JPWO2014030670A1 - 半導体発光素子用基板及び半導体発光素子、並びにこれらの製造方法 - Google Patents
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Abstract
Description
本願は、2012年8月21日に、日本に出願された特願2012−182302号及び2013年6月14日に、日本に出願された特願2013−126025号に基づき優先権を主張し、その内容をここに援用する。
この発光構造体を支持する半導体発光素子用基板は、サファイア、炭化珪素、あるいは、シリコンなどから形成されて、発光構造体を構成する半導体層などよりも、通常、低い屈折率を有している。
発光構造体の生成する光の一部は、半導体発光素子用基板と発光構造体との間の屈折率の差異に従い、半導体発光素子用基板と発光構造体との間で全反射を繰り返す。結果として、発光構造体の生成する光は、発光構造体の内部で減衰してしまう。
この問題を解決するため、基板に予め凹凸構造を形成してから半導体層を積層することにより、前記凹凸状基板の凹凸構造を利用して光の角度を変えて全反射を抑制し、光取り出し効率を向上させる方法が種々提案されている(特許文献1〜3、非特許文献1)。
また、特許文献3では、基板上に配置した無機粒子をエッチングマスクとして前記基板をドライエッチングすることで基板上に凹凸構造を形成し、その後この凹凸構造上に半導体層を形成することが提案されている。特許文献3において、基板上に無機粒子を配置する好ましい方法として、無機粒子を水等の媒体に分散させたスラリーを用いて、前記スラリー中へ前記基板を浸漬させるかまたは、前記スラリーを前記基板上に塗布あるいは噴霧した後に乾燥させる方法が提案されている。また、良好な半導体層を形成するために、無機粒子は90%以下の被覆率で基板に配置されるべきであるとされている。
また、非特許文献1では、基板上に形成する凹凸構造のピッチと、光取り出し効率の向上効果との関係について検討がなされている。そして、1000nmピッチの凹凸構造では、殆ど光取り出し効率の向上効果が得られなかったのに対して、500nmピッチの凹凸構造によって、平坦な基板の場合と比べて170%の光取り出し効率が得られたことが記載されている。
なお、ピッチが1μm以下の凹凸構造を有する微細構造体の作製方法としては、従来電子線描画法や干渉露光法などが知られている。
一方で、それゆえに、発光構造体の生成した光の取り出される効率を高める点では、上述された微細な凹凸構造でも、依然として改善の余地が残されている。
また、回折光の影響により、半導体発光素子にカラーシフトや、見る角度によって放射強度が異なる(面内異方性が高い)問題が発生することがあった。
そのため、従来のフォトリソグラフィーによる半導体発光素子用基板の作製においては、平坦性の高い基板を用いなければならなかった。しかし、平坦性の高い基板、特に平坦性の高いサファイア基板は、高度な研磨技術がなければ得られないため、非常に高価であるという問題があった。
すなわち、電子線描画法は1インチの描画に約2週間を要するほど描画速度が遅く、大面積の基板の加工には、非常にコストと時間がかかる。また、大面積を長時間掛けて描画する間の環境(電圧、振動、気温等)を一定に保つことが難しく、均質な微細構造体の作製が難しい。
また、干渉露光法では、光源にガウシアンビームを使用しており、露光対象の面積が大きくなると中央部と周辺部での適正露光時間が異なることとなる。また、振動(地面や建物の振動、空気の振動など)に弱く、露光時間中に少しでも振動が加わると像がぶれて解像度が低下する。そのため、均質な微細構造体を大面積で作製することは難しい。
電子線描画装置や干渉露光法は、必要な装置が大がかりであり、高価であることも、工業的実施を妨げる要因となっている。
さらに、本発明者が検討した結果、仮に部分的な重なりを避けたとしても、無機粒子同士が接触した箇所が多数生じ、その部分の基板は、断面が略逆三角形状にエッチングされることが分かった。基板上での半導体層のエピタキシャル成長には、凹部に平坦な底面が存在することが必要である。そのため、特許文献3の方法では、半導体層に結晶欠陥が発生する懸念があった。
また、本発明の他の態様は、結晶欠陥が少ない半導体層を形成することができ、上記課題を解決する半導体発光素子の製造に好適な半導体発光素子用基板を提供することを課題とする。
また、本発明のさらに他の態様は、上記課題を解決する半導体発光素子用基板を製造でき、簡便な手法で、低コストかつ短時間でピッチが1μm以下の凹凸構造も形成できる半導体発光素子用基板の製造方法を提供することを課題とする。
また、本発明のさらに他の態様は、上記課題を解決する半導体発光素子用基板の製造方法を用いることにより、上記課題を解決する半導体発光素子を製造できる半導体発光素子の製造方法を提供することを課題とする。
[1] 基板に下記式(1)で定義される配列のずれD(%)が15%以下となるように、複数の粒子を単一層で配列させる粒子配列工程と、
前記粒子がエッチングされ、前記基板が実質的にエッチングされない条件で、前記配列した複数の粒子をドライエッチングして粒子間に間隙を設ける粒子エッチング工程と、
前記粒子エッチング工程後の複数の粒子をエッチングマスクとして前記基板をドライエッチングし、前記基板の一方の面に凹凸構造を形成する基板エッチング工程を備えることを特徴とする半導体発光素子用基板の製造方法。
D[%]=|B−A|×100/A・・・(1)
但し、式(1)中、Aは粒子の平均粒径、Bは粒子間の最頻ピッチである。また、|B−A|はAとBとの差の絶対値を示す。
[2] 前記粒子配列工程が、水槽内の水の液面に水よりも比重が小さい溶剤中に粒子が分散した分散液を滴下する滴下工程と、前記溶剤を揮発させることにより前記粒子からなる単粒子膜を水の液面上に形成する単粒子膜形成工程と、前記単粒子膜を基板に移し取る移行工程とを有する[1]に記載の半導体発光素子用基板の製造方法。
[3] 前記粒子間の最頻ピッチが5μm以下である[1]または[2]に記載の半導体発光素子用基板の製造方法。
[4] 前記粒子間の最頻ピッチが1μm以下である[1]または[2]に記載の半導体発光素子用基板の製造方法。
[5] 前記粒子間の最頻ピッチが200nm〜700nmである[1]または[2]に記載の半導体発光素子用基板の製造方法。
[6] 前記基板がサファイアであり、前記粒子がシリカであり、前記粒子エッチング工程が、エッチングガスとしてCF4、SF6、CHF3、C2F6、C3F8、CH2F2、O2、およびNF3からなる群から選択される少なくとも1種のガスを用いる工程であり、前記基板エッチング工程が、エッチングガスとしてCl2、Br2、BCl3、SiCl4、HBr、HI、HCl、およびArからなる群から選択される少なくとも1種のガスを用いる工程である[1]〜[5]のいずれか一項に記載の半導体発光素子用基板の製造方法。
[7] 基板に複数の粒子を単一層で配列させる粒子配列工程と、
前記粒子がエッチングされ、前記基板が実質的にエッチングされない条件で、前記配列した複数の粒子をドライエッチングして粒子間に間隙を設ける粒子エッチング工程と、
前記粒子エッチング工程後の複数の粒子をエッチングマスクとして前記基板をドライエッチングし、前記基板の一方の面に凹凸構造を形成する基板エッチング工程を備え、
前記基板がサファイアであり、前記粒子がシリカであり、前記粒子エッチング工程が、エッチングガスとしてCF4、SF6、CHF3、C2F6、C3F8、CH2F2、O2、およびNF3からなる群から選択される少なくとも1種のガスを用いる工程であり、前記基板エッチング工程が、エッチングガスとしてCl2、Br2、BCl3、SiCl4、HBr、HI、HCl、およびArからなる群から選択される少なくとも1種のガスを用いる工程であることを特徴とする半導体発光素子用基板の製造方法。
[8] 前記粒子配列工程が、水槽内の水の液面に水よりも比重が小さい溶剤中に粒子が分散した分散液を滴下する滴下工程と、前記溶剤を揮発させることにより前記粒子からなる単粒子膜を水の液面上に形成する単粒子膜形成工程と、前記単粒子膜を基板に移し取る移行工程とを有する[7]に記載の半導体発光素子用基板の製造方法。
[9] 前記基板のASTM F657で規定される最大厚み及び最小厚みの間の絶対差(TTV)が5μm〜30μm、ASTM F1390規定される基準面からのズレの最大値と最小値の差(WARP)が10μm〜50μm、ASTM F534.3.1.2で規定される基板の中心部での基準面からの隔たりの絶対値(|BOW|)が10μm〜50μmである[1]〜[8]のいずれか一項に記載の半導体発光素子用基板の製造方法。
[10] 基板の上面に複数の粒子を単一層で配列させて単粒子膜を形成する粒子配列工程と、
前記粒子がエッチングされ、前記基板が実質的にエッチングされない条件で、前記配列した複数の粒子をドライエッチングして粒子間に間隙を設ける粒子エッチング工程と、
前記単粒子膜をマスクにして前記上面をエッチングする基板エッチング工程と、を含み、
前記基板エッチング工程では、
前記粒子エッチング工程後に前記基板の上面において露出している領域に段差を形成する半導体発光素子用基板の製造方法。
[11] 前記粒子エッチング工程では、前記複数の粒子の各々を縮小する[10]に記載の半導体発光素子用基板の製造方法。
[12] 前記基板エッチング工程において、
複数の粒子のうち、2つの粒子の間の隙間が大きいほど、前記段差が小さくなる[10]または[11]に記載の半導体発光素子用基板の製造方法。
[13] 前記粒子配列工程では、前記複数の粒子をLB法によって配列する[12]に記載の半導体発光素子用基板の製造方法。
