 들어, 단층 필름을 형성)하여 기질상에 낮은 표면 에너지, 접착 이형성, 윤활성, 발수성 및(또는) 방오성 중 적어도 하나를 나타내는 코팅을 생성한다.
본원에 사용된 "퍼플루오로"는 해당 기 또는 분자의 수소가 모두 플루오르에 의해 치환된 것을 말한다.
<발명의 상세한 설명>
본 발명의 플루오르화 포스폰산은 하기 화학식 I을 갖는다.
상기 식에서,
R1은 3 내지 21개의 탄소 원자를 갖는 직쇄 알킬렌기, 2 내지 20개의 탄소 원자를 갖는 옥사-치환된 직쇄 알킬렌기 또는 2 내지 20개의 탄소 원자를 갖는 티아-치환된 직쇄 알킬렌기이다. 바람직하게는, R1은 5 내지 21개의 탄소 원자를 갖는 직쇄 알킬렌기이고, 더욱 바람직하게는 R1은 10 내지 21개의 탄소 원자를 갖는 직쇄 알킬렌기이다. 유용한 직쇄 알킬렌기 중 2개는 데칸-1,10-디일 및 헤네이코산-1,21-디일이다. 이론에 얽매일 생각은 없으나, 메틸렌 (즉, -CH2-)과 유사한 입체 크기를 갖는 산소 원자 및(또는) 황 원자는 본 발명에 따른 플루오르화 포스폰산의 자가조립되는 본성 및(또는) 수행 특성을 크게 해치지 않고도 알킬렌 쇄의 메틸렌기 대신 치환될 수 있는 것으로 생각된다. 따라서, 옥사- 또는 티아-치환 (즉, 메틸렌을 O 또는 S 원자로 치환)은 악영향 없이 알킬렌쇄 중의 단일 부위 또는 복수의 부위에서 일어날 수 있으며, 이들은 본 발명에 포함된다.
R2는 4 내지 10개의 탄소 원자를 갖는 퍼플루오로알킬기이되, 단, R1이 비치환된 직쇄 알킬렌기이면 R1 및 R2의 탄소 원자수의 합은 10 이상이다. 예시적인 퍼플루오로알킬기에는 퍼플루오로부틸, 퍼플루오로펜틸, 퍼플루오로헥실의 이성질체, 및 그의 혼합물이 포함된다. 바람직하게는, R2는 퍼플루오로-n-부틸기이다.
R3은 수소, 알칼리 금속 양이온 (예를 들어, 리튬, 나트륨, 칼륨) 또는 1 내지 6개의 탄소 원자를 갖는 알킬기 (예를 들어, 메틸, 에틸, 부틸, 헥실)이다. 바람직하게는, R3은 수소 또는 알칼리 금속이다.
M은 수소 또는 알칼리 금속 양이온이다.
R1 및 R2의 선택의 범위는 넓지만, 원하는 특성을 얻기 위해서는 전체 쇄장이 충분히 긴 것이 바람직하다. 따라서, R1 및 R2의 탄소 원자수의 합이 10 이상인 것이 바람직하다.
본 발명의 플루오르화 포스폰산은 널리 공지된 다양한 절차에 의해 제조할 수 있다 (예를 들어, 상응하는 알킬 클로라이드, 브로마이드 또는 요오다이드상에서 미하엘-아르부조프 (Michaelis-Arbuzov) 반응시킨 후에, 예를 들어 문헌 [Bhatacharya et al. Chemical Reviews (1981), vol. 81, pp. 415-430]에 기재된 바와 같이 가수분해하거나, 또는 CH2=CH(CH2)mPO3H2의 구조를 갖는 올레핀 또는 그의 에스테르에 퍼플루오로알킬 요오다이드를 첨가한 후에, 문헌 [Rong et al. Tetrahedron Letters (1990), vol. 31, pp. 5615-5616]의 일반적 방법에 따라 환원시킨다). 본 발명의 플루오르화 포스폰산은 기질 표면의 적어도 일부를 덮는 단층을 형성할 수 있어서 매우 다양한 기질에 유리하게 적용될 수 있다. 상기 단층은 전형적으로 포스폰기가 기질 표면에 접촉하고 퍼플루오로알킬기가 기질 표면으로부터 멀리 뻗도록 배향된다. 본 발명의 플루오르화 포스폰산은 다양한 금속 기질의 고유한 산화물 표면층에 유리하게 적용될 수 있으나, 다른 기질들도 또한 유용하다. 예시적인 금속에는 크롬, 알루미늄, 구리, 니켈, 티타늄, 은, 및 이들의 합금 및 혼합물이 포함된다. 예시적인 다른 물질에는 금속 산화물 및 혼합 금속 산화물 및 질화물, 예를 들어 알루미나, 티타니아, 질화티타늄 및 산화주석인듐이 포함된다. 바람직하게는, 기질에는 크롬, 알루미늄, 구리 및(또는) 니켈이 포함된다.
본 발명의 플루오르화 포스폰산을 기질에 적용하는 예시적인 방법에는 유기 용매, 예컨대 에탄올 또는 이소프로필 알콜 중의 산의 희석액 (예를 들어, 0.1 중량%)을 분무, 액침 코팅, 와이핑 및 스핀 코팅하는 것이 포함된다. 사용한 정확한 코팅 조건에 따라, 이 방법들 중 일부는 과량의 한 단층에 일정량의 플루오르화 포스폰산을 적용시킬 수 있다. 이러한 경우, 과량의 물질은 기껏해야 약하게만 결합되어 있을 뿐이므로 전형적으로 적절한 용매로 세정하여 쉽게 제거할 수 있다. 전형적으로, 본 발명의 플루오르화 포스폰산은 처리할 기질 표면의 적어도 일부, 바람직하게는 전체에 층으로서 적용된다. 바람직하게는, 플루오르화 포스폰산은 기질 표면상에 단층 (예를 들어, 자가조립 단층)을 형성한다. 플루오르화 포스폰산의 층은 임의의 두께일 수 있으나, 결합되지 않은 과량의 물질을 세정하고 건조 시킨 후에는, 전형적으로 0.5 내지 10 nm, 바람직하게는 1 내지 5 nm, 더욱 바람직하게는 1 내지 2.5 nm 범위의 두께를 갖는다.
본 발명의 플루오르화 포스폰산은 예를 들어 주형 이형제, 방오성 코팅, 윤활성 코팅, 발수성 코팅, 및(또는) 미세유체 및(또는) 마이크로전자기계 장치의 제작에 응용할 수 있다.
본 발명의 목적 및 이점을 하기 실시예에 의해 더 상세하게 예시하였으나, 이 실시예에 언급된 특정 물질 및 그의 양, 뿐만 아니라 기타 조건 및 상세한 사항들이 본 발명을 부당하게 제한하는 것으로 해석되어서는 안된다.
하기 제조예 및 실시예에서 모든 부, 백분율 및 비율은 별도로 언급이 없으면 중량 기준이다.
1-요오도-1H,1H,2H,2H-퍼플루오로데칸 및 1-요오도-1H,1H,2H,2H-퍼플루오로헥산은 랭카스터 신테시스 (Lancaster Synthesis, 미국 뉴햄프셔주 윈드햄 소재)에서 입수했다.
7-옥텐-1-올은 TCI 아메리카 (TCI America, 미국 오레곤주 포틀랜드 소재)에서 입수했다.
21-도코센산은 문헌 [Mirviss, S. B., The Journal of Organic Chemistry (1989), vol. 54, pp. 1948-1951]에 기재된 바와 같이 제조하였다.
하기 제조예 및 실시예에서 "실온"은 대략 20 ℃ 내지 24 ℃를 의미한다.
하기 제조예 및 실시예에서 "밤새"는 대략 14 내지 16 시간 (hr)을 의미한 다.
하기 제조예에서 "노나플루오로부틸"은 선형 이성질체 구조 -CF2CF2CF2
CF3를 지칭한다.
별도로 언급이 없으면, 하기 제조예 및 실시예에서 사용된 모든 시약은 일반적인 화합물 공급업체, 예컨대 알드리치 케미칼 코. (Aldrich Chemical Co., 미국 위스콘신주 밀워키 소재)로부터 입수했거나 또는 입수가능하고, 또는 공지된 방법에 의해 합성할 수 있다.
