KR100493498B1 - 디스아조안료조성물및인쇄잉크 - Google Patents

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Abstract

잉크나 도료에 사용하는 경우에, 고유동성과 고점성을 아울러 갖는 디스아조 안료를 제공할 목적으로 완성된 디스아조 안료 조성물은 (1) 디스아조 안료, (2) 수용성 그룹을 갖는 비대칭형 디스아조 화합물 및 (3) 수소 결합성 치환 그룹을 갖는 비대칭성 디스아조 화합물을 함유한다.

Description

디스아조 안료 조성물 및 인쇄 잉크
본 발명은 디스아조 안료 조성물에 관한 것이며, 보다 상세하게는 유동성 및 점성이 우수한 잉크 및 도료를 조제할 수 있는 디스아조 안료 조성물 및 이러한 디스아조 안료 조성물을 함유하여 이루어진 인쇄 잉크에 관한 것이다.
종래부터 디스아조 안료를 함유하는 인쇄 잉크와 도료 등의 유동성 및 투명성을 개선시키는 방법으로서, 예를 들면, 일본 특허공보 제(소)45-11026호에는 디스아조 안료에 이들의 설폰산 화합물을 혼합하는 방법이 기재되어 있으며, 미국 특허 제3,759,731호에는 커플링 성분으로서 카복실산 그룹 및/또는 설폰산 그룹을 갖는 극성 커플링 성분과 비극성 커플링 성분의 혼합물을 사용하여 이루어진 디스아조 안료를 사용하는 방법이 기재되어 있으며, 미국 특허 제4,894,094호, 제4,981,489호 및 일본 공개특허공보 제(소)63-178169호에는 극성 커플링 성분과 비극성 커플링 성분으로 이루어진 비대칭형 디스아조 안료 조성물을 사용하는 방법이 각각 기재되어 있다.
비대칭형 디스아조 안료는 미국 특허 제4,894,094호, 제4,981,489호 및 일본 공개특허공보 제(소)63-178169호에 선택적으로 제조하는 방법이 개시되어 있으며, 그 이전의 디스아조 안료의 제법으로는 미국 특허 제3,759,731호에 개시된 바와 같이, 카복실산 그룹 및/또는 설폰산 그룹을 갖는 아세토아세트아닐라이드의 대칭형 디스아조 안료와 통상적인 대칭형 디스아조 안료의 혼합물을 제조한다.
또한, 디스아조 안료의 내열성(투명성)이나 착색력을 개선시키는 방법으로서 수소 결합성 치환 그룹을 갖는 커플링 성분을 통상적인 커플링 성분에 혼합하여 디스아조 안료를 제조하는 방법, 예를 들면, 일본 특허공보 제(소)59-19150호에 카본아미드 그룹 등을 갖는 커플링 성분을 통상적인 커플링 성분에 혼합하여 디스아조 안료를 제조하는 방법, 일본 공개특허공보 제(소)55-89356호에 아세틸아미노 그룹 등을 갖는 커플링 성분을 통상적인 커플링 성분에 혼합하여 디스아조 안료를 제조하는 방법, 미국 특허 제4,665,163호에 벤즈이미다졸론 그룹 등을 갖는 커플링 성분을 통상적인 커플링 성분에 혼합하여 디스아조 안료를 제조하는 방법 및 일본 공개특허공보 제(소)62-197460호에 설폰아미드 그룹 등을 갖는 커플링 성분을 통상적인 커플링 성분에 혼합하여 디스아조 안료를 제조하는 방법 등이 개시되어 있다. 그러나, 이들 제조방법에 따른 디스아조 안료 조성물은 수소 결합성 치환 그룹을 갖는 아세토아세트아닐라이드의 대칭형 디스아조 안료와 통상적인 대칭형 디스아조 안료의 혼합물 또는 결정[참조 : 일본 특허공보 제(소)59-19150호]으로서 생각되며 비대칭형 디스아조 화합물의 제조방법이나 성능 효과는 공지되어 있지 않다.
종래의 기술에 따라 잉크나 도료의 유동성, 내열성, 착색력 등은 개별적으로 해결되고 있다. 특히, 최근에 인쇄나 도포의 고속화에 따라 잉크나 도료의 유동성은 현저하게 개선되었지만, 이러한 유동성의 개선이 한편으로는 잉크나 도료의 점성 저하를 일으킨다. 점성 저하에 수반하여, 예를 들면, 유성 잉크의 점성이 낮으면 망점이 비대해지고 인쇄물의 선명성이 손상되거나 인쇄할 때에 미스팅(misting)이라는 잉크의 비산 현상이 발생하는 실용상의 문제가 발생한다. 또한, 액상 잉크에서는 잉크의 침투나 확산에 따른 「번짐」이나 「흐름」이 발생하기 쉬워지는 실용상의 문제가 발생한다. 또한, 도료에서 적당한 막 두께를 유지하는 것이 곤란해지거나 도포할 때에 「새깅(sagging)」이 발생하기 쉬워지는 실용상의 문제가 발생한다.
이와 같이 높은 유동성을 유지하면서 일견 상반하는 성질인 높은 점성을 발현시키는 디스아조 안료는 지금까지 공지되어 있지 않다.
본 발명이 해결하려는 과제는 잉크나 도료에 사용하는 경우에, 고유동성과 고점성을 동시에 갖는 디스아조 안료 및 고유동성과 고점성을 동시에 갖는 인쇄 잉크를 제공하는 것이다.
본 발명자들은 고유동성과 고점성을 동시에 갖는 안료를 개발하려고 예의 연구한 결과, 하기 화학식 1 및 2의 2종류의 비대칭형 디스아조 화합물을 디스아조 안료에 혼합함으로써 수득되는 디스아조 안료 조성물 및 이러한 디스아조 안료 조성물을 함유하여 이루어진 인쇄 잉크가 이러한 성능을 만족시키는 것을 밝혀내고 본 발명을 완성하기에 이르렀다.
즉, 본 발명은 다음을 제공한다;
1. (1) 디스아조 안료, (2) 화학식 1의 디스아조 화합물 및 (3) 화학식 2의 디스아조 화합물을 함유하는 디스아조 안료 조성물.
[화학식 1]
[화학식 2]
위의 화학식 1 및 2에서,
X 및 Y는 각각 독립적으로 수소원자, 할로겐 원자, 탄소수 1 내지 4의 알킬 그룹, 탄소수 1 내지 4의 알콕실 그룹 또는 탄소수 1 내지 4의 알콕실 그룹을 갖는 알콕시카보닐 그룹이고, 단, X 및 Y는 동시에 수소원자가 아니며,
Z1은 저급 알킬 그룹, 저급 알콕실 그룹, 할로겐 원자, 하이드록실 그룹 및 저급 알콕시카보닐 그룹으로 이루어진 그룹으로부터 선택된 동일하거나 상이한 1 내지 4개의 치환체를 가질 수 있는 페닐 그룹 또는 나프틸 그룹이며,
Z2는 저급 알킬 그룹, 저급 알콕실 그룹, 할로겐 원자, 하이드록실 그룹 및 저급 알콕시카보닐 그룹으로 이루어진 그룹으로부터 선택된 동일하거나 상이한 1 내지 4개의 치환 그룹을 가질 수 있고 카복실산 그룹 및/또는 설폰산 그룹을 1 내지 4개 갖는 페닐 그룹 또는 나프틸 그룹이고, 단 Z2에서의 카복실산 그룹 및/또는 설폰산 그룹은 알칼리 토금속, 알루미늄, 마그네슘 및 아연으로 이루어진 그룹으로부터 선택된 하나 이상의 금속의 염일 수 있으며,
Z3은 저급 알킬 그룹, 저급 알콕실 그룹, 할로겐 원자, 하이드록실 그룹 및 저급 알콕시카보닐 그룹으로 이루어진 그룹으로부터 선택된 동일하거나 상이한 1 내지 4개의 치환 그룹을 가질 수 있고 카본아미드 그룹, 설폰아미드 그룹 및 아세트아미노 그룹으로 이루어진 그룹으로부터 선택된 치환 그룹을 1 내지 4개 갖는 페닐 그룹 또는 나프틸 그룹, 또는 벤즈이미다졸론 환 잔기 또는 프탈이미드 환 잔기이다.