[14] [10]から[13]のいずれか1つに記載の半導体発光素子用基板の製造方法によって半導体発光素子用基板を形成する工程と、
前記半導体発光素子用基板にて前記段差が形成された前記上面に、半導体層を含む発光構造体を形成する工程と、を含む半導体発光素子の製造方法。
[15][1]〜[14]のいずれか一項に記載の製造方法により半導体発光素子用基板を得る工程と、得られた半導体発光素子用基板の凹凸構造が形成された面に、少なくとも発光層を含む半導体機能層を積層する工程を備える半導体発光素子の製造方法。
[16] 基板の一方の面に凹凸構造を有する半導体発光素子用基板であって、
前記凹凸構造は、多数の凸部と各凸部の間の平坦面とを有し、
かつ、隣接する7つの凸部の中心点が正六角形の6つの頂点と対角線の交点となる位置関係で連続して整列しているエリアを複数備え、
前記複数のエリアの面積、形状及び格子方位がランダムである半導体発光素子用基板。
[17] 前記凹凸構造の最頻ピッチが5μm以下であり、前記多数の凸部のアスペクト比が0.5〜1.0である[16]に記載の半導体発光素子用基板。
[18] 前記凹凸構造の最頻ピッチが1μm以下であり、前記多数の凸部のアスペクト比が0.5〜1.0である[16]に記載の半導体発光素子用基板。
[19] 前記凹凸構造の最頻ピッチが200nm〜700nmであり、前記多数の凸部のアスペクト比が0.5〜1.0である[16]に記載の半導体発光素子用基板。
[20] 前記凸部間を連結するブリッジ部を更に備える[16]から[19]のいずれか1つに記載の半導体発光素子用基板。
[21]前記基板がサファイアである[16]〜[20]のいずれか一項に記載の半導体発光素子用基板。
[22][16]〜[20]のいずれか一項に記載の半導体発光素子用基板と、前記半導体発光素子用基板上に積層された半導体機能層を備え、前記半導体機能層は少なくとも発光層を含む半導体発光素子。
[23]前記半導体機能層の光取出し側に、前記発光層から出射される発光を、前記発光の波長より長波長側に波長変換する波長変換層を備える[22]に記載の半導体発光素子。
[24]前記波長変換層が、ピーク波長410nm〜483nmの蛍光を発する青色蛍光体、ピーク波長490nm〜556nmの蛍光を発する緑色蛍光体、およびピーク波長585nm〜770nmの蛍光を発する赤色蛍光体を含有する[23]に記載の半導体発光素子。
[25]前記波長変換層がピーク波長570nm〜578nmの蛍光を発する黄色蛍光体を含有する[24]に記載の半導体発光素子。
また、本発明のいくつかの態様によれば、結晶欠陥が少ない半導体層を形成することができ、上記課題を解決する半導体発光素子の製造に好適な半導体発光素子用基板を提供できる。
また、本発明のいくつかの態様は、上記課題を解決する半導体発光素子用基板を製造でき、簡便な手法で、低コストかつ短時間でピッチが1μm以下の凹凸構造も形成できる半導体発光素子用基板の製造方法を提供できる。
また、本発明のいくつかの態様は、上記課題を解決する半導体発光素子用基板の製造方法を用いることにより、上記課題を解決する半導体発光素子を製造できる半導体発光素子の製造方法を提供できる。
<半導体発光素子用基板>
図1、2を用いて、本発明の一実施形態に係る半導体発光素子用基板11について説明する。図1に示すように、半導体発光素子用基板11は基板の一方の面に凹凸構造を有している。
図1におけるt11〜t1nは各凸部c11〜c1nの中心点である。AFM(原子間力顕微鏡)の測定結果に基づき、基準面と平行に各凸部について20nm毎に複数の等高線を引き、各等高線の重心点(x座標とy座標で決定される点)を求める。これらの各重心点の平均位置(各x座標の平均とy座標の平均で決定される位点)が、前記凸部の中心点である。
図1におけるm11〜m1nは、AFMで求めた隣接する中心点の中点である。また、平坦面f11〜f1nは、AFMの測定結果に基づき、その領域内の中点における表面高さと、その領域内における任意の点の表面高さとを結ぶ直線の、AFMの基準面に対する傾きが±10゜以下である領域である。
各平坦面の周辺と各中点との距離が好ましい下限値以上であれば、充分な平坦面の面積が確保され、基板上でに半導体層を安定してエピタキシャル成長させやすい。また、各平坦面の周辺と各中点との距離が好ましい上限値以下であれば、充分な密度で凸部を形成して、光取り出し効率向上の効果を得やすい。
また、各平坦面f11〜f1nは、以下のような配置となるように凸部c11〜c1nを形成する。凸部c11〜c1nの頂点を通り、基板に垂直な断面、即ち図1に示す断面で見たときの平坦面f11〜f1nの長さが、凸部c11〜c1nのうちの隣り合う二つの凸部の頂点同士を結ぶ直線に対し、5%〜40%、好ましくは15%〜25%となるよう凸部c11〜c1nが形成される。
凹凸構造の最頻ピッチPは、100nm〜5μmが好ましく、100nm〜1μmがより好ましく、200nm〜700nmの範囲がさらに好ましく、300nm〜600nmの範囲が特に好ましい。最頻ピッチPが好ましい範囲内であれば、光の全反射を防止しやすい。特に、最頻ピッチPが1μm以下であると、青〜紫外の光取り出し効率をより効果的に高めることが可能である。そのため、GaNやInGaNなどの成膜を行って発光波長が青〜紫外の領域の半導体発光素子に使用する基板の凹凸構造として好適である。
まず、凹凸面における無作為に選択された領域で、一辺が最頻ピッチPの30〜40倍の正方形の領域における基板面と平行な面をAFM基準面とし、当前記正方形の領域について、AFMイメージを得る。例えば、最頻ピッチが300nm程度の場合、9μm×9μm〜12μm×12μmの領域のイメージを得る。そして、このイメージをフーリエ変換により波形分離し、FFT像(高速フーリエ変換像)を得る。ついで、FFT像のプロファイルにおける0次ピークから1次ピークまでの距離を求める。こうして求められた距離の逆数がこの領域における最頻ピッチPである。このような処理を無作為に選択された合計25カ所以上の同面積の領域について同様に行い、各領域における最頻ピッチを求める。こうして得られた25カ所以上の領域における最頻ピッチP1〜P25の平均値が最頻ピッチPである。なお、この際、各領域同士は、少なくとも1mm離れて選択されることが好ましく、より好ましくは5mm〜1cm離れて選択される。
最頻高さHが好ましい範囲内であれば、その後成膜される窒化化合物の成膜欠陥が低減され、更には光の全反射を防止し、光取り出し効率を改善することができる。
凸部の最頻高さHは、具体的には次のようにして求められる。
まず、AFMイメージから、任意の方向と位置における長さ1mmの線に沿った凸部c11〜c1nの頂点を通り、基板に垂直な断面、即ち図1のような断面を得る。この断面の凸部が30個以上含まれる任意の部分を抽出し、その中に含まれる各凸部について、その頂点の高さと、当前記凸部に隣接する凸部との間の平坦部における最も低い位置の高さとの差を求める。得られた値を有効桁数2桁で丸め各凸部の高さとし、その最頻値を最頻高さHとする。
各エリアC11〜C1nは、隣接する7つの凸部の中心点が正六角形の6つの頂点と対角線の交点となる位置関係で連続して整列している領域である。なお、図2では、各凸部の中心点の位置を、便宜上、その中心点を中心とする円u1で示している。円u1は、図1に示すように、各凸部だけでなく、その周辺の平坦面を含む領域に相当する。
本実施形態において、隣接する7つの凸部の中心点が正六角形の6つの頂点と対角線の交点となる位置関係とは、具体的には、以下の条件を満たす関係をいう。
まず、1つの中心点t11から、隣接する中心点t12の方向に長さが最頻ピッチPと等しい長さの線分L1を引く。次いで中心点t11から、線分L1に対して、60゜、120゜、180゜、240゜、300゜の各方向に、最頻ピッチPと等しい長さの線分L2〜L6を引く。中心点t11に隣接する6つの中心点が、中心点t11と反対側における各線分L1〜L6の終点から、各々最頻ピッチPの15%以内の範囲にあれば、これら7つの中心点は、正六角形の6つの頂点と対角線の交点となる位置関係にある。
最頻ピッチPが500nm未満の時、10mm×10mmのAFMイメージ測定範囲内における最頻面積Qは、0.026μm2〜6.5mm2であることが好ましい。
最頻ピッチPが500nm以上1μm未満の時、10mm×10mmのAFMイメージ測定範囲内における最頻面積Qは、0.65μm2〜26mm2であることが好ましい。
最頻ピッチPが1μm以上の時、50mm×50mmのAFMイメージ測定範囲内における最頻面積Qは、2.6μm2〜650mm2であることが好ましい。
最頻面積Qが好ましい範囲内であれば、光のカラーシフトや面内異方性が高くなる問題を防止しやすい。
面積のランダム性の度合いは、具体的には、以下の条件を満たすことが好ましい。
まず、ひとつのエリアの境界線が外接する最大面積の楕円を描き、その楕円を下記式(α)で表す。
X2/a2+Y2/b2=1・・・・・・(α)
最頻ピッチPが500nm未満の時、10mm×10mmのAFMイメージ測定範囲内におけるπabの標準偏差は、0.08μm2以上であることが好ましい。
最頻ピッチPが500nm以上1μm未満の時、10mm×10mmのAFMイメージ測定範囲内におけるπabの標準偏差は、1.95μm2以上であることが好ましい。
最頻ピッチPが1μm以上の時、50mm×50mmのAFMイメージ測定範囲内におけるπabの標準偏差は、8.58μm2以上であることが好ましい。
πabの標準偏差が好ましい範囲内であれば、回折光の平均化の効果が優れる。
また各エリアC11〜C1nの格子方位のランダム性は、具体的には、以下の条件を満たすことが好ましい。