CF
3
(CF
2
)
7
CH
2
CH
2
PO
3
H
2
의 제조
1-요오도-1H,1H,2H,2H-퍼플루오로데칸 42.8 g 및 트리에틸 포스파이트 37.4 g의 혼합물을 150 ℃에서 40 시간 동안 가열하였다. 디에틸 에틸포스포네이트 및 다른 휘발성 물질을 혼합물로부터 증류하여 제거하였다 (0.05 torr (7 Pa)에서 비점 30 내지 50 ℃). 잔류 농축 혼합물을 증류하여 1-(디에틸포스포노)-1H,1H,2H,2H-퍼플루오로데칸, 에틸 1H,1H,2H,2H-퍼플루오로데실 에틸포스포네이트 및 에틸 에틸포스포네이트의 73:16:11 혼합물 23.1 g을 수득하였다 (0.05 torr (7 Pa)에서 비점 102 내지 109 ℃).
디클로로메탄 100 mL 중의 상기 혼합물 17.5 g의 용액에 브로모트리메틸실란 10.7 g을 첨가하였다. 실온에서 24 시간 후에, 용액을 담황색 액체로 농축시키고, 중간체인 실릴포스포네이트 에스테르를 메탄올 200 mL 중에 용해시켰다. 생성된 용액을 실온에서 30 분 동안 교반한 후에, 농축시켜 회백색 고체를 수득하였다. 상기와 같이, 메탄올 중에 용해시키고 농축하는 과정을 2회 더 반복하였다. 조생성물의 혼합물을 물로 분쇄하고, 에틸 아세테이트로부터 물질 7.3 g을 재결정하여 백색 결정으로서 1-포스포노-1H,1H,2H,2H-퍼플루오로데칸 (CF3(CF2)7CH
2CH2PO3H2) 3.1 g을 수득하였다 (융점 170 내지 178 ℃).
CF
3
(CF
2
)
3
CH
2
CH
2
PO
3
H
2
의 제조
1-요오도-1H,1H,2H,2H-퍼플루오로헥산 37.4 g 및 트리에틸 포스파이트 50.0 g의 혼합물을 150 ℃로 가열하였다. 16 시간 후에, 트리에틸 포스파이트 50.0 g을 더 첨가하고, 계속 가열하였다. 2 시간 후에, 트리에틸 포스파이트 50.0 g을 다시 첨가하고, 24 시간 동안 더 가열하였다. 디에틸 에틸포스포네이트 및 다른 휘발성 물질을 12-인치 (30 cm) 진공-재킷 충전 컬럼으로 증류하여 제거하였다 (0.05 torr (7 Pa)에서 비점 34 내지 38 ℃). 농축물을 증류하여 무색 투명한 액체로서 1-디에틸포스포노-1H,1H,2H,2H-퍼플루오로헥산 22.3 g을 트리에틸 포스페이트 및 에틸 1H,1H,2H,2H-퍼플루오로헥실 에틸포스포네이트와의 90:2:7 혼합물로서 수득하였다 (0.05 torr (7 Pa)에서 비점 47 내지 51 ℃).
디클로로메탄 100 mL 중의 상기 혼합물 15.37 g의 용액에 브로모트리메틸실란 15.31 g을 첨가하였다. 실온에서 24 시간 후에, 용액을 담황색 액체로 농축시키고, 중간체인 실릴포스포네이트 에스테르를 메탄올 200 mL 중에 용해시켰다. 생성된 용액을 실온에서 30 분 동안 교반한 후에, 농축시켜 백색 고체를 수득하였다. 상기와 같이, 메탄올 중에 용해시키고 농축하는 과정을 2회 더 반복하고, 조생성물 을 아세토니트릴로부터 재결정하여 무색 판형으로서 1-포스포노-1H,1H,2H,2H-퍼플루오로헥산 (CF3(CF2)3CH2CH2PO3H2
) 8.89 g을 수득하였다 (융점 160 내지 162 ℃).
CF
3
(CF
2
)
3
(CH
2
)
6
PO
3
H
2
의 제조
아세토니트릴 1.4 L 및 물 0.6 L의 혼합물 중의 퍼플루오로부틸 요오다이드 187.4 g 및 5-헥센-1-올 100.2 g의 용액에 중탄산나트륨 100.8 g 및 나트륨 디티오나이트 200.2 g의 혼합물을 조금씩 첨가하면서 교반하였다. 반응 혼합물을 실온에서 밤새 교반하고, 1 N 염화수소산으로 산성화시켰다. 혼합물을 디에틸 에테르로 추출하고, 유기상을 모아서 포화 중탄산나트륨 수용액에 이어서 염수로 세척한 후에, 무수 황산마그네슘상에서 건조시켰다. 용액을 농축시키고, 농축물을 1H NMR 분석 (즉, 1H 핵자기공명 분광법)한 결과 5-헥센-1-올 및 5-요오도-6-(노나플루오로부틸)-1-헥산올의 대략 3:1 혼합물이었다. 농축물을 에틸 아세테이트 100 mL, 퍼플루오로부틸 요오다이드 100.0 g 및 2,2'-아조비스이소부티로니트릴 0.82 g과 혼합하고, 생성된 용액을 탈기하고, 70 ℃에서 가열하였다. 24 시간 후에, 농축 분취액을 1H NMR 분석한 결과 5-헥센-1-올 및 5-요오도-6-(노나플루오로부틸)-1-헥산올의 대략 2:1 혼합물이었다. 퍼플루오로부틸 요오다이드 50.0 g 및 2,2'-아조비스이소부티로니트릴 0.82 g을 더 첨가하고, 70 ℃에서 24 시간 동안 가열하였다. 혼합물을 농축시켜 오렌지색 액체로서 조질의 5-요오도-6-(노나플루오로부틸)-1-헥산올 146.1 g을 5-헥센-1-올과의 대략 8:1 혼합물로서 수득하였다. 조생성물을 더 정제하지 않고 사용하였다.
에탄올 1 L 중의 아연 분말 165.0 g의 슬러리에 아세트산 10.0 g을 첨가하였다. 에탄올 100 mL 중의 상기 조생성물의 혼합물의 용액을 1 시간에 걸쳐 교반하면서 적가하고, 반응 혼합물을 50 ℃에서 4 시간 동안 가열하였다. 혼합물을 여과하고, 여액을 농축시켰다. 농축물을 클로로포름 중에 용해시키고, 용액을 여과하고, 점성의 담황색 액체 149.0 g으로 농축시켰다. 농축물의 일부 65.0 g을 벌브 대 벌브 증류하여 담황색 액체로서 6-(노나플루오로부틸)-1-헥산올 18.1 g을 수득하였다 (0.05 torr (7 Pa)에서 130 내지 140 ℃).
6-(노나플루오로부틸)-1-헥산올 18.00 g 및 48 중량% 브롬화수소산 225 mL의 혼합물에 진한 황산 23 mL를 서서히 첨가하였다. 반응 혼합물을 100 ℃에서 12 시간 동안 가열하고, 물 1 L에 부었다. 혼합물을 헥산으로 추출하고, 유기상을 모아서 포화 중탄산나트륨 수용액으로 세척하고, 무수 황산마그네슘상에서 건조시켰다. 헥산 용액을 밝은 호박색 액체로 농축시키고, 실리카 2 인치 (5 cm)를 통해 헥산으로 용출하였다. 용리액을 농축시켜 밝은 호박색 액체를 수득하고, 벌브 대 벌브 증류하여 무색 투명한 액체로서 1-브로모-6-(노나플루오로부틸)헥산 18.29 g을 수득하였다 (0.05 torr (7 Pa)에서 비점 70 내지 80 ℃).
1-브로모-6-(노나플루오로부틸)헥산 18.04 g 및 트리에틸 포스파이트 19.6 g의 혼합물을 150 ℃로 가열하였다. 18 시간 후에, 트리에틸 포스파이트 10.0 g을 더 첨가하고, 계속해서 8 시간 동안 더 가열하였다. 디에틸 에틸포스포네이트 및 다른 휘발성 물질을 증류하여 제거하고 (0.05 torr (7 Pa)에서 비점 30 내지 50 ℃ ), 농축물을 벌브 대 벌브 증류하여 무색 투명한 액체로서 1-(디에틸포스포노)-6-( 노나플루오로부틸)헥산 18.88 g을 수득하였다 (0.05 torr (7 Pa)에서 120 내지 130 ℃).