2. 상기 1에 기재된 디스아조 안료 조성물을 함유하여 이루어짐을 특징으로 하는 인쇄 잉크.
본 발명의 디스아조 안료 조성물은 인쇄의 고속화에 대응할 수 있는 고유동성과 망점의 비대함이나 인쇄물의 선명성 상실이나 인쇄시의 미스팅이라는 잉크의 비산 현상이 발생하지 않는 점성이 높은 평판 잉크를 제공할 수 있다.
본 발명에서 사용하는 화학식 1의 디스아조 화합물은, 예를 들면, 하기의 제조방법에 따라 제조할 수 있다.
즉, 화학식 3의 방향족 디아민을 통상적인 방법에 따라 디아조화한 테트라조화물과 화학식 4의 아세토아세트아미드계 화합물(이하, 커플링 성분 A2라고 한다)을 반응시킨 다음, 당해 반응 생성물을 화학식 5의 아세토아세트아미드계 화합물(이하, 커플링 성분 A1이라고 한다)과 반응시켜 화학식 1의 디스아조 화합물을 제조하는 방법이다.
[화학식 3]
[화학식 4]
Figure pat00016
[화학식 5]
위의 화학식 3 내지 5에서,
X 및 Y는 각각 독립적으로 수소원자, 할로겐 원자, 탄소수 1 내지 4의 알킬 그룹, 탄소수 1 내지 4의 알콕실 그룹 또는 탄소수 1 내지 4의 알콕실 그룹을 갖는 알콕시카보닐 그룹이고, 단, X 및 Y는 동시에 수소원자가 아니며,
Z1은 저급 알킬 그룹, 저급 알콕실 그룹, 할로겐 원자, 하이드록실 그룹 및 저급 알콕시카보닐 그룹으로 이루어진 그룹으로부터 선택된 동일하거나 상이한 1 내지 4개의 치환 그룹을 가질 수 있는 페닐 그룹 또는 나프틸 그룹이며,
Z2는 저급 알킬 그룹, 저급 알콕실 그룹, 할로겐 원자, 하이드록실 그룹 및 저급 알콕시카보닐 그룹으로 이루어진 그룹으로부터 선택된 동일하거나 상이한 1 내지 4개의 치환 그룹을 가질 수 있고 카복실산 그룹 및/또는 설폰산 그룹을 1 내지 4개 갖는 페닐 그룹 또는 나프틸 그룹이고, 단 카복실산 그룹 및/또는 설폰산 그룹은 알칼리 토금속, 알루미늄, 마그네슘 및 아연으로 이루어진 그룹으로부터 선택된 하나 이상의 금속의 염일 수 있다.
또한, 본 발명에서 사용하는 화학식 1의 디스아조 화합물은 이의 카복실산 그룹 및/또는 설폰산 그룹이 알칼리 토금속, 알루미늄, 마그네슘 및 아연으로 이루어진 그룹으로부터 선택된 금속의 염일 수 있다.
상기한 금속염은, 예를 들면, 수득된 화학식 1의 디스아조 화합물의 현탁액에 알칼리 토금속, 알루미늄, 마그네슘 및 아연으로 이루어진 그룹으로부터 선택된 금속의 수용성 금속염, 바람직하게는 알루미늄의 수용성 금속염을 필요에 따라 수용액으로서 첨가하여 반응시킨 다음, 여과 수세하면 양호하다. 본 명세서에서 사용하는 수용성 금속염으로서, 예를 들면, 염화칼슘, 염화스트론튬, 질산스트론튬, 염화바륨, 염화알루미늄, 황산알루미늄(황산알루미나), 염화마그네슘, 염화아연 등을 들 수 있다.
이들 화학식 1의 디스아조 화합물 중에서 화학식 내의 X 및 Y가 각각 독립적으로 수소원자 또는 염소원자이고, 단, X 및 Y는 동시에 수소원자가 아니며, Z1이 1 또는 2개의 메틸 그룹 또는 메톡시 그룹을 가질 수 있는 페닐 그룹이고, Z2가 하이드록실 그룹 또는 염소원자를 가질 수 있고 카복실산 그룹 또는 설폰산 그룹(단, 이들은 알루미늄염일 수 있다)을 갖는 페닐 그룹인 디스아조 화합물이 바람직하며, 또한 이중에서도 화학식 내의 X 및 Y가 각각 독립적으로 수소원자 또는 염소원자이고, 단, X 및 Y는 동시에 수소원자가 아니며, Z1이 1 또는 2개의 메틸 그룹 또는 메톡시 그룹을 가질 수 있는 페닐 그룹이고, Z2가 하이드록실 그룹을 가질 수 있는 카복실산 그룹(단, 알루미늄염일 수 있다)을 갖는 페닐 그룹인 디스아조 화합물이 특히 바람직하다.
본 발명에서 사용하는 화학식 2의 디스아조 화합물은, 예를 들면, 하기의 제조방법에 따라 제조할 수 있다.
즉, 상기 화학식 3의 방향족 디아민을 통상적인 방법에 따라 디아조화하여 수득되는 테트라조화물과 화학식 6의 아세토아세트아미드계 화합물(이하, 커플링 성분 A3이라고 한다)을 반응시킨 다음, 당해 반응 생성물을 화학식 5의 아세토아세트아미드계 화합물(커플링 성분 A1)과 반응시켜 화학식 2의 디스아조 화합물을 제조하는 방법이다.
화학식 5
Figure pat00006
[화학식 6]
Figure pat00007
위의 화학식 5와 6에서,
Z1은 저급 알킬 그룹, 저급 알콕실 그룹, 할로겐 원자, 하이드록실 그룹 및 저급 알콕시카보닐 그룹으로 이루어진 그룹으로부터 선택된 동일하거나 상이한 1 내지 4개의 치환 그룹을 가질 수 있는 페닐 그룹 또는 나프틸 그룹이며,
Z3은 저급 알킬 그룹, 저급 알콕실 그룹, 할로겐 원자, 하이드록실 그룹 및 저급 알콕시카보닐 그룹으로 이루어진 그룹으로부터 선택된 동일하거나 상이한 1 내지 4개의 치환 그룹을 가질 수 있고 카본아미드 그룹, 설폰아미드 그룹 및 아세트아미노 그룹으로 이루어진 그룹으로부터 선택된 치환 그룹을 1 내지 4개 갖는 페닐 그룹, 또는 나프틸 그룹, 또는 벤즈이미다졸론 환 잔기 또는 프탈이미드 환 잔기이다.
이들 화학식 2의 디스아조 화합물 중에서 화학식 내의 X 및 Y가 각각 독립적으로 수소원자 또는 염소원자이고, 단, X 및 Y는 동시에 수소원자가 아니며, Z1이 1 또는 2개의 메틸 그룹 또는 메톡시 그룹을 가질 수 있는 페닐 그룹이고, Z3이 카바모일 그룹, 아세트아미노 그룹 또는 설파미드 그룹을 갖는 페닐 그룹, 또는 벤즈이미다졸론 환 잔기인 디스아조 화합물이 바람직하며, 또한 이중에서도 화학식 내의 X 및 Y가 각각 독립적으로 수소원자 또는 염소원자이고, 단, X 및 Y는 동시에 수소원자가 아니며, Z1이 1 또는 2개의 메틸 그룹 또는 메톡시 그룹을 가질 수 있는 페닐 그룹이고, Z3이 카바모일 그룹 또는 아세트아미노 그룹을 갖는 페닐 그룹인 디스아조 화합물이 특히 바람직하다.
화학식 3의 방향족 디아민으로서, 예를 들면, 3,3'-디클로로벤지딘, 3,3'-디브로모벤지딘, 2,2'-디클로로벤지딘, 3,3'-디메톡시벤지딘, 3,3'-디메틸벤지딘, 3,3',6,6'-테트라클로로벤지딘, 3,3'-디메톡시카보닐벤지딘 , 3,3'-디부틸벤지딘, 3,3'-디부톡시카보닐벤지딘 등을 들 수 있다.