まず、任意のエリア(I)における任意の隣接する2つの凸部の中心点を結ぶ直線K0を画く。次に、前記エリア(I)に隣接する1つのエリア(II)を選択し、そのエリア(II)における任意の凸部と、その凸部に隣接する6つの凸部の中心点を結ぶ6本の直線K1〜K6を画く。直線K1〜K6が、直線K0に対して、いずれも3度以上異なる角度である場合、エリア(I)とエリア(II)との格子方位が異なる、と定義する。
エリア(I)に隣接するエリアの内、格子方位がエリア(I)の格子方位と異なるエリアが2以上存在することが好ましく、3以上存在することが好ましく、5以上存在することがさらに好ましい。
FFT基本波の最大値と最小値の比が大きい凹凸構造は、格子方位が揃っており、凹凸構造を2次元結晶とみなした場合単結晶性が高い構造配置と言える。反対に、FFT基本波の最大値と最小値の比が小さい凹凸構造は、格子方位が揃っておらず、凹凸構造を2次元結晶とみなした場合は多結晶構造のような配置であると言える。
また、半導体発光素子においてカラーシフトが発生することも防止できる。カラーシフトは見る角度によっては色が異なる現象である。たとえば、光が蛍光体により波長変換されたのち素子内で光が再び半導体発光素子用基板11の凹凸構造による回折を行う場合(上面に反射電極を設け3原色蛍光体により紫外光を白色に変換するボトムエミッション型の白色LEDなど)、回折光が元のスペクトルに重なり、特定の波長が強められる結果生じる。
上記好ましい範囲のFFT基本波の最大値と最小値の比を有する凹凸構造であれば、回折光の出射する角度が偏らないようにできるため、カラーシフトを抑制できる。
本実施形態の半導体発光素子用基板の製造方法は、基板に複数の粒子を配列させる粒子配列工程と、前記粒子がエッチングされ、前記基板が実質的にエッチングされない条件で、前記配列した複数の粒子をドライエッチングして粒子間に間隙を設ける粒子エッチング工程と、前記粒子エッチング工程後の複数の粒子をエッチングマスクとして前記基板をドライエッチングし、前記基板の一方の面に凹凸構造を形成する基板エッチング工程とを備える。
以下、本実施形態の半導体発光素子用基板の製造方法に用いる基板(加工前基板)について説明した後、各工程を図3A〜図3Dに添って順次説明する。なお、図3A〜図3Dでは、説明の便宜上、粒子Mと基板Sに形成される凹凸を極端に拡大している。
基板の材質としては、サファイア、SiC、Si、MgAl2 O4 、LiTaO3 、LiNbO3 、ZrB2 、GaAs、GaP、GaN、AlN 、AlGaN、InP、InSn、InAlGaN、又はCrB2 等の材料から成る板材を用いることができる。中でも、機械的安定性、熱安定性、光学安定性、化学的安定性、また光透過性を有する点で、サファイアが好ましい。
具体的には、ASTM F657で規定される最大厚み及び最小厚みの間の絶対差(TTV)が5μm〜30μm、ASTM F1390規定される基準面からのズレの最大値と最小値の差(WARP)が10μm〜50μm、ASTM F534.3.1.2で規定される基板の中心部での基準面からの隔たりの絶対値(|BOW|)が10μm〜50μmである基板を使用しても、下式(3)を満たす半導体発光素子用基板を得ることができる。
ここで、H’は凹凸構造の高さの変動係数、Pは本実施形態により基板に形成される凹凸構造の最頻ピッチ(μm)である。
変動係数H’は一般的に次のようにして求められる。まず、最頻高さHを前述のように求め、次に平均値μ=ΣH/n(ΣH:データ数の総和、n=データ数)、ならびに標準偏差σ=((Σ(H−μ)^2)/n)^(1/2)を求めた後に、変動係数H’=σ/μ×100が求められる。また、最頻ピッチPの求め方は、前述の通りである。本実施形態については、各ピッチにつき変動係数を求めた後に、縦軸に変動係数、横軸にピッチをとることで、経験式(3)を得た。
半導体発光素子用基板の凹凸構造が式(3)を満たせば、その後成膜される窒化化合物の成膜欠陥が低減され、さらには光の全反射を防止し、光取り出し効率を改善することが可能となる。成膜欠陥が低減される条件としては、変動係数H’が10%以下の条件であることが好ましく、5%以下であることがより好ましく、3%以下であることがさらに好ましい。本実施形態では、TTVが5μm〜30μm、WARPが10μm〜50μm、|BOW|が10μm〜50μmの範囲内における平坦性の低い基板を使用しても、式(3)が基板全面について、常に成り立つことを見出している。一方、従来法であるフォトリソグラフィー法による半導体発光素子基板によれば、マスクとして用いるフォトレジストの厚さにもよるが、基板全面において、上記TTV、WARP、|BOW|の範囲において、変動係数H’を10%以下にすることは困難である。
粒子配列工程では、図3Aに示すように、基板S1の一方の面である平坦面Xに複数の粒子M1を単一層で配列させる。すなわち、粒子M1の単粒子膜を形成する。
粒子M1は無機粒子であることが好ましいが、条件によっては有機高分子材料なども使用できる。無機粒子であれば、粒子エッチング工程において基板Mが実質的にエッチングされない条件で容易にエッチングできる。
無機粒子としては、例えば、酸化物、窒化物、炭化物、硼化物、硫化物、セレン化物及び金属等の化合物からなる粒子および金属粒子等を使用することができる。有機粒子としては、ポリスチレン、PMMA等の熱可塑性樹脂、フェノール樹脂、エポキシ樹脂等の熱硬化性樹脂等が使用可能である。
窒化物として用いることができるものとしては、窒化珪素、窒化アルミニウム、窒化硼素等が挙げられ、さらに、これらの構成元素を他元素で部分置換したものも使用できる。
例えば、シリコンとアルミニウムと酸素と窒素からなるサイアロン等の化合物も用いることができる。
炭化物として用いることができるものとしては、SiC、炭化硼素、ダイヤモンド、グラファイト、フラーレン類等が挙げられ、さらに、これらの構成元素を他元素で部分置換したものも用いることができる。
硫化物として用いることができるものとしては、硫化亜鉛、硫化カルシウム、硫化カドミウム、硫化ストロンチウム等が挙げられ、さらに、これらの構成元素を他元素で部分置換したものも用いることができる。
セレン化物として用いることができるのもとしては、セレン化亜鉛、セレン化カドミウム、等が挙げられ、さらに、これらの構成元素を他元素で部分置換したものも用いることができる。
金属として用いることができるものとしては、Si、Ni、W、Ta、Cr、Ti、Mg、Ca、Al、Au、AgおよびZnからなる群より選ばれる1種類以上の金属からなる粒子を用いることができる。
また、粒子M1は、互いに異なる材料からなる2種類以上の粒子の混合物であってもよい。また、粒子M1は、互いに異なる材料からなる積層体であってもよく、例えば、無機窒化物からなる無機粒子が、無機酸化物によって被覆された粒子であってもよい。
上記無機粒子を構成する化合物の中でも、形状安定性の点で酸化物が好ましく、その中でもシリカがより好ましい。
D[%]=|B−A|×100/A・・・(1)
但し、式(1)中、Aは粒子M1の平均粒径、Bは粒子M1間の最頻ピッチである。また、|B−A|はAとBとの差の絶対値を示す。
ずれDは、0.5%以上15%以下であることが好ましく、1.0%以上10%以下であることがより好ましく、1.0%〜3.0%であることが更に好ましい。
一方、粒子M間のピッチとは、シート面方向における隣り合う2つの粒子M1の頂点と頂点の距離であり、粒子M1間の最頻ピッチBとはこれらの最頻値である。なお、粒子M1が球形で隙間なく接していれば、隣り合う粒子M1の頂点と頂点との距離は、隣り合う粒子M1の中心と中心の距離と等しい。
本実施形態の半導体発光素子用基板の凹凸構造のピッチは粒子M1間のピッチを反映したものとなるので、好ましい粒子M1間の最頻ピッチBは、本実施形態の半導体発光素子用基板の凹凸構造における好ましい最頻ピッチPと同じである。すなわち、粒子M1間の最頻ピッチBは、100nm〜5μmが好ましく、100nm〜1μmがより好ましく、200nm〜700nmの範囲がさらに好ましく、300nm〜600nmの範囲が特に好ましい。
まず、単粒子膜における無作為に選択された領域で、一辺が粒子M1間の最頻ピッチBの30倍〜40倍のシート面と平行な正方形の領域について、AFMイメージを得る。例えば粒径300nmの粒子M1を用いた単粒子膜の場合、9μm×9μm〜12μm×12μmの領域のイメージを得る。そして、このイメージをフーリエ変換により波形分離し、FFT像(高速フーリエ変換像)を得る。ついで、FFT像のプロファイルにおける0次ピークから1次ピークまでの距離を求める。こうして求められた距離の逆数がこの領域における最頻ピッチB1である。このような処理を無作為に選択された合計25カ所以上の同面積の領域について同様に行い、各領域における最頻ピッチB1〜B25を求める。こうして得られた25カ所以上の領域における最頻ピッチB1〜B25の平均値が式(1)における最頻ピッチBである。なお、この際、各領域同士は、少なくとも1mm離れて選択されることが好ましく、より好ましくは5mm〜1cm離れて選択される。
また、この際、FFT像のプロファイルにおける1次ピークの面積から、各イメージについて、その中の粒子M間のピッチのばらつきを評価することもできる。
配列のずれD(%)を15%以下とするため、粒子M1の粒径の変動係数(標準偏差を平均値で除した値)は、20%以下であることが好ましく、10%以下であることがより好ましく、5%以下であることがさらに好ましい。
後述のように、本実施形態によって基板S1に設けられる凹凸構造のピッチ(凸部の中心点のピッチ)は、粒子M1間の最頻ピッチBと同等となる。配列のずれD(%)が小さければ、凹凸構造のピッチは、粒子M1の平均粒径Aとほぼ同等となるので、粒子M1の平均粒径Aを適切に選択することにより、所望のピッチの凹凸構造を精度良く形成することができる。