디클로로메탄 100 mL 중의 1-(디에틸포스포노)-6-(노나플루오로부틸)헥산 18.63 g의 용액에 브로모트리메틸실란 16.8 g을 첨가하였다. 실온에서 18 시간 후에, 용액을 거의 무색인 액체로 농축시키고, 중간체인 실릴포스포네이트 에스테르를 메탄올 250 mL 중에 용해시켰다. 생성된 용액을 실온에서 30 분 동안 교반하고 백색 고체로 농축시켰다. 메탄올 중에 용해시키고 농축하는 과정을 2회 반복하고, 헵탄 및 2-프로판올의 99:1 혼합물로부터 조생성물을 2회 재결정하여 무색 엽편으로서 1-포스포노-6-(노나플루오로부틸)헥산 (CF3(CF2)3(CH2)
6PO3H2) 12.50 g을 수득하였다 (융점 107 내지 108 ℃).
CF
3
(CF
2
)
3
(CH
2
)
4
PO
3
H
2
의 제조
아세토니트릴 560 mL 및 물 240 mL의 혼합물 중의 퍼플루오로부틸 요오다이드 190.3 g 및 3-부텐-1-올 36.1 g의 용액에 중탄산나트륨 48.3 g 및 나트륨 디티오나이트 95.8 g의 혼합물을 조금씩 첨가하면서 교반하였다. 반응 혼합물을 실온에서 밤새 교반하고, 1 N 염화수소산으로 산성화시켰다. 혼합물을 디에틸 에테르로 추출하고, 유기상을 모아서 포화 중탄산나트륨 수용액에 이어서 염수로 세척한 후에, 무수 황산마그네슘상에서 건조시켰다. 농축에 의해 수득한 오렌지색 액체 38.5 g을 에탄올 50 mL 중에 용해시켰다. 이 용액을 에탄올 400 mL 중의 아연 분 말 29.42 g의 교반된 슬러리에 첨가하고, 50 ℃에서 4 시간 동안 가열하고, 여과하고, 여액을 투명한, 밝은 오렌지색 액체 39.15 g으로 농축시켰다. 이 물질의 일부 10.0 g을 벌브 대 벌브 증류하여 무색 투명한 액체로서 4-(노나플루오로부틸)-1-부탄올 5.20 g을 수득하였다 (0.10 torr (14 Pa)에서 비점 105 내지 115 ℃).
4-(노나플루오로부틸)-1-부탄올 12.50 g 및 48 중량% 브롬화수소산 150 mL의 혼합물에 진한 황산 15 mL를 서서히 첨가하였다. 반응 혼합물을 100 ℃에서 18 시간 동안 가열한 후에, 물 500 mL에 부었다. 혼합물을 헥산으로 추출하고, 유기상을 모아서 포화 중탄산나트륨 수용액으로 세척하고, 무수 황산마그네슘상에서 건조시켰다. 여과 및 농축에 의해 밝은 호박색 액체로서 조질의 1-브로모-4-(노나플루오로부틸)부탄 12.50 g을 수득하여, 더 정제하지 않고 사용하였다.
1-브로모-4-(노나플루오로부틸)부탄 12.40 g 및 트리에틸 포스파이트 21.00 g의 혼합물을 150 ℃에서 가열하였다. 18 시간 후에, 디에틸 에틸포스포네이트 및 다른 휘발성 물질을 혼합물로부터 증류하여 제거하였다 (0.05 torr (7 Pa)에서 30 내지 50 ℃). 잔류 농축 혼합물을 벌브 대 벌브 증류하여 무색 투명한 액체로서 1-(디에틸포스포노)-4-(노나플루오로부틸)부탄 13.0 g을 수득하였다 (0.05 torr (7 Pa)에서 105 내지 110 ℃).
디클로로메탄 50 mL 중의 1-(디에틸포스포노)-4-(노나플루오로부틸)부탄 11.54 g의 용액에 브로모트리메틸실란 10.7 g을 첨가하였다. 18 시간 후에 실온에서, 용액을 거의 무색 액체로 농축시키고, 중간체인 실릴포스포네이트 에스테르를 메탄올 250 mL에 용해시켰다. 생성된 용액을 실온에서 1 시간 동안 교반한 후에, 농축시켜 백색 고체를 수득하였다. 메탄올 중에 용해시키고 농축하는 과정을 2회 반복하고, 아세토니트릴로부터 조생성물을 재결정하여 무색 침상 결정으로서 1-포스포노-4-(노나플루오로부틸)부탄 (CF3(CF2)3(CH2)4PO
3H2) 8.39 g을 수득하였다 (융점 123 내지 124 ℃).
실시예 1
이 실시예는 CF3(CF2)3(CH2)8PO3H2
의 제조를 기재한다.
아세토니트릴 480 mL 및 물 180 mL의 혼합물 중의 퍼플루오로부틸 요오다이드 190.70 g 및 7-옥텐-1-올 38.47 g의 용액에 중탄산나트륨 29.40 g 및 나트륨 디티오나이트 58.33 g의 혼합물을 조금씩 첨가하면서 교반하였다. 반응 혼합물을 실온에서 밤새 교반하고, 1 N 염화수소산으로 산성화시켰다. 혼합물을 물 400 mL로 희석하고, 디에틸 에테르 3×200 mL 부분으로 추출하고, 유기상을 모아서 포화 중탄산나트륨 수용액 2×200 mL 부분 및 염수 200 mL 부분으로 세척하고, 무수 황산마그네슘상에서 건조시켰다. 농축에 의해 담황색 액체로서 조질의 7-요오도-8-(노나플루오로부틸)-1-옥탄올을 수득하고, 더 정제하지 않고 사용하였다.
에탄올 600 mL 중의 아연 분말 98.0 g의 슬러리에 아세트산 3.0 g을 첨가하였다. 에탄올 100 mL 중의 상기 제조한 조질의 7-요오도-8-(노나플루오로부틸)-1-옥탄올의 용액을 15 분에 걸쳐 교반하면서 적가하고, 반응 혼합물을 50 ℃에서 3 시간 동안 가열하였다. 혼합물을 여과하고, 여액을 점성의 담황색 유체 100.0 g으로 농축시켰다. 이 물질의 일부 79.6 g을 헥산 300 mL와 함께 교반하고, 상청액을 규조토 ("셀라이트 (CELITE)"라는 상표명으로 시판중, 존스맨빌 코포레이션 (Johns-Manville Corporation), 미국 콜로라도주 덴버 소재)를 통해 여과하고, 농축시켜 투명한 무색 오일로서 8-(노나플루오로부틸)-1-옥탄올 44.24 g을 수득하고, 더 정제하지 않고 사용하였다.
8-(노나플루오로부틸)-1-옥탄올 15.22 g 및 48 중량% 브롬화수소산 200 mL의 혼합물에 진한 황산 20 mL를 서서히 첨가하였다. 반응 혼합물을 100 ℃에서 18 시간 동안 가열한 후에, 물 800 mL에 부었다. 혼합물을 헥산 2×200 mL 부분으로 추출하고, 유기상을 모아서 포화 중탄산나트륨 수용액 2×200 mL 부분, 3 포르말 티오황산나트륨 수용액 2×200 mL 부분 및 염수 100 mL로 세척하고, 무수 황산마그네슘상에서 건조시켰다. 용액을 암색 액체로 농축시키고, 실리카 2 인치 (5 cm)를 통해 헥산 500 mL로 용출하였다. 용리액을 농축시켜 수득한 투명한 담황색 액체를 벌브 대 벌브 증류하여 투명한 담황색 액체로서 1-브로모-8-(노나플루오로부틸)옥탄 9.14 g을 수득하였다 (0.05 torr (7 Pa)에서 비점 105 내지 110 ℃).
1-브로모-8-(노나플루오로부틸)옥탄 8.24 g 및 트리에틸 포스파이트 8.31 g의 혼합물을 150 ℃에서 가열하였다. 15 시간 후에, 트리에틸 포스파이트 4.30 g을 더 첨가하고, 4 시간 동안 계속 가열하였다. 디에틸 에틸포스포네이트 및 다른 휘발성 물질을 혼합물로부터 증류하여 제거하였다 (0.05 torr (7 Pa)에서 30 내지 50 ℃). 농축물을 벌브 대 벌브 증류하여 무색 투명한 액체로서 1-(디에틸포스포노)-8-(노나플루오로부틸)옥탄 8.72 g을 수득하였다 (0.08 torr (11 Pa)에서 115 내지 125 ℃).