화학식 4의 아세토아세트아미드계 화합물로서, 예를 들면, 2-아세토아세틸아미노벤젠설폰산, 3-아세토아세틸아미노벤젠설폰산, 4-아세토아세틸아미노벤젠설폰산, 2-아세토아세틸아미노-5-메틸벤젠설폰산, 2-아세토아세틸아미노-4-클로로-5-메틸벤젠설폰산, 2-아세토아세틸아미노-5-클로로-4-메틸벤젠설폰산, 4-아세토아세틸아미노-2,5-디클로로벤젠설폰산, 2-아세토아세틸아미노나프탈렌설폰산, 아세토아세틸아미노메탄설폰산, 아세토아세틸아미노에탄설폰산, 2-아세토아세틸아미노벤조산, 3-아세토아세틸아미노벤조산, 4-아세토아세틸아미노벤조산, 3-아세토아세틸아미노-4-클로로벤조산, 2-아세토아세틸아미노-5-브로모벤조산, 3-아세토아세틸아미노-4-메톡시벤조산, 2-아세토아세틸아미노-5-클로로벤조산, 2-아세토아세틸아미노테레프탈산, 3-아세토아세틸아미노이소프탈산, 4-아세토아세틸아미노-2-하이드록시벤조산, 5-아세토아세틸아미노-2-하이드록시벤조산 등을 들 수 있다.
화학식 5의 아세토아세트아미드계 화합물로서, 예를 들면, 아세토아세트아닐라이드, 아세토아세트-o-톨루이다이드, 아세토아세트-p-톨루이다이드, 아세토아세트-m-크실리다이드, 아세토아세트-o-클로로아닐라이드, 아세토아세트-p-브로모아닐라이드, 아세토아세트-o-아니시다이드, 아세토아세트-p-아니시다이드, 아세토아세트-4-클로로-2,5-디메톡시아닐라이드, 아세토아세트-4-에틸아닐라이드, 1-아세토아세틸아미노나프탈렌 등을 들 수 있다.
화학식 6의 아세토아세트아미드계 화합물로서, 예를 들면, 4-아세토아세틸아미노벤즈아미드, 4-아세토아세틸아미노벤젠설폰아미드, 3-아세토아세틸아미노-4-클로로벤즈아미드, 3-아세토아세틸아미노-4-메틸벤즈아미드, 4-아세토아세틸아미노아세토아닐라이드, 5-아세토아세틸아미노벤즈이미다졸론, 4-아세토아세틸아미노프탈이미드 등을 들 수 있다.
본 발명에서 사용하는 디스아조 안료로서, 예를 들면, 화학식 7의 디스아조 안료를 들 수 있다.
[화학식 7]
위의 화학식 7에서,
X 및 Y는 각각 독립적으로 수소원자, 할로겐 원자, 탄소수 1 내지 4의 알킬 그룹, 탄소수 1 내지 4의 알콕실 그룹 또는 탄소수 1 내지 4의 알콕실 그룹을 갖는 알콕시카보닐 그룹이고, 단, X 및 Y는 동시에 수소원자가 아니며,
Z1은 저급 알킬 그룹, 저급 알콕실 그룹, 할로겐 원자, 하이드록실 그룹 및 저급 알콕시카보닐 그룹으로 이루어진 그룹으로부터 선택된 동일하거나 상이한 1 내지 4개의 치환 그룹을 가질 수 있는 페닐 그룹 또는 나프틸 그룹이다.
또한 본 발명에서 사용하는 디스아조 안료를 C.I. 안료 번호로 예시하면 Y-12, Y-13, Y-14, Y-16, Y-17, Y-55, Y-57, Y-81, Y-83, Y-113, O-15, O-16 등을 열거할 수 있으며, 이중에서도 Y-12, Y-13, Y-14, Y-17, Y-55, Y-57 및 Y-81이 바람직하다.
디스아조 안료, 화학식 1의 디스아조 화합물 및 화학식 2의 디스아조 화합물을 함유하는 본 발명의 디스아조 안료 조성물은,
① 통상적인 방법에 따라 합성된 디스아조 안료에 화학식 1의 디스아조 화합물과 화학식 2의 디스아조 화합물을 혼합하고 습식 안료 또는 분말 안료로서 수득하는 방법,
② 잉크 또는 도료 등을 조제할 때에 각각 별도로 보존한 통상적인 방법에 따라 합성한 디스아조 안료, 화학식 1의 디스아조 화합물, 화학식 2의 디스아조 화합물을 순차적으로 혼합하는 방법 및
③ 디스아조 안료, 화학식 1의 디스아조 화합물 및 화학식 2의 디스아조 화합물을 동시에 합성하는 방법 등의 방법을 사용하여 제조할 수 있다.
③의 방법은 구체적으로 화학식 3의 방향족 디아민의 테트라조화물과 커플링 성분 A2와의 반응 중간물 및 화학식 3의 방향족 디아민의 테트라조화물과 커플링 성분 A3과의 반응 중간물을 혼합한 다음, 또는 혼합하지 않고 동시에 첨가하여 커플링 성분 A1과 반응시킴으로써 디스아조 안료 조성물을 수득하는 방법이다. 또한 화학식 3의 방향족 디아민의 테트라아조화물과 커플링 성분 A2와의 반응 중간물과, 커플링 성분 A1을 반응시켜 수득한 안료 조성물 및 화학식 3의 방향족 디아민의 테트라조화물과 커플링 성분 A3과의 반응 중간물과 커플링 성분 A1을 반응시켜 수득한 안료 조성물을 혼합하는 방법도 양호하다.
③의 방법에서 화학식 1의 디스아조 화합물과 화학식 2의 디스아조 화합물의 본 발명의 디스아조 안료 조성물의 고형분 중에서의 함유율이 하기의 범위로 되도록 커플링 성분 A2, 커플링 성분 A3 및 커플링 성분 A1의 사용 비율을 적절하게 선택하는 것이 필요하다.
상기 ① 내지 ③의 방법 중에서, 화학식 1의 디스아조 화합물과 화학식 2의 디스아조 화합물이 디스아조 안료 중에 양호하게 미분산되는 효과가 높은 디스아조 안료 조성물이 용이하게 수득되므로 ③의 방법이 특히 바람직하다.
본 발명의 디스아조 안료 조성물을 제조할 때에 디스아조 안료, 화학식 1의 디스아조 화합물 및 화학식 2의 디스아조 화합물로서, 공통 골격을 갖는 것들, 예를 들면, 화학식 내의 X, Y 및 Z1이 각각 동일하게 되도록 화학식 7의 디스아조 안료, 화학식 1의 디스아조 화합물 및 화학식 2의 디스아조 화합물을 선택하여 사용하면 분산이 용이하여 효과가 높으므로 바람직하다.
본 발명의 디스아조 안료 조성물 중의 디스아조 안료, 화학식 1의 디스아조 화합물 및 화학식 2의 디스아조 화합물의 함유 비율은 고유동성과 고점성을 동시에 갖는 디스아조 안료 조성물을 수득하는 데 중요하다. 본 발명의 디스아조 안료 조성물의 고형분 중의 화학식 1의 디스아조 화합물의 함유 비율은 0.5 내지 49중량%의 범위가 바람직하며, 원료 비용을 고려하면 1 내지 20중량%의 범위가 특히 바람직하다. 디스아조 안료 조성물 중의 화학식 1의 디스아조 화합물의 함유 비율이 0.5중량%보다 낮은 경우, 수득된 잉크 또는 도료의 유동성이 낮아지는 경향이 있고, 49중량%보다 높은 경우, 수득된 잉크 또는 도료의 점성이 낮아지는 경향이 있다. 또한, 본 발명의 디스아조 안료 조성물의 고형분 중의 화학식 2의 디스아조 화합물의 함유 비율은 0.5 내지 49중량%의 범위가 바람직하고, 원료 비용을 고려하면 1 내지 20중량%의 범위가 특히 바람직하다. 디스아조 안료 조성물 중의 화학식 2의 디스아조 화합물의 함유 비율이 0.5중량%보다 낮은 경우, 수득된 잉크 또는 도료의 점성이 낮아지는 경향이 있고, 49중량%보다 높은 경우, 수득된 잉크 또는 도료의 유동성이 낮아지는 경향이 있다.
본 발명의 디스아조 안료 조성물의 고형분 중의 화학식 1의 디스아조 화합물과 화학식 2의 디스아조 화합물의 총 함유 비율은 1 내지 49중량% 이하의 범위가 바람직하며, 이중에서도 4 내지 35중량%의 범위가 특히 바람직하다. 또한, 화학식 1의 디스아조 화합물과 화학식 2의 디스아조 화합물과의 중량비(화학식 1의 화합물/화학식 2의 화합물)는 20/80 내지 80/20의 범위가 바람직하며, 이중에서도 30/70 내지 75/25의 범위가 특히 바람직하다.
