JP2682749B2 - ジスアゾ顔料および印刷インキ組成物 - Google Patents

ジスアゾ顔料および印刷インキ組成物

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JP2682749B2
JP2682749B2 JP5960691A JP5960691A JP2682749B2 JP 2682749 B2 JP2682749 B2 JP 2682749B2 JP 5960691 A JP5960691 A JP 5960691A JP 5960691 A JP5960691 A JP 5960691A JP 2682749 B2 JP2682749 B2 JP 2682749B2
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acetoacetyl
acetoacet
carboxy
sulfonyl
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昭生 佐藤
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Toyo Ink SC Holdings Co Ltd
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Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明はジスアゾ顔料、特にオフ
セットインキに用いるとプロセスのオフセット黄インキ
製造が可能なだけの透明性、濃度を有し、流動性も良好
なインキを得ることができるジスアゾ顔料と印刷インキ
組成物に関する。
【0002】
【従来の技術】従来、プロセスのオフセットインキはウ
ェットケーキをフラッシングしてインキ化する方法とウ
エットケーキの乾燥物を3本ロール、サンドミル、ショ
ットミルで分散することによって得られていた。しかし
前者の方法はフラッシング時の熱により不透明、濃度低
下する品質のバラツキが大きく、その影響が少ない後者
の方法が近年見直されてきているがウエットケーキ顔料
の乾燥物をインキ化したものはウエットケーキからのも
のと比較して透明性、流動性、濃度の点で著しく劣って
いた。ウエットケーキ顔料は3、3’ージクロロベンジ
ジンのテトラゾ化物とアセトアセトアニリドとをカップ
リングすることによって得られるが乾燥時の熱により著
しく結晶成長するために品質低下してしまう。他方、二
成分カップリングの公知技術として特公昭55−106
30号公報において2つのカップリング成分すなわちア
セトアセトアニリドとそのフェニル基に極性基をもつも
のとの混合カップリングの例があるがこの顔料について
もその乾燥物は透明性、流動性、濃度、透明性の点で著
しく劣っていた。また特公平1−110578号公報に
アセトアセトアニリド、アセトアセトオルソアニシジ
ド、アセトアセトオルソトルイジド、アセトアセトオル
ソクロロアニリド、アセトアセトメタキシリジドおよび
アセトアセト−2,5−ジメトキシ−4−クロロ─アニ
リドから選ばれた2種類またはそれ以上の混合物をカッ
プリングさせて誘導された顔料についての例が記載され
ているがこの顔料の乾燥物も上記と同様にウェットケー
キより著しく劣っていた。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】本発明はオフセットイ
ンキに用いるとプロセスのオフセット黄インキ製造が可
能なだけの透明性、濃度を有し、流動性も良好なインキ
を得ることができるジスアゾ顔料と印刷インキ組成物を
提供する。
【0004】