디클로로메탄 30 mL 중의 1-(디에틸포스포노)-8-(노나플루오로부틸)옥탄 7.03 g의 용액에 브로모트리메틸실란 6.12 g을 첨가하였다. 18 시간 후에 실온에서, 용액을 담황색 액체로 농축시키고, 중간체인 실릴포스포네이트 에스테르를 메탄올 150 mL에 용해시켰다. 생성된 용액을 실온에서 30 분 동안 교반한 후에, 농축시켜 백색 고체를 수득하였다. 메탄올 중에 용해시키고 농축하는 과정을 2회 반복하고, 아세토니트릴로부터 조생성물을 2회 재결정하여 백색 결정으로서 1-포스포노-8-(노나플루오로부틸)옥탄 (CF3(CF2)3(CH2)8PO
3H2) 8.39 g을 수득하였다 (융점 87 내지 89 ℃).
실시예 2
이 실시예는 CF3(CF2)3(CH2)11PO3H2
의 제조를 기재한다.
아세토니트릴 700 mL 및 물 300 mL의 혼합물 중의 퍼플루오로부틸 요오다이드 199.7 g 및 10-운데켄-1-올 93.7 g의 용액에 중탄산나트륨 53.8 g 및 나트륨 디티오나이트 106.2 g의 혼합물을 조금씩 첨가하면서 교반하였다. 반응 혼합물을 실온에서 밤새 교반하고, 1 N 염화수소산으로 산성화시켰다. 혼합물을 디에틸 에테르로 추출하고, 유기상을 모아서 포화 중탄산나트륨 수용액 및 이어서 염수로 세척한 후에, 무수 황산마그네슘상에서 건조시켰다. 에테르 용액을 농축시켜 점성의 밝은 호박색 액체로서 조질의 10-요오도-11-(노나플루오로부틸)-1-운데칸올 234.4 g을 수득하고, 더 정제하지 않고 사용하였다.
에탄올 500 mL 중의 아연 분말 130.0 g의 슬러리에 아세트산 5.0 g을 첨가하 였다. 에탄올 100 mL 중의 상기 제조한 조질의 10-요오도-11-(노나플루오로부틸)-1-운데칸올 230.0 g의 용액을 1 시간에 걸쳐 교반하면서 적가하였다. 이어서, 반응 혼합물을 50 ℃에서 4 시간 동안 가열하였다. 혼합물을 여과하고, 여액을 점성의 담황색 액체로 농축시켰다. 이 액체를 여러 부분으로 나누어 벌브 대 벌브 증류함으로써, 무색 고체로서 11-(노나플루오로부틸)-1-운데칸올 97.3 g을 수득하였다 (0.05 torr (7 Pa)에서 비점 160 내지 200 ℃).
11-(노나플루오로부틸)-1-운데칸올 19.52 g 및 48 중량% 브롬화수소산 200 mL의 혼합물에 진한 황산 20 mL를 서서히 첨가하였다. 반응 혼합물을 100 ℃에서 24 시간 동안 가열한 후에, 물 1 L에 부었다. 혼합물을 헥산으로 추출하고, 유기상을 모아서 포화 중탄산나트륨 수용액으로 세척하고, 무수 황산마그네슘상에서 건조시켰다. 용액을 호박색 액체로 농축시키고, 실리카 3 인치를 통해 헥산으로 용출하였다. 용리액을 농축시켜 수득한 밝은 호박색 액체를 벌브 대 벌브 증류하여 무색 투명한 액체로서 1-브로모-11-(노나플루오로부틸)운데칸 19.82 g을 수득하였다 (0.06 torr (8 Pa)에서 비점 120 내지 170 ℃).
1-브로모-11-(노나플루오로부틸)운데칸 15.03 g 및 트리에틸 포스파이트 15.00 g의 혼합물을 150 ℃에서 가열하였다. 18 시간 후에, 트리에틸 포스파이트 9.00 g을 더 첨가하고, 24 시간 동안 계속 가열하였다. 디에틸 에틸포스포네이트 및 다른 휘발성 물질을 증류하여 제거하였다 (0.05 torr (7 Pa)에서 30 내지 50 ℃). 농축물을 벌브 대 벌브 증류하여 무색 투명한 액체로서 1-(디에틸포스포노)-11-(노나플루오로부틸)운데칸 16.07 g을 수득하였다 (0.05 torr (7 Pa)에서 170 내 지 200 ℃).
디클로로메탄 40 mL 중의 1-(디에틸포스포노)-11-(노나플루오로부틸)운데칸 15.23 g의 용액에 브로모트리메틸실란 11.50 g을 첨가하였다. 24 시간 후에 실온에서, 용액을 담황색 액체로 농축시키고, 중간체인 실릴포스포네이트 에스테르를 메탄올 200 mL에 용해시켰다. 생성된 용액을 실온에서 30 분 동안 교반한 후에, 농축시켜 백색 고체를 수득하였다. 메탄올 중에 용해시키고 농축하는 과정을 2회 반복하고, 헵탄으로부터 조생성물을 2회 재결정하여 무색 판으로서 1-포스포노-11-(노나플루오로부틸)운데칸 (CF3(CF2)3(CH2)11PO
3H2) 10.85 g을 수득하였다 (융점 93 내지 96 ℃).
실시예 3
이 실시예는 CF3(CF2)7(CH2)11PO3H2
의 제조를 기재한다.
아세토니트릴 100 mL 및 물 40 mL의 혼합물 중의 퍼플루오로옥틸 요오다이드 41.10 g 및 10-운데켄-1-올 11.92 g의 용액에 중탄산나트륨 6.89 g 및 나트륨 디티오나이트 13.58 g의 혼합물을 조금씩 첨가하면서 교반하였다. 반응 혼합물을 실온에서 밤새 교반하고, 1 N 염화수소산으로 산성화시켰다. 혼합물을 디에틸 에테르로 추출하고, 유기상을 모아서 포화 중탄산나트륨 수용액 및 이어서 염수로 세척한 후에, 무수 황산마그네슘상에서 건조시켰다. 농축시켜 백색 고체로서 조질의 10-요오도-11-(헵타데카플루오로옥틸)-1-운데칸올 43.2 g을 수득하고, 더 정제하지 않고 사용하였다.
에탄올 150 mL 중의 아연 분말 19.6 g의 슬러리에 아세트산 4.0 g을 첨가하였다. 에탄올 50 mL 중의 상기 제조한 조질의 10-요오도-11-(헵타데카플루오로옥틸)-1-운데칸올의 용액을 1 시간에 걸쳐 교반하면서 적가하고, 반응 혼합물을 50 ℃에서 4 시간 동안 가열하였다. 혼합물을 여과하고, 여액을 농축시켜 연질의 백색 고체 대략 45 g을 수득하고, 이 조질의 11-(헵타데카플루오로옥틸)-1-운데칸올을 더 정제하지 않고 사용하였다.
조질의 11-(헵타데카플루오로옥틸)-1-운데칸올 29.0 g 및 48 중량% 브롬화수소산 250 mL의 혼합물에 진한 황산 25 mL를 서서히 첨가하였다. 반응 혼합물을 100 ℃에서 18 시간 동안 가열한 후에, 물 1 L에 부었다. 혼합물을 헥산으로 추출하고, 유기상을 모아서 포화 중탄산나트륨 수용액으로 세척하고, 무수 황산마그네슘상에서 건조시켰다. 용액을 암색 액체로 농축시키고, 실리카 3 인치를 통해 헥산으로 용출하였다. 용리액을 농축시켜 거의 백색인 고체로서 조질의 1-브로모-11-(헵타데카플루오로옥틸)운데칸 20.2 g을 수득하고, 더 정제하지 않고 사용하였다.
1-브로모-11-(헵타데카플루오로옥틸)운데칸 5.23 g 및 트리에틸 포스파이트 4.2 g의 혼합물을 150 ℃에서 가열하였다. 18 시간 후에, 반응 혼합물로부터 디에틸 에틸포스포네이트 및 다른 휘발성 물질을 증류하여 제거하였다 (0.05 torr (7 Pa)에서 30 내지 50 ℃). 농축물을 추가의 트리에틸 포스파이트 2.0 g과 혼합하고, 이 혼합물을 150 ℃에서 가열하였다. 3 시간 후에, 휘발성 물질을 다시 증류하고, 조질의 1-디에틸포스포노-11-(헵타데카플루오로옥틸)운데칸을 디클로로메탄 10 mL 중에 용해시켰다. 이 용액에 브로모트리메틸실란 3.1 g을 첨가하였다. 18 시간 후에 실온에서, 용액을 거의 무색인 액체로 농축시키고, 중간체인 실릴포스포네이트 에스테르를 메탄올 200 mL에 용해시켰다. 생성된 용액을 실온에서 3 시간 동안 교반하고, 0 ℃로 냉각시켰다. 조생성물을 여과수집하고, 메탄올로부터 재결정하여 백색 결정으로서 1-포스포노-11-(헵타데카플루오로옥틸)운데칸 (CF3(CF2)7(CH2)11PO3H2) 2.32 g을 수득하였다 (융점 115 내지 117 ℃).
