JPH04255761A - ジスアゾ顔料および印刷インキ組成物 - Google Patents
ジスアゾ顔料および印刷インキ組成物Info
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- JPH04255761A JPH04255761A JP3038019A JP3801991A JPH04255761A JP H04255761 A JPH04255761 A JP H04255761A JP 3038019 A JP3038019 A JP 3038019A JP 3801991 A JP3801991 A JP 3801991A JP H04255761 A JPH04255761 A JP H04255761A
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- 239000000049 pigment Substances 0.000 title claims abstract description 30
- 125000000664 diazo group Chemical group [N-]=[N+]=[*] 0.000 title claims abstract description 19
- 239000000203 mixture Substances 0.000 title claims abstract description 10
- 238000007639 printing Methods 0.000 title claims description 8
- MOUVJGIRLPZEES-UHFFFAOYSA-N n-(4-chloro-2,5-dimethoxyphenyl)-3-oxobutanamide Chemical compound COC1=CC(NC(=O)CC(C)=O)=C(OC)C=C1Cl MOUVJGIRLPZEES-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 5
- -1 acetanilide compound Chemical class 0.000 claims description 13
- HUWXDEQWWKGHRV-UHFFFAOYSA-N 3,3'-Dichlorobenzidine Chemical compound C1=C(Cl)C(N)=CC=C1C1=CC=C(N)C(Cl)=C1 HUWXDEQWWKGHRV-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 claims description 6
- 229960001413 acetanilide Drugs 0.000 claims description 5
- FZERHIULMFGESH-UHFFFAOYSA-N methylenecarboxanilide Natural products CC(=O)NC1=CC=CC=C1 FZERHIULMFGESH-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 5
- TVZIWRMELPWPPR-UHFFFAOYSA-N n-(2-methylphenyl)-3-oxobutanamide Chemical compound CC(=O)CC(=O)NC1=CC=CC=C1C TVZIWRMELPWPPR-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 5
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 claims description 2
- 125000003178 carboxy group Chemical group [H]OC(*)=O 0.000 claims description 2
- 125000004435 hydrogen atom Chemical group [H]* 0.000 claims description 2
- 125000002887 hydroxy group Chemical group [H]O* 0.000 claims description 2
- 229910021645 metal ion Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 239000000126 substance Substances 0.000 claims description 2
- 239000000976 ink Substances 0.000 abstract description 27
- DYRDKSSFIWVSNM-UHFFFAOYSA-N acetoacetanilide Chemical compound CC(=O)CC(=O)NC1=CC=CC=C1 DYRDKSSFIWVSNM-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 6
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 abstract description 2
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 abstract description 2
- LHECBTWFKAHFAS-UHFFFAOYSA-N 4-(4-aminophenyl)-6,6-dichlorocyclohexa-1,3-dien-1-amine Chemical compound C1C(Cl)(Cl)C(N)=CC=C1C1=CC=C(N)C=C1 LHECBTWFKAHFAS-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract 1
- 229910006069 SO3H Inorganic materials 0.000 abstract 1
- 125000000896 monocarboxylic acid group Chemical group 0.000 abstract 1
- 125000000020 sulfo group Chemical group O=S(=O)([*])O[H] 0.000 abstract 1
- LPMHFEASQIIECN-UHFFFAOYSA-N 4-methyl-3-(3-oxobutanoyl)benzamide Chemical compound CC(=O)CC(=O)C1=CC(C(N)=O)=CC=C1C LPMHFEASQIIECN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 13
- 238000000034 method Methods 0.000 description 13
- 238000005859 coupling reaction Methods 0.000 description 7
- QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N Acetic acid Chemical compound CC(O)=O QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M Sodium hydroxide Chemical compound [OH-].[Na+] HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 6
- 230000008878 coupling Effects 0.000 description 6
- 238000010168 coupling process Methods 0.000 description 6
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 6
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 5
- 159000000000 sodium salts Chemical class 0.000 description 5
- RSWGJHLUYNHPMX-UHFFFAOYSA-N Abietic-Saeure Natural products C12CCC(C(C)C)=CC2=CCC2C1(C)CCCC2(C)C(O)=O RSWGJHLUYNHPMX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N Hydrochloric acid Chemical compound Cl VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- KHPCPRHQVVSZAH-HUOMCSJISA-N Rosin Natural products O(C/C=C/c1ccccc1)[C@H]1[C@H](O)[C@@H](O)[C@@H](O)[C@@H](CO)O1 KHPCPRHQVVSZAH-HUOMCSJISA-N 0.000 description 4