【課題を解決するための手段】本発明は、3、3’−ジ
クロロベンジジンのテトラゾ化物をジアゾ成分とし、ア
セトアセトオルソトルイジド97.9〜60モル%、ア
セトアセトメタキシリジド2〜40モル%および下記一
般式(1)で表されるアセトアセトアニリド系化合物
0.1〜10モル%を混合カップラー成分としてなるジ
スアゾ顔料に関する。
【化2】 〔ただし、式中、XはーCOOH,−SO3 H,−SO
3 M,−NR1 2 ,−CONR1 2 ,−SO2 NR
1 2 ,−CONH(CH2 n NR1 2 ,−SO2
NH(CH2 n NR1 2 (ただし、R1 ,R2 はそ
れぞれ水素原子、炭素数が1〜18のアルキル基または
−C2 4 OH基を示し、nは1〜3の整数、Mは金属
イオンを表す。)、YはH,OH,CH3 ,Clを示
す。〕本発明は、また、上記ジスアゾ顔料および印刷イ
ンキビヒクルからなることを特徴とする印刷インキ組成
物に関する。
【0005】一般式(1)で表されるアセトアセトアニ
リド系化合物としては以下の例示化合物をがある。アセ
トアセトオルソカルボキシアニリド,アセトアセトメタ
カルボキシアニリド,アセトアセトパラカルボキシアニ
リド,アセトアセト−2−カルボキシ−3−クロロアニ
リド,アセトアセト−2−カルボキシ−4−クロロアニ
リド,アセトアセト−2−カルボキシ−5−クロロアニ
リド,アセトアセト−2−カルボキシ−6−クロロアニ
リド,アセトアセト−2−カルボキシ−3−メチルアニ
リド,アセトアセト−2−カルボキシ−4−メチルアニ
リド,アセトアセト−2−カルボキシ−5−メチルアニ
リド,アセトアセト−2−カルボキシ−6−メチルアニ
リド,アセトアセト−2−カルボキシ−3−ヒドロキシ
アニリド,アセトアセト−2−カルボキシ−4−ヒドロ
キシアニリド,アセトアセト−2−カルボキシ−5−ヒ
ドロキシアニリド,アセトアセト−3−カルボキシ−2
−クロロアニリド,アセトアセト−3−カルボキシ−4
−クロロアニリド,アセトアセト−3−カルボキシ−5
−クロロアニリド,アセトアセト−3−カルボキシ−6
−クロロアニリド,アセトアセト−3−カルボキシ−2
−メチルアニリド,アセトアセト−3−カルボキシ−4
−メチルアニリド,アセトアセト−3−カルボキシ−5
−メチルアニリド,アセトアセト−3−カルボキシ−6
−メチルアニリド,アセトアセト−3−カルボキシ−2
−ヒドロキシアニリド,アセトアセト−3−カルボキシ
−4−ヒドロキシアニリド,アセトアセト−3−カルボ
キシ−5−ヒドロキシアニリド,アセトアセト−3−カ
ルボキシ−6−ヒドロキシアニリド,アセトアセト−4
−カルボキシ−2−クロロアニリド,アセトアセト−4
−カルボキシ−3−クロロアニリド,アセトアセト−4
−カルボキシ−2−メチルアニリド,アセトアセト−4
−カルボキシ−3−メチルアニリド,アセトアセト−4
−カルボキシ−2−ヒドロキシアニリド,アセトアセト
−4−カルボキシ−3−ヒドロキシアニリド,アセトア
セトオルソスルフォニルアニリド,アセトアセトメタス
ルフォニルアニリド,アセトアセト パラスルフォニル
アニリド,アセトアセト−2−スルフォニル−3−クロ
ロアニリド,アセトアセト−2−スルフォニル−4−ク
ロロアニリド,アセトアセト−2−スルフォニル−5−
クロロアニリド,アセトアセト−2−スルフォニル−6
−クロロアニリド,アセトアセト−2−スルフォニル−
3−メチルアニリド,アセトアセト−2−スルフォニル
−4−メチルアニリド,アセトアセト−2−スルフォニ
ル−5−メチルアニリド,アセトアセト−2−スルフォ
ニル−6−メチルアニリド,アセトアセト−2−スルフ
ォニル−3−ヒドロキシアニリド,アセトアセト−2−
