JP2682747B2 - ジスアゾ顔料および印刷インキ組成物 - Google Patents

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明はジスアゾ顔料、特にオフ
セットインキに用いるとプロセスのオフセット黄インキ
製造が可能なだけの透明性、濃度を有し、流動性も良好
なインキを得ることができるジスアゾ顔料と印刷インキ
組成物に関する。

【０００２】

【従来技術】従来、プロセスのオフセットインキはウエ
ットケーキをフラッシングしてインキ化する方法とウエ
ットケーキの乾燥物を３本ロール、サンドミル、ショッ
トミルで分散することによって得られていた。しかし前
者の方法はフラッシング時の熱により不透明、濃度低下
する品質のバラツキが大きく、その影響が少ない後者の
方法が近年見直されてきているがウエットケーキ顔料の
乾燥物をインキ化したものはウエットケーキからのもの
と比較して透明性、流動性、濃度の点で著しく劣ってい
た。ウエットケーキ顔料は３、３’ージクロロベンジジ
ンのテトラゾ化物とアセトアセトアニリドとをカップリ
ングすることによって得られるが乾燥時の熱により著し
く結晶成長するために品質低下してしまう。他方、二成
分カップリングの公知技術として特公昭５５−１０６３
０号公報において２つのカップリング成分すなわちアセ
トアセトアニリドとそのフェニル基に極性基をもつもの
との混合カップリングの例があるがこの顔料についても
その乾燥物は透明性、流動性、濃度、透明性の点で著し
く劣っていた。また特公平１−１１０５７８号公報にア
セトアセトアニリド、アセトアセトオルソアニシジド、
アセトアセトオルソトルイジド、アセトアセトオルソク
ロロアニリド、アセトアセト−２，４−キシリジドおよ
びアセトアセト−２，５−ジメトキシ−４−クロロ─ア
ニリドから選ばれた２種類またはそれ以上の混合物をカ
ップリングさせて誘導された顔料についての例が記載さ
れているがこの顔料の乾燥物も上記と同様にウェットケ
ーキより著しく劣っていた。

【０００３】

【発明が解決しようとする課題】本発明はオフセットイ
ンキに用いるとプロセスのオフセット黄インキ製造が可
能なだけの透明性、濃度を有し、流動性も良好なインキ
を得ることができるジスアゾ顔料と印刷インキ組成物を
提供する。

【０００４】

【課題を解決するための手段】本発明は、３，３’−ジ
クロロベンジジンのテトラゾ化物をジアゾ成分とし、ア
セトアセトオルソトルイジド９７．９〜６０モル％、ア
セトアセト−２，５−ジメトキシ−４−クロロアニリド
２〜４０モル％および下記一般式（１）で表されるアセ
トアセトアニリド系化合物０．１〜１０モル％を混合カ
ップラー成分としてなるジスアゾ顔料に関する。

【化２】 〔ただし、式中、ＸはーＣＯＯＨ，−ＳＯ₃ Ｈ，−ＳＯ
₃ Ｍ，−ＮＲ₁ Ｒ₂ ，−ＣＯＮＲ₁ Ｒ₂ ，−ＳＯ₂ ＮＲ
₁ Ｒ₂ ，−ＣＯＮＨ（ＣＨ₂ ）_n ＮＲ₁ Ｒ₂ ，−ＳＯ₂
ＮＨ（ＣＨ₂ ）_n ＮＲ₁ Ｒ₂ （ただし、Ｒ₁ ，Ｒ₂ はそ
れぞれ水素原子、炭素数が１〜１８のアルキル基または
−Ｃ₂ Ｈ₄ ＯＨ基を示し、ｎは１〜３の整数、Ｍは金属
イオンを表す。）、Ｙは、Ｈ，ＯＨ，ＣＨ₃ ，Ｃｌを示
す。〕本発明は、また、上記ジスアゾ顔料および印刷イ
ンキビヒクルからなることを特徴とする印刷インキ組成
物に関する。