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 4
- 239000002002 slurry Substances 0.000 description 4
- LPXPTNMVRIOKMN-UHFFFAOYSA-M sodium nitrite Chemical compound [Na+].[O-]N=O LPXPTNMVRIOKMN-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 4
- KHPCPRHQVVSZAH-UHFFFAOYSA-N trans-cinnamyl beta-D-glucopyranoside Natural products OC1C(O)C(O)C(CO)OC1OCC=CC1=CC=CC=C1 KHPCPRHQVVSZAH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- WDJHALXBUFZDSR-UHFFFAOYSA-M acetoacetate Chemical compound CC(=O)CC([O-])=O WDJHALXBUFZDSR-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- AZDRQVAHHNSJOQ-UHFFFAOYSA-N alumane Chemical class [AlH3] AZDRQVAHHNSJOQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 159000000009 barium salts Chemical class 0.000 description 3
- 159000000007 calcium salts Chemical class 0.000 description 3
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 3
- 159000000003 magnesium salts Chemical class 0.000 description 3
- 150000002696 manganese Chemical class 0.000 description 3
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 3
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 3
- 159000000008 strontium salts Chemical class 0.000 description 3
- 239000003981 vehicle Substances 0.000 description 3
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 150000003751 zinc Chemical class 0.000 description 3
- NZSBSYHNKCGVEK-UHFFFAOYSA-N 4-(3-oxobutanoyl)benzamide Chemical compound CC(=O)CC(=O)C1=CC=C(C(N)=O)C=C1 NZSBSYHNKCGVEK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- NIUILDOZDHIHRX-UHFFFAOYSA-N C(CC(=O)C)(=O)C=1C(=C(C(=O)N)C=CC1)O Chemical compound C(CC(=O)C)(=O)C=1C(=C(C(=O)N)C=CC1)O NIUILDOZDHIHRX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 2
- 150000001447 alkali salts Chemical class 0.000 description 2
- 150000003931 anilides Chemical class 0.000 description 2
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- 238000001914 filtration Methods 0.000 description 2
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 2
- XAEFZNCEHLXOMS-UHFFFAOYSA-M potassium benzoate Chemical compound [K+].[O-]C(=O)C1=CC=CC=C1 XAEFZNCEHLXOMS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- 239000012266 salt solution Substances 0.000 description 2
- 235000011121 sodium hydroxide Nutrition 0.000 description 2
- 235000010288 sodium nitrite Nutrition 0.000 description 2
- 239000002966 varnish Substances 0.000 description 2
- 238000005406 washing Methods 0.000 description 2
- IPOXVWBIYJPKII-UHFFFAOYSA-N 2-(3-oxobutanoyl)benzamide Chemical compound C(CC(=O)C)(=O)C1=C(C(=O)N)C=CC=C1 IPOXVWBIYJPKII-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MNURPFVONZPVLA-UHFFFAOYSA-N 2-chlorobenzenesulfonic acid Chemical compound OS(=O)(=O)C1=CC=CC=C1Cl MNURPFVONZPVLA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KXGFMDJXCMQABM-UHFFFAOYSA-N 2-methoxy-6-methylphenol Chemical class [CH]OC1=CC=CC([CH])=C1O KXGFMDJXCMQABM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UGXYTOJDHWHPAQ-UHFFFAOYSA-N 4-(3-oxobutanoyl)benzenesulfonamide Chemical compound CC(=O)CC(=O)C1=CC=C(S(N)(=O)=O)C=C1 UGXYTOJDHWHPAQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LWUWHYLDFAFKAI-UHFFFAOYSA-N C(CC(=O)C)(=O)C1=CC=C(C(=O)N(C)C)C=C1 Chemical compound C(CC(=O)C)(=O)C1=CC=C(C(=O)N(C)C)C=C1 LWUWHYLDFAFKAI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IZRLEQAKNGVNKS-UHFFFAOYSA-N C(CC(=O)C)(=O)C1=CC=C(C(=O)N(CC)CC)C=C1 Chemical compound C(CC(=O)C)(=O)C1=CC=C(C(=O)N(CC)CC)C=C1 IZRLEQAKNGVNKS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KENRPWMEGQXCIM-UHFFFAOYSA-N C(CC(=O)C)(=O)C1=CC=C(C(=O)N(CCCC)CCCC)C=C1 Chemical compound C(CC(=O)C)(=O)C1=CC=C(C(=O)N(CCCC)CCCC)C=C1 KENRPWMEGQXCIM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SPSRWKCCJZPLKM-UHFFFAOYSA-N C(CC(=O)C)(=O)C1=CC=C(C=C1)S(=O)(=O)O Chemical compound C(CC(=O)C)(=O)C1=CC=C(C=C1)S(=O)(=O)O SPSRWKCCJZPLKM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GAKQULPOTRYXPI-UHFFFAOYSA-M C(CC(=O)C)(=O)C1=CC=C(C=C1)S(=O)(=O)[O-].