본 발명의 디스아조 안료 조성물은 인쇄 잉크용 비히클과 혼련하여 인쇄 잉크에 사용할 수 있다.
오프셋 잉크용 비히클은, 예를 들면, 로진 변성 페놀 수지, 석유 수지, 알키드 수지 또는 이들 건성유 변성 수지 등의 수지, 필요에 따라, 아마인유, 오동나무 기름, 대두유 등의 식물유 및 n-파라핀, 이소파라핀, 방향족, 나프텐, α -올레핀 등의 용제로 이루어진 것이며, 이들의 혼합 비율은 중량비로 수지:식물유:용제=20 내지 50부:0 내지 30부:10 내지 60부의 범위가 바람직하다.
본 발명의 디스아조 안료 조성물을 배합한 오프셋 잉크용 비히클은, 필요에 따라, 잉크 용제, 건조제, 균전(leveling) 개량제, 증점제 등의 공지된 첨가제를 적절하게 배합하여 인쇄 잉크로 만든다.
또한, 그라비어 잉크용 비히클은 검 로진, 나무 로진, 톨유 로진, 석회화 로진, 라임 로진, 로진 에스테르, 말레산 수지, 길소나이트, 담말, 셀락, 폴리아미드 수지, 비닐 수지, 니트로셀룰로스, 환화 고무, 염화 고무, 에틸셀룰로스, 아세트산 셀룰로스, 에틸렌-비닐 아세테이트 공중합체 수지, 우레탄 수지, 폴리에스테르 수지, 알키드 수지 등의 수지 혼합물 및 n-헥산, 톨루엔, 에탄올, 메탄올, 아세톤, 에틸 아세테이트, 에틸 락테이트, 셀로솔브, 디아세톤알콜, 클로로벤졸, 에틸에테르, 아세탈에틸에테르, 에틸 아세토아세테이트, 부틸 아세테이트 셀로솔브 등의 용제로 이루어진 것이며, 이들의 혼합 비율은 중량비로 수지 혼합물:용제=10 내지 50부:30 내지 80부의 범위가 바람직하다.
본 발명의 디스아조 안료 조성물을 배합한 그라비어 잉크용 비히클은, 필요에 따라, 황산바륨, 탄산바륨, 탄산칼슘, 석고, 알루미나화이트, 점토, 실리카, 실리카화이트, 활석, 규산칼슘, 침강성 탄산마그네슘 등의 체질 안료 이외에, 보조제로서 가소제, 자외선 방지제, 산화 방지제, 대전 방지제 등을 적절하게 배합하여 인쇄 잉크로 만든다.
실시예
하기에 실시예, 비교 실시예 및 시험예를 사용하여 본 발명을 보다 상세하게 설명하며 본 발명은 이들 실시예로 한정되지 않는다. 또한, 하기의 예에서 「부」 및 「%」는 특별히 단정하지 않는 한, 모두 중량 기준이다.
실시예 1
화학식
Figure pat00017
(1a)의 3,3'-디클로로벤지딘 150부에 상당하는 양의 3,3'-디클로로벤지딘 염산염 웨트(wet), 35% 염산 186부, 물 1500부 및 얼음 750부를 혼합 교반한 다음, 빙욕하에 아질산나트륨 86부 수용액을 가하여 3,3'-디클로로벤지딘의 테트라조 용액을 수득한다. 상기 3,3'-디클로로벤지딘의 테트라조 용액에 화학식
Figure pat00018
(2a)의 2-아세토아세틸아미노벤조산 16.5부를 첨가하고 3시간 동안 교반을 계속하여 반응 중간물(A1)을 수득한다.
별도로 화학식 1a의 3,3'-디클로로벤지딘 150부에 상당하는 양의 3,3'-디클로로벤지딘 염산염 웨트, 35% 염산 186부, 물 1500부 및 얼음 750부를 혼합 교반한 다음, 빙욕하에 아질산나트륨 86부의 수용액을 가하여 3,3'-디클로로벤지딘의 테트라조 용액을 수득한다. 이러한 3,3'-디클로로벤지딘의 테트라조 용액에 화학식
Figure pat00019
(3a)의 4-아세토아세틸아미노벤즈아미드 16.4부를 첨가하고 3시간 동안 교반을 계속하여 반응 중간물(B1)을 수득한다.
다음에, 화학식
Figure pat00020
(4a)의 아세토아세트아닐라이드 414.3부, 25% 수산화나트륨 수용액 546.4부 및 물 7200부를 혼합 교반하여 용해시킨 다음, 90% 아세트산 228부 및 물 1000부로 이루어진 묽은 아세트산을 1시간 동안에 걸쳐 적가하여 결정을 석출시켜 반응 중간물(C1)을 수득한다.
반응 중간물(A1)과 반응 중간물(B1)을 등속도로 적가할 수 있도록 공급 펌프를 설정하고 액체 온도를 5 내지 10℃로 조정하면서 3시간 동안에 걸쳐 이들을 반응 중간물(C1)에 적가하여 안료 슬러리를 수득한다. 적가 종료후에 다시 1시간 동안 교반을 계속한 다음, 80℃까지 가열한다. 반응 혼합물을 여과하고 여과한 잔사를 수세하여 본 발명의 디스아조 안료 조성물의 안료 웨트를 수득한다. 이후, 이것을 실시예 웨트 1로 한다.
또한, 실시예 웨트 1을 일부 건조시키고 FD/MS 측정을 한 결과, m/z=628, m/z=672 및 m/z=671에서 분자 이온에 기인하는 피크를 가지므로 실시예 웨트 1에서 화학식
Figure pat00021
(P-1)의 디스아조 안료(C.I. 안료 Y-12) , 화학식
Figure pat00022
(1-1)의 디스아조 화합물 [화학식 1의 화합물에 상당] 및 화학식
Figure pat00023
(2-1)의 디스아조 화합물[화학식 2의 화합물에 상당]이 생성되는 것을 확인할 수 있다. 또한, 수득된 디스아조 안료 조성물의 고형분 중의 화학식 1-1의 디스아조 화합물과 화학식 2-1의 디스아조 화합물의 함유 비율은 각각 6% 및 6%이다.
비교 실시예 1
화학식 1a의 3,3'-디클로로벤지딘 300부에 상당하는 양의 3,3'-디클로로벤지딘 염산염 웨트, 35% 염산 372부, 물 3000부 및 얼음 1500부를 혼합 교반한 다음, 빙욕하에 아질산나트륨 172부 수용액을 가하여 3,3'-디클로로벤지딘의 테트라조 용액을 수득한다. 이러한 3,3'-디클로로벤지딘의 테트라조 용액에 화학식 2a의 2-아세토아세틸아미노벤조산 16.5부를 첨가하고 3시간 동안 교반을 계속하여 반응 중간물(a1)을 수득한다.
화학식 4a의 아세토아세트아닐라이드 427.5부, 25% 수산화나트륨 수용액 546.4부 및 물 7200부를 혼합 교반하여 용해시킨 다음, 90% 아세트산 228부 및 물 1000부로 이루어진 묽은 아세트산을 1시간 동안에 걸쳐 적가하여 결정을 석출시켜 반응 중간물(c1)을 수득한다.
반응 중간물(a1)을 등속도로 적가할 수 있도록 공급 펌프를 설정하고 3시간 동안에 걸쳐 액체 온도를 5 내지 10℃로 조정하면서 반응 중간물(c1)에 적가하여 안료 슬러리를 수득한다. 다시 1시간 동안 교반을 계속한 다음, 80℃까지 가열한다. 반응 혼합물을 여과하고 여과한 잔사를 수세하여 화학식 P-1의 디스아조 안료 및 화학식 1-1의 디스아조 화합물을 함유하는 안료 웨트를 수득한다. 또한, 수득된 안료 웨트의 고형분 중의 화학식 1-1의 디스아조 화합물의 함유 비율은 6%이다. 이하 이를 비교 실시예 웨트 1이라 한다.