まず、AFMイメージから、凸部c1nが30個以上含められる任意の部分を抽出し、その中に含まれる各c1nについて上記方法で凸部の底面の寸法を求め、得られた値を有効桁数2桁で丸め、各凸部c1nの底面直径R11〜R1nとし、その最頻値を最頻寸法Rとする。
粒子配列工程は、いわゆるLB法(ラングミュア−ブロジェット法)の考え方を利用した方法により行うことが好ましい。
具体的には、水槽内の水の液面に水よりも比重が小さい溶剤中に粒子が分散した分散液を滴下する滴下工程と、溶剤を揮発させることにより粒子からなる単粒子膜を形成する単粒子膜形成工程と、単粒子膜を基板に移し取る移行工程とを有する方法により粒子配列工程を行うことが好ましい。
この方法は、単層化の精度、操作の簡便性、大面積化への対応、再現性などを兼ね備える。例えばNature, Vol.361, 7 January, 26(1993)などに記載されている液体薄膜法や特開昭58−120255号公報などに記載されているいわゆる粒子吸着法に比べて非常に優れ、工業生産レベルにも対応できる。
LB法による粒子配列工程について、以下に具体的に説明する。
まず、水よりも比重が小さい溶剤中に、粒子M1を加えて分散液を調製する。一方、水槽(トラフ)を用意し、これに、その液面上で粒子M1を展開させるための水(以下、下層水という場合もある。)を入れる。
粒子M1は、表面が疎水性であることが好ましい。また、溶剤としても疎水性のものを選択することが好ましい。疎水性の粒子M1及び溶剤と下層水とを組み合わせることによって、後述するように、粒子M1の自己組織化が進行し、2次元的に最密充填した単粒子膜が形成される。
溶剤は、また、高い揮発性を有することも重要である。揮発性が高く疎水性である溶剤としては、クロロホルム、メタノール、エタノール、イソプロパノール、アセトン、メチルエチルケトン、エチルエチルケトン、トルエン、ヘキサン、シクロヘキサン、酢酸エチル、酢酸ブチルなどの1種以上からなる揮発性有機溶剤が挙げられる。
粒子M1の疎水化は、特開2009−162831号公報に記載された疎水化剤と同様の界面活性剤、金属アルコキシシランなどを用い、同様の方法で行うことができる。
詳しくは後述する移行工程において、単粒子膜の表面圧を計測する表面圧力センサーと、単粒子膜を液面方向に圧縮する可動バリアとを備えたLBトラフ装置を使用すると、形成された単粒子膜の欠陥箇所を表面圧の差に基づきある程度検知することが可能である。
しかし、数μm〜数十μm程度の大きさの欠陥箇所は、表面圧の差として検知されにくい。あらかじめ精密ろ過を行っておくと、数μm〜数十μm程度の大きさの欠陥が発生にくくなり、高精度な単粒子膜を得やすくなる。
下層水に滴下する分散液の粒子濃度は1質量%〜10質量%とすることが好ましい。また、滴下速度を0.001ml/秒〜0.01ml/秒とすることが好ましい。分散液中の粒子M1の濃度や滴下量がこのような範囲であると、粒子が部分的にクラスター状に凝集して2層以上となる、粒子が存在しない欠陥箇所が生じる、粒子間のピッチが広がるなどの傾向が抑制される。そのため、各粒子が高精度で2次元に最密充填した単粒子膜がより得られやすい。
特に、例えばコロイダルシリカのように、球形であって粒径の均一性も高い粒子M1が、水面上に浮いた状態で3つ集まり接触すると、粒子群の喫水線の合計長を最小にするように表面張力が作用する。その結果、図4に示すように、3つの粒子M1は図中T1で示す正三角形を基本とする配置で安定化する。
また、超音波の周波数には特に制限はないが、例えば28kHz〜5MHzが好ましく、より好ましくは700kHz〜2MHzである。振動数が高すぎると、水分子のエネルギー吸収が始まり、水面から水蒸気または水滴が立ち上る現象が起きるため好ましくない。一方、振動数が低すぎると、下層水中のキャビテーション半径が大きくなり、水中に泡が発生して水面に向かって浮上してくる。このような泡が単粒子膜の下に集積すると、水面の平坦性が失われるため不都合である。
超音波照射によって水面に定常波が発生する。いずれの周波数でも出力が高すぎたり、超音波振動子と発信機のチューニング条件によって水面の波高が高くなりすぎたりすると、単粒子膜が水面波で破壊されるため注意が必要である。
超音波照射によって得られる利点は粒子の最密充填化(ランダム配列を6方最密化する)の他に、ナノ粒子の分散液調製時に発生しやすい粒子の軟凝集体を破壊する効果、一度発生した点欠陥、線欠陥、または結晶転移などもある程度修復する効果がある。
単粒子膜形成工程により液面上に形成された単粒子膜を、ついで、単層状態のまま基板S1に移し取る(移行工程)。
単粒子膜を基板S1に移し取る具体的な方法には特に制限はなく、例えば、疎水性の基板S1を単粒子膜に対して略平行な状態に保ちつつ、上方から降下させて単粒子膜に接触させ、ともに疎水性である単粒子膜と基板との親和力により、単粒子膜を基板S1に移行させ、移し取る方法;単粒子膜を形成する前にあらかじめ水槽の下層水内に基板S1を略水平方向に配置しておき、単粒子膜を液面上に形成した後に液面を徐々に降下させることにより、基板S1に単粒子膜を移し取る方法などがある。
上記各方法によっても、特別な装置を使用せずに単粒子膜を基板S1に移し取ることができるが、より大面積の単粒子膜であっても、その2次的な最密充填状態を維持したまま基板S1に移し取りやすい点で、以降工程においては、いわゆるLBトラフ法を採用することが好ましい(Journal of Materials and Chemistry, Vol.11, 3333 (2001)、Journal ofMaterials and Chemistry, Vol.12, 3268 (2002)など参照。)
この方法では、水槽V1内の下層水W1に基板S1をあらかじめ略鉛直方向に浸漬しておき、その状態で上述の滴下工程と単粒子膜形成工程とを行い、単粒子膜F1を形成する(図5A)。そして、単粒子膜形成工程後に、基板S1を略鉛直方向を保ったまま上方に引き上げることによって、単粒子膜Fを基板S1に移し取ることができる(図5B)。
なお、この図では、基板S1の両面に単粒子膜F1を移し取る状態を示しているが、凹凸構造は、基板S1の一方の面のみに形成すればよいので、単粒子膜F1は基板S1の平坦面X1のみに移し取ればよい。基板S1の平坦面X1と反対側の面(裏面)を厚板で遮蔽することによって、平坦面X1側から裏面への粒子M1の回り込みを防止した状態で平坦面X1のみに単粒子膜F1を移し取れば、より精密に単粒子膜F1を移し取れるので好ましい。しかし、両面に移し取っても何ら差し支えない。
すなわちこのような装置によれば、単粒子膜F1の表面圧を計測しながら、単粒子膜F1を好ましい拡散圧(密度)に圧縮でき、また、基板S1の方に向けて一定の速度で移動させることができる。そのため、単粒子膜F1の液面から基板S1への移行が円滑に進行し、小面積の単粒子膜F1しか基板S1に移行できないなどのトラブルが生じにくい。好ましい拡散圧は、5mNm−1〜80mNm−1であり、より好ましくは10mNm−1〜40mNm−1である。このような拡散圧であると、各粒子がより高精度で2次元に最密充填した単粒子膜F1が得られやすい。また、基板S1を引き上げる速度は、0.5mNm−1〜20mm/分が好ましい。下層水の温度は、先述したように、通常10℃〜30℃である。なお、LBトラフ装置は、市販品として入手することができる。
移行工程により、基板S1に粒子M1の単粒子膜F1を移行させることができるが、移行工程の後には、移行した単粒子膜F1を基板S1に固定するための固定工程を行ってもよい。移行工程だけでは、後述の粒子エッチング工程及び基板エッチング工程中に粒子M1が基板S1上を移動してしまう可能性がある。特に、各粒子M1の直径が徐々に小さくなる基板エッチング工程の最終段階になると、このような可能性が大きくなる。
単粒子膜を基板S1に固定する固定工程を行うことによって、粒子M1が基板S1上を移動してしまう可能性が抑えられ、より安定かつ高精度にエッチングすることができる。
バインダーを使用する方法では、単粒子膜が形成された基板S1の平坦面X側にバインダー溶液を供給して単粒子膜を構成する粒子M1と基板S1との間にこれを浸透させる。
バインダーの使用量は、単粒子膜の質量の0.001倍〜0.02倍が好ましい。このような範囲であれば、バインダーが多すぎて粒子M1間にバインダーが詰まってしまい、単粒子膜の精度に悪影響を与えるという問題を生じることなく、十分に粒子を固定することができる。バインダー溶液を多く供給してしまった場合には、バインダー溶液が浸透した後に、スピンコーターを使用したり、基板S1を傾けたりして、バインダー溶液の余剰分を除去すればよい。
バインダーとしては、先に疎水化剤として例示した金属アルコキシシランや一般の有機バインダー、無機バインダーなどを使用でき、バインダー溶液が浸透した後には、バインダーの種類に応じて、適宜加熱処理を行えばよい。金属アルコキシシランをバインダーとして使用する場合には、40℃〜80℃で3分間〜60分間の条件で加熱処理することが好ましい。
また、加熱を空気中で行うと、基板S1や各粒子M1が酸化する可能性があるため、焼結法を採用する場合には、このような酸化の可能性を考慮して、条件を設定することが必要となる。例えば、基板S1としてシリコン基板を用い、これを1100℃で焼結すると、この基板S1の表面には約200nmの厚さで熱酸化層が形成されてしまう。N2ガスやアルゴンガス中で加熱すると、酸化を避けやすい。
粒子配列工程は、配列のずれD(%)を1.0%以上15%以下にできれば特に限定はなく、LB法による他、以下の方法を採用することができる。
1)基板をコロイド粒子の懸濁液中に浸漬し、その後、基板と静電気的に結合した第1層目の粒子層のみを残し第2層目以上の粒子層を除去する(粒子吸着法)ことで、単粒子膜からなるエッチングマスクを基板上に設ける方法(特開昭58−120255号公報参照)。