スルフォニル−4−ヒドロキシアニリド,アセトアセト
−2−スルフォニル−5−ヒドロキシアニリド,アセト
アセト−3−スルフォニル−2−クロロアニリド,アセ
トアセト−3−スルフォニル−4−クロロアニリド,ア
セトアセト−3−スルフォニル−5−クロロアニリド,
アセトアセト−3−スルフォニル−6−クロロアニリ
ド,アセトアセト−3−スルフォニル−2−メチルアニ
リド,アセトアセト−3−スルフォニル−4−メチルア
ニリド,アセトアセト−3−スルフォニル−5−メチル
アニリド,アセトアセト−3−スルフォニル−6−メチ
ルアニリド,アセトアセト−3−スルフォニル−2−ヒ
ドロキシアニリド,アセトアセト−3−スルフォニル−
4−ヒドロキシアニリド,アセトアセト−3−スルフォ
ニル−5−ヒドロキシアニリド,アセトアセト−3−ス
ルフォニル−6−ヒドロキシアニリド,アセトアセト−
4−スルフォニル−クロロアニリド,アセトアセト−4
−スルフォニル−3−クロロアニリド,アセトアセト−
4−スルフォニル−2−メチルアニリド,アセトアセト
−4−スルフォニル−3−メチルアニリド,アセトアセ
ト−4−スルフォニル−2−ヒドロキシアニリド,アセ
トアセト−4−スルフォニル−3−ヒドロキシアニリ
ド,2−アセトアセチルベンゼンスルフォン酸のナトリ
ウム塩,カリウム塩,カルシウム塩,バリウム塩 ,ス
トロンチウム塩,マンガン塩,亜鉛塩,マグネシウム
塩,アルミニウム塩,3−アセトアセチルベンゼンスル
フォン酸のナトリウム塩,カリウム塩,カルシウム塩,
バリウム塩,ストロンチウム塩,マンガン塩,亜鉛塩,
マグネシウム塩,アルミニウム塩,4−アセトアセチル
ベンゼンスルフォン酸のナトリウム塩,カリウム塩,カ
ルシウム塩,バリウム塩,ストロンチウム塩,マンガン
塩,亜鉛塩,マグネシウム塩,アルミニウム塩,4−ア
セトアセチル−2−クロロベンゼンスルフォン酸のナト
リウム塩,4−アセトアセチル−3−クロロベンゼンス
ルフォン酸のナトリウム塩,4−アセトアセチル−2−
メチルベンゼンスルフォン酸のナトリウム塩,4−アセ
トアセチル−3−メチルベンゼンスルフォン酸のナトリ
ウム塩,4−アセトアセチル−2−ヒドロキシベンゼン
スルフォン酸のナトリウム塩,4−アセトアセチル−3
−ヒドロキシベンゼンスルフォン酸のナトリウム塩,ア
セトアセトオルソアミノアニリド,アセトアセトメタア
ミノアニリド,アセトアセトパラアミノアニリド,アセ
トアセトオルソ−N−メチルアミノアニリド,アセトア
セトオルソ−N−エチルアミノアニリド,アセトアセト
オルソ−N−ブチルアミノアニリド,アセトアセトオル
ソ−N−ステアリルアミノアニリド,アセトアセトオル
ソ−N,N−ジメチルアミノアニリド,アセトアセトオ
ルソ−N,N−ジエチルアミノアニリド,アセトアセト
オルソ−N,N−ジブチルアミノアニリド,アセトアセ
トオルソアミノアニリド,アセトアセトメタアミノアニ
リド,アセトアセトパラアミノアニリド,アセトアセト
パラ−N−メチルアミノアニリド,アセトアセトパラ−
N−エチルアミノアニリド,アセトアセトパラ−N−ブ
チルアミノアニリド,アセトアセトパラ−N−ステアリ
ルアミノアニリド,アセトアセトパラ−N,N−ジメチ
ルアミノアニリド,アセトアセトパラ−N,N−ジエチ
ルアミノアニリド,アセトアセトパラ−N,N−ジブチ
ルアミノアニリド,アセトアセト−2−クロロ−4−
N,N−ジメチルアミノアニリド,アセトアセト−2−
クロロ−4−N,N−ジエチルアミノアニリド,アセト
アセト−2−クロロ−4−N,N−ジブチルアミノアニ
リド,アセトアセト−2−メチル−4−N,N−ジメチ
ルアミノアニリド,アセトアセト−2−メチル−4−
N,N−ジエチルアミノアニリド,アセトアセト−2−