실시예 4
이 실시예는 CF3(CF2)3(CH2)22PO3H2
의 제조를 기재한다.
테트라히드로푸란 50 mL 중의 21-도코센산 5.08 g의 용액을 0 ℃의 테트라히드로푸란 100 mL 중의 수소화알루미늄리튬 0.90 g의 슬러리에 적가하면서 교반하고, 반응 혼합물을 실온에서 밤새 교반하였다. 에틸 아세테이트 5 mL에 이어서 2 N 수산화나트륨 수용액 30 mL를 첨가하여 과량의 수소화알루미늄리튬을 켄칭하였다. 리튬 염을 점성의 백색 덩어리로서 분리하고, 상청액을 분리 깔때기로 옮겼다. 침전된 염을 디에틸 에테르 50 mL 2 부분으로 추출하고, 유기 용액을 모아서 물 100 mL로 세척하였다. 혼탁한 수성상을 1 N 염화수소산 수용액으로 산성화하고, 디에틸 에테르 50 mL 2 부분으로 추출하였다. 유기상을 모아서 염수로 세척하고, 무수 황산마그네슘상에서 건조시켰다. 여과 및 농축시켜 백색 고체로서 21-도코센-1-올 4.40 g (융점 62 내지 64 ℃)을 수득하고, 더 정제하지 않고 사용하였다.
21-도코센-1-올 4.00 g, 퍼플루오로부틸 요오다이드 10.0 g, 2,2'-아조비스이소부티로니트릴 0.10 g의 혼합물을 탈기하고, 70 ℃ 질소 분위기하에서 18 시간 동안 가열하였다. 혼합물을 농축시켜 수득한 밝은 황갈색 고체를 에탄올 20 mL 중에 용해시켰다. 이 용액을 아세트산 10 액적을 함유하는 에탄올 50 mL 중의 아연 분말 5.0 g의 교반된 슬러리에 첨가하였다. 혼합물을 50 ℃에서 3 시간 동안 가열하고, 여과하였다. 여액을 농축시켜 백색 고체를 수득하였다. 조생성물을 헵탄으로부터 재결정하여 회백색 고체 6.96 g을 수득하였다. 헥산 및 디에틸 에테르 1:1 혼합물로 용출하는 실리카 상의 컬럼 크로마토그래피로 더 정제하여 백색 고체 1.73 g을 수득하였다. 생성물의 1H NMR 스펙트럼은 22-(노나플루오로부틸)-1-도코산올 및 22-(노나플루오로부틸)-21-도코센-1-올의 대략 9:1 혼합물을 가리켰다. 생성물을 헥산 및 에탄올의 1:1 혼합물 중에 용해시키고, 탄소상의 5 중량% 팔라듐 100 mg을 첨가하고, 이 혼합물을 파 (Parr) 수소첨가기상에서 18 시간 동안 수소 50 psi (350 kPa)의 압력하에서 유지하였다. 여과 및 농축시켜 백색 고체로서 22-(노나플루오로부틸)-1-도코산올 1.69 g을 수득하고, 더 정제하지 않고 사용하였다.
22-(노나플루오로부틸)-1-도코산올 1.00 g 및 48 중량% 브롬화수소산 30 mL의 혼합물에 진한 황산 3 mL를 서서히 첨가하고, 반응 혼합물을 100 ℃에서 24 시간 동안 가열하였다. 혼합물을 실온으로 냉각시키고, 고체 생성물을 여과수집하고, 헥산 중에 용해시켰다. 여액을 헥산으로 1회 추출하고, 헥산 용액을 모아서 포화 중탄산나트륨 수용액 및 염수로 세척하고, 무수 황산마그네슘상에서 건조시켰다. 여과 및 농축시켜 회백색 고체로서 1-브로모-22-(노나플루오로부틸)도코산 1.03 g을 수득하고, 더 정제하지 않고 사용하였다.
1-브로모-22-(노나플루오로부틸)도코산 0.98 g 및 트리에틸 포스파이트 4.00 g의 혼합물을 150 ℃로 가열하였다. 18 시간 후에, 디에틸 에틸포스포네이트 및 다른 휘발성 물질을 증류시켜 (0.05 torr (7 Pa)에서 비점 30 내지 50 ℃), 회백색 고체로서 1-(디에틸포스포노)-22-(노나플루오로부틸)도코산 1.09 g을 수득하고, 더 정제하지 않고 사용하였다.
디클로로메탄 10 mL 중의 1-(디에틸포스포노)-22-(노나플루오로부틸)도코산 1.05 g의 용액에 브로모트리메틸실란 0.61 g을 첨가하였다. 18 시간 후에 실온에서, 용액을 농축시켜 수득한 베이지색 그리스에 메탄올 30 mL를 첨가하였다. 백색 고체가 형성되자, 생성된 혼합물을 실온에서 30 분 동안 교반하였다. 감압하에서 용매를 제거하여 수득한 백색 고체를 메탄올 20 mL를 더 첨가하여 30 분 동안 슬러리하였다. 다시 용매를 제거하여 백색 고체를 수득하고, 메탄올로부터 조생성물을 재결정하여 백색 결정으로서 1-포스포노-22-(노나플루오로부틸)도코산 (CF3(CF2)3(CH2)22PO3H2) 0.61 g을 수득하였다 (융점 106 내지 108 ℃).
실시예 5
이 실시예는 기질 상에 자가조립된 필름의 제조 및 평가를 기재한다.
크롬, 알루미늄, 구리 및 니켈의 진공 증착 500 nm 두께 필름으로 코팅한 4- 인치 직경 규소 웨이퍼를 웨이퍼넷 (WaferNet, 미국 캘리포니아주 산 호세 소재)로부터 입수하였다. 이들을 ¼로 절단하고, 절편들을 소형 시트 금속 상자 (너비 13 cm×깊이 14 cm×높이 15 cm)내에 자외선 램프 (5 인치×5 인치 정사각형 (12.5 cm×12.5 cm) 자외선 램프는 "UV 그리드 램프 (UV GRID LAMP)"이라는 상표명으로 BHK (미국 캘리포니아주 클레어몬트 소재)로부터 입수, 모델명 88-9102-02)가 내장되어 램프가 상자의 바닥으로부터 8 cm 위에 걸려 있는 장치내에서 5 분 동안 자외선 및 오존에 노출시켰다. 소형 랩 잭을 사용하여 손질할 규소 웨이퍼 절편을 램프에 물리적으로 접촉하지 않으면서 가급적 자외선 램프에 가까이 위치시켰다. 상자의 전면에는, 상단에 경첩이 달린 문이 있어서 샘플을 삽입 또는 제거할 수 있었다. 상자의 측면에는 산소 공급을 위한 작은 구멍이 있어서 대략 1 내지 5 표준 L/분의 속도로 상자에 산소가 공급되었다.
자외선/오존 손질한 구리-, 니켈- 및 알루미늄-코팅된 규소 웨이퍼의 ¼-웨이퍼 절편을 상기와 같이 변성 에탄올 중의 0.1 중량% 플루오르화 포스폰산의 용액에 1 시간 동안 액침시켜 코팅한 후에, 새로운 무수 에탄올로 세정하고, 질소 스트림하에서 건조시켰다. 비디오 접촉각 분석기 (상표명 "VCA-2500XE", AST 프로덕츠 (AST Products, 미국 매사추세츠주 빌레리카 소재)를 사용하여 코팅된 웨이퍼 샘플의 금속 코팅면상에서 물 및 헥사데칸에 대해 정적, 전진 및 후퇴 접촉각을 측정하였다.