[Na+] Chemical compound C(CC(=O)C)(=O)C1=CC=C(C=C1)S(=O)(=O)[O-].[Na+] GAKQULPOTRYXPI-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- ZFGHWIPSWBQGOK-UHFFFAOYSA-N C(CC(=O)C)(=O)C=1C(=C(C(=O)N)C=CC1)C Chemical compound C(CC(=O)C)(=O)C=1C(=C(C(=O)N)C=CC1)C ZFGHWIPSWBQGOK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SYUSNUDHJKCOJJ-UHFFFAOYSA-N C(CC(=O)C)(=O)C=1C=C(C(=O)N)C(=CC1)Cl Chemical compound C(CC(=O)C)(=O)C=1C=C(C(=O)N)C(=CC1)Cl SYUSNUDHJKCOJJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DKMQXGJRDHEZGW-UHFFFAOYSA-N C(CC(=O)C)(=O)C=1C=C(C(=O)N)C(=CC1)O Chemical compound C(CC(=O)C)(=O)C=1C=C(C(=O)N)C(=CC1)O DKMQXGJRDHEZGW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VROGKAAZUHRXAP-UHFFFAOYSA-N C(CC(=O)C)(=O)C=1C=C(C(=O)N)C=C(C1)C Chemical compound C(CC(=O)C)(=O)C=1C=C(C(=O)N)C=C(C1)C VROGKAAZUHRXAP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QMOFHRKHUWXQLA-UHFFFAOYSA-N C(CC(=O)C)(=O)C=1C=C(C(=O)N)C=C(C1)Cl Chemical compound C(CC(=O)C)(=O)C=1C=C(C(=O)N)C=C(C1)Cl QMOFHRKHUWXQLA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MXPGWDGLFMXHKW-UHFFFAOYSA-N C(CC(=O)C)(=O)C=1C=C(C(=O)N)C=C(C1)O Chemical compound C(CC(=O)C)(=O)C=1C=C(C(=O)N)C=C(C1)O MXPGWDGLFMXHKW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XBRIYJMMCCFYRQ-UHFFFAOYSA-N C(CC(=O)C)(=O)C=1C=C(C(=O)N)C=CC1 Chemical compound C(CC(=O)C)(=O)C=1C=C(C(=O)N)C=CC1 XBRIYJMMCCFYRQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FMZGYCALRFDMKD-UHFFFAOYSA-N C(CC(=O)C)(=O)C=1C=C(C(=O)N)C=CC1Cl Chemical compound C(CC(=O)C)(=O)C=1C=C(C(=O)N)C=CC1Cl FMZGYCALRFDMKD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SQNHPSFDUVFNEN-UHFFFAOYSA-N C(CC(=O)C)(=O)C=1C=C(C(=O)N)C=CC1O Chemical compound C(CC(=O)C)(=O)C=1C=C(C(=O)N)C=CC1O SQNHPSFDUVFNEN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VURLFROJXXEXJM-UHFFFAOYSA-N CC(=O)CC(=O)C1=C(C(=CC=C1)C(=O)N)Cl Chemical compound CC(=O)CC(=O)C1=C(C(=CC=C1)C(=O)N)Cl VURLFROJXXEXJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UHYWFDUNTMFYJF-UHFFFAOYSA-N CC(=O)CC(=O)C1=CC(=CC=C1)S(=O)(=O)N Chemical compound CC(=O)CC(=O)C1=CC(=CC=C1)S(=O)(=O)N UHYWFDUNTMFYJF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LJBOMHFDDRXRJJ-UHFFFAOYSA-N CC(=O)CC(=O)C1=CC=C(C=C1)S(=O)(=O)CNC Chemical compound CC(=O)CC(=O)C1=CC=C(C=C1)S(=O)(=O)CNC LJBOMHFDDRXRJJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FENVTEIUYSRBGQ-UHFFFAOYSA-N CC(=O)CC(=O)C1=CC=CC=C1S(=O)(=O)N Chemical compound CC(=O)CC(=O)C1=CC=CC=C1S(=O)(=O)N FENVTEIUYSRBGQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PGBKWVANIOMMQG-UHFFFAOYSA-N CC1=C(C=C(C=C1)C(=O)CC(=O)C)C(=O)N Chemical compound CC1=C(C=C(C=C1)C(=O)CC(=O)C)C(=O)N PGBKWVANIOMMQG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JEXMHPGNIPYWBE-UHFFFAOYSA-N CCNCCS(=O)(=O)C1=CC=C(C=C1)C(=O)CC(=O)C Chemical compound CCNCCS(=O)(=O)C1=CC=C(C=C1)C(=O)CC(=O)C JEXMHPGNIPYWBE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004606 Fillers/Extenders Substances 0.000 description 1
- UFWIBTONFRDIAS-UHFFFAOYSA-N Naphthalene Chemical compound C1=CC=CC2=CC=CC=C21 UFWIBTONFRDIAS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000007513 acids Chemical class 0.000 description 1
- 239000002671 adjuvant Substances 0.000 description 1
- 229920000180 alkyd Polymers 0.000 description 1
- 229940051881 anilide analgesics and antipyretics Drugs 0.000 description 1
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 description 1
- 239000011230 binding agent Substances 0.000 description 1
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 1
- 230000003247 decreasing effect Effects 0.000 description 1
- 239000006185 dispersion Substances 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 238000011010 flushing procedure Methods 0.000 description 1