【０００５】一般式（１）で表されるアセトアニリド系
化合物としては以下の例示化合物をがある。アセトアセ
トオルソカルボキシアニリド，アセトアセトメタカルボ
キシアニリド，アセトアセトパラカルボキシアニリド，
アセトアセト−２−カルボキシ−３−クロロアニリド，
アセトアセト−２−カルボキシ−４−クロロアニリド，
アセトアセト−２−カルボキシ−５−クロロアニリド，
アセトアセト−２−カルボキシ−６−クロロアニリド，
アセトアセト−２−カルボキシ−３−メチルアニリド，
アセトアセト−２−カルボキシ−４−メチルアニリド，
アセトアセト−２−カルボキシ−５−メチルアニリド，
アセトアセト−２−カルボキシ−６−メチルアニリド，
アセトアセト−２−カルボキシ−３−ヒドロキシアニリ
ド，アセトアセト−２−カルボキシ−４−ヒドロキシア
ニリド，アセトアセト−２−カルボキシ−５−ヒドロキ
シアニリド，アセトアセト−３−カルボキシ−２−クロ
ロアニリド，アセトアセト−３−カルボキシ−４−クロ
ロアニリド，アセトアセト−３−カルボキシ−５−クロ
ロアニリド，アセトアセト−３−カルボキシ−６−クロ
ロアニリド，アセトアセト−３−カルボキシ−２−メチ
ルアニリド，アセトアセト−３−カルボキシ−４−メチ
ルアニリド，アセトアセト−３−カルボキシ−５−メチ
ルアニリド，アセトアセト−３−カルボキシ−６−メチ
ルアニリド，アセトアセト−３−カルボキシ−２−ヒド
ロキシアニリド，アセトアセト−３−カルボキシ−４−
ヒドロキシアニリド，アセトアセト−３−カルボキシ−
５−ヒドロキシアニリド，アセトアセト−３−カルボキ
シ−６−ヒドロキシアニリド，アセトアセト−４−カル
ボキシ−２−クロロアニリド，アセトアセト−４−カル
ボキシ−３−クロロアニリド，アセトアセト−４−カル
ボキシ−２−メチルアニリド，アセトアセト−４−カル
ボキシ−３−メチルアニリド，アセトアセト−４−カル
ボキシ−２−ヒドロキシアニリド，アセトアセト−４−
カルボキシ−３−ヒドロキシアニリド，アセトアセトオ
ルソスルフォニルアニリド，アセトアセトメタスルフォ
ニルアニリド，アセトアセトパラスルフォニルアニリ
ド，アセトアセト−２−スルフォニル−３−クロロアニ
リド，アセトアセト−２−スルフォニル−４−クロロア
ニリド，アセトアセト−２−スルフォニル−５−クロロ
アニリド，アセトアセト−２−スルフォニル−６−クロ
ロアニリド，アセトアセト−２−スルフォニル−３−メ
チルアニリド，アセトアセト−２−スルフォニル−４−
メチルアニリド，アセトアセト−２−スルフォニル−５
−メチルアニリド，アセトアセト−２−スルフォニル−
６−メチルアニリド，アセトアセト−２−スルフォニル
−３−ヒドロキシアニリド，アセトアセト−２−スルフ
ォニル−４−ヒドロキシアニリド，アセトアセト−２−
スルフォニル−５−ヒドロキシアニリド，アセトアセト
−３−スルフォニル−２−クロロアニリド，アセトアセ
ト−３−スルフォニル−４−クロロアニリド，アセトア
セト−３−スルフォニル−５−クロロアニリド，アセト
アセト−３−スルフォニル−６−クロロアニリド，アセ
トアセト−３−スルフォニル−２−メチルアニリド，ア
セトアセト−３−スルフォニル−４−メチルアニリド，
アセトアセト−３−スルフォニル−５−メチルアニリ
ド，アセトアセト−３−スルフォニル−６−メチルアニ
リド，アセトアセト−３−スルフォニル−２−ヒドロキ
シアニリド，アセトアセト−３−スルフォニル−４−ヒ
ドロキシアニリド，アセトアセト−３−スルフォニル−
５−ヒドロキシアニリド，アセトアセト−３−スルフォ
ニル−６−ヒドロキシアニリド，アセトアセト−４−ス
ルフォニル−クロロアニリド，アセトアセト−４−スル
フォニル−３−クロロアニリド，アセトアセト−４−ス
ルフォニル−２−メチルアニリド，アセトアセト−４−
スルフォニル−３−メチルアニリド，アセトアセト−４
−スルフォニル−２−ヒドロキシアニリド，アセトアセ
ト−４−スルフォニル−３−ヒドロキシアニリド，２−
アセトアセチルベンゼンスルフォン酸のナトリウム塩，
カリウム塩，カルシウム塩，バリウム塩，ストロンチウ
ム塩，マンガン塩，亜鉛塩，マグネシウム塩，アルミニ
ウム塩，３−アセトアセチルベンゼンスルフォン酸のナ
トリウム塩，カリウム塩，カルシウム塩，バリウム塩，
ストロンチウム塩，マンガン塩，亜鉛塩，マグネシウム
塩，アルミニウム塩，４−アセトアセチルベンゼンスル
フォン酸のナトリウム塩，カリウム塩，カルシウム塩，
バリウム塩，ストロンチウム塩，マンガン塩，亜鉛塩，
マグネシウム塩，アルミニウム塩，４−アセトアセチル
−２−クロロベンゼンスルフォン酸のナトリウム塩，４
−アセトアセチル−３−クロロベンゼンスルフォン酸の
ナトリウム塩，４−アセトアセチル−２−メチルベンゼ
ンスルフォン酸のナトリウム塩，４−アセトアセチル−
３−メチルベンゼンスルフォン酸のナトリウム塩，４−
アセトアセチル−２−ヒドロキシベンゼンスルフォン酸