メチル−4−N,N−ジブチルアミノアニリド,アセト
アセト−2−ヒドロキシ−4−N,N−ジメチルアミノ
アニリド,アセトアセト−2−ヒドロキシ−4−N,N
−ジエチルアミノアニリド,アセトアセト−2−ヒドロ
キシ−4−N,N−ジブチルアミノアニリド,2−アセ
トアセチルベンズアミド,3−アセトアセチルベンズア
ミド,4−アセトアセチルベンズアミド,3−アセトア
セチル−2−クロロベンズアミド,3−アセトアセチル
−4−クロロベンズアミド,3−アセトアセチル−5−
クロロベンズアミド,3−アセトアセチル−6−クロロ
ベンズアミド,3−アセトアセチル−2−メチルベンズ
アミド,3−アセトアセチル−4−メチルベンズアミ
ド,3−アセトアセチル−4−メチルベンズアミド,3
−アセトアセチル−5−メチルベンズアミド,3−アセ
トアセチル−6−メチルベンズアミド,3−アセトアセ
チル−2−ヒドロキシベンズアミド,3−アセトアセチ
ル−2−ヒドロキシベンズアミド,3−アセトアセチル
−4−ヒドロキシベンズアミド,3−アセトアセチル−
5−ヒドロキシベンズアミド,3−アセトアセチル−6
−ヒドロキシベンズアミド,4−アセトアセチル−N,
N−ジメチルベンズアミド,4−アセトアセチル−N,
N−ジエチルベンズアミド,4−アセトアセチル−N,
N−ジブチルベンズアミド,2−アセトアセチルベンゼ
ンスルフォニルアミド,3−アセトアセチルベンゼンス
ルフォニルアミド,4−アセトアセチルベンゼンスルフ
ォニルアミド,4−アセトアセチルベンゼンスルフォニ
ルジメチルアミド,4−アセトアセチルベンゼンスルフ
ォニルジエチルアミド,4−アセトアセチルベンゼンス
ルフォニルジブチルアミド,アセトアセト−p−ジメチ
ルアミノプロピルアミノスルフォニルアニリド,アセト
アセト−p−ジエチルアミノプロピルアミノスルフォニ
ルアニリド,アセトアセト−p−ジブチルアミノプロピ
ルアミノスルフォニルアニリド,アセトアセト−p−ス
テアリルアミノプロピルアミノスルフォニルアニリド,
アセトアセト−p−ジメチルアミノエチルアミノスルフ
ォニルアニリド,アセトアセト−p−ジエチルアミノエ
チルアミノスルフォニルアニリド,アセトアセト−p−
ジブチルアミノエチルアミノスルフォニルアニリド,ア
セトアセト−p−ステアリルアミノエチルアミノスルフ
ォニルアニリド,アセトアセト−p−ジメチルアミノプ
ロピルアミノカルボアニリド,アセトアセト−p−ジエ
チルアミノプロピルアミノカルボアニリド,アセトアセ
ト−p−ジブチルアミノプロピルアミノカルボアニリ
ド,アセトアセト−p−ステアリルアミノプロピルアミ
ノカルボアニリド,アセトアセト−p−ジメチルアミノ
エチルアミノカルボアニリド,アセトアセト−p−ジエ
チルアミノエチルアミノカルボアニリド,アセトアセト
−p−ジブチルアミノエチルアミノカルボアニリド,ア
セトアセト−p−ステアリルアミノエチルアミノカルボ
アニリド,4−アセトアセチルベンゼンスルフォニルジ
エチロールアミド,4−アセトアセチル−N,N−ジエ
チロールベンズアミド。
【0006】本発明の混合カップラー成分の使用割合
は、アセトアセトオルソトルイジド97.9〜60モル
%、アセトアセトメタキシリジド2〜40モル%および
下記一般式(1)で表されるアセトアセトアニリド系化
合物0.1〜10モル%、好ましくは1から5モル%で
ある。アセトアセトオルソトルイジドとアセトアセトメ
タキシリドの使用割合はプロセス黄インキの色相を調整
するためのものである。また、一般式(1)のアセトア
セトアニリド系化合物が上記数値より多くなると、不透
明化、分散不良となるので好ましくない。
【0007】本発明において3、3’ージクロロベンジ
ジンのテトラゾ化物と混合カップラーとのカップリング