자외선/오존 손질한 크롬-코팅된 규소 웨이퍼의 ¼-웨이퍼 절편을, 상기와 같이 변성 에탄올 중의 0.1 중량% 플루오르화 포스폰산의 용액 중에서 스핀 코팅 (즉, 300 회전/초로 5 초 동안, 및 이어서 2000 회전/분으로 15 초 동안)하고, 코팅된 웨이퍼를 150 ℃의 진공 핫플레이트에서 3 분 동안 가열한 후에, 새로운 무수 에탄올로 세정하고, 질소 스트림하에서 건조시켰다.
물 정적 각도는 5 ㎕ 액적을 사용하여 측정하는 반면, 전진 및 후퇴 각도는 1 내지 2 ㎕ 액적을 사용하여 측정하였다. 이하의 표 1 내지 표 4에 보고된 접촉각 측정치는 반대면에서 3개 이상의 액적의 측정치의 평균을 나타낸다. 접촉각 측정치의 불확실도는 정적 및 전진 측정에서는 +/-1도, 후퇴 측정에서는 +/-2도로 추정되었다. 탈염수 (저항≥18.2 ㏁) 및 무수 헥사데칸을 사용하여 접촉각을 측정하였다. 결과를 이하의 표 1 내지 표 4에 나타냈다.
표 1에 크롬-코팅된 규소 웨이퍼상에서 물 및 헥사데칸의 접촉각의 측정치를 보고하였다.
표 2에 알루미늄-코팅된 규소 웨이퍼상에서 물 및 헥사데칸의 접촉각의 측정치를 보고하였다.
표 3에 구리-코팅된 규소 웨이퍼상에서 물 및 헥사데칸의 접촉각의 측정치를 보고하였다.
표 4에 니켈-코팅된 규소 웨이퍼상에서 물 및 헥사데칸의 접촉각의 측정치를 보고하였다.
Claims (12)
- 표면이 있는 기질을 제공하는 단계, 및하기 화학식 I의 플루오르화 포스폰산 화합물을 기질 표면에 적용하는 단계를 포함하는, 물품 표면의 처리 방법.<화학식 I>상기 식에서,R1은 5 내지 21개의 탄소 원자를 갖는 직쇄 알킬렌기이며, 이 때 메틸렌 잔기는 메틸렌쇄 중의 단일 부위 또는 다수의 부위에서 산소 원자로 대체될 수 있고;R2는 4 내지 10개의 탄소 원자를 갖는 퍼플루오로알킬기이고;R3은 수소, 알칼리 금속 양이온 또는 1 내지 6개의 탄소 원자를 갖는 알킬기이고;M은 수소 또는 알칼리 금속 양이온이되,단, R1이 비치환된 직쇄 알킬렌기이면 R1 및 R2의 탄소 원자수의 합은 10 이상이다.
- 하기 화학식 I의 플루오르화 포스폰산 화합물의 적어도 일부의 단층과 밀접하게 접촉된 표면을 갖는 기질을 포함하는 물품.<화학식 I>상기 식에서,R1은 5 내지 21개의 탄소 원자를 갖는 직쇄 알킬렌기이며, 이 때 메틸렌 잔기는 메틸렌쇄 중의 단일 부위 또는 다수의 부위에서 산소 원자로 대체될 수 있고;R2는 4 내지 10개의 탄소 원자를 갖는 퍼플루오로알킬기이고;R3은 수소, 알칼리 금속 양이온 또는 1 내지 6개의 탄소 원자를 갖는 알킬기이고;M은 수소 또는 알칼리 금속 양이온이되,단, R1이 비치환된 직쇄 알킬렌기이면 R1 및 R2의 탄소 원자수의 합은 10 이상이다.
- 삭제
- 삭제
- 삭제
- 삭제
- 삭제
- 삭제
- 삭제
- 삭제
- 삭제
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US10/161,258 | 2002-05-31 | ||
US10/161,258 US6824882B2 (en) | 2002-05-31 | 2002-05-31 | Fluorinated phosphonic acids |
PCT/US2003/015686 WO2003102003A1 (en) | 2002-05-31 | 2003-05-20 | Fluorinated phosphonic acids |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
KR20050004254A KR20050004254A (ko) | 2005-01-12 |
KR100966660B1 true KR100966660B1 (ko) | 2010-06-30 |
Family
ID=29709753
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
KR1020047019311A KR100966660B1 (ko) | 2002-05-31 | 2003-05-20 | 플루오르화 포스폰산 |
Country Status (10)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US6824882B2 (ko) |
EP (1) | EP1509536B1 (ko) |
JP (1) | JP4317125B2 (ko) |
KR (1) | KR100966660B1 (ko) |
CN (1) | CN100369923C (ko) |
AT (1) | ATE404572T1 (ko) |
AU (1) | AU2003248533A1 (ko) |
CA (1) | CA2486165A1 (ko) |
DE (1) | DE60322889D1 (ko) |
WO (1) | WO2003102003A1 (ko) |
Families Citing this family (58)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US7815963B2 (en) | 1996-10-17 | 2010-10-19 | The Trustees Of Princeton University | Enhanced bonding layers on titanium materials |
US7396594B2 (en) * | 2002-06-24 | 2008-07-08 | The Trustees Of Princeton University | Carrier applied coating layers |
US7569285B2 (en) * | 1996-10-17 | 2009-08-04 | The Trustees Of Princeton University | Enhanced bonding layers on titanium materials |
US20060194008A1 (en) * | 1999-09-22 | 2006-08-31 | Princeton University | Devices with multiple surface functionality |
US20040090516A1 (en) * | 2002-09-09 | 2004-05-13 | Heidelberger Druckmaschinen Ag | Print substrate contacting element having an ink-repellent coating and method for coating a print substrate-contacting element |
US7678426B2 (en) * | 2003-08-21 | 2010-03-16 | 3M Innovative Properties Company | Perfluoropolyether amide-linked phosphonates, phosphates, and derivatives thereof |
US7189479B2 (en) * | 2003-08-21 | 2007-03-13 | 3M Innovative Properties Company | Phototool coating |
EP1533657B1 (en) * | 2003-11-21 | 2011-03-09 | Obducat AB | Multilayer nano imprint lithography |
US7148360B2 (en) * | 2004-01-30 | 2006-12-12 | 3M Innovative Properties Company | Perfluoropolyether benzotriazole compounds |
EP1718722A4 (en) | 2004-01-30 | 2012-08-08 | Du Pont | PRODUCTION PROCESSES AND SYSTEMS, COMPOSITIONS, TENSIDES, MONOMER UNITS, METAL COMPLEXES, PHOSPHATESTER, GLYCOLS, AQUEOUS FILM-FORMING FOAMS AND FOAM STABILIZERS |
EP1600811A1 (en) | 2004-05-28 | 2005-11-30 | Obducat AB | Modified metal molds for use in imprinting processes |
WO2005119360A1 (en) * | 2004-05-28 | 2005-12-15 | Obducat Ab | Modified metal mold for use in imprinting processes |
ATE378191T1 (de) * | 2004-07-16 | 2007-11-15 | Heidelberger Druckmasch Ag | Wiederverwendbare druckform |
JP4604743B2 (ja) * | 2005-02-01 | 2011-01-05 | セイコーエプソン株式会社 | 機能性基板の製造方法、機能性基板、微細パターンの形成方法、導電膜配線、電子光学装置および電子機器 |
JP4584754B2 (ja) * | 2005-04-06 | 2010-11-24 | 株式会社日立産機システム | ナノプリント金型、その製造方法及びこの金型を用いたナノプリント装置並びにナノプリント方法 |
EP1998833B1 (en) * | 2006-03-24 | 2012-12-26 | 3M Innovative Properties Company | Medicinal formulation container with a treated metal surface |
US7824755B2 (en) * | 2006-06-29 | 2010-11-02 | 3M Innovative Properties Company | Fluorinated leveling agents |
WO2008024475A2 (en) * | 2006-08-24 | 2008-02-28 | Aculon, Inc. | Optical articles with thin hydrophobic layers |
JP2010502630A (ja) * | 2006-08-31 | 2010-01-28 | スリーエム イノベイティブ プロパティズ カンパニー | 結晶化性スペーサー基を有する側鎖フルオロケミカル |
US8048487B2 (en) * | 2006-11-15 | 2011-11-01 | Aculon, Inc. | Organometallic films, methods for applying organometallic films to substrates and substrates coated with such films |
ATE467611T1 (de) * | 2006-12-29 | 2010-05-15 | 3M Innovative Properties Co | Langkettige polymethylenhalidtelomere |
EP2167550B1 (en) | 2007-06-06 | 2012-05-23 | 3M Innovative Properties Company | Fluorinated compositions and surface treatments made therefrom |
US20090114618A1 (en) * | 2007-06-21 | 2009-05-07 | 3M Innovative Properties Company | Method of making hierarchical articles |
US20090041986A1 (en) * | 2007-06-21 | 2009-02-12 | 3M Innovative Properties Company | Method of making hierarchical articles |
US20080315459A1 (en) * | 2007-06-21 | 2008-12-25 | 3M Innovative Properties Company | Articles and methods for replication of microstructures and nanofeatures |
US8318656B2 (en) | 2007-07-03 | 2012-11-27 | E. I. Du Pont De Nemours And Company | Production processes and systems, compositions, surfactants, monomer units, metal complexes, phosphate esters, glycols, aqueous film forming foams, and foam stabilizers |