- 235000021388 linseed oil Nutrition 0.000 description 1
- 239000000944 linseed oil Substances 0.000 description 1
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 description 1
- LNOPIUAQISRISI-UHFFFAOYSA-N n'-hydroxy-2-propan-2-ylsulfonylethanimidamide Chemical compound CC(C)S(=O)(=O)CC(N)=NO LNOPIUAQISRISI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000012188 paraffin wax Substances 0.000 description 1
- 239000003208 petroleum Substances 0.000 description 1
- 239000005011 phenolic resin Substances 0.000 description 1
- 150000002989 phenols Chemical class 0.000 description 1
- 125000001997 phenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 description 1
- 159000000001 potassium salts Chemical class 0.000 description 1
- 238000010298 pulverizing process Methods 0.000 description 1
- 239000004576 sand Substances 0.000 description 1
- KVCGISUBCHHTDD-UHFFFAOYSA-M sodium;4-methylbenzenesulfonate Chemical compound [Na+].CC1=CC=C(S([O-])(=O)=O)C=C1 KVCGISUBCHHTDD-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 1
- 235000012424 soybean oil Nutrition 0.000 description 1
- 239000003549 soybean oil Substances 0.000 description 1
- 239000000725 suspension Substances 0.000 description 1
- 239000002383 tung oil Substances 0.000 description 1
- 235000015112 vegetable and seed oil Nutrition 0.000 description 1
- 239000008158 vegetable oil Substances 0.000 description 1
- 238000009736 wetting Methods 0.000 description 1
- 239000004711 α-olefin Substances 0.000 description 1
Landscapes
- Inks, Pencil-Leads, Or Crayons (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明はジスアゾ顔料、特にオフ
セットインキに用いるとプロセスのオフセット黄インキ
製造が可能なだけの透明性、濃度を有し、流動性も良好
なインキを得ることができるジスアゾ顔料と印刷インキ
組成物に関する。
セットインキに用いるとプロセスのオフセット黄インキ
製造が可能なだけの透明性、濃度を有し、流動性も良好
なインキを得ることができるジスアゾ顔料と印刷インキ
組成物に関する。
【0002】
【従来技術】従来、プロセスのオフセットインキはウエ
ットケーキをフラッシングしてインキ化する方法とウエ
ットケーキの乾燥物を3本ロール、サンドミル、ショッ
トミルで分散することによって得られていた。しかし前
者の方法はフラッシング時の熱により不透明、濃度低下
する品質のバラツキが大きく、その影響が少ない後者の
方法が近年見直されてきているがウエットケーキ顔料の
乾燥物をインキ化したものはしてウエットケーキからの
ものと比較して透明性、流動性、濃度の点で著しく劣っ
ていた。ウエットケーキ顔料は3、3’ージクロロベン
ジジンのテトラゾ化物とアセトアセトアニリドとをカッ
プリングすることによって得られるが乾燥時の熱により
著しく結晶成長するために品質低下してしまう。他方、
二成分カップリングの公知技術として特公昭55−10
630号公報において2つのカップリング成分すなわち
アセトアセトアニリドとそのフェニル基に極性基をもつ
ものとの混合カップリングの例があるがこの顔料につい
てもその乾燥物は透明性、流動性、濃度、透明性の点で
著しく劣っていた。また特公平1−110578号公報
にアセトアセトアニリド、アセトアセトオルソアニシジ
ド、アセトアセトオルソトルイジド、アセトアセトオル
ソクロロアニリド、アセトアセト−2,4−キシリジド
およびアセトアセト−2,5−ジメトキシ−4−クロロ
─アニリドから選ばれた2種類またはそれ以上の混合物
をカップリングさせて誘導された顔料についての例が記
載されているがこの顔料の乾燥物も上記と同様にウェッ
トケーキより著しく劣っていた。
ットケーキをフラッシングしてインキ化する方法とウエ
ットケーキの乾燥物を3本ロール、サンドミル、ショッ
トミルで分散することによって得られていた。しかし前
者の方法はフラッシング時の熱により不透明、濃度低下
する品質のバラツキが大きく、その影響が少ない後者の
方法が近年見直されてきているがウエットケーキ顔料の
乾燥物をインキ化したものはしてウエットケーキからの
ものと比較して透明性、流動性、濃度の点で著しく劣っ
ていた。ウエットケーキ顔料は3、3’ージクロロベン
ジジンのテトラゾ化物とアセトアセトアニリドとをカッ
プリングすることによって得られるが乾燥時の熱により
著しく結晶成長するために品質低下してしまう。他方、
二成分カップリングの公知技術として特公昭55−10
630号公報において2つのカップリング成分すなわち
アセトアセトアニリドとそのフェニル基に極性基をもつ
ものとの混合カップリングの例があるがこの顔料につい
てもその乾燥物は透明性、流動性、濃度、透明性の点で
著しく劣っていた。また特公平1−110578号公報
にアセトアセトアニリド、アセトアセトオルソアニシジ
ド、アセトアセトオルソトルイジド、アセトアセトオル
ソクロロアニリド、アセトアセト−2,4−キシリジド
およびアセトアセト−2,5−ジメトキシ−4−クロロ
─アニリドから選ばれた2種類またはそれ以上の混合物
をカップリングさせて誘導された顔料についての例が記
載されているがこの顔料の乾燥物も上記と同様にウェッ
トケーキより著しく劣っていた。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】本発明はオフセットイ
ンキに用いるとプロセスのオフセット黄インキ製造が可
能なだけの透明性、濃度を有し、流動性も良好なインキ
を得ることができるジスアゾ顔料と印刷インキ組成物を
提供する。
ンキに用いるとプロセスのオフセット黄インキ製造が可
能なだけの透明性、濃度を有し、流動性も良好なインキ
を得ることができるジスアゾ顔料と印刷インキ組成物を
提供する。
【0004】
【課題を解決するための手段】本発明は、3,3’−ジ
クロロベンジジンのテトラゾ化物をジアゾ成分とし、ア
セトアセトオルソトルイジド97.9〜60モル%、ア
セトアセト−2,5−ジメトキシ−4−クロロアニリド
2〜40モル%および下記一般式(1)で表されるアセ
トアニリド系化合物0.1〜10モル%を混合カップラ
ー成分としてなるジスアゾ顔料に関する。
クロロベンジジンのテトラゾ化物をジアゾ成分とし、ア
セトアセトオルソトルイジド97.9〜60モル%、ア
セトアセト−2,5−ジメトキシ−4−クロロアニリド
2〜40モル%および下記一般式(1)で表されるアセ
トアニリド系化合物0.1〜10モル%を混合カップラ
ー成分としてなるジスアゾ顔料に関する。
【化2】
〔ただし、式中、XはーCOOH,−SO3 H,−S
O3 M,−NR1 R2 ,−CONR1 R2 ,
−SO2 NR1 R2 ,−CONH(CH2 )n
NR1 R2 ,−SO2 NH(CH2 )n N
R1 R2 (ただし、R1 ,R2 はそれぞれ水素
原子、炭素数が1〜18のアルキル基または−C2 H
4 OH基を示し、nは1〜3の整数、Mは金属イオン