のナトリウム塩，４−アセトアセチル−３−ヒドロキシ
ベンゼンスルフォン酸のナトリウム塩，アセトアセトオ
ルソアミノアニリド，アセトアセトメタアミノアニリ
ド，アセトアセトパラアミノアニリド，アセトアセトオ
ルソ−Ｎ−メチルアミノアニリド，アセトアセトオルソ
−Ｎ−エチルアミノアニリド，アセトアセトオルソ−Ｎ
−ブチルアミノアニリド，アセトアセトオルソ−Ｎ−ス
テアリルアミノアニリド，アセトアセトオルソ−Ｎ，Ｎ
−ジメチルアミノアニリド，アセトアセトオルソ−Ｎ，
Ｎ−ジエチルアミノアニリド，アセトアセトオルソ−
Ｎ，Ｎ−ジブチルアミノアニリド，アセトアセトオルソ
アミノアニリド，アセトアセトメタアミノアニリド，ア
セトアセトパラアミノアニリド，アセトアセトパラ−Ｎ
−メチルアミノアニリド，アセトアセトパラ−Ｎ−エチ
ルアミノアニリド，アセトアセトパラ−Ｎ−ブチルアミ
ノアニリド，アセトアセトパラ−Ｎ−ステアリルアミノ
アニリド，アセトアセトパラ−Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノ
アニリド，アセトアセトパラ−Ｎ，Ｎ−ジエチルアミノ
アニリド，アセトアセトパラ−Ｎ，Ｎ−ジブチルアミノ
アニリド，アセトアセト−２−クロロ−４−Ｎ，Ｎ−ジ
メチルアミノアニリド，アセトアセト−２−クロロ−４
−Ｎ，Ｎ−ジエチルアミノアニリド，アセトアセト−２
−クロロ−４−Ｎ，Ｎ−ジブチルアミノアニリド，アセ
トアセト−２−メチル−４−Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノア
ニリド，アセトアセト−２−メチル−４−Ｎ，Ｎ−ジエ
チルアミノアニリド，アセトアセト−２−メチル−４−
Ｎ，Ｎ−ジブチルアミノアニリド，アセトアセト−２−
ヒドロキシ−４−Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノアニリド，ア
セトアセト−２−ヒドロキシ−４−Ｎ，Ｎ−ジエチルア
ミノアニリド，アセトアセト−２−ヒドロキシ−４−
Ｎ，Ｎ−ジブチルアミノアニリド，２−アセトアセチル
ベンズアミド，３−アセトアセチルベンズアミド，４−
アセトアセチルベンズアミド，３−アセトアセチル−２
−クロロベンズアミド，３−アセトアセチル−４−クロ
ロベンズアミド，３−アセトアセチル−５−クロロベン
ズアミド，３−アセトアセチル−６−クロロベンズアミ
ド，３−アセトアセチル−２−メチルベンズアミド，３
−アセトアセチル−４−メチルベンズアミド，３−アセ
トアセチル−４−メチルベンズアミド，３−アセトアセ
チル−５−メチルベンズアミド，３−アセトアセチル−
６−メチルベンズアミド，３−アセトアセチル−２−ヒ
ドロキシベンズアミド，３−アセトアセチル−２−ヒド
ロキシベンズアミド，３−アセトアセチル−４−ヒドロ
キシベンズアミド，３−アセトアセチル−５−ヒドロキ
シベンズアミド，３−アセトアセチル−６−ヒドロキシ
ベンズアミド，４−アセトアセチル−Ｎ，Ｎ−ジメチル
ベンズアミド，４−アセトアセチル−Ｎ，Ｎ−ジエチル
ベンズアミド，４−アセトアセチル−Ｎ，Ｎ−ジブチル
ベンズアミド，２−アセトアセチルベンゼンスルフォニ
ルアミド，３−アセトアセチルベンゼンスルフォニルア
ミド，４−アセトアセチルベンゼンスルフォニルアミ
ド，４−アセトアセチルベンゼンスルフォニルジメチル
アミド，４−アセトアセチルベンゼンスルフォニルジエ
チルアミド，４−アセトアセチルベンゼンスルフォニル
ジブチルアミド，アセトアセト−ｐ−ジメチルアミノプ
ロピルアミノスルフォニルアニリド，アセトアセト−ｐ
−ジエチルアミノプロピルアミノスルフォニルアニリ
ド，アセトアセト−ｐ−ジブチルアミノプロピルアミノ
スルフォニルアニリド，アセトアセト−ｐ−ステアリル
アミノプロピルアミノスルフォニルアニリド，アセトア
セト−ｐ−ジメチルアミノエチルアミノスルフォニルア
ニリド，アセトアセト−ｐ−ジエチルアミノエチルアミ
ノスルフォニルアニリド，アセトアセト−ｐ−ジブチル
アミノエチルアミノスルフォニルアニリド，アセトアセ
ト−ｐ−ステアリルアミノエチルアミノスルフォニルア
ニリド，アセトアセト−ｐ−ジメチルアミノプロピルア
ミノカルボアニリド，アセトアセト−ｐ−ジエチルアミ
ノプロピルアミノカルボアニリド，アセトアセト−ｐ−
ジブチルアミノプロピルアミノカルボアニリド，アセト
アセト−ｐ−ステアリルアミノプロピルアミノカルボア
ニリド，アセトアセト−ｐ−ジメチルアミノエチルアミ
ノカルボアニリド，アセトアセト−ｐ−ジエチルアミノ
エチルアミノカルボアニリド，アセトアセト−ｐ−ジブ
チルアミノエチルアミノカルボアニリド， アセトアセ
ト−ｐ−ステアリルアミノエチルアミノカルボアニリ
ド，４−アセトアセチルベンゼンスルフォニルジエチロ
ールアミド，４−アセトアセチル−Ｎ，Ｎ−ジエチロー
ルベンズアミド。