US8115920B2 (en) * | 2007-11-14 | 2012-02-14 | 3M Innovative Properties Company | Method of making microarrays |
US8071277B2 (en) * | 2007-12-21 | 2011-12-06 | 3M Innovative Properties Company | Method and system for fabricating three-dimensional structures with sub-micron and micron features |
BRPI0819558A2 (pt) * | 2007-12-31 | 2015-05-05 | 3M Innovative Properties Co | "método para aplicação de um material revestidor" |
JP5350733B2 (ja) * | 2008-09-30 | 2013-11-27 | 株式会社クレハ | ホスホン酸、ホスホン酸銅化合物、樹脂組成物及び積層体 |
US8658258B2 (en) * | 2008-10-21 | 2014-02-25 | Aculon, Inc. | Plasma treatment of substrates prior to the formation a self-assembled monolayer |
CN102301277B (zh) | 2008-12-05 | 2013-07-17 | 3M创新有限公司 | 使用非线性热聚合的三维制品 |
CN102333841B (zh) | 2008-12-18 | 2014-11-26 | 3M创新有限公司 | 使含烃地层与氟化磷酸酯和膦酸酯组合物接触的方法 |
JP5436882B2 (ja) * | 2009-02-17 | 2014-03-05 | 大東化成工業株式会社 | 撥水撥油性顔料およびそれを含有する化粧料 |
JP4506893B1 (ja) * | 2009-03-13 | 2010-07-21 | ユニマテック株式会社 | ポリフルオロアルキルホスホン酸およびその製造法 |
WO2010104065A1 (ja) * | 2009-03-13 | 2010-09-16 | ユニマテック株式会社 | ポリフルオロアルキルホスホン酸、その製造法およびそれを有効成分とする離型剤 |
JP4506894B1 (ja) * | 2009-03-13 | 2010-07-21 | ユニマテック株式会社 | 離型剤 |
JP4666093B2 (ja) | 2009-03-13 | 2011-04-06 | ユニマテック株式会社 | ポリフルオロアルキルホスホン酸エステルの製造法 |
JP4614007B2 (ja) * | 2009-06-05 | 2011-01-19 | ユニマテック株式会社 | 離型剤 |
CN102482304B (zh) * | 2009-07-10 | 2014-09-03 | 优迈特株式会社 | 多氟烷基膦酸酯和其制备方法 |
JP4626715B1 (ja) * | 2009-09-11 | 2011-02-09 | ユニマテック株式会社 | 離型剤 |
WO2011055609A1 (ja) * | 2009-11-04 | 2011-05-12 | ユニマテック株式会社 | ポリフルオロアルキルホスホン酸塩乳化剤およびこれを有効成分とする離型剤 |
JP4715958B2 (ja) * | 2009-11-04 | 2011-07-06 | ユニマテック株式会社 | ポリフルオロアルキルホスホン酸塩乳化剤 |
CN102597077B (zh) | 2009-11-10 | 2014-12-31 | 3M创新有限公司 | 制备聚交酯膜的方法 |
JP2011173959A (ja) * | 2010-02-23 | 2011-09-08 | Unimatec Co Ltd | 含フッ素ポリマーラテックスの製造法 |
JP5537745B2 (ja) * | 2010-12-23 | 2014-07-02 | ロレックス・ソシエテ・アノニム | 腕時計製造用構成部品の疎油性を高めるための組成物 |
JP6426470B2 (ja) | 2011-05-25 | 2018-11-21 | スリーエム イノベイティブ プロパティズ カンパニー | 光制御フィルム |
FR2990433A1 (fr) * | 2012-05-10 | 2013-11-15 | Surfactis Technologies | Compositions catanioniques de recouvrement de surface par des molecules phosphoniques et amines |
EP2722371B1 (en) * | 2012-10-16 | 2017-01-11 | Rohm and Haas Company | Fluoroalkyl phosphonate composition |
WO2016090254A1 (en) * | 2014-12-05 | 2016-06-09 | 3M Innovative Properties Company | Retroreflective elements with a monolayer-forming compound |
WO2016099952A1 (en) | 2014-12-18 | 2016-06-23 | 3M Innovative Properties Company | Fluorinated polymers comprising phosphonic moieties |
EP3192853B1 (fr) | 2016-01-15 | 2023-04-26 | Sikemia | Procede de traitement d'une surface pour l'obtention d'un revêtement oleophobe et/ou hydrophobe |
EP3478666B1 (en) | 2016-06-29 | 2020-07-29 | 3M Innovative Properties Company | Polymerizable ionic liquid compositions |
CN111936311A (zh) | 2018-04-17 | 2020-11-13 | 3M创新有限公司 | 导电膜 |
US20220033691A1 (en) | 2018-10-02 | 2022-02-03 | 3M Innovative Properties Company | Flexible Release Articles And Methods For Making Same |
WO2020128728A1 (en) | 2018-12-18 | 2020-06-25 | 3M Innovative Properties Company | Impervious coatings for making metal, metal oxide, and silicon oxide surfaces resistant to graffiti |
EP4140304A1 (en) * | 2019-05-31 | 2023-03-01 | Rolex S.A. | Composition for impregnating a substrate, in particular a watchstrap |
JP7454430B2 (ja) | 2020-04-02 | 2024-03-22 | 東ソー・ファインケム株式会社 | 含フッ素ホスホン酸の製造方法 |
Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
FR2616150A1 (fr) * | 1987-06-05 | 1988-12-09 | Atochem | Composes fluoro-phosphoniques et leur procede de preparation |
JPH08198975A (ja) * | 1995-01-26 | 1996-08-06 | Nippon Mektron Ltd | アクリル系エラストマ−加硫成形品 |
JPH08199034A (ja) * | 1995-01-26 | 1996-08-06 | Nippon Mektron Ltd | アクリル系エラストマ−組成物およびその加硫成形品 |
WO2000066667A1 (fr) * | 1999-04-30 | 2000-11-09 | Ascoforge Safe | Composition et procede pour la preparation de produits metalliques destines a etre faconnes par une operation mecanique de deformation plastique |
Family Cites Families (27)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US3145222A (en) | 1961-02-23 | 1964-08-18 | Du Pont | Addition of polyfluoroalkyl iodides to unsaturated compounds and products produced thereby |
US4094911A (en) | 1969-03-10 | 1978-06-13 | Minnesota Mining And Manufacturing Company | Poly(perfluoroalkylene oxide) derivatives |
US3937724A (en) | 1969-07-18 | 1976-02-10 | The United States Of America As Represented By The Secretary Of Agriculture | Organo-phosphorus compounds containing perfluoroalkyl radicals and their application to cellulosic textiles |
JPS5377015A (en) | 1976-12-16 | 1978-07-08 | Asahi Glass Co Ltd | Preparation of fluorine-containing phosphoric acid ester |
JPS60144377A (ja) | 1984-01-06 | 1985-07-30 | Daicel Chem Ind Ltd | 再剥離型粘着剤 |
US4736051A (en) | 1985-03-20 | 1988-04-05 | Kao Corporation | Process for the preparation of an alkali metal salt of a diester phosphoric acid |
US5011963A (en) | 1988-02-09 | 1991-04-30 | Matsushita Electric Ind., Co., Ltd. | Terminal perfluoroalkylsilane compounds |
US4877815A (en) * | 1989-02-17 | 1989-10-31 | E. I. Du Pont De Nemours And Company | Nucleating agents for thermoplastic resins |
US5219654A (en) | 1990-02-06 | 1993-06-15 | Nanofilm Corporation | Film forming composition and method for modifying surfaces with ultra thin films |
US5277788A (en) | 1990-10-01 | 1994-01-11 | Aluminum Company Of America | Twice-anodized aluminum article having an organo-phosphorus monolayer and process for making the article |
US5266650A (en) | 1990-10-11 | 1993-11-30 | Minnesota Mining And Manufacturing Company | Curing fluorocarbon elastomers |
US5384374A (en) | 1991-01-11 | 1995-01-24 | Minnesota Mining And Manufacturing Company | Curing fluorocarbon elastomers |
US5162292A (en) * | 1991-05-06 | 1992-11-10 | Eastman Kodak Company | Slipping layer containing a phosphonic acid derivative for dye-donor element used in thermal dye transfer |