反応は特に制限されないが、常法により酢酸酸性下で行
う。この際の条件はPH6からPH3、温度10℃から
30℃、時間30分から60分で行う。ついでこの顔料
スラリーをアルカリ側(PH9からPH14)に調整
し、ロジンのアルカリ塩溶液を添加する。ロジンの添加
量は色素に対し1から50重量%である。ついでこのス
ラリーを温度80℃で30分間程度加熱する。ついで酸
側(PHとはPH4からPH6)にPH調整し顔料表面
にロジンを析出させ、30分保温後、濾過、水洗、乾
燥、粉砕を行う。
【0008】本発明のジスアゾ顔料組成物はプロセス用
オフセットインキとして使用される。オフセットインキ
の組成物としては、本発明のジスアゾ顔料3から35重
量%オフセット用インキビヒクル97〜45重量%、そ
の他補助剤や体質顔料0から20重量%からなり、オフ
セット用インキビヒクルはロジン変性フェーノール樹
脂、石油樹脂、アルキッド樹脂、または、これらの乾性
油変性樹脂などの樹脂20から50重量%、アマニ油、
桐油、大豆油などの植物油0から30重量%、nーパラ
フィン、イソパラフィン、アロマチック、ナフテン、α
ーオレフィンなどの溶剤10から60重量%からなるも
のである。
【0009】
【発明の効果】一般的にオフセットインキの透明性、濃
度の向上は顔料粒子を微細化することで達成できる。し
かしアセトアセトアニリドと極性基含有カップラー成分
の二成分混合カップリングでは乾燥工程の熱により顔料
粒子が結晶成長してしまう。これはアセトアセトアニリ
ドが著しく耐熱性がないためである。しかしながら、本
発明では顔料粒子を微細化させると同時に乾燥工程の熱
による顔料粒子の結晶成長を抑制し、さらに印刷ワニス
の濡れが改良され透明性、濃度、流動性が向上させるこ
とができた。
【0010】
【実施例】以下実施例をあげて本発明を具体的に説明す
る。実施例において「部」は全て重量部を示す。
【0011】実施例1 水400部に3、3’−ジクロロベンジジン25.3部
と35%塩酸16.5部を加える。この溶液を0℃に冷
却後20%亜硝酸ソーダ溶液を57部加え、1時間撹拌
する。少量のスルファミン酸を加え過剰の亜硝酸ソーダ
を消失させて、3、3’−ジクロロベンジジンのテトラ
ゾ溶液とする。一方、アセトアセトオルソトルイジド2
6.7部とアセトアセトメタキシリジド12.3部と3
−アセトアセチル−4−メチルベンズアミド1.4部お
よび苛性ソーダ20部を加えて溶解する。この溶液に1
0%酢酸360部を少しずつ加えて懸濁液とし、これに
前記テトラゾ溶液を約30分要して加える。この間反応
液の温度は約15℃に保っておく。得られたジスアゾ顔
料のスラリーを苛性ソーダでPH10からPH11に調
整後、ロジンの10%アルカリ塩溶液を70部を添加し
た。このスラリーを80℃まで加熱し、30分攪拌後塩
酸を加えPH4からPH6に調整し、濾過、、水洗し
た。得られた顔料のプレスケーキを80℃にて乾燥し、
粉砕した。
【0012】実施例2 実施例1で使用した3−アセトアセチル−4−メチルベ
ンズアミドに代えて4−アセトアセチルベンズアミド
1.3部を使用した他は実施例1と同様に行った。
【0013】実施例3 実施例1で使用した3−アセトアセチル−4−メチルベ
ンズアミドに代えて4−アセトアセチルベンゼンスルフ
ォン酸ナトリウム1.7部を使用した他は実施例1と同
様に行った。
【0014】実施例4 実施例1で使用した3−アセトアセチル−4−メチルベ
ンズアミドに代えてアセトアセト−p−ジメチルアミノ
プロピルアミノスルフォニルアニリド2.0部を使用し
た他は実施例1と同様に行った。
【0015】実施例5 実施例1で使用した3−アセトアセチル−4−メチルベ