【０００６】本発明の混合カップラー成分の使用割合
は、アセトアセトオルソトルイジド９７．９〜６０モル
％、アセトアセト−２，５−ジメトキシ−４−クロロア
ニリド２〜４０モル％および下記一般式（１）で表され
るアセトアセトアニリド系化合物０．１〜１０モル％、
好ましくは１から５モル％である。アセトアセトオルソ
トルイジドとアセトアセト−２，５−ジメトキシ−４−
クロロアニリドの使用割合はプロセス黄インキの色相を
調整するためのものである。また、一般式（１）のアセ
トアセトアニリド系化合物が上記数値より多くなると、
不透明化、分散不良となるので好ましくない。

【０００７】本発明において３、３’ージクロロベンジ
ジンのテトラゾ化物と混合カップラーとのカップリング
反応は特に制限されないが、常法により酢酸酸性下で行
う。この際の条件はＰＨ６からＰＨ３、温度１０℃から
３０℃、時間３０分から６０分で行う。ついでこの顔料
スラリーをアルカリ側（ＰＨ９からＰＨ１４）に調整
し、ロジンのアルカリ塩溶液を添加する。ロジンの添加
量は色素に対し１から５０重量％である。ついでこのス
ラリーを温度８０℃で３０分間程度加熱する。ついで酸
側（ＰＨとはＰＨ６からＰＨ４）にＰＨ調整し顔料表面
にロジンを析出させ、３０分保温後、濾過、水洗、乾
燥、粉砕を行う。