2)基板上にバインダー層を形成し、その上に粒子の分散液を塗布し、その後バインダー層を加熱により軟化させることで、第1層目の粒子層のみをバインダー層中に包埋させ、余分な粒子を洗い落とす方法(特開2005−279807号公報参照)。
粒子エッチング工程では、基板S1が実質的にエッチングされない条件で配列された複数の粒子M1をドライエッチングする。これにより、図3Bに示すように、実質的に粒子M1のみがエッチングされて粒径の小さい粒子M11となり、粒子M11間に間隙が設けられる。一方、粒子エッチング工程後の基板S11は、実質的に基板S1と同じで、基板S11の一方の表面である平坦面X11に実質的な凹凸は形成されず、平坦面X11と平坦面X1は同等である。
ドライエッチング選択比[%]=基板S1のドライエッチング速度/粒子M1のドライエッチング速度×100・・・(2)
上記条件とするためには、バイアスパワーを低めに設定したり、圧力を低圧にしたりすればよい。
基板エッチング工程では、粒子エッチング工程後の粒子M11をエッチングマスクとして粒子エッチング工程後の基板S11をドライエッチングする。基板S11は、まず、粒子M11同士の空隙においてエッチングガスに晒されるので、その部分が先行して、平坦性を保ったままエッチングされる。そして、粒子M11も徐々にエッチングされて小さくなるため、各粒子M11の周辺の下側部分から中心の下側部分に向かい、徐々に、基板S11のエッチングが進行する。その結果、図3Cに示すように、粒子M11はさらに粒径の小さい粒子M12となる。また、この時点での基板S12には、各粒子M12の下側を頂面とする円錐台状の凸部Y12が複数形成される。凸部Y12同士の空隙(凹部の底面)は粒子M11同士の空隙とほぼ対応し、その部分は平坦面X12となる。
このようなドライエッチング条件とするためには、エッチングガスを適切に選択すればよい。例えば、基板S1がサファイアであり、粒子M1がシリカである場合、Cl2、Br2、BCl3、SiCl4、HBr、HI、HCl、およびArから選択される1以上のガスを用いてドライエッチングすればよい。
基板エッチング工程では、チャンバー内の温度を60℃〜200℃に保持して行うことが好ましく、80℃〜150℃に保持して行うことがより好ましい。
チャンバー内の温度を上記温度に保つことによって、基板のエッチング速度を高め且つ、ハンドリングがしやすいため、製造効率を高めることができる。
前記基板がサファイア基板である場合、特に上記温度で基板エッチング工程を行うことが好ましい。
なお、図3Cの段階で基板エッチング工程を終了させ、円錐台状の凸部としてもよい。その場合、残留する粒子M12は、粒子M12に対してエッチング性があり、基板S12に対して耐エッチング性があるエッチングガスを用いる化学的除去方法や、ブラシロール洗浄機などによる物理的除去方法により除去できる。
また、基板エッチング工程の前に粒子エッング工程を行うため、凸部と凸部の間、すなわち凹部の底面を平坦面とすることができる。そのため、半導体層を平坦面上に安定して成長させることができる。したがって、半導体層の結晶欠陥を発生させにくい半導体発光素子用の基板とすることができる。
また、本実施形態の製造方法によれば、巨視的な格子方位がランダムである(即ち、FFT基本波の最大値と最小値の比が小さい)多結晶構造のような配置であるの凹凸構造を基板S1に設けることができる。
本実施形態の半導体発光素子は、本実施形態の半導体発光素子用基板と、その凹凸構造が形成された面に積層された半導体機能層と、p型電極と、n型電極を備える。半導体機能層は少なくとも発光層を含む。
半導体機能層は、V族元素が窒素であるIII-V族窒化物半導体で構成されていることが好ましい。例えば、GaN、InGaN、AlGaN、InAlGaN、GaAs、AlGaAs、InGaAsP、InAlGaAsP、InP、InGaAs、InAlAs、ZnO、ZnSe、ZnS等が挙げられる。III-V族窒化物半導体は、サファイア等の基板上に形成する必要があるからである。
代表的なIII-V族窒化物半導体は、窒化ガリウム、窒化インジウムである。窒化アルミニウムは厳密には絶縁体であるが、本実施形態においては、半導体発光素子分野の慣習に従い、III-V族窒化物半導体に前記当するものとして扱う。
たとえば、バッファ層を含む場合もある。
また、上記各層も、それぞれ、複数の層から構成されることがある。
具体的な半導体機能層としては、GaN、AlN等からなるバッファ層、n−GaN、n−AlGaN等からなるn型の導電性を有する層(クラッド層)、InGaN、GaN等からなる発光層、アンドープGaN、p−GaN等からなるp型の導電性を有する層(クラッド層)、MgドープAlGaN、MgドープGaNからなるキャップ層が順次積層されてなる多層膜が挙げられる(例えば、特開平6−260682号公報、特開平7−15041号公報、特開平9−64419号公報、特開平9−36430号公報を参照)。
なお、発光層に電流を供給するためのn型電極及びp型電極としては、Ni、Au、Pt、Pd、Rh、Ti、Al等の金属からなる電極を用いることができる。
例えば、発光層の発光波長が紫外線領域の発光エネルギーを多く含む場合は、前記波長変換層にピーク波長410nm〜483nmの蛍光を発する青色蛍光体、ピーク波長490nm〜556nmの蛍光を発する緑色蛍光体、およびピーク波長585nm〜770nmの蛍光を発する赤色蛍光体を含有させることによって、照明用に適した白色の取出し光を得ることができる。また、発光層の発光波長が青色領域の発光エネルギーを多く含む場合は、前記波長変換層にピーク波長570nm〜578nmの蛍光を発する黄色蛍光体を含有させることによって、照明用に適した白色の取出し光を得ることができる。
本実施形態の半導体発光素子の製造方法は、本実施形態の発光素子用基板の製造方法により発光素子用基板を得る工程と、得られた発光素子用基板の凹凸構造が形成された面に、少なくとも発光層を含む半導体機能層を積層する工程を備える。
半導体発光素子用基板に半導体機能層を積層する方法は、MOVPE法(有機金属気相成長法)、MBE法(分子線エピタキシ法)、HVPE法(ハイドライド気相成長法)などの公知のエピタキシャル成長方法を用いることができる。エピタキシャル成長法は、気相エピタキシャル成長法、液相エピタキシャル成長法、分子線エピタキシャル成長法などである。反応性スパッタ法は、化合物半導体層の構成元素からなるターゲットをスパッタし、ターゲットからスパッタされた粒子と気相中の不純物元素との反応によって半導体層の形成材料を生成する。n型半導体層を形成する方法は、n型不純物の添加されるエピタキシャル成長法や反応性スパッタ法であればよい。p型半導体層を形成する方法は、p型不純物の添加されるエピタキシャル成長法や反応性スパッタ法であればよい。
図6から図13を参照して、本実施形態における半導体発光素子用基板、半導体発光素子、半導体発光素子用基板の製造方法、および、半導体発光素子の製造方法の一実施の形態を説明する。
図6に示されるように、半導体発光素子用基板(以下、素子用基板211Bと示す)は、1つの側面である発光構造体形成面211Sを有している。半導体発光素子の製造工程にて、発光構造体形成面211Sには、発光構造体が形成される。
多数の凸部212の各々は、その凸部212に接続する平坦部214から突き出しており、かつ、平坦部214に接続する基端から先端に向かって細くなっている形状を有している。複数の凸部212の各々は、半球形状を有している。
本実施形態においては、ブリッジ部を互いに隣り合う凸部212間を連結する形で構成できる。ブリッジ部を設けることにより後述する光学的効果や機械強度の効果を得ることができるが、ブリッジ部を設けない場合でも、マスク粒子の粒径縮小によって平坦部214の範囲が広がることで、後のLED成膜工程におけるエピタキシャル成長を効果的に行うことが可能となる。
多数のブリッジ部213の各々は、ブリッジ部213に接続する平坦部214から突き出しており、かつ、互いに隣り合う凸部212の間を連結している。多数のブリッジ部213の各々の高さは、凸部212の高さよりも低く、かつ、半球形状を有する凸部212の中心同士を結ぶ突条形状を有している。なお、ブリッジ部213の有する形状は、直線形状に限らず、曲線形状であってもよいし、折線形状であってもよい。多数のブリッジ部213の各々の有する形状は、互いに異なっていてもよい。ブリッジ部213は、頂面213Tを含む。頂面213Tは平面を含んでいる。
半導体発光素子用基板の製造方法は、基板に複数の粒子を配列させる粒子配列工程と、前記粒子がエッチングされ、前記基板が実質的にエッチングされない条件で、前記配列した複数の粒子をドライエッチングして粒子間に間隙を設ける粒子エッチング工程(単粒子膜F1のエッチング工程)と、前記粒子エッチング工程後の複数の粒子をエッチングマスクとして前記基板をドライエッチングし、前記基板の一方の面に凹凸構造を形成する基板エッチング工程(発光構造体形成面11Sのエッチング工程)とを備える。以下、半導体発光素子用基板の製造方法に含まれる各工程を、処理の順に説明するが、粒子配列工程については、第1実施形態と同様の方法で行うことができるため、説明を省略する。
単粒子膜F1のエッチング工程は、基本的に第1実施形態と同様の方法で行うことができる。
一側面として、図10に示されるように、単層の粒子M1から構成される単粒子膜F1は、発光構造体形成面211Sに形成される。単粒子膜F1は、直径R21を有する粒子M1の六方充填構造を有している。1つの六方充填構造は、7つの粒子M1から構成されている。六方充填構造では、6つの粒子M1が、六角形の有する6つの頂点に配置され、かつ、6つの粒子M1によって囲まれる部分に、1つの粒子M1が充填されている。すなわち、1つの六方充填構造では、中心となる1つの粒子M1の周囲に、6つの粒子M1が等配されている。