비교 실시예 2
화학식 1a의 3,3'-디클로로벤지딘 300부에 상당하는 양의 3,3'-디클로로벤지딘 염산염의 웨트, 35% 염산 372부, 물 3000부 및 얼음 1500부를 혼합 교반한 다음, 빙욕하에 아질산나트륨 172부로 이루어진 수용액을 가하여 3,3'-디클로로벤지딘의 테트라조 용액을 수득한다. 이러한 3,3'-디클로로벤지딘의 테트라조 용액에 화학식 3a의 4-아세토아세틸아미노벤즈아미드 16.4부를 첨가하고 3시간 동안 교반을 계속하여 반응 중간물(b2)을 수득한다.
화학식 4a의 아세토아세트아닐라이드 427.5부, 25% 수산화나트륨 수용액546.4부 및 물 7200부를 혼합 교반하여 용해시킨 다음, 90% 아세트산 228부 및 물 1000부로 이루어진 묽은 아세트산을 1시간 동안에 걸쳐 적가하여 결정을 석출시켜 반응 중간물(c2)을 수득한다.
반응 중간물(b2)을 등속도로 적가할 수 있도록 공급 펌프를 설정하고 3시간 동안에 걸쳐 액체 온도를 5 내지 10℃로 조정하면서 반응 중간물(c2)에 적가하여 안료 슬러리를 수득한다. 다시 1시간 동안 교반을 계속한 다음, 80℃까지 가열한다. 반응 혼합물을 여과하고 여과한 잔사를 수세하여 화학식 P-1의 디스아조 안료 및 화학식 2-1의 디스아조 화합물을 함유하는 안료 웨트를 수득한다. 또한 수득된 안료 웨트의 고형분 중의 화학식 2-1의 디스아조 화합물의 함유 비율은 6%이다. 이하 이것을 비교 실시예 웨트 2로 한다.
실시예 2
실시예 1에서 화학식 2a의 2-아세토아세틸아미노벤조산 16.5부 대신에 화학식
Figure pat00024
(5a)의 5-아세토아세틸아미노-2-하이드록시벤조산 35.4부를 사용하고 화학식 3a의 4-아세토아세틸아미노벤즈아미드의 사용량을 16.4부에서 43.8부로 증량하고 화학식 4a의 아세토아세트아닐라이드의 사용량을 414.3부에서 379.1부로 감량하는 이외에는, 실시예 1과 동일하게 하여 본 발명의 디스아조 안료 조성물의 안료 웨트를 수득한다. 이하, 이것을 실시예 웨트 2로 한다.
또한, 실시예 웨트 2를 일부 건조시키고 FD/MS 측정을 한 결과, m/z=628, m/z=688 및 m/z=671에서 분자 이온에 기인하는 피크를 가지므로 실시예 웨트 2에서 화학식 P-1의 디스아조 안료(C.I. 안료 Y-12), 화학식
Figure pat00025
(1-2)의 디스아조 화합물[화학식 1의 화합물에 상당] 및 화학식 2-1의 디스아조 화합물[화학식 2의 화합물에 상당]이 생성되는 것을 확인할 수 있다. 또한 수득된 디스아조 안료 조성물의 고형분 중의 화학식 1-2의 디스아조 화합물과 화학식 2-1의 디스아조 화합물의 함유 비율은 각각 13% 및 17%이다.
비교 실시예 3
비교 실시예 1에서 화학식 2a의 2-아세토아세틸아미노벤조산 16.5부 대신에 화학식 5a의 5-아세토아세틸아미노-2-하이드록시벤조산 35.4부를 사용하고 아세토아세트아닐라이드의 사용량을 427.5부에서 414.3부로 감량하는 이외에는, 비교 실시예 1과 동일하게 하여 화학식 P-1의 디스아조 안료 및 화학식 1-2의 디스아조 화합물을 함유하는 안료 웨트를 수득한다. 또한, 수득된 안료 웨트의 고형분 중의 화학식 1-2의 디스아조 화합물의 함유 비율은 13%이다. 이하, 이것을 비교 실시예 웨트 3으로 한다.
비교 실시예 4
비교 실시예 2에서 4-아세토아세틸아미노벤즈아미드의 사용량을 16.4부에서 43.8부로 증량하고 아세토아세트아닐라이드의 사용량을 427.5부에서 아세토아세트아닐라이드 405.5부로 감량하는 이외에는, 비교 실시예 2와 동일하게 하여 화학식 P-1의 디스아조 안료 및 화학식 2-1의 디스아조 화합물을 함유하는 안료 웨트를 수득한다. 또한, 수득된 안료 웨트의 고형분 중의 화학식 2-1의 디스아조 화합물의 함유 비율은 17%이다. 이하, 이것을 비교 실시예 웨트 4로 한다.
실시예 3
실시예 1에서 화학식 2a의 2-아세토아세틸아미노벤조산의 사용량을 16.5부에서 33부로 증량하고 화학식 3a의 4-아세토아세틸아미노벤즈아미드 16.4부 대신에 화학식
Figure pat00026
(6a)의 5-아세토아세틸아미노벤즈이미다졸론 17.4부를 사용하고 아세토아세트아닐라이드의 사용량을 414.3부에서 401.1부로 감량하는 이외에는, 실시예 1과 동일하게 하여 화학식 P-1의 디스아조 안료(C.I. 안료 Y-12), 화학식 1-1의 디스아조 화합물[화학식 1의 화합물에 상당] 및 화학식
Figure pat00027
(2-2)의 디스아조 화합물[화학식 2의 화합물에 상당]을 함유하는 본 발명의 디스아조 안료 조성물의 안료 웨트를 수득한다. 또한, 수득된 디스아조 안료 조성물의 고형분 중의 화학식 1-1의 디스아조 화합물과 화학식 2-2의 디스아조 화합물의 함유 비율은 각각 13% 및 6%이다. 이하, 이것을 실시예 웨트 3으로 한다.
비교 실시예 5
비교 실시예 1에서 화학식 2a의 2-아세토아세틸아미노벤조산의 사용량을 16.5부에서 33부로 증량하고 화학식 4a의 아세토아세트아닐라이드의 사용량을 427.5부에서 414.3부로 감량하는 이외에는, 비교 실시예 1과 동일하게 하여 화학식 P-1의 디스아조 안료 및 화학식 1-1의 디스아조 화합물을 함유하는 안료 웨트를 수득한다. 또한, 수득된 안료 웨트의 고형분 중의 화학식 1-1의 디스아조 화합물의 함유 비율은 13%이다. 이하, 이것을 비교 실시예 웨트 5로 한다.
비교 실시예 6
비교 실시예 2에서 화학식 3a의 4-아세토아세틸아미노벤즈아미드 16.4부 대신에 화학식 6a의 5-아세토아세틸아미노벤즈이미다졸론 17.4부를 사용하는 이외에는, 비교 실시예 2와 동일하게 하여 화학식 P-1의 디스아조 안료 및 화학식 2-2의 디스아조 화합물을 함유하는 안료 웨트를 수득한다. 또한, 수득된 안료 웨트의 고형분 중의 화학식 2-2의 디스아조 화합물의 함유 비율은 6%이다. 이하, 이것을 비교 실시예 웨트 6으로 한다.
실시예 4
실시예 1에서 수득한 안료 슬러리를 다시 1시간 동안 교반한 다음, 수산화나트륨 수용액을 사용하여 pH 8로 조정한다. 여기에 로진산의 나트륨 용액(로진산으로 환산하여 40부)을 첨가한 다음, 80℃까지 가열하고 동일 온도에서 1시간 동안 가열한 후에 유산알루미나 36부를 첨가한다. 반응 혼합물을 여과하고 여과한 잔사를 수세하여 화학식 P-1의 디스아조 안료, 화학식 1-1의 디스아조 화합물의 알루미늄염 및 화학식 2-1의 디스아조 화합물을 함유하는 본 발명의 디스아조 안료 조성물의 안료 웨트를 수득한다. 또한, 수득된 디스아조 안료 조성물의 고형분 중의 화학식 1-1의 디스아조 화합물의 알루미늄염과 화학식 2-1의 디스아조 화합물의 함유 비율은 각각 6% 및 6%이다. 이하, 이것을 실시예 웨트 4로 한다.