ンズアミドに代えてアセトアセト−p−ジエチルアミノ
プロピルアミノカルボアニリド2.0部を使用した他は
実施例1と同様に行った。
【0016】実施例6 実施例1で使用した3−アセトアセチル−4−メチルベ
ンズアミドに代えてアセトアセト−p−ジメチルアミノ
プロピルアミノカルボアニリド1.9部を使用した他は
実施例1と同様に行った。
【0017】実施例7 実施例1で使用した3−アセトアセチル−4−メチルベ
ンズアミドに代えて4−アセトアセチルベンゼンスルフ
ォニルジエチロールアミド2.0部を使用した他は実施
例1と同様に行った。
【0018】実施例8 実施例1で使用した3−アセトアセチル−4−メチルベ
ンズアミドに代えてアセトアセトオルソカルボキシアニ
リド1.3部を使用した他は実施例1と同様に行った。
【0019】実施例9 実施例1で使用した3−アセトアセチル−4−メチルベ
ンズアミドに代えてアセトアセト−3−ヒドロキシ−4
−カルボキシアニリド1.4部を使用した他は実施例1
と同様に行った。
【0020】実施例10 実施例1で使用した3−アセトアセチル−4−メチルベ
ンズアミドに代えてアセトアセト−3−カルボキシ−4
−ヒドロキシアニリド1.4部を使用した他は実施例1
と同様に行った。
【0021】実施例11 実施例1で使用した3−アセトアセチル−4−メチルベ
ンズアミドに代えて4−アセトアセチル−N,N−ジエ
チロールベンズアミド1.9部を使用した他は実施例1
と同様に行った。
【0022】各例で得られた乾燥ジスアゾ顔料10部と
ロジン変性フェノール樹脂をバインダーとするオフセッ
トインキワニス90部と混ぜ、3本ロールミルで分散し
オフセットインキを作成した。このオフセットインキの
性能を一般式(1)を添加しないで合成したジスアゾ顔
料を用いて作成したオフセットインキ(標準インキ)と
比較して表−1にまとめた。表−1において、L* はイ
ンキの透明性を示しその値が小の方が透明性大、濃度は
コーサー値(反射率濃度)で示しその値が大の方が濃度
大、流動性はスプレットメーター測定器での60秒値
( mm )で示しその値が大の方が流動性大である。
【0022】
【表1】

Claims (2)

    (57)【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 3、3’−ジクロロベンジジンのテトラ
    ゾ化物をジアゾ成分とし、アセトアセトオルソトルイジ
    ド97.9〜60モル%、アセトアセトメタキシリジド
    2〜40モル%および下記一般式(1)で表されるアセ
    トアセトアニリド系化合物0.1〜10モル%を混合カ
    ップラー成分としてなるジスアゾ顔料。 【化1】 〔ただし、式中、XはーCOOH,−SO3 H,−SO
    3 M,−NR1 2 ,−CONR1 2 ,−SO2 NR
    1 2 ,−CONH(CH2 n NR1 2 ,−SO2
    NH(CH2 n NR1 2 (ただし、R1 ,R2 はそ
    れぞれ水素原子、炭素数が1〜18のアルキル基または
    −C2 4 OH基を示し、nは1〜3の整数、Mは金属
    イオンを表す。)、YはH,OH,CH3 ,Clを示
    す。〕
  2. 【請求項2】 請求項1記載のジスアゾ顔料および印刷
    インキビヒクルからなることを特徴とする印刷インキ組
    成物。
JP5960691A 1991-03-01 1991-03-01 ジスアゾ顔料および印刷インキ組成物 Expired - Lifetime JP2682749B2 (ja)

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