US5178916A (en) | 1991-06-21 | 1993-01-12 | At&T Bell Laboratories | Process for making corrosion-resistant articles |
DE4300857A1 (de) | 1993-01-15 | 1994-07-21 | Basf Magnetics Gmbh | Magnetisches Aufzeichnungsmedium |
JP3543460B2 (ja) | 1995-12-08 | 2004-07-14 | Nok株式会社 | オイルフィルターガスケット成形用活性ハロゲン含有アクリルゴム組成物 |
US5766698A (en) | 1996-11-25 | 1998-06-16 | Nanofilm Corporation | Method for modifying surfaces with ultra thin films |
US5851674A (en) | 1997-07-30 | 1998-12-22 | Minnesota Mining And Manufacturing Company | Antisoiling coatings for antireflective surfaces and methods of preparation |
DE59706352D1 (de) * | 1997-11-06 | 2002-03-21 | Max Planck Gesellschaft | Selbstorganisierende beschichtungen |
US6210840B1 (en) | 1997-12-02 | 2001-04-03 | Denso Corporation | Flame-retardant electrolytic solution and nonaqueous secondary battery containing the same |
JP4652567B2 (ja) | 1998-01-27 | 2011-03-16 | スリーエム カンパニー | フルオロケミカルベンゾトリアゾール |
US6277485B1 (en) | 1998-01-27 | 2001-08-21 | 3M Innovative Properties Company | Antisoiling coatings for antireflective surfaces and methods of preparation |
US6063730A (en) * | 1998-08-19 | 2000-05-16 | Eastman Kodak Company | Reusable donor layer containing dye wells for continuous tone thermal printing |
CA2348544A1 (en) | 1998-11-16 | 2000-05-25 | E.I. Du Pont De Nemours And Company | Derivatized metallic surfaces, composites of functionalized polymers with such metallic surfaces and processes for formation thereof |
JP4855616B2 (ja) | 1999-10-27 | 2012-01-18 | スリーエム イノベイティブ プロパティズ カンパニー | フルオロケミカルスルホンアミド界面活性剤 |
US6380101B1 (en) * | 2000-04-18 | 2002-04-30 | International Business Machines Corporation | Method of forming patterned indium zinc oxide and indium tin oxide films via microcontact printing and uses thereof |
US6632872B1 (en) | 2000-09-19 | 2003-10-14 | 3M Innovative Properties Company | Adhesive compositions including self-assembling molecules, adhesives, articles, and methods |
-
2002
- 2002-05-31 US US10/161,258 patent/US6824882B2/en not_active Expired - Fee Related
-
2003
- 2003-05-20 AT AT03756186T patent/ATE404572T1/de not_active IP Right Cessation
- 2003-05-20 WO PCT/US2003/015686 patent/WO2003102003A1/en active Application Filing
- 2003-05-20 EP EP20030756186 patent/EP1509536B1/en not_active Expired - Lifetime
- 2003-05-20 DE DE60322889T patent/DE60322889D1/de not_active Expired - Lifetime
- 2003-05-20 CA CA 2486165 patent/CA2486165A1/en not_active Abandoned
- 2003-05-20 JP JP2004509694A patent/JP4317125B2/ja not_active Expired - Fee Related
- 2003-05-20 CN CNB038123363A patent/CN100369923C/zh not_active Expired - Fee Related
- 2003-05-20 AU AU2003248533A patent/AU2003248533A1/en not_active Abandoned
- 2003-05-20 KR KR1020047019311A patent/KR100966660B1/ko not_active IP Right Cessation
Patent Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
FR2616150A1 (fr) * | 1987-06-05 | 1988-12-09 | Atochem | Composes fluoro-phosphoniques et leur procede de preparation |
JPH08198975A (ja) * | 1995-01-26 | 1996-08-06 | Nippon Mektron Ltd | アクリル系エラストマ−加硫成形品 |
JPH08199034A (ja) * | 1995-01-26 | 1996-08-06 | Nippon Mektron Ltd | アクリル系エラストマ−組成物およびその加硫成形品 |
WO2000066667A1 (fr) * | 1999-04-30 | 2000-11-09 | Ascoforge Safe | Composition et procede pour la preparation de produits metalliques destines a etre faconnes par une operation mecanique de deformation plastique |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
AU2003248533A1 (en) | 2003-12-19 |
EP1509536B1 (en) | 2008-08-13 |
CA2486165A1 (en) | 2003-12-11 |
KR20050004254A (ko) | 2005-01-12 |
CN1656108A (zh) | 2005-08-17 |
ATE404572T1 (de) | 2008-08-15 |
EP1509536A1 (en) | 2005-03-02 |
DE60322889D1 (de) | 2008-09-25 |
US20030228469A1 (en) | 2003-12-11 |
JP2005528446A (ja) | 2005-09-22 |
CN100369923C (zh) | 2008-02-20 |
JP4317125B2 (ja) | 2009-08-19 |
US6824882B2 (en) | 2004-11-30 |
WO2003102003A1 (en) | 2003-12-11 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
KR100966660B1 (ko) | 플루오르화 포스폰산 | |
JP5524050B2 (ja) | 青銅の腐食保護 | |
JP7151711B2 (ja) | 含フッ素エーテル化合物、含フッ素エーテル組成物、コーティング液、物品およびその製造方法 | |
US5455072A (en) | Initiation and bonding of diamond and other thin films | |
JP7001097B2 (ja) | 含フッ素エーテル化合物、含フッ素エーテル組成物、コーティング液、物品およびその製造方法 | |
EP1735289A1 (en) | Perfluoropolyether benzotriazole derivatives and use thereof as coatings | |
CN103038390A (zh) | 金属膜形成方法及具有金属膜的制品 | |
JP2014504920A (ja) | 腕時計製造用構成部品の疎油性を高めるための組成物 | |
CA1039591A (en) | Treated substrate for the formation of drop-wise condensates and the process for preparing same | |
JPWO2019039226A1 (ja) | 含フッ素エーテル化合物、含フッ素エーテル組成物、コーティング液、物品およびその製造方法 | |
JP2009541403A (ja) | フッ素系界面活性剤 | |
CN111051383A (zh) | 含氟醚化合物、组合物及物品 | |
Phan et al. | Synthesis and characterization of decyl phosphonic acid, applications in emulsion polymerization and anti-corrosion coating | |
WO1998040169A1 (en) | Methods for making fluorinated surface modifying agents, methods of using same and products made using same | |
CN102686561B (zh) | 氟化的含亚芳基化合物、方法以及由其制得的聚合物 | |
JP6727643B2 (ja) | 化合物、表面処理剤、及び表面処理方法 | |
JP3137440B2 (ja) | 6−パーフルオロアルキルアニリノ−1,3,5,−トリアジン−2,4−ジチオ−ルまたはその金属塩およびそれらの製造法 | |
WO2020241498A1 (ja) | 発光性ユウロピウム錯体 | |
JP6917024B2 (ja) | 含フッ素ジオール/トリアジン誘導体コンポジット | |
JP2774765B2 (ja) | 溶剤の組成物 | |
JP6893443B2 (ja) | フラーレン誘導体および潤滑剤 | |
JP3528212B2 (ja) | 芳香族化合物 | |
WO2022189646A1 (en) | Triazine silane compound and its usage as adhesion promotor | |
FR2778846A1 (fr) | Procede de fixation et/ou de cristallisation de macromolecules biologiques sur des nanotubes de carbone et ses applications | |
WO2018052719A1 (en) | Aqueous protective coating composition for chromium surfaces |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A201 | Request for examination | ||
E701 | Decision to grant or registration of patent right | ||
GRNT | Written decision to grant | ||
LAPS | Lapse due to unpaid annual fee |