비교 실시예 7
비교 실시예 1에서 수득한 안료 슬러리를 다시 1시간 동안 교반한 다음, 수산화나트륨 수용액을 사용하여 pH 8로 조정한다. 여기에 로진산의 나트륨 용액(로진산으로 환산하여 40부)을 첨가한 다음, 80℃까지 가열하고 동일 온도에서 1시간 동안 가열한 후에 유산알루미나 36부를 첨가한다. 반응 혼합물을 여과하고 여과한 잔사를 수세하여 화학식 P-1의 디스아조 안료 및 화학식 1-1의 디스아조 화합물의 알루미늄염을 함유하는 안료 웨트를 수득한다. 또한, 수득된 안료 웨트의 고형분 중의 화학식 1-1의 디스아조 화합물의 알루미늄염의 함유 비율은 6%이다. 이하, 이것을 비교 실시예 웨트 7로 한다.
비교 실시예 8
비교 실시예 2에서 수득한 안료 슬러리를 다시 1시간 동안 교반한 다음, 수산화나트륨 수용액을 사용하여 pH 8로 조정한다. 여기에 로진산의 나트륨 용액(로진산으로 환산하여 40부)을 첨가한 다음, 80℃까지 가열하고 동일 온도에서 1시간 동안 가열한 후에 유산알루미나 36부를 첨가한다. 반응 혼합물을 여과하고 여과한 잔사를 수세하여 화학식 P-1의 디스아조 안료 및 화학식 2-1의 디스아조 화합물을 함유하는 안료 웨트를 수득한다. 또한, 수득된 디스아조 안료 조성물의 고형분 중의 화학식 2-1의 디스아조 화합물의 함유 비율은 6%이다. 이하, 이것을 비교 실시예 웨트 8로 한다.
실시예 5
실시예 1에서 화학식 2a의 2-아세토아세틸아미노벤조산 16.5부 대신에 화학식
Figure pat00028
(7a)의 4-아세토아세틸아미노벤젠설폰산 22.1부를 사용하는 이외에는, 실시예 1과 동일하게 하여 화학식 P-1의 디스아조 안료(C.I. 안료 Y-12) , 화학식
Figure pat00029
(1-3)의 디스아조 화합물[화학식 1의 화합물에 상당] 및 화학식 2-1의 디스아조 화합물[화학식 2의 화합물에 상당]을 함유하는 안료 슬러리를 수득한다.
이러한 안료 슬러리를 다시 1시간 동안 교반한 다음, 황산알루미나 20부를 첨가한다. 이러한 혼합물에 수산화나트륨 수용액을 가하여 pH 5로 조정한 다음, 80℃까지 가열한다. 수득된 반응 혼합물을 여과하고 여과한 잔사를 수세하여 본 발명의 디스아조 안료 조성물의 안료 웨트를 수득한다. 또한, 수득된 디스아조 안료 조성물의 고형분 중의 화학식 1-3의 디스아조 화합물의 알루미늄염과 화학식 2-1의 화합물의 함유 비율은 각각 7% 및 6%이다. 이하, 이것을 실시예 웨트 5로 한다.
비교 실시예 9
비교 실시예 1에서 화학식 2a의 2-아세토아세틸아미노벤조산 16.5부 대신에 화학식 7a의 4-아세토아세틸아미노벤젠설폰산 22.1부를 사용하는 이외에는, 비교 실시예 1과 동일하게 하여 화학식 P-1의 디스아조 안료 및 화학식 1-3의 디스아조 화합물을 함유하는 안료 슬러리를 수득한다. 또한, 수득된 안료 슬러리의 고형분 중의 화학식 1-3의 디스아조 화합물의 함유 비율은 7%이다.
이러한 안료 슬러리를 다시 1시간 동안 교반한 다음, 황산알루미나 20부를 첨가한다. 이러한 혼합물에 수산화나트륨 수용액을 가하여 pH 5로 조정한 다음, 80℃까지 가열한다. 수득된 반응 혼합물을 여과하고 여과한 잔사를 수세하여 안료 웨트를 수득한다. 이하, 이것을 비교 실시예 웨트 9로 한다.
비교 실시예 10
비교 실시예 2에서 수득한 안료 슬러리를 다시 1시간 동안 교반한 다음, 황산알루미나 20부를 첨가한다. 이러한 혼합물에 수산화나트륨 수용액을 가하여 pH 5로 조정한 다음, 80℃까지 가열한다. 수득된 반응 혼합물을 여과하고 여과한 잔사를 수세하여 화학식 P-1의 디스아조 안료 및 화학식 2-1의 디스아조 화합물을 함유하는 안료 슬러리를 수득한다. 또한, 수득된 디스아조 안료 슬러리의 고형분 중의 화학식 2-1의 디스아조 화합물의 함유 비율은 6%이다. 이하, 이것을 비교 실시예 웨트 10으로 한다.
실시예 6
화학식 1a의 3,3'-디클로로벤지딘 150부에 상당하는 양의 3,3'-디클로로벤지딘 염산염 웨트, 35% 염산 186부, 물 1500부 및 얼음 750부를 혼합 교반한 다음, 빙욕하에 아질산나트륨 86부의 수용액을 가하여 3,3'-디클로로벤지딘의 테트라조 용액을 수득한다. 이러한 3,3'-디클로로벤지딘의 테트라조 용액에 화학식 2a의 2-아세토아세틸아미노벤조산 27.5부를 첨가한 다음, 3시간 동안 교반을 계속하여 반응 중간물(A6)을 수득한다.
화학식
Figure pat00030
(8)의 아세토아세트-m-크실리다이드 230부, 25% 수산화나트륨 수용액 273.2부 및 물 3600부를 혼합 교반하여 용해시킨 다음, 90% 아세트산 114부 및 물 500부로 이루어진 묽은 아세트산을 1시간에 걸쳐 적가하여 결정을 석출시키고 반응 중간물(C61)을 수득한다.
반응 중간물(A6)을 등속도로 적가할 수 있도록 공급 펌프를 설정하고 액체 온도를 5 내지 10℃로 조정하면서 3시간에 걸쳐 반응 중간물(C61)에 적가한다. 적가 종료후에 다시 1시간 동안 교반한 다음, 80℃까지 가열한다. 반응 혼합물을 여과하고 여과한 잔사를 수세하고 건조시켜 화학식
Figure pat00031
(P-2)의 디스아조 안료(C.I. 안료 Y-13) 320부 및 화학식
Figure pat00032
(1-4)의 디스아조 화합물[화학식 1의 화합물에 상당] 83부를 함유하는 분말 안료(P1)를 수득한다.
별도로, 3,3'-디클로로벤지딘 150부에 상당하는 양의 3,3'-디클로로벤지딘 염산염 웨트, 35% 염산 186부, 물 1500부 및 얼음 750부를 혼합 교반한 다음, 빙욕 하에 아질산나트륨 86부의 수용액을 가하여 3,3'-디클로로벤지딘의 테트라조 용액을 수득한다. 이러한 3,3'-디클로로벤지딘의 테트라조 용액에 화학식 3a의 4-아세토아세틸아미노벤즈아미드 8.2부를 첨가한 다음, 3시간 동안 교반을 계속하여 반응 중간물(B6)을 수득한다.
화학식 8의 아세토아세트-m-크실리다이드 247.6부, 25% 수산화나트륨 수용액 273.2부 및 물 3600부를 혼합 교반하여 용해시킨 다음, 90% 아세트산 114부 및 물 500부로 이루어진 묽은 아세트산을 1시간에 걸쳐 적가하여 결정을 석출시키고 반응 중간물(C62)을 수득한다.
반응 중간물(B6)을 등속도로 적가할 수 있도록 공급 펌프를 설정하고 액체 온도를 5 내지 10℃로 조정하면서 3시간에 걸쳐 반응 중간물(C62)에 적가한다. 적가 종료후에 다시 1시간 동안 교반한 다음, 80℃까지 가열한다. 반응 혼합물을 여과하고 여과한 잔사를 수세하고 건조시켜 화학식 P-2의 디스아조 안료 380부 및 화학식
Figure pat00033
(2-3)의 디스아조 화합물[화학식 2의 화합물에 상당] 25부를 함유하는 분말 안료(P2)를 수득한다.
분말 안료(P1)와 분말 안료(P2)를 혼합하여 본 발명에 따른 디스아조 안료 조성물의 안료 분말을 수득한다. 이하, 이것을 실시예 분말 6으로 한다.