図12に示されるように、エッチング工程では、縮径された粒子M1をマスクとして発光構造体形成面211Sがエッチングされる。この際に、発光構造体形成面211Sにて、第1の露出部S21は、互いに隣り合う3つの粒子M1に囲まれた隙間を通じて、エッチングガスのプラズマに曝される。発光構造体形成面211Sにて、第2の露出部S22は、互いに隣り合う2つの粒子M1の間の隙間を通じて、エッチングガスのプラズマに曝される。そして、単粒子膜を構成する粒子M1もまた、エッチングガスのプラズマに曝される。
結果として、発光構造体形成面211Sには、深く窪んだ部分として、第1の領域214に平坦部214が形成される。また、平坦部214よりも浅く窪んだ部分として、第2の領域213にブリッジ部213が形成される。そして、平坦部214、および、ブリッジ部213以外の部分として、半球形状を有する凸部212が形成される。複数のブリッジ部213のなかでは、ブリッジ部213によって連結される凸部212の間の間隔が大きいほど、ブリッジ部213の高さが低くなる。ブリッジ部を積極的に作製する場合、例えばシリカ粒子マスクとサファイア基板の組み合わせの場合、最頻ピッチが3.0μmのとき、凸部212間の間隔が300nm〜700nmとなり、その場合ブリッジの高さは10〜300nmであり、また、最頻ピッチが400nmのとき、凸部212間の間隔が10nm〜100nmとなり、その場合ブリッジの高さは5nm〜100nmである。その他、粒子マスクの材質と基材の材質の組み合わせ、およびガスの選択を含むドライエッチング条件によって凸部212間の間隔およびブリッジの高さは変わるため、上記数値は条件によって変動する。
なお、上述した単粒子膜F1のエッチング工程にて、第2の露出部S22の大きさが変わると、それに続く発光構造体形成面211Sのエッチング工程では、最終的に形成されるブリッジ部213の高さが変わる。こうしたブリッジ部213の高さの変更方法には、単粒子膜F1のエッチング工程以外にも、発光構造体形成面211Sのエッチングで使用されるエッチングガスの変更が挙げられる。
例えば、単粒子膜F1のエッチング速度を上げ、かつ、素子用基板211Bのエッチング速度を下げるガスが、発光構造体形成面211Sのエッチング工程に用いられる。このとき、粒子M1のエッチング速度は、発光構造体形成面211Sに対してさらに遅くなり、第2の露出部S22の広がる速度も、さらに遅くなる。結局は、第1の露出部S221におけるエッチングの進行度合いと、第2の露出部S22におけるエッチングの進行度合いとの間に大きな差が生じ、結果として、ブリッジ部213の高さは高くなる。
これに対して、単粒子膜F1のエッチング速度を下げ、かつ、素子用基板211Bのエッチング速度を上げるガスが、発光構造体形成面211Sのエッチングガスに用いられる。このとき、粒子M1のエッチング速度は、発光構造体形成面211Sに対して近くなり、第2の露出部S22の広がる速度は、さらに速くなる。結局は、第1の露出部S221におけるエッチングの進行度合いと、第2の露出部S22におけるエッチングの進行度合いとの間の差は小さくなり、結果として、ブリッジ部213の高さは低くなる。なお、この際に用いるガスは1種類のガスから構成されてもよいし、2種類以上のガスから構成されてもよい。
さらに、上述した単粒子膜F1のエッチング工程にて、ブリッジ部213の高さの変更と、上述したエッチングガスの変更によるブリッジ部213の高さの変更とが組み合わされてもよい。
なお、ブリッジ部を積極的に作製しなくても(ブリッジ部の高さが実質ゼロに相当する場合でも)、前述のようにマスク粒径縮小によって凸部212間の間隔が広がる効果で、LED成膜工程に必要な平坦部の面積をより多く確保することができ、より効率的で結晶欠陥の少ないエピタキシャル結晶成長が可能となるため、結果としてこのような基板上に半導体層を成膜して作製した半導体発光素子の発光効率が向上するという恩恵が得られる。
図13に示されるように、半導体発光素子200は、素子用基板211Bを基材として有している。半導体発光素子200は、素子用基板211Bの発光構造体形成面211Sに、発光構造体形成面211Sの凹凸構造を覆う発光構造体221を有している。発光構造体221は、複数の半導体層から構成される積層体を有し、電流の供給によってキャリアを再結合させて発光する。複数の半導体層の各々は、発光構造体形成面211Sから順に積み重ねられる。
半導体発光素子200は、第1実施形態に記載の半導体発光素子と同様の構成を採用することが出来る。また、半導体発光素子200は、第1実施形態に記載の方法で形成することができる。
本実施形態によれば、以下の効果が得られる。
(2)1つの凸部212に複数のブリッジ部213が連結しているため、1つの凸部212に1つのブリッジ部213が連結している構成と比べて、上記(1)に準じた効果がさらに高められる。
(4)凸部212の配置がランダム性を有するため、発光構造体形成面211Sの面内において、上記(1)に準じた効果の均一性が高められる。
(5)ブリッジ部213の頂面213Tが結晶面であるため、凸部212の形成に起因して半導体層の成長が不足することが抑えられる。
なお、本実施形態は、以下のように変更して実施することもできる。
図14の左側に示されるように、ブリッジ部213の頂面213Tは、ブリッジ部213の連結する方向と交差する方向から見て、平坦部214に向けて窪んだ凹曲面であってもよい。要は、ブリッジ部213は、凸部212の高さよりも低い高さを有して、互いに隣り合う凸部212の一部同士を連結する部分であればよい。
平坦部214は、4つ以上の凸部対TP2によって囲まれてもよい。さらに、平坦部214は、凸部対TP2によって囲まれていなくともよい。例えば、ブリッジ部213の連結する方向と交差する方向にて、2つの平坦部214が、1つのブリッジ部213を挟む構造であってもよい。
互いに隣り合う凸部212の間の間隔が、互いに異なる凸部対TP2において、ブリッジ部213の高さは、互いに等しくてもよい。
本実施形態の半導体発光素子用基板は、半導体層を含む発光構造体が形成される発光構造体形成面を有し、前記発光構造体形成面は、1つの結晶面に沿って広がっている平坦部と、前記平坦部から突き出した2つの凸部と、前記平坦部から突き出した1つのブリッジ部と、を備え、前記平坦部から突き出している量は、前記凸部よりも前記ブリッジ部にて小さく、前記2つの凸部は、前記1つのブリッジ部によって連結されており、前記凸部の最頻ピッチが100nm以上1μm以下であり、前記多数の凸部のアスペクト比が0.5〜1.0あってもよい。
本実施形態の半導体発光素子用基板は、半導体層を含む発光構造体が形成される発光構造体形成面を有し、前記発光構造体形成面は、1つの結晶面に沿って広がっている平坦部と、前記平坦部から突き出した2つの凸部と、前記平坦部から突き出した1つのブリッジ部と、を備え、前記平坦部から突き出している量は、前記凸部よりも前記ブリッジ部にて小さく、前記2つの凸部は、前記1つのブリッジ部によって連結されており、前記凸部の最頻ピッチが200nm〜700nmであり、前記多数の凸部のアスペクト比が0.5〜1.0あってもよい。
本実施形態の半導体発光素子用基板は、半導体層を含む発光構造体が形成される発光構造体形成面を有し、前記発光構造体形成面は、1つの結晶面に沿って広がっている平坦部と、前記平坦部から突き出した2つの凸部と、前記平坦部から突き出した1つのブリッジ部と、を備え、前記平坦部から突き出している量は、前記凸部よりも前記ブリッジ部にて小さく、前記2つの凸部は、前記1つのブリッジ部によって連結されており、前記凸部の最頻ピッチが100nm以上5μm以下であり、前記多数の凸部のアスペクト比が0.5〜1.0であり、ブリッジ部の短手方向に沿った長さが10nm以上100nm以下であってもよい。
本実施形態の半導体発光素子用基板は、基板の一方の面に凹凸構造を有する半導体発光素子用基板であって、前記凹凸構造は、多数の凸部と各凸部の間の平坦面とを有し、かつ、隣接する7つの凸部の中心点が正六角形の6つの頂点と対角線の交点となる位置関係で連続して整列しているエリアを複数備え、前記複数のエリアの面積、形状及び格子方位がランダムであり、前記多数の凸部のアスペクト比が0.5〜1.0であり、凸部の頂点を通り、前記基板に垂直な断面で見たときの平坦面f11〜f1nの長さが、凸部c11〜c1nのうちの隣り合う二つの凸部の頂点同士を結ぶ直線に対し、15%〜25%となってもよい。
<半導体発光素子の作成>
直径2インチ、厚さ0.42mmのサファイア基板上に、φ3μmのSiO2コロイダルシリカ粒子を特願2008−522506に開示される単層コーティング法によって単層コートした。
具体的には、平均粒径が3.02μmのSiO2コロイダルシリカ粒子(粒径の変動係数=0.85%)の球形コロイダルシリカの3.0質量%水分散体(分散液)を用意した。
ついで、この分散液に濃度50質量%の臭素化ヘキサデシルトリメチルアンモニウム(界面活性剤)を2.5mmol/Lとなるように加え、30分攪拌して、コロイダルシリカ粒子の表面に臭素化ヘキサデシルトリメチルアンモニウムを吸着させた。この際、臭素化ヘキサデシルトリメチルアンモニウムの質量がコロイダルシリカ粒子の質量の0.04倍となるように分散液と臭素化ヘキサデシルトリメチルアンモニウムとを混合した。
ついで、この分散液に、この分散液の体積と同体積のクロロホルムを加え十分に攪拌して、疎水化されたコロイダルシリカを油相抽出した。