を表す。)、Yは、H,OH,CH3 ,Clを示す。 〕本発明は、また、上記ジスアゾ顔料および印刷インキ
ビヒクルからなることを特徴とする印刷インキ組成物に
関する。
O3 M,−NR1 R2 ,−CONR1 R2 ,
−SO2 NR1 R2 ,−CONH(CH2 )n
NR1 R2 ,−SO2 NH(CH2 )n N
R1 R2 (ただし、R1 ,R2 はそれぞれ水素
原子、炭素数が1〜18のアルキル基または−C2 H
4 OH基を示し、nは1〜3の整数、Mは金属イオン
を表す。)、Yは、H,OH,CH3 ,Clを示す。 〕本発明は、また、上記ジスアゾ顔料および印刷インキ
ビヒクルからなることを特徴とする印刷インキ組成物に
関する。
【0005】一般式(1)で表されるアセトアニリド系
化合物としては以下の例示化合物をがある。アセトアセ
トオルソカルボキシアニリド,アセトアセトメタカルボ
キシアニリド,アセトアセトパラカルボキシアニリド,
アセトアセト−2−カルボキシ−3−クロロアニリド,
アセトアセト−2−カルボキシ−4−クロロアニリド,
アセトアセト−2−カルボキシ−5−クロロアニリド,
アセトアセト−2−カルボキシ−6−クロロアニリド,
アセトアセト−2−カルボキシ−3−メチルアニリド,
アセトアセト−2−カルボキシ−4−メチルアニリド,
アセトアセト−2−カルボキシ−5−メチルアニリド,
アセトアセト−2−カルボキシ−6−メチルアニリド,
アセトアセト−2−カルボキシ−3−ヒドロキシアニリ
ド,アセトアセト−2−カルボキシ−4−ヒドロキシア
ニリド,アセトアセト−2−カルボキシ−5−ヒドロキ
シアニリド,アセトアセト−3−カルボキシ−2−クロ
ロアニリド,アセトアセト−3−カルボキシ−4−クロ
ロアニリド,アセトアセト−3−カルボキシ−5−クロ
ロアニリド,アセトアセト−3−カルボキシ−6−クロ
ロアニリド,アセトアセト−3−カルボキシ−2−メチ
ルアニリド,アセトアセト−3−カルボキシ−4−メチ
ルアニリド,アセトアセト−3−カルボキシ−5−メチ
ルアニリド,アセトアセト−3−カルボキシ−6−メチ
ルアニリド,アセトアセト−3−カルボキシ−2−ヒド
ロキシアニリド,アセトアセト−3−カルボキシ−4−
ヒドロキシアニリド,アセトアセト−3−カルボキシ−
5−ヒドロキシアニリド,アセトアセト−3−カルボキ
シ−6−ヒドロキシアニリド,アセトアセト−4−カル
ボキシ−2−クロロアニリド,アセトアセト−4−カル
ボキシ−3−クロロアニリド,アセトアセト−4−カル
ボキシ−2−メチルアニリド,アセトアセト−4−カル
ボキシ−3−メチルアニリド,アセトアセト−4−カル
ボキシ−2−ヒドロキシアニリド,アセトアセト−4−
カルボキシ−3−ヒドロキシアニリド,アセトアセトオ
ルソスルフォニルアニリド,アセトアセトメタスルフォ
ニルアニリド,アセトアセトパラスルフォニルアニリド
,アセトアセト−2−スルフォニル−3−クロロアニリ
ド,アセトアセト−2−スルフォニル−4−クロロアニ
リド,アセトアセト−2−スルフォニル−5−クロロア
ニリド,アセトアセト−2−スルフォニル−6−クロロ
アニリド,アセトアセト−2−スルフォニル−3−メチ
ルアニリド,アセトアセト−2−スルフォニル−4−メ
チルアニリド,アセトアセト−2−スルフォニル−5−
メチルアニリド,アセトアセト−2−スルフォニル−6
−メチルアニリド,アセトアセト−2−スルフォニル−
3−ヒドロキシアニリド,アセトアセト−2−スルフォ
ニル−4−ヒドロキシアニリド,アセトアセト−2−ス
ルフォニル−5−ヒドロキシアニリド,アセトアセト−
3−スルフォニル−2−クロロアニリド,アセトアセト
−3−スルフォニル−4−クロロアニリド,アセトアセ
ト−3−スルフォニル−5−クロロアニリド,アセトア
セト−3−スルフォニル−6−クロロアニリド,アセト
アセト−3−スルフォニル−2−メチルアニリド,アセ
トアセト−3−スルフォニル−4−メチルアニリド,ア
セトアセト−3−スルフォニル−5−メチルアニリド,
アセトアセト−3−スルフォニル−6−メチルアニリド
,アセトアセト−3−スルフォニル−2−ヒドロキシア
ニリド,アセトアセト−3−スルフォニル−4−ヒドロ
キシアニリド,アセトアセト−3−スルフォニル−5−
ヒドロキシアニリド,アセトアセト−3−スルフォニル
−6−ヒドロキシアニリド,アセトアセト−4−スルフ
ォニル−クロロアニリド,アセトアセト−4−スルフォ
ニル−3−クロロアニリド,アセトアセト−4−スルフ
ォニル−2−メチルアニリド,アセトアセト−4−スル
フォニル−3−メチルアニリド,アセトアセト−4−ス
ルフォニル−2−ヒドロキシアニリド,アセトアセト−
4−スルフォニル−3−ヒドロキシアニリド,2−アセ
トアセチルベンゼンスルフォン酸のナトリウム塩,カリ
ウム塩,カルシウム塩,バリウム塩,ストロンチウム塩
,マンガン塩,亜鉛塩,マグネシウム塩,アルミニウム
塩,3−アセトアセチルベンゼンスルフォン酸のナトリ
ウム塩,カリウム塩,カルシウム塩,バリウム塩,スト
ロンチウム塩,マンガン塩,亜鉛塩,マグネシウム塩,
アルミニウム塩,4−アセトアセチルベンゼンスルフォ
ン酸のナトリウム塩,カリウム塩,カルシウム塩,バリ
ウム塩,ストロンチウム塩,マンガン塩,亜鉛塩,マグ
ネシウム塩,アルミニウム塩,4−アセトアセチル−2
−クロロベンゼンスルフォン酸のナトリウム塩,4−ア
セトアセチル−3−クロロベンゼンスルフォン酸のナト
リウム塩,4−アセトアセチル−2−メチルベンゼンス
ルフォン酸のナトリウム塩,4−アセトアセチル−3−
メチルベンゼンスルフォン酸のナトリウム塩,4−アセ
トアセチル−2−ヒドロキシベンゼンスルフォン酸のナ
トリウム塩,4−アセトアセチル−3−ヒドロキシベン
ゼンスルフォン酸のナトリウム塩,アセトアセトオルソ
アミノアニリド,アセトアセトメタアミノアニリド,ア
セトアセトパラアミノアニリド,アセトアセトオルソ−
N−メチルアミノアニリド,アセトアセトオルソ−N−
エチルアミノアニリド,アセトアセトオルソ−N−ブチ
ルアミノアニリド,アセトアセトオルソ−N−ステアリ
ルアミノアニリド,アセトアセトオルソ−N,N−ジメ
チルアミノアニリド,アセトアセトオルソ−N,N−ジ
エチルアミノアニリド,アセトアセトオルソ−N,N−
ジブチルアミノアニリド,アセトアセトオルソアミノア
ニリド,アセトアセトメタアミノアニリド,アセトアセ
トパラアミノアニリド,アセトアセトパラ−N−メチル
アミノアニリド,アセトアセトパラ−N−エチルアミノ
アニリド,アセトアセトパラ−N−ブチルアミノアニリ
ド,アセトアセトパラ−N−ステアリルアミノアニリド
,アセトアセトパラ−N,N−ジメチルアミノアニリド
,アセトアセトパラ−N,N−ジエチルアミノアニリド
,アセトアセトパラ−N,N−ジブチルアミノアニリド
,アセトアセト−2−クロロ−4−N,N−ジメチルア
ミノアニリド,アセトアセト−2−クロロ−4−N,N
−ジエチルアミノアニリド,アセトアセト−2−クロロ
−4−N,N−ジブチルアミノアニリド,アセトアセト
−2−メチル−4−N,N−ジメチルアミノアニリド,
アセトアセト−2−メチル−4−N,N−ジエチルアミ
ノアニリド,アセトアセト−2−メチル−4−N,N−
ジブチルアミノアニリド,アセトアセト−2−ヒドロキ
シ−4−N,N−ジメチルアミノアニリド,アセトアセ
ト−2−ヒドロキシ−4−N,N−ジエチルアミノアニ
リド,アセトアセト−2−ヒドロキシ−4−N,N−ジ
ブチルアミノアニリド,2−アセトアセチルベンズアミ
ド,3−アセトアセチルベンズアミド,4−アセトアセ
チルベンズアミド,3−アセトアセチル−2−クロロベ
ンズアミド,3−アセトアセチル−4−クロロベンズア
ミド,3−アセトアセチル−5−クロロベンズアミド,
3−アセトアセチル−6−クロロベンズアミド,3−ア
セトアセチル−2−メチルベンズアミド,3−アセトア
セチル−4−メチルベンズアミド,3−アセトアセチル
−4−メチルベンズアミド,3−アセトアセチル−5−
メチルベンズアミド,3−アセトアセチル−6−メチル
ベンズアミド,3−アセトアセチル−2−ヒドロキシベ
ンズアミド,3−アセトアセチル−2−ヒドロキシベン
ズアミド,3−アセトアセチル−4−ヒドロキシベンズ
アミド,3−アセトアセチル−5−ヒドロキシベンズア
ミド,3−アセトアセチル−6−ヒドロキシベンズアミ
ド,4−アセトアセチル−N,N−ジメチルベンズアミ
ド,4−アセトアセチル−N,N−ジエチルベンズアミ
ド,4−アセトアセチル−N,N−ジブチルベンズアミ
ド,2−アセトアセチルベンゼンスルフォニルアミド,
3−アセトアセチルベンゼンスルフォニルアミド,4−
アセトアセチルベンゼンスルフォニルアミド,4−アセ
トアセチルベンゼンスルフォニルジメチルアミド,4−
アセトアセチルベンゼンスルフォニルジエチルアミド,
4−アセトアセチルベンゼンスルフォニルジブチルアミ
ド,アセトアセト−p−ジメチルアミノプロピルアミノ
スルフォニルアニリド,アセトアセト−p−ジエチルア
ミノプロピルアミノスルフォニルアニリド,アセトアセ