비교 실시예 11
화학식 1a의 3,3'-디클로로벤지딘 150부에 상당하는 양의 3,3'-디클로로벤지딘 염산염 웨트, 35% 염산 186부, 물 1500부 및 얼음 750부를 혼합 교반한 다음, 빙욕하에 아질산나트륨 86부의 수용액을 가하여 3,3'-디클로로벤지딘의 테트라조 용액을 수득한다. 이러한 3,3'-디클로로벤지딘의 테트라조 용액에 화학식 2a의 2-아세토아세틸아미노벤조산 27.5부를 첨가한 다음, 3시간 동안 교반을 계속하여 반응 중간물(a11)을 수득한다.
화학식 8의 아세토아세트-m-크실리다이드 230부, 25% 수산화나트륨 수용액 273.2부 및 물 3600부를 혼합 교반하여 용해시킨 다음, 90% 아세트산 114부 및 물 500부로 이루어진 묽은 아세트산을 1시간에 걸쳐 적가하여 결정을 석출시킨다. 이하, 이것을 반응 중간물(c11)로 한다.
반응 중간물(a11)을 등속도로 적가할 수 있도록 공급 펌프를 설정하고 액체 온도를 5 내지 10℃로 조정하면서 3시간에 걸쳐 반응 중간물(c11)에 적가한다. 적가 종료후에 다시 1시간 동안 교반한 다음, 80℃까지 가열한다. 반응 혼합물을 여과하고 여과한 잔사를 수세하고 건조시켜 화학식 P-2의 디스아조 안료 320부 및 화학식 1-4의 디스아조 화합물 83부를 함유하는 분말 안료를 수득한다. 이하, 이것을 비교 실시예 분말 11로 한다.
비교 실시예 12
화학식 1a의 3,3'-디클로로벤지딘 150부에 상당하는 양의 3,3'-디클로로벤지딘 염산염 웨트, 35% 염산 186부, 물 1500부 및 얼음 750부를 혼합 교반한 다음, 빙욕하에 아질산나트륨 86부의 수용액을 가하여 3,3'-디클로로벤지딘의 테트라조 용액을 수득한다. 이러한 3,3'-디클로로벤지딘의 테트라조 용액에 화학식 3a의 4-아세토아세틸아미노벤즈아미드 8.2부를 첨가한 다음, 3시간 동안 교반하여 반응 중간물(b12)을 수득한다.
화학식 8의 아세토아세트-m-크실리다이드 247.6부, 25% 수산화나트륨 수용액 273.2부 및 물 3600부를 혼합 교반하여 용해시킨 다음, 90% 아세트산 114부 및 물 500부로 이루어진 묽은 아세트산을 1시간에 걸쳐 적가하여 결정을 석출시킨다. 이하, 이것을 반응 중간물(c12)로 한다.
반응 중간물(b12)을 등속도로 적가할 수 있도록 공급 펌프를 설정하고 액체 온도를 5 내지 10℃로 조정하면서 3시간에 걸쳐 반응 중간물(c12)에 적가한다. 적가 종료후에 다시 1시간 동안 교반한 다음, 80℃까지 가열한다. 반응 혼합물을 여과하고 여과한 잔사를 수세하고 건조시켜 화학식 P-2의 디스아조 안료 380부 및 화학식 2-3의 디스아조 화합물 25부를 함유하는 분말 안료를 수득한다. 이하, 이것을 비교 실시예 분말 12로 한다.
실시예 7
실시예 6에서 화학식 2a의 2-아세토아세틸아미노벤조산 27.5부 대신에 화학식
Figure pat00034
(9)의 3-아세토아세틸아미노-4-클로로벤조산 31.8부를 사용하고 화학식 8의 아세토아세트-m-크실리다이드 230부 대신에 화학식
Figure pat00035
(10)의 아세토아세트-o-아니시다이드 232.5부를 사용하고 화학식 3a의 4-아세토아세틸아미노벤즈아미드 8.2부 대신에 화학식
Figure pat00036
(11)의 4-아세토아세틸아미노 아세토아닐라이드 8.7부를 사용하고 화학식 8의 아세토아세트-m-크실리다이드 247.6부 대신에 화학식 10의 아세토아세트-o-아니시다이드 250.3부를 사용하는 이외에는, 실시예 6과 동일하게 하여 화학식
Figure pat00037
(P-3)의 디스아조 안료(C.I. 안료 Y-17) 705부, 화학식
Figure pat00038
(1-5)의 디스아조 화합물[화학식 1의 화합물에 상당] 91부 및 화학식
Figure pat00039
(2-5)의 디스아조 화합물[화학식 2의 화합물에 상당] 26부를 함유하는 본 발명의 디스아조 안료 조성물의 안료 분말을 수득한다. 이하, 이것을 실시예 분말 7로 한다.
비교 실시예 13
비교 실시예 11에서 화학식 2a의 2-아세토아세틸아미노벤조산 27.5부 대신에 화학식 9의 3-아세토아세틸아미노-4-클로로벤조산 31.8부를 사용하고 화학식 8의 아세토아세트-m-크실리다이드 230부 대신에 화학식 10의 아세토아세트-o-아니시다이드 232.5부를 사용하는 이외에는, 비교 실시예 1과 동일하게 하여 화학식 P-3의 디스아조 안료 322부 및 화학식 1-5의 디스아조 화합물 91부를 함유하는 분말 안료를 수득한다. 이하, 이것을 비교 실시예 분말 13으로 한다.
비교 실시예 14
비교 실시예 12에서 화학식 3a의 4-아세토아세틸아미노벤즈아미드 8.2 대신에 화학식 11의 4-아세토아세틸아미노아세토아닐라이드 8.7부를 사용하고 화학식 8의 아세토아세트-m-크실리다이드 247.6부 대신에 화학식 10의 아세토아세트-o-아니시다이드 250.3부를 사용하는 이외에는, 비교 실시예 12와 동일하게 하여 화학식 P-3의 디스아조 안료 382부 및 화학식 2-5의 디스아조 화합물 26부를 함유하는 분말 안료를 수득한다. 이하, 이것을 비교 실시예 분말 14로 한다.
시험예 1
하기의 방법에 따라 실시예 1 내지 5 및 비교 실시예 1 내지 10에서 수득한 각 안료 웨트를 잉크화한다.
플러셔(flusher)에서 60℃로 가열한 평판 잉크용 와니스[다이닛뽄 잉크 앤드 케미칼즈, 인코포레이티드제의 로진 변성 페놀 수지를 함유하는 와니스] 300부를 첨가한 다음, 안료 고형분으로 환산하여 100부에 상당하는 안료 웨트를 첨가하고 30분 동안 혼련하면서 플러싱을 실시한다. 유리된 물을 제거한 다음, 진공 탈수하면서 플러셔 온도를 80℃로 승온시켜 수분을 제거한다. 수분이 제거된 것을 확인한 다음, 평판 잉크용 와니스[다이닛뽄 잉크 앤드 케미칼즈, 인코포레이티드제의 로진 변성 페놀 수지를 함유하는 와니스] 170부 및 경유 30부를 서서히 가하고 시험 잉크를 수득한다.
상기한 방법에 따라 조제한 각 시험 잉크에 대해 유리판 유동성과 라레(laray) 점도를 측정하고 그 결과를 표 1에 정리하여 기재한다.
또한, 유리판 유동성의 수치가 클수록 유동성이 큰 평판 잉크인 것을 나타내며, 라레 점도의 수치가 클수록 점성이 높은 평판 잉크인 것을 나타낸다.
또한, 유리판 유동성은, 인쇄 잉크 1g을 주걱을 사용하여 1분 동안 혼련한 다음, 경사각 70°로 설치한 유리판 위쪽에 설치하여 60분 동안 방치할 경우에 아래쪽으로 유동하는 인쇄 잉크의 길이(인쇄 잉크의 상단으로부터 하단까지의 길이)이다.
표 1에 기재된 결과로부터 실시예 1 내지 5에서 수득한 본 발명의 디스아조 안료 조성물을 사용하는 평판 잉크는 고유동성과 고점성을 동시에 갖는 것으로 이해할 수 있다. 한편 비교 실시예 1 내지 10에서 수득한 종래 방법의 디스아조 안료는 「유동성이 높지만 점성이 낮은」평판 잉크 또는 「점성이 높지만 유동성이 낮은」평판 잉크이며 고유동성과 고점성을 동시에 갖지 않는 것으로 이해할 수 있다.
시험예 2
하기의 방법에 따라 실시예 6 및 7 및 비교 실시예 11 내지 14에서 수득한 각 안료 분말을 잉크화한다.