【０００８】本発明のジスアゾ顔料組成物はプロセス用
オフセットインキとして使用される。オフセットインキ
の組成物としては、本発明のジスアゾ顔料３〜３５重量
％とオフセット用インキビヒクル９７〜４５重量％、そ
の他補助剤や体質顔料０から２０重量％からなる。オフ
セット用インキビヒクルはロジン変性フェーノール樹
脂、石油樹脂、アルキッド樹脂、または、これらの乾性
油変性樹脂などの樹脂２０から５０重量％、アマニ油、
桐油、大豆油などの植物油０から３０重量％、ｎーパラ
フィン、イソパラフィン、アロマチック、ナフテン、α
ーオレフィンなどの溶剤１０から６０重量％からなるも
のである。

【０００９】

【発明の効果】一般的にオフセットインキの透明性、濃
度の向上は顔料粒子を微細化することで達成できる。し
かしアセトアセトアニリドと極性基含有カップラー成分
の二成分混合カップリングでは乾燥工程の熱により顔料
粒子が結晶成長してしまう。これはアセトアセトアニリ
ドが著しく耐熱性がないためである。しかしながら、本
発明では顔料粒子を微細化させると同時に乾燥工程の熱
による顔料粒子の結晶成長を抑制し、さらに印刷ワニス
の濡れが改良され透明性、濃度、流動性が向上させるこ
とができた。

【００１０】

【実施例】以下実施例をあげて本発明を具体的に説明す
る。実施例において「部」は全て重量部を示す。

【００１１】実施例１ 水４００部に３，３’−ジクロロベンジジン２５．３部
と３５％塩酸１６．５部を加える。この溶液を０℃に冷
却後２０％亜硝酸ソーダ溶液を５７部加え、１時間撹拌
する。少量のスルファミン酸を加え過剰の亜硝酸ソーダ
を消失させて、３、３’−ジクロロベンジジンのテトラ
ゾ溶液とする。一方、アセトアセトオルソトルイジド３
３．６部とアセトアセト−２，５−ジメトキシ−４−ク
ロロアニリド５．０部と３−アセトアセチル−４−メチ
ルベンズアミド１．４部および苛性ソーダ２０部を加え
て溶解する。この溶液に１０％酢酸３６０部を少しずつ
加えて懸濁液とし、これに前記テトラゾ溶液を約３０分
要して加える。この間反応液の温度は約１５℃に保って
おく。得られたジスアゾ顔料のスラリーを苛性ソーダで
ＰＨ１０からＰＨ１１に調整後、ロジンの１０％アルカ
リ塩溶液を７０部を添加した。このスラリーを８０℃ま
で加熱し、３０分攪拌後塩酸を加えＰＨ４からＰＨ６に
調整し、濾過、水洗した。得られた顔料のプレスケーキ
を８０℃にて乾燥し、粉砕した。

【００１２】実施例２ 実施例１で使用した３−アセトアセチル−４−メチルベ
ンズアミドに代えて４−アセトアセチルベンズアミド
１．３部を使用した他は実施例１と同様に行った。

【００１３】実施例３ 実施例１で使用した３−アセトアセチル−４−メチルベ
ンズアミドに代えて４−アセトアセチルベンゼンスルフ
ォン酸ナトリウム１．７部を使用した他は実施例１と同
様に行った。

【００１４】実施例４ 実施例１で使用した３−アセトアセチル−４−メチルベ
ンズアミドに代えてアセトアセト−ｐ−ジメチルアミノ
プロピルアミノスルフォニルアニリド２．０部を使用し
た他は実施例１と同様に行った。