ト−p−ジブチルアミノプロピルアミノスルフォニルア
ニリド,アセトアセト−p−ステアリルアミノプロピル
アミノスルフォニルアニリド,アセトアセト−p−ジメ
チルアミノエチルアミノスルフォニルアニリド,アセト
アセト−p−ジエチルアミノエチルアミノスルフォニル
アニリド,アセトアセト−p−ジブチルアミノエチルア
ミノスルフォニルアニリド,アセトアセト−p−ステア
リルアミノエチルアミノスルフォニルアニリド,アセト
アセト−p−ジメチルアミノプロピルアミノカルボアニ
リド,アセトアセト−p−ジエチルアミノプロピルアミ
ノカルボアニリド,アセトアセト−p−ジブチルアミノ
プロピルアミノカルボアニリド,アセトアセト−p−ス
テアリルアミノプロピルアミノカルボアニリド,アセト
アセト−p−ジメチルアミノエチルアミノカルボアニリ
ド,アセトアセト−p−ジエチルアミノエチルアミノカ
ルボアニリド,アセトアセト−p−ジブチルアミノエチ
ルアミノカルボアニリド, アセトアセト−p−ステ
アリルアミノエチルアミノカルボアニリド,4−アセト
アセチルベンゼンスルフォニルジエチロールアミド,4
−アセトアセチル−N,N−ジエチロールベンズアミド
。
化合物としては以下の例示化合物をがある。アセトアセ
トオルソカルボキシアニリド,アセトアセトメタカルボ
キシアニリド,アセトアセトパラカルボキシアニリド,
アセトアセト−2−カルボキシ−3−クロロアニリド,
アセトアセト−2−カルボキシ−4−クロロアニリド,
アセトアセト−2−カルボキシ−5−クロロアニリド,
アセトアセト−2−カルボキシ−6−クロロアニリド,
アセトアセト−2−カルボキシ−3−メチルアニリド,
アセトアセト−2−カルボキシ−4−メチルアニリド,
アセトアセト−2−カルボキシ−5−メチルアニリド,
アセトアセト−2−カルボキシ−6−メチルアニリド,
アセトアセト−2−カルボキシ−3−ヒドロキシアニリ
ド,アセトアセト−2−カルボキシ−4−ヒドロキシア
ニリド,アセトアセト−2−カルボキシ−5−ヒドロキ
シアニリド,アセトアセト−3−カルボキシ−2−クロ
ロアニリド,アセトアセト−3−カルボキシ−4−クロ
ロアニリド,アセトアセト−3−カルボキシ−5−クロ
ロアニリド,アセトアセト−3−カルボキシ−6−クロ
ロアニリド,アセトアセト−3−カルボキシ−2−メチ
ルアニリド,アセトアセト−3−カルボキシ−4−メチ
ルアニリド,アセトアセト−3−カルボキシ−5−メチ
ルアニリド,アセトアセト−3−カルボキシ−6−メチ
ルアニリド,アセトアセト−3−カルボキシ−2−ヒド
ロキシアニリド,アセトアセト−3−カルボキシ−4−
ヒドロキシアニリド,アセトアセト−3−カルボキシ−
5−ヒドロキシアニリド,アセトアセト−3−カルボキ
シ−6−ヒドロキシアニリド,アセトアセト−4−カル
ボキシ−2−クロロアニリド,アセトアセト−4−カル
ボキシ−3−クロロアニリド,アセトアセト−4−カル
ボキシ−2−メチルアニリド,アセトアセト−4−カル
ボキシ−3−メチルアニリド,アセトアセト−4−カル
ボキシ−2−ヒドロキシアニリド,アセトアセト−4−
カルボキシ−3−ヒドロキシアニリド,アセトアセトオ
ルソスルフォニルアニリド,アセトアセトメタスルフォ
ニルアニリド,アセトアセトパラスルフォニルアニリド
,アセトアセト−2−スルフォニル−3−クロロアニリ
ド,アセトアセト−2−スルフォニル−4−クロロアニ
リド,アセトアセト−2−スルフォニル−5−クロロア
ニリド,アセトアセト−2−スルフォニル−6−クロロ
アニリド,アセトアセト−2−スルフォニル−3−メチ
ルアニリド,アセトアセト−2−スルフォニル−4−メ
チルアニリド,アセトアセト−2−スルフォニル−5−
メチルアニリド,アセトアセト−2−スルフォニル−6
−メチルアニリド,アセトアセト−2−スルフォニル−
3−ヒドロキシアニリド,アセトアセト−2−スルフォ
ニル−4−ヒドロキシアニリド,アセトアセト−2−ス
ルフォニル−5−ヒドロキシアニリド,アセトアセト−
3−スルフォニル−2−クロロアニリド,アセトアセト
−3−スルフォニル−4−クロロアニリド,アセトアセ
ト−3−スルフォニル−5−クロロアニリド,アセトア
セト−3−スルフォニル−6−クロロアニリド,アセト
アセト−3−スルフォニル−2−メチルアニリド,アセ
トアセト−3−スルフォニル−4−メチルアニリド,ア
セトアセト−3−スルフォニル−5−メチルアニリド,
アセトアセト−3−スルフォニル−6−メチルアニリド
,アセトアセト−3−スルフォニル−2−ヒドロキシア
ニリド,アセトアセト−3−スルフォニル−4−ヒドロ
キシアニリド,アセトアセト−3−スルフォニル−5−
ヒドロキシアニリド,アセトアセト−3−スルフォニル
−6−ヒドロキシアニリド,アセトアセト−4−スルフ
ォニル−クロロアニリド,アセトアセト−4−スルフォ
ニル−3−クロロアニリド,アセトアセト−4−スルフ
ォニル−2−メチルアニリド,アセトアセト−4−スル
フォニル−3−メチルアニリド,アセトアセト−4−ス
ルフォニル−2−ヒドロキシアニリド,アセトアセト−
4−スルフォニル−3−ヒドロキシアニリド,2−アセ
トアセチルベンゼンスルフォン酸のナトリウム塩,カリ
ウム塩,カルシウム塩,バリウム塩,ストロンチウム塩
,マンガン塩,亜鉛塩,マグネシウム塩,アルミニウム
塩,3−アセトアセチルベンゼンスルフォン酸のナトリ
ウム塩,カリウム塩,カルシウム塩,バリウム塩,スト
ロンチウム塩,マンガン塩,亜鉛塩,マグネシウム塩,
アルミニウム塩,4−アセトアセチルベンゼンスルフォ
ン酸のナトリウム塩,カリウム塩,カルシウム塩,バリ
ウム塩,ストロンチウム塩,マンガン塩,亜鉛塩,マグ
ネシウム塩,アルミニウム塩,4−アセトアセチル−2
−クロロベンゼンスルフォン酸のナトリウム塩,4−ア
セトアセチル−3−クロロベンゼンスルフォン酸のナト
リウム塩,4−アセトアセチル−2−メチルベンゼンス
ルフォン酸のナトリウム塩,4−アセトアセチル−3−
メチルベンゼンスルフォン酸のナトリウム塩,4−アセ
トアセチル−2−ヒドロキシベンゼンスルフォン酸のナ
トリウム塩,4−アセトアセチル−3−ヒドロキシベン
ゼンスルフォン酸のナトリウム塩,アセトアセトオルソ
アミノアニリド,アセトアセトメタアミノアニリド,ア
セトアセトパラアミノアニリド,アセトアセトオルソ−
N−メチルアミノアニリド,アセトアセトオルソ−N−
エチルアミノアニリド,アセトアセトオルソ−N−ブチ
ルアミノアニリド,アセトアセトオルソ−N−ステアリ
ルアミノアニリド,アセトアセトオルソ−N,N−ジメ
チルアミノアニリド,アセトアセトオルソ−N,N−ジ
エチルアミノアニリド,アセトアセトオルソ−N,N−
ジブチルアミノアニリド,アセトアセトオルソアミノア
ニリド,アセトアセトメタアミノアニリド,アセトアセ
トパラアミノアニリド,アセトアセトパラ−N−メチル
アミノアニリド,アセトアセトパラ−N−エチルアミノ
アニリド,アセトアセトパラ−N−ブチルアミノアニリ
ド,アセトアセトパラ−N−ステアリルアミノアニリド
,アセトアセトパラ−N,N−ジメチルアミノアニリド
,アセトアセトパラ−N,N−ジエチルアミノアニリド
,アセトアセトパラ−N,N−ジブチルアミノアニリド
,アセトアセト−2−クロロ−4−N,N−ジメチルア
ミノアニリド,アセトアセト−2−クロロ−4−N,N
−ジエチルアミノアニリド,アセトアセト−2−クロロ
−4−N,N−ジブチルアミノアニリド,アセトアセト
−2−メチル−4−N,N−ジメチルアミノアニリド,
アセトアセト−2−メチル−4−N,N−ジエチルアミ
ノアニリド,アセトアセト−2−メチル−4−N,N−
ジブチルアミノアニリド,アセトアセト−2−ヒドロキ
シ−4−N,N−ジメチルアミノアニリド,アセトアセ
ト−2−ヒドロキシ−4−N,N−ジエチルアミノアニ
リド,アセトアセト−2−ヒドロキシ−4−N,N−ジ
ブチルアミノアニリド,2−アセトアセチルベンズアミ
ド,3−アセトアセチルベンズアミド,4−アセトアセ
チルベンズアミド,3−アセトアセチル−2−クロロベ
ンズアミド,3−アセトアセチル−4−クロロベンズア
ミド,3−アセトアセチル−5−クロロベンズアミド,
3−アセトアセチル−6−クロロベンズアミド,3−ア
セトアセチル−2−メチルベンズアミド,3−アセトア
セチル−4−メチルベンズアミド,3−アセトアセチル
−4−メチルベンズアミド,3−アセトアセチル−5−
メチルベンズアミド,3−アセトアセチル−6−メチル
ベンズアミド,3−アセトアセチル−2−ヒドロキシベ
ンズアミド,3−アセトアセチル−2−ヒドロキシベン
ズアミド,3−アセトアセチル−4−ヒドロキシベンズ
アミド,3−アセトアセチル−5−ヒドロキシベンズア
ミド,3−アセトアセチル−6−ヒドロキシベンズアミ
ド,4−アセトアセチル−N,N−ジメチルベンズアミ
ド,4−アセトアセチル−N,N−ジエチルベンズアミ
ド,4−アセトアセチル−N,N−ジブチルベンズアミ
ド,2−アセトアセチルベンゼンスルフォニルアミド,
3−アセトアセチルベンゼンスルフォニルアミド,4−