滴下中より、超音波(出力120W、周波数1.5MHz)を下層水中から水面に向けて照射して粒子が2次元的に最密充填するのを促しつつ、分散液の溶剤であるクロロホルムを揮発させ、単粒子膜を形成させた。
ついで、この単粒子膜を可動バリアにより拡散圧が18mNm−1になるまで圧縮し、サファイアウェハを5mm/分の速度で引き上げ、単粒子膜を基板の片面上に移し取り、コロイダルシリカからなる単粒子膜エッチングマスク付きのサファイアウェハを得た。
続いて基材であるサファイアウェハを加工するドライエッチングを行った。具体的には、アンテナパワー1500W、バイアス300W、圧力1Pa、エッチングチャンバー内の温度80〜110℃の条件で、Cl2ガスにてSiO2マスク/サファイア基板をドライエッチング加工し、表1に示す最頻ピッチ3μm、構造高さ1.5μm、平坦部距離0.4μm、ブリッジ部に相当する部分の長さ0.4μm、ブリッジ部に相当する部分の高さ3nm以下(実質ブリッジ部は高さを持たないため、ブリッジ部は平坦である)で構成される凹凸構造を備える半導体発光素子用サファイア基板を得た。
こうして得た得られた半導体発光素子用サファイア基板の凹凸構造面に、n型半導体層、活性層、p型半導体層を順次積層し、続いてp電極およびn電極を形成して、半導体発光素子を完成した。各GaN系の半導体層は、一般に広く利用されるMOCVD(Metal Organic Chemical Vapor Deposition)法によって形成した。MOCVD法において、アンモニアガスとIII族元素のトリメチルガリウム、トリメチルアンモニウム、トリメチルインジウムなどのアルキル化合物ガスを、700℃〜1000℃の温度環境でサファイア基板上に供給して熱分解反応させ、基板上で目的の結晶をエピタキシャル成長により成膜する。
活性層は再結合の確率を高くするためバンドギャップの狭い層を数層挟んで内部量子効率の向上を行う多重量子井戸を形成した。その構成としては、アンドープIn0.15Ga0.85N(量子井戸層)を4nm、SiドープGaN(バリア層)10nmの膜厚で交互に成膜し、アンドープIn0.15Ga0.85Nが9層、SiドープGaNが10層となるように積層した。
p型半導体層としては、MgドープAlGaNを15nm、アンドープGaNを200nm、MgドープGaNを15nm積層した。
n電極を形成する領域において、最表層であるp型半導体層のMgドープGaNからn型半導体層のアンドープGaNまでをエッチング除去し、SiドープのGaN層を露出させた。この露出面にAlとWからなるn電極を形成し、n電極上にPtとAuからなるnパッド電極を形成した。
p型半導体層の表面全面にNiとAuからなるp電極を形成し、p電極上にAuからなるpパッド電極を形成した。
以上の操作でベアチップの状態の半導体素子(一つの素子のサイズが300μm×350μm)を形成した。
直径2インチ、厚さ0.42mmのサファイア基板上にフォトレジストを厚さ750nmでスピンコートし、レーザーリソグラフィー法によりピッチ3μmのマスクを描画したのち、ドライエッチングによる微細加工を行って、表1に示す最頻ピッチ3μm、構造高さ1.5μm、平坦部距離0.4μmで構成される凹凸構造を備える半導体発光素子用サファイア基板を得た。
こうして得た得られた半導体発光素子用サファイア基板の凹凸構造面に、実施例1と同じ構成のn型半導体層、活性層、p型半導体層を順次積層し、続いてp電極およびn電極を形成して、半導体発光素子(一つの素子のサイズが300μm×350μm)を完成した。
平均粒径が305nmのSiO2コロイダルシリカ粒子(粒径の変動係数=3.4%)を用い、n型半導体層のアンドープGaNを2.5μmとする以外は、実施例1と同じ方法で粒子マスク法による微細加工を行い、表1に示す最頻ピッチ300nm、構造高さ150nm、平坦部距離40nm、ブリッジ部に相当する部分の長さ30nm、ブリッジ部に相当する部分の高さ3nm以下(実質ブリッジ部は高さを持たないため、ブリッジ部は平坦である)で構成される凹凸構造を備える半導体発光素子用サファイア基板を得た。
こうして得られた半導体発光素子用サファイア基板の凹凸構造面に、実施例1と同じ構成のn型半導体層、活性層、p型半導体層を順次積層し、続いてp電極およびn電極を形成して、半導体発光素子(一つの素子のサイズが300μm×350μm)を完成した。
直径2インチ、厚さ0.42mmのサファイア基板上にフォトレジストを厚さ100nmでスピンコートし、電子線リソグラフィー法によりピッチ300nmのマスクを描画したのち、ドライエッチングによる微細加工を行って、表1に示す最頻ピッチ300nm、構造高さ150nm、平坦部距離40nmで構成される凹凸構造を備える半導体発光素子用サファイア基板を得た。
こうして得た得られた半導体発光素子用サファイア基板の凹凸構造面に、実施例1と同じ構成のn型半導体層、活性層、p型半導体層を順次積層し、続いてp電極およびn電極を形成して、半導体発光素子(一つの素子のサイズが300μm×350μm)を完成した。
各実施例、比較例で得られた半導体発光素子(樹脂包埋前のベアチップ)をベアチップのまま小型プローバー(ESSテック社製sp−0−2Ls)にマウントし、オープンプローブにて駆動電流20−40mAで点灯させ、以下の評価を行った。結果を表1に示す。
Newport製PR50CCの回転ステージ上に半導体発光素子を取り付け点灯させた。回転ステージをZ軸を中心として0.5°/secで360度回転させつつ、半導体発光素子の発光面から仰角30度、距離150mmの位置からCCDカメラ(トプコン社製輝度計BM7A)にて輝度を連続測定した。
縦軸を輝度、横軸を回転角度としたグラフに、測定結果をプロットして得た曲線と、0度〜360度の輝度平均値の直線を重ねて書き、以下の式より面内放射異方性を求めた。
面内放射異方性=(曲線と直線で囲まれた面積の総和)/(平均値×360度)
面内放射異方性の数値が大きな半導体発光素子は、面内方向の放射に関して異方性が高く均等性が低い放射特性を示す。反対に、面内放射異方性の数値が小さな半導体発光素子は、面内方向の放射に関して異方性が低く均等性が高い放射特性を示す。
光取り出し効率向上効果を確認するため、外部量子効率を、labsphere社製スペクトラフレクト積分球とCDS−600型分光器にて測定した。
表1に示すように、実施例1、実施例2では、低い面内放射異方性が確認された。一方、フォトリソグラフィー法で作製した比較例1、干渉露光法で作製した比較例2では、高い面内放射異方性が確認された。このことから、本発明によれば、従来法よりより簡便な方法で、充分な光取り出し効率と低い面内放射異方性が得られることが分かった。
[実施例3]
こうして得られた半導体発光素子用サファイア基板の凹凸構造面に、実施例1と同じ構成のn型半導体層、活性層、p型半導体層を順次積層し、続いてp電極およびn電極を形成して、半導体発光素子(一つの素子のサイズが300μm×350μm)を完成した。
TTVが5.24μm、WARPが17.31μm、|BOW|が11.07μmのサファイア基板を使用する以外は比較例1と同じ方法で、レーザーリソグラフィー法を使用しピッチ3μmの円形マスク作製後、ドライエッチングによる微細加工を行い、表2に示す最頻ピッチ3μm、構造高さ1.5μm、平坦部距離0.4μmで構成される凹凸構造を備える半導体発光素子用サファイア基板を得た。また基板中央部、外周部の凸部の変動係数H’は、各々4.82、10.45の値が得られた。
こうして得られた半導体発光素子用サファイア基板の凹凸構造面に、実施例1と同じ構成のn型半導体層、活性層、p型半導体層を順次積層し、続いてp電極およびn電極を形成して、半導体発光素子(一つの素子のサイズが300μm×350μm)を完成した。
TTVが5.89μm、WARPが18.78μm、|BOW|が11.02μmのサァイア基板を使用する以外は実施例2と同じ方法で粒子マスク法による微細加工を行い、表1に示す最頻ピッチ300nm、構造高さ150nm、平坦部距離40nmで構成される凹凸構造を備える半導体発光素子用サファイア基板を得た。また基板中央部、外周部の凸部の変動係数H’は、各々2.51、2.68の値が得られた。
こうして得られた半導体発光素子用サファイア基板の凹凸構造面に、実施例1と同じ構成のn型半導体層、活性層、p型半導体層を順次積層し、続いてp電極およびn電極を形成して、半導体発光素子(一つの素子のサイズが300μm×350μm)を完成した。
TTVが5.56μm、WARPが18.57μm、|BOW|が10.85μmのサァイア基板を使用する以外は比較例2と同じ方法で電子線リソグラフィー法によりピッチ300nmの円形マスクを描画したのち、ドライエッチングによる微細加工を行って、表1に示す最頻ピッチ300nm、構造高さ150nm、平坦部距離40nmで構成される凹凸構造を備える半導体発光素子用サファイア基板を得た。また基板中央部、外周部の凸部の変動係数H’は、各々5.09、10.13の値が得られた。
こうして得られた半導体発光素子用サファイア基板の凹凸構造面に、実施例1と同じ構成のn型半導体層、活性層、p型半導体層を順次積層し、続いてp電極およびn電極を形成して、半導体発光素子(一つの素子のサイズが300μm×350μm)を完成した。
各実施例、比較例で得られた半導体発光素子(樹脂包埋前のベアチップ)を基板中央部、外周部から各20点抽出し、ベアチップのまま小型プローバー(ESSテック社製sp−0−2Ls)にマウントし、オープンプローブにて駆動電流20−40mAで点灯させ、以下の評価を行った。結果を表2に示す。
光取り出し効率向上効果を確認するため、外部量子効率を、labsphere社製スペクトラフレクト積分球とCDS−600型分光器にて測定した。