【００１５】実施例５ 実施例１で使用した３−アセトアセチル−４−メチルベ
ンズアミドに代えてアセトアセト−ｐ−ジエチルアミノ
プロピルアミノカルボアニリド２．０部を使用した他は
実施例１と同様に行った。

【００１６】実施例６ 実施例１で使用した３−アセトアセチル−４−メチルベ
ンズアミドに代えてアセトアセト−ｐ−ジメチルアミノ
プロピルアミノカルボアニリド１．９部を使用した他は
実施例１と同様に行った。

【００１７】実施例７ 実施例１で使用した３−アセトアセチル−４−メチルベ
ンズアミドに代えて４−アセトアセチルベンゼンスルフ
ォニルジエチロールアミド２．０部を使用した他は実施
例１と同様に行った。

【００１８】実施例８ 実施例１で使用した３−アセトアセチル−４−メチルベ
ンズアミドに代えてアセトアセトオルソカルボキシアニ
リド１．３部を使用した他は実施例１と同様に行った。

【００１９】実施例９ 実施例１で使用した３−アセトアセチル−４−メチルベ
ンズアミドに代えてアセトアセト−３−ヒドロキシ−４
−カルボキシアニリド１．４部を使用した他は実施例１
と同様に行った。

【００２０】実施例１０ 実施例１で使用した３−アセトアセチル−４−メチルベ
ンズアミドに代えてアセトアセト−３−カルボキシ−４
−ヒドロキシアニリド１．４部を使用した他は実施例１
と同様に行った。

【００２１】実施例１１ 実施例１で使用した３−アセトアセチル−４−メチルベ
ンズアミドに代えて４−アセトアセチル−Ｎ，Ｎ−ジエ
チロールベンズアミド１．９部を使用した他は実施例１
と同様に行った。

【００２２】各例で得られた乾燥ジスアゾ顔料１０部と
ロジン変性フェノール樹脂をバインダーとするオフセッ
トインキワニス９０部と混ぜ、３本ロールミルで分散し
オフセットインキを作成した。このオフセットインキの
性能を一般式（１）を添加しないで合成したジスアゾ顔
料を用いて作成したオフセットインキ（標準インキ）と
比較して表−１にまとめた。表−１において、Ｌ^* はイ
ンキの透明性を示しその値が小の方が透明性大、濃度は
コーサー値（反射率濃度）で示しその値が大の方が濃度
大、流動性はスプレットメーター測定器での６０秒値
（ ｍｍ ）で示しその値が大の方が流動性大である。

【００２３】

【表１】

Claims (2)

(57)【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 ３，３’−ジクロロベンジジンのテトラ
   ゾ化物をジアゾ成分とし、アセトアセトオルソトルイジ
   ド９７．９〜６０モル％、アセトアセト−２，５−ジメ
   トキシ−４−クロロアニリド２〜４０モル％および下記
   一般式（１）で表されるアセトアセトアニリド系化合物
   ０．１〜１０モル％を混合カップラー成分としてなるジ
   スアゾ顔料。 【化１】 〔ただし、式中、ＸはーＣＯＯＨ，−ＳＯ₃ Ｈ，−ＳＯ
   ₃ Ｍ，−ＮＲ₁ Ｒ₂ ，−ＣＯＮＲ₁ Ｒ₂ ，−ＳＯ₂ ＮＲ
   ₁ Ｒ₂ ，−ＣＯＮＨ（ＣＨ₂ ）_n ＮＲ₁ Ｒ₂ ，−ＳＯ₂
   ＮＨ（ＣＨ₂ ）_n ＮＲ₁ Ｒ₂ （ただし、Ｒ₁ ，Ｒ₂ はそ
   れぞれ水素原子、炭素数が１〜１８のアルキル基または
   −Ｃ₂ Ｈ₄ ＯＨ基を示し、ｎは１〜３の整数、Ｍは金属
   イオンを表す。）、Ｙは、Ｈ，ＯＨ，ＣＨ₃ ，Ｃｌを示
   す。〕
2. 【請求項２】 請求項１記載のジスアゾ顔料および印刷
   インキビヒクルからなることを特徴とする印刷インキ組
   成物。