アセトアセチルベンゼンスルフォニルアミド,4−アセ
トアセチルベンゼンスルフォニルジメチルアミド,4−
アセトアセチルベンゼンスルフォニルジエチルアミド,
4−アセトアセチルベンゼンスルフォニルジブチルアミ
ド,アセトアセト−p−ジメチルアミノプロピルアミノ
スルフォニルアニリド,アセトアセト−p−ジエチルア
ミノプロピルアミノスルフォニルアニリド,アセトアセ
ト−p−ジブチルアミノプロピルアミノスルフォニルア
ニリド,アセトアセト−p−ステアリルアミノプロピル
アミノスルフォニルアニリド,アセトアセト−p−ジメ
チルアミノエチルアミノスルフォニルアニリド,アセト
アセト−p−ジエチルアミノエチルアミノスルフォニル
アニリド,アセトアセト−p−ジブチルアミノエチルア
ミノスルフォニルアニリド,アセトアセト−p−ステア
リルアミノエチルアミノスルフォニルアニリド,アセト
アセト−p−ジメチルアミノプロピルアミノカルボアニ
リド,アセトアセト−p−ジエチルアミノプロピルアミ
ノカルボアニリド,アセトアセト−p−ジブチルアミノ
プロピルアミノカルボアニリド,アセトアセト−p−ス
テアリルアミノプロピルアミノカルボアニリド,アセト
アセト−p−ジメチルアミノエチルアミノカルボアニリ
ド,アセトアセト−p−ジエチルアミノエチルアミノカ
ルボアニリド,アセトアセト−p−ジブチルアミノエチ
ルアミノカルボアニリド, アセトアセト−p−ステ
アリルアミノエチルアミノカルボアニリド,4−アセト
アセチルベンゼンスルフォニルジエチロールアミド,4
−アセトアセチル−N,N−ジエチロールベンズアミド
。
【0006】本発明の混合カップラー成分の使用割合は
、アセトアセトオルソトルイジド97.9〜60モル%
、アセトアセト−2,5−ジメトキシ−4−クロロアニ
リド2〜40モル%および下記一般式(1)で表される
アセトアニリド系化合物0.1〜10モル%、好ましく
は1から5モル%である。アセトアセトオルソトルイジ
ドとアセトアセト−2,5−ジメトキシ−4−クロロア
ニリドの使用割合はプロセス黄インキの色相を調整する
ためのものである。また、一般式(1)のアセトアニリ
ド系化合物が上記数値より多くなると、不透明化、分散
不良となるので好ましくない。
、アセトアセトオルソトルイジド97.9〜60モル%
、アセトアセト−2,5−ジメトキシ−4−クロロアニ
リド2〜40モル%および下記一般式(1)で表される
アセトアニリド系化合物0.1〜10モル%、好ましく
は1から5モル%である。アセトアセトオルソトルイジ
ドとアセトアセト−2,5−ジメトキシ−4−クロロア
ニリドの使用割合はプロセス黄インキの色相を調整する
ためのものである。また、一般式(1)のアセトアニリ
ド系化合物が上記数値より多くなると、不透明化、分散
不良となるので好ましくない。
【0007】本発明において3、3’ージクロロベンジ
ジンのテトラゾ化物と混合カップラーとのカップリング
反応は特に制限されないが、常法により酢酸酸性下で行
う。この際の条件はPH6からPH3、温度10℃から
30℃、時間30分から60分で行う。ついでこの顔料
スラリーをアルカリ側(PH9からPH14)に調整し
、ロジンのアルカリ塩溶液を添加する。ロジンの添加量
は色素に対し1から50重量%である。ついでこのスラ
リーを温度80℃で30分間程度加熱する。ついで酸側
(PHとはPH6からPH4)にPH調整し顔料表面に
ロジンを析出させ、30分保温後、濾過、水洗、乾燥、
粉砕を行う。
ジンのテトラゾ化物と混合カップラーとのカップリング
反応は特に制限されないが、常法により酢酸酸性下で行
う。この際の条件はPH6からPH3、温度10℃から
30℃、時間30分から60分で行う。ついでこの顔料
スラリーをアルカリ側(PH9からPH14)に調整し
、ロジンのアルカリ塩溶液を添加する。ロジンの添加量
は色素に対し1から50重量%である。ついでこのスラ
リーを温度80℃で30分間程度加熱する。ついで酸側
(PHとはPH6からPH4)にPH調整し顔料表面に
ロジンを析出させ、30分保温後、濾過、水洗、乾燥、
粉砕を行う。
【0008】本発明のジスアゾ顔料組成物はプロセス用
オフセットインキとして使用される。オフセットインキ
の組成物としては、本発明のジスアゾ顔料3〜35重量
%とオフセット用インキビヒクル97〜45重量%、そ
の他補助剤や体質顔料0から20重量%からなる。オフ
セット用インキビヒクルはロジン変性フェーノール樹脂
、石油樹脂、アルキッド樹脂、または、これらの乾性油
変性樹脂などの樹脂20から50重量%、アマニ油、桐
油、大豆油などの植物油0から30重量%、nーパラフ
ィン、イソパラフィン、アロマチック、ナフテン、αー
オレフィンなどの溶剤10から60重量%からなるもの
である。
オフセットインキとして使用される。オフセットインキ
の組成物としては、本発明のジスアゾ顔料3〜35重量
%とオフセット用インキビヒクル97〜45重量%、そ
の他補助剤や体質顔料0から20重量%からなる。オフ
セット用インキビヒクルはロジン変性フェーノール樹脂
、石油樹脂、アルキッド樹脂、または、これらの乾性油
変性樹脂などの樹脂20から50重量%、アマニ油、桐
油、大豆油などの植物油0から30重量%、nーパラフ
ィン、イソパラフィン、アロマチック、ナフテン、αー
オレフィンなどの溶剤10から60重量%からなるもの
である。
【0009】
【発明の効果】一般的にオフセットインキの透明性、濃
度の向上は顔料粒子を微細化することで達成できる。し
かしアセトアセトアニリドと極性基含有カップラー成分
の二成分混合カップリングでは乾燥工程の熱により顔料
粒子が結晶成長してしまう。これはアセトアセトアニリ
ドが著しく耐熱性がないためである。しかしながら、本
発明では顔料粒子を微細化させると同時に乾燥工程の熱
による顔料粒子の結晶成長を抑制し、さらに印刷ワニス
の濡れが改良され透明性、濃度、流動性が向上させるこ
とができた。
度の向上は顔料粒子を微細化することで達成できる。し
かしアセトアセトアニリドと極性基含有カップラー成分
の二成分混合カップリングでは乾燥工程の熱により顔料
粒子が結晶成長してしまう。これはアセトアセトアニリ
ドが著しく耐熱性がないためである。しかしながら、本
発明では顔料粒子を微細化させると同時に乾燥工程の熱
による顔料粒子の結晶成長を抑制し、さらに印刷ワニス
の濡れが改良され透明性、濃度、流動性が向上させるこ
とができた。
【0010】
【実施例】以下実施例をあげて本発明を具体的に説明す
る。実施例において「部」は全て重量部を示す。
る。実施例において「部」は全て重量部を示す。
【0011】実施例1
水400部に3,3’−ジクロロベンジジン25.3部
と35%塩酸16.5部を加える。この溶液を0℃に冷
却後20%亜硝酸ソーダ溶液を57部加え、1時間撹拌
する。少量のスルファミン酸を加え過剰の亜硝酸ソーダ
を消失させて、3、3’−ジクロロベンジジンのテトラ
ゾ溶液とする。一方、アセトアセトオルソトルイジド3
3.6部とアセトアセト−2,5−ジメトキシ−4−ク
ロロアニリド5.0部と3−アセトアセチル−4−メチ
ルベンズアミド1.4部および苛性ソーダ20部を加え
て溶解する。この溶液に10%酢酸360部を少しずつ
加えて懸濁液とし、これに前記テトラゾ溶液を約30分
要して加える。この間反応液の温度は約15℃に保って
おく。得られたジスアゾ顔料のスラリーを苛性ソーダで
PH10からPH11に調整後、ロジンの10%アルカ
リ塩溶液を70部を添加した。このスラリーを80℃ま
で加熱し、30分攪拌後塩酸を加えPH4からPH6に
調整し、濾過、水洗した。得られた顔料のプレスケーキ
を80℃にて乾燥し、粉砕した。
と35%塩酸16.5部を加える。この溶液を0℃に冷
却後20%亜硝酸ソーダ溶液を57部加え、1時間撹拌
する。少量のスルファミン酸を加え過剰の亜硝酸ソーダ
を消失させて、3、3’−ジクロロベンジジンのテトラ
ゾ溶液とする。一方、アセトアセトオルソトルイジド3
3.6部とアセトアセト−2,5−ジメトキシ−4−ク
ロロアニリド5.0部と3−アセトアセチル−4−メチ
ルベンズアミド1.4部および苛性ソーダ20部を加え
て溶解する。この溶液に10%酢酸360部を少しずつ
加えて懸濁液とし、これに前記テトラゾ溶液を約30分
要して加える。この間反応液の温度は約15℃に保って
おく。得られたジスアゾ顔料のスラリーを苛性ソーダで
PH10からPH11に調整後、ロジンの10%アルカ
リ塩溶液を70部を添加した。このスラリーを80℃ま
で加熱し、30分攪拌後塩酸を加えPH4からPH6に
調整し、濾過、水洗した。得られた顔料のプレスケーキ
を80℃にて乾燥し、粉砕した。
【0012】実施例2
実施例1で使用した3−アセトアセチル−4−メチルベ
ンズアミドに代えて4−アセトアセチルベンズアミド1
.3部を使用した他は実施例1と同様に行った。
ンズアミドに代えて4−アセトアセチルベンズアミド1
.3部を使用した他は実施例1と同様に行った。
【0013】実施例3
実施例1で使用した3−アセトアセチル−4−メチルベ