表2に示すように、実施例3、実施例4では面内中央部、外周部ともに、変動係数H’、光取り出し効率向上率および光取り出し効率向上率の標準偏差がほぼ同一な値を示すため、サファイア基板上の凹凸構造の面内均一性が高いことが確認された。一方、フォトリソグラフィー法で作製した比較例3、干渉露光法で作製した比較例4では、面内中央部と外周部で上記の数値に大きな差があることが確認された。このことから、実施例3及び4によれば、TTVが5μm〜30μm、WARPが10μm〜50μm、|BOW|が10μm〜50μmである平坦性の比較的低い基板を使用しても精度良く凹凸構造の面内均一性が保たれ、充分な光取り出し効率が得られることが分かった。
平均粒径が1.06μmのSiO2コロイダルシリカ粒子(粒径の変動係数=3.1%)を用い、n型半導体層のアンドープGaNを4.0μmとする以外は、実施例1と同じ方法で粒子マスク法による微細加工を行い、表1に示す最頻ピッチ1.0μm、構造高さ510nm、ブリッジ部の長さ280nm、ブリッジ部の高さ106nmで構成される凹凸構造を備える半導体発光素子用サファイア基板を得た。
こうして得られた半導体発光素子用サファイア基板の凹凸構造面に、実施例1と同じ構成のn型半導体層、活性層、p型半導体層を順次積層し、続いてp電極およびn電極を形成して、半導体発光素子(一つの素子のサイズが300μm×350μm)を完成した。
直径2インチ、厚さ0.42mmのサファイア基板上にフォトレジストを厚さ300nmでスピンコートし、レーザーリソグラフィー法によりピッチ1μmのマスクを描画したのち、ドライエッチングによる微細加工を行って、表3に示す最頻ピッチ1μm、構造高さ500μm、平坦部距離290nmで構成される凹凸構造を備える半導体発光素子用サファイア基板を得た。
こうして得た得られた半導体発光素子用サファイア基板の凹凸構造面に、実施例1と同じ構成のn型半導体層、活性層、p型半導体層を順次積層し、続いてp電極およびn電極を形成して、半導体発光素子(一つの素子のサイズが300μm×350μm)を完成した。
各実施例、比較例で得られた半導体発光素子(樹脂包埋前のベアチップ)をベアチップのまま小型プローバー(ESSテック社製sp−0−2Ls)にマウントし、オープンプローブにて駆動電流20−40mAで点灯させ、以下の評価を行った。結果を表3に示す。
光取り出し効率向上効果を確認するため、外部量子効率を、labsphere社製スペクトラフレクト積分球とCDS−600型分光器にて測定した。
Claims (25)
- 基板に下記式(1)で定義される配列のずれD(%)が15%以下となるように、複数の粒子を単一層で配列させる粒子配列工程と、
前記粒子がエッチングされ、前記基板が実質的にエッチングされない条件で、前記配列した複数の粒子をドライエッチングして粒子間に間隙を設ける粒子エッチング工程と、
前記粒子エッチング工程後の複数の粒子をエッチングマスクとして前記基板をドライエッチングし、前記基板の一方の面に凹凸構造を形成する基板エッチング工程を備えることを特徴とする半導体発光素子用基板の製造方法。
D[%]=|B−A|×100/A・・・(1)
但し、式(1)中、Aは粒子の平均粒径、Bは粒子間の最頻ピッチである。また、|B−A|はAとBとの差の絶対値を示す。 - 前記粒子配列工程が、水槽内の水の液面に水よりも比重が小さい溶剤中に粒子が分散した分散液を滴下する滴下工程と、前記溶剤を揮発させることにより前記粒子からなる単粒子膜を水の液面上に形成する単粒子膜形成工程と、前記単粒子膜を基板に移し取る移行工程とを有する請求項1に記載の半導体発光素子用基板の製造方法。
- 前記粒子間の最頻ピッチが5μm以下である請求項1または2に記載の半導体発光素子用基板の製造方法。
- 前記粒子間の最頻ピッチが1μm以下である請求項1または2に記載の半導体発光素子用基板の製造方法。
- 前記粒子間の最頻ピッチが200nm〜700nmである請求項1または2に記載の半導体発光素子用基板の製造方法。
- 前記基板がサファイアであり、前記粒子がシリカであり、前記粒子エッチング工程が、エッチングガスとしてCF4、SF6、CHF3、C2F6、C3F8、CH2F2、O2、およびNF3からなる群から選択される少なくとも1種のガスを用いる工程であり、前記基板エッチング工程が、エッチングガスとしてCl2、Br2、BCl3、SiCl4、HBr、HI、HCl、およびArからなる群から選択される少なくとも1種のガスを用いる工程である請求項1〜5のいずれか一項に記載の半導体発光素子用基板の製造方法。
- 基板に複数の粒子を単一層で配列させる粒子配列工程と、
前記粒子がエッチングされ、前記基板が実質的にエッチングされない条件で、前記配列した複数の粒子をドライエッチングして粒子間に間隙を設ける粒子エッチング工程と、
前記粒子エッチング工程後の複数の粒子をエッチングマスクとして前記基板をドライエッチングし、前記基板の一方の面に凹凸構造を形成する基板エッチング工程を備え、
前記基板がサファイアであり、前記粒子がシリカであり、前記粒子エッチング工程が、エッチングガスとしてCF4、SF6、CHF3、C2F6、C3F8、CH2F2、O2、およびNF3からなる群から選択される少なくとも1種のガスを用いる工程であり、前記基板エッチング工程が、エッチングガスとしてCl2、Br2、BCl3、SiCl4、HBr、HI、HCl、およびArからなる群から選択される少なくとも1種のガスを用いる工程であることを特徴とする半導体発光素子用基板の製造方法。 - 前記粒子配列工程が、水槽内の水の液面に水よりも比重が小さい溶剤中に粒子が分散した分散液を滴下する滴下工程と、前記溶剤を揮発させることにより前記粒子からなる単粒子膜を水の液面上に形成する単粒子膜形成工程と、前記単粒子膜を基板に移し取る移行工程とを有する請求項7に記載の半導体発光素子用基板の製造方法。
- 前記基板のASTM F657で規定される最大厚み及び最小厚みの間の絶対差(TTV)が5μm〜30μm、ASTM F1390規定される基準面からのズレの最大値と最小値の差(WARP)が10μm〜50μm、ASTM F534.3.1.2で規定される基板の中心部での基準面からの隔たりの絶対値(|BOW|)が10μm〜50μmである請求項1〜8のいずれか一項に記載の半導体発光素子用基板の製造方法。
- 基板の上面に複数の粒子を単一層で配列させて単粒子膜を形成する粒子配列工程と、
前記粒子がエッチングされ、前記基板が実質的にエッチングされない条件で、前記配列した複数の粒子をドライエッチングして粒子間に間隙を設ける粒子エッチング工程と、
前記単粒子膜をマスクにして前記上面をエッチングする基板エッチング工程と、を含み、
前記基板エッチング工程では、
前記粒子エッチング工程後に前記基板の上面において露出している領域に段差を形成する
半導体発光素子用基板の製造方法。 - 前記粒子エッチング工程では、前記複数の粒子の各々を縮小する
請求項10に記載の半導体発光素子用基板の製造方法。 - 前記基板エッチング工程において、
複数の粒子のうち、2つの粒子の間の隙間が大きいほど、前記段差が小さくなる
請求項10または11に記載の半導体発光素子用基板の製造方法。 - 前記粒子配列工程では、前記複数の粒子をLB法によって配列する
請求項12に記載の半導体発光素子用基板の製造方法。 - 請求項10から13のいずれか1つに記載の半導体発光素子用基板の製造方法によって半導体発光素子用基板を形成する工程と、
前記半導体発光素子用基板にて前記段差が形成された前記上面に、半導体層を含む発光構造体を形成する工程と、を含む
半導体発光素子の製造方法。 - 請求項1〜14のいずれか一項に記載の製造方法により発光素子用基板を得る工程と、得られた発光素子用基板の凹凸構造が形成された面に、少なくとも発光層を含む半導体機能層を積層する工程を備える半導体発光素子の製造方法。
- 基板の一方の面に凹凸構造を有する半導体発光素子用基板であって、
前記凹凸構造は、多数の凸部と各凸部の間の平坦面とを有し、
かつ、隣接する7つの凸部の中心点が正六角形の6つの頂点と対角線の交点となる位置関係で連続して整列しているエリアを複数備え、
前記複数のエリアの面積、形状及び格子方位がランダムである半導体発光素子用基板。 - 前記凹凸構造の最頻ピッチが100nm以上5μm以下であり、前記多数の凸部のアスペクト比が0.5〜1.0である請求項16に記載の半導体発光素子用基板。
- 前記凹凸構造の最頻ピッチが100nm以上1μm以下であり、前記多数の凸部のアスペクト比が0.5〜1.0である請求項16に記載の半導体発光素子用基板。
- 前記凹凸構造の最頻ピッチが200nm〜700nmであり、前記多数の凸部のアスペクト比が0.5〜1.0である請求項16に記載の半導体発光素子用基板。
- 前記凸部間を連結するブリッジ部を更に備える請求項16から請求項19のいずれか1項に記載の半導体発光素子用基板。
- 前記基板がサファイアである請求項16〜20のいずれか一項に記載の半導体発光素子用基板。
- 請求項16〜20のいずれか一項に記載の半導体発光素子用基板と、前記半導体発光素子用基板上に積層された半導体機能層を備え、前記半導体機能層は少なくとも発光層を含む半導体発光素子。
- 前記半導体機能層の光取出し側に、前記発光層から出射される発光を、前記発光の波長より長波長側に波長変換する波長変換層を備える請求項22に記載の半導体発光素子。
- 前記波長変換層が、ピーク波長410nm〜483nmの蛍光を発する青色蛍光体、ピーク波長490nm〜556nmの蛍光を発する緑色蛍光体、およびピーク波長585nm〜770nmの蛍光を発する赤色蛍光体を含有する請求項23に記載の半導体発光素子。
- 前記波長変換層がピーク波長570nm〜578nmの蛍光を発する黄色蛍光体を含有する請求項24に記載の半導体発光素子。
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