구체적으로 스테인레스 용기에 40℃로 가열한 평판 잉크용 와니스 300부와 안료 분말 100부를 투입하고 실험실 믹서를 사용하여 혼합하여 분쇄 베이스를 제조한다. 분쇄 베이스를 3개의 롤을 사용하여 혼련하고 베이스 잉크를 제조한다. 3개의 롤 위에서 베이스 잉크에 평판 잉크용 와니스 170부 및 경유 30부를 서서히 가하고 시험 잉크를 조제한다.
상기한 방법을 사용하여 조제한 각 시험 잉크에 대해 유리판 유동성과 라레 점도를 측정하고 그 결과를 표 2에 정리하여 기재한다.
표 2에 기재된 결과로부터 실시예 6 및 7에서 수득한 본 발명의 디스아조 안료 조성물을 사용하는 평판 잉크는 고유동성과 고점성을 동시에 갖는 것으로 이해할 수 있다. 한편, 비교 실시예 11 내지 14에서 수득한 종래 방법의 디스아조 안료는 「유동성이 높지만 점성이 낮은」평판 잉크 또는 「점성이 높지만 유동성이 낮은」평판 잉크이며 고유동성과 고점성을 동시에 갖지 않는 것을 이해할 수 있다.
유동성 및 점성이 우수한 잉크 및 도료를 조제할 수 있는 디스아조 안료 조성물 및 이러한 디스아조 안료 조성물을 함유하여 이루어진 인쇄 잉크를 제공한다.

Claims (10)

  1. (1) 디스아조 안료, (2) 화학식 1의 디스아조 화합물 및 (3) 화학식 2의 디스아조 화합물을 함유하는 디스아조 안료 조성물.
    화학식 1
    화학식 2
    Figure pat00040
    위의 화학식 1 및 화학식 2에서,
    X 및 Y는 각각 독립적으로 수소원자, 할로겐 원자, 탄소수 1 내지 4의 알킬 그룹, 탄소수 1 내지 4의 알콕실 그룹 또는 탄소수 1 내지 4의 알콕실 그룹을 갖는 알콕시카보닐 그룹이고,_X 및 Y는 동시에 수소원자가 아니며,
    Z1은 1 내지 2개의 메틸 그룹 및 메톡시 그룹으로 이루어진 그룹으로부터 선택된 동일하거나 상이한 치환 그룹을 가질 수 있는 페닐 그룹이며,
    Z2는 하이드록실 그룹 또는 염소 원자를 가질 수 있는 페닐 그룹으로서, 카복실산 그룹 및/또는 설폰산 그룹을 1 내지 4개 갖는 페닐 그룹이고, Z2에서의 카복실산 그룹 또는 설폰산 그룹은 알루미늄염일 수 있으며,
    Z3은 카바모일 그룹, 아세트아미노 그룹 및 설파미드 그룹으로 이루어진 그룹으로부터 선택된 치환 그룹을 1 내지 4개 갖는 페닐 그룹 또는 벤즈이미다졸론 환 잔기이다.
  2. 제1항에 있어서, 화학식 1 중의 X 및 Y가 각각 독립적으로 수소원자, 할로겐 원자, 탄소수 1 내지 4의 알킬 그룹, 탄소수 1 내지 4의 알콕실 그룹 또는 탄소수 1 내지 4의 알콕실 그룹을 갖는 알콕시카보닐 그룹이고,_X 및 Y는 동시에 수소원자가 아니며, Z1이 1 내지 2개의 메틸 그룹 및 메톡시 그룹으로 이루어진 그룹으로부터 선택된 동일하거나 상이한 치환 그룹을 가질 수 잇는 페닐 그룹이며, Z2가 하이드록실 그룹 또는 염소 원자를 가질 수 있는 페닐 그룹으로서, 카복실산 그룹 및/또는 설폰산 그룹을 1 내지 4개 갖는 페닐 그룹이며,
    화학식 2 중의 X 및 Y가 각각 독립적으로 수소원자, 할로겐 원자, 탄소수 1 내지 4의 알킬 그룹, 탄소수 1 내지 4의 알콕실 그룹 또는 탄소수 1 내지 4의 알콕실 그룹을 갖는 알콕시카보닐 그룹이고,_X 및 Y는 동시에 수소원자가 아니며, Z1이 1 내지 2개의 메틸 그룹 및 메톡시 그룹으로 이루어진 그룹으로부터 선택된 동일하거나 상이한 치환 그룹을 가질 수 있는 페닐 그룹이며, Z3이 카바모일 그룹, 아세트아미노 그룹 및 설파미드 그룹으로 이루어진 그룹으로부터 선택된 치환 그룹을 1 내지 4개 갖는 페닐 그룹인 디스아조 안료 조성물.
  3. 제1항에 있어서, 화학식 1 및 화학식 2 중의 X 및 Y가 각각 독립적으로 수소원자 또는 염소원자이고,_X 및 Y는 동시에 수소원자가 아니며, Z1이 1 또는 2개의 메틸 그룹 또는 메톡시 그룹을 가질 수 있는 페닐 그룹이며, Z2가 하이드록실 그룹 또는 염소원자를 가질 수 있고 카복실산 그룹 또는 설폰산 그룹(단, 이들은 알루미늄염일 수 있다)을 갖는 페닐 그룹이고, Z3이 카바모일 그룹, 아세트아미노 그룹 또는 설파모일 그룹을 갖는 페닐 그룹, 또는 벤즈이미다졸론_환 잔기인 디스아조 안료 조성물.
  4. 제1항에 있어서, 화학식 1 및 화학식 2중의 X 및 Y가 각각 독립적으로 수소원자 또는 염소원자이고,_X 및 Y는 동시에 수소원자가 아니며, Z1이 1 또는 2개의 메틸 그룹 또는 메톡시 그룹을 가질 수 있는 페닐 그룹이며, Z2가 하이드록실 그룹을 가질 수 있고 카복실산 그룹(단, 알루미늄염일 수 있다)을 갖는 페닐 그룹이고, Z3이 카바모일 그룹 또는 아세트아미노 그룹을 갖는 페닐 그룹인 디스아조 안료 조성물.
  5. 제1항 내지 제4항 중의 어느 한 항에 있어서, 고형분 중의 화학식 1의 디스아조 화합물의 함유 비율이 1 내지 20중량%의 범위이며 화학식 2의 디스아조 화합물의 함유 비율이 1 내지 20중량%의 범위인 디스아조 안료 조성물.
  6. 제1항 내지 제4항 중의 어느 한 항에 있어서, 고형분 중의 화학식 1의 디스아조 화합물과 화학식 2의 디스아조 화합물의 총 함유 비율이 4 내지 35중량%의 범위이고 이들의 중량비(화학식 1의 화합물/화학식 2의 화합물)가 30/70 내지 75/25의 범위인 디스아조 안료 조성물.
  7. 제1항 내지 제4항 중의 어느 한 항에 있어서, 디스아조 안료가 화학식 7의 디스아조 안료인 디스아조 안료 조성물.
    화학식 7
    위의 화학식 7에서,
    X 및 Y는 각각 독립적으로 수소원자, 할로겐 원자, 탄소수 1 내지 4의 알킬 그룹, 탄소수 1 내지 4의 알콕실 그룹 또는 탄소수 1 내지 4의 알콕실 그룹을 갖는 알콕시카보닐 그룹이고,_X 및 Y는 동시에 수소원자가 아니며,
    Z1은 1 내지 2개의 메틸 그룹 및 메톡시 그룹으로 이루어진 그룹으로부터 선택된 동일하거나 상이한 치환 그룹을 가질 수 있는 페닐 그룹이다.
  8. 제7항에 있어서, 화학식 1, 화학식 2 및 화학식 7 중의 X, Y 및 Z1이 각각 동일한 디스아조 안료 조성물.
  9. 제1항 내지 제4항 중의 어느 한 항에 있어서, 디스아조 안료가 C.I. 안료 번호 Y-12, Y-13, Y-14, Y-17, Y-55_및 Y-81로 이루어진 그룹으로부터 선택된 하나이상의 안료인 디스아조 안료 조성물.
  10. 제1항에 따르는 디스아조 안료 조성물을 함유하여 이루어짐을 특징으로 하는 인쇄 잉크.
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