ンズアミドに代えて4−アセトアセチルベンゼンスルフ
ォン酸ナトリウム1.7部を使用した他は実施例1と同
様に行った。
ンズアミドに代えて4−アセトアセチルベンゼンスルフ
ォン酸ナトリウム1.7部を使用した他は実施例1と同
様に行った。
【0014】実施例4
実施例1で使用した3−アセトアセチル−4−メチルベ
ンズアミドに代えてアセトアセト−p−ジメチルアミノ
プロピルアミノスルフォニルアニリド2.0部を使用し
た他は実施例1と同様に行った。
ンズアミドに代えてアセトアセト−p−ジメチルアミノ
プロピルアミノスルフォニルアニリド2.0部を使用し
た他は実施例1と同様に行った。
【0015】実施例5
実施例1で使用した3−アセトアセチル−4−メチルベ
ンズアミドに代えてアセトアセト−p−ジエチルアミノ
プロピルアミノカルボアニリド2.0部を使用した他は
実施例1と同様に行った。
ンズアミドに代えてアセトアセト−p−ジエチルアミノ
プロピルアミノカルボアニリド2.0部を使用した他は
実施例1と同様に行った。
【0016】実施例6
実施例1で使用した3−アセトアセチル−4−メチルベ
ンズアミドに代えてアセトアセト−p−ジメチルアミノ
プロピルアミノカルボアニリド1.9部を使用した他は
実施例1と同様に行った。
ンズアミドに代えてアセトアセト−p−ジメチルアミノ
プロピルアミノカルボアニリド1.9部を使用した他は
実施例1と同様に行った。
【0017】実施例7
実施例1で使用した3−アセトアセチル−4−メチルベ
ンズアミドに代えて4−アセトアセチルベンゼンスルフ
ォニルジエチロールアミド2.0部を使用した他は実施
例1と同様に行った。
ンズアミドに代えて4−アセトアセチルベンゼンスルフ
ォニルジエチロールアミド2.0部を使用した他は実施
例1と同様に行った。
【0018】実施例8
実施例1で使用した3−アセトアセチル−4−メチルベ
ンズアミドに代えてアセトアセトオルソカルボキシアニ
リド1.3部を使用した他は実施例1と同様に行った。
ンズアミドに代えてアセトアセトオルソカルボキシアニ
リド1.3部を使用した他は実施例1と同様に行った。
【0019】実施例9
実施例1で使用した3−アセトアセチル−4−メチルベ
ンズアミドに代えてアセトアセト−3−ヒドロキシ−4
−カルボキシアニリド1.4部を使用した他は実施例1
と同様に行った。
ンズアミドに代えてアセトアセト−3−ヒドロキシ−4
−カルボキシアニリド1.4部を使用した他は実施例1
と同様に行った。
【0020】実施例10
実施例1で使用した3−アセトアセチル−4−メチルベ
ンズアミドに代えてアセトアセト−3−カルボキシ−4
−ヒドロキシアニリド1.4部を使用した他は実施例1
と同様に行った。
ンズアミドに代えてアセトアセト−3−カルボキシ−4
−ヒドロキシアニリド1.4部を使用した他は実施例1
と同様に行った。
【0021】実施例11
実施例1で使用した3−アセトアセチル−4−メチルベ
ンズアミドに代えて4−アセトアセチル−N,N−ジエ
チロールベンズアミド1.9部を使用した他は実施例1
と同様に行った。
ンズアミドに代えて4−アセトアセチル−N,N−ジエ
チロールベンズアミド1.9部を使用した他は実施例1
と同様に行った。
【0022】各例で得られた乾燥ジスアゾ顔料10部と
ロジン変性フェノール樹脂をバインダーとするオフセッ
トインキワニス90部と混ぜ、3本ロールミルで分散し
オフセットインキを作成した。このオフセットインキの
性能を一般式(1)を添加しないで合成したジスアゾ顔
料を用いて作成したオフセットインキ(標準インキ)と
比較して表−1にまとめた。表−1において、L* は
インキの透明性を示しその値が小の方が透明性大、濃度
はコーサー値(反射率濃度)で示しその値が大の方が濃
度大、流動性はスプレットメーター測定器での60秒値
( mm )で示しその値が大の方が流動性大であ
る。
ロジン変性フェノール樹脂をバインダーとするオフセッ
トインキワニス90部と混ぜ、3本ロールミルで分散し
オフセットインキを作成した。このオフセットインキの
性能を一般式(1)を添加しないで合成したジスアゾ顔
料を用いて作成したオフセットインキ(標準インキ)と
比較して表−1にまとめた。表−1において、L* は
インキの透明性を示しその値が小の方が透明性大、濃度
はコーサー値(反射率濃度)で示しその値が大の方が濃
度大、流動性はスプレットメーター測定器での60秒値
( mm )で示しその値が大の方が流動性大であ
る。
【0023】
【表1】
Claims (2)
- 【請求項1】 3,3’−ジクロロベンジジンのテト
ラゾ化物をジアゾ成分とし、アセトアセトオルソトルイ
ジド97.9〜60モル%、アセトアセト−2,5−ジ
メトキシ−4−クロロアニリド2〜40モル%および下
記一般式(1)で表されるアセトアニリド系化合物0.
1〜10モル%を混合カップラー成分としてなるジスア
ゾ顔料。 【化1】 〔ただし、式中、XはーCOOH,−SO3 H,−S
O3 M,−NR1 R2 ,−CONR1 R2 ,
−SO2 NR1 R2 ,−CONH(CH2 )n
NR1 R2 ,−SO2 NH(CH2 )n N
R1 R2 (ただし、R1 ,R2 はそれぞれ水素
原子、炭素数が1〜18のアルキル基または−C2 H
4 OH基を示し、nは1〜3の整数、Mは金属イオン
を表す。)、Yは、H,OH,CH3 ,Clを示す。 〕 - 【請求項2】 請求項1記載のジスアゾ顔料および印
刷インキビヒクルからなることを特徴とする印刷インキ
組成物。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP3801991A JP2682747B2 (ja) | 1991-02-07 | 1991-02-07 | ジスアゾ顔料および印刷インキ組成物 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP3801991A JP2682747B2 (ja) | 1991-02-07 | 1991-02-07 | ジスアゾ顔料および印刷インキ組成物 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH04255761A true JPH04255761A (ja) | 1992-09-10 |
JP2682747B2 JP2682747B2 (ja) | 1997-11-26 |
Family
ID=12513868
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP3801991A Expired - Lifetime JP2682747B2 (ja) | 1991-02-07 | 1991-02-07 | ジスアゾ顔料および印刷インキ組成物 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2682747B2 (ja) |
Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS55135165A (en) * | 1979-04-11 | 1980-10-21 | Dainichi Seika Kogyo Kk | Production of azo pigment |
JPS62187768A (ja) * | 1986-02-14 | 1987-08-17 | Dainichi Color & Chem Mfg Co Ltd | ジスアゾ顔料の製造方法 |
JPS62197460A (ja) * | 1986-02-25 | 1987-09-01 | Dainippon Ink & Chem Inc | ジスアゾ黄色顔料の製造法 |
-
1991
- 1991-02-07 JP JP3801991A patent/JP2682747B2/ja not_active Expired - Lifetime
Patent Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS55135165A (en) * | 1979-04-11 | 1980-10-21 | Dainichi Seika Kogyo Kk | Production of azo pigment |
JPS62187768A (ja) * | 1986-02-14 | 1987-08-17 | Dainichi Color & Chem Mfg Co Ltd | ジスアゾ顔料の製造方法 |
JPS62197460A (ja) * | 1986-02-25 | 1987-09-01 | Dainippon Ink & Chem Inc | ジスアゾ黄色顔料の製造法 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2682747B2 (ja) | 1997-11-26 |
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