JP4068074B2 - 凸凹パターンの形成方法および凸凹パターン形成用部材 - Google Patents
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(第1の実施の形態)
まず、本発明の第1の実施の形態について、図1の断面模式図を参照しつつ説明する。
ISO 11357-1 1997 Plastics -- Differential scanning calorimetry (DSC) -- Part 1: General principles
ISO 11357-2 1999 Plastics -- Differential scanning calorimetry (DSC) -- Part 2: Determination of glass transition temperature; P-310
に準拠して行なうことが望まれる。
粒子径分布=個数平均粒子径/体積平均粒子径 (1)
ここで、個数平均粒子径とは、無作為に抽出した100個の微粒子の直径を測定した平均値である。体積平均粒子径とは、微粒子を真球とみなし無作為に抽出した100個の微粒子の直径から合計体積を算出し、小さい体積の微粒子から累積していき、その累積体積が合計体積の50%となった微粒子の直径である。具体的には平均粒子径は、微粒子を光学顕微鏡、走査型電子顕微鏡、あるいは透過型電子顕微鏡で撮影して投影像を得、それを画像解析することにより得られる。
真円度(%)=(4πA/B2 )×100 (2)
ここで、Aは微粒子の投影面積、Bは微粒子の周囲長である。
実施例1では微細凸凹パターン形成用部材を用いて、基板表面に微細凸凹パターンを形成した。まず、微細凸凹パターン形成用部材を作製した。
2…熱軟化性層
3…耐エッチング層
4…微粒子
5…バインダー
6…微粒子層
7…接着層
8…基板
10…微細凸凹パターン形成用部材
17・・・ナノ突起
18…ナノホール
5’…微粒子下に残存するバインダー
7’…微粒子下に残存する接着層
Claims (2)
- その少なくとも一方の主面上に形成された粒子層と、前記主面と前記粒子層間に形成された、そのガラス転移温度よりも低いガラス転移温度を持つ熱軟化性層と、前記熱軟化性層と前記粒子層間に形成された、Si、Alから選択される少なくとも一種の元素を含有することを特徴とする耐エッチング層とを備えるシート状基材を前記粒子層が形成された主面側を基板に接触させて前記基板上に積層する工程と、
前記基板上から前記シート状基材を除去して、前記粒子層を前記基板上に残置する工程と、
前記粒子層をエッチングマスクとして前記基板表面をエッチングして、前記基板表面に微細な凸凹パターンを形成する工程とを具備することを特徴とする凸凹パターン形成方法。 - 一主面を備えるシート状基材と、
前記シート状基材の少なくとも一方の主面上に形成された粒子層と、
前記シート状基材と前記粒子層間に形成された、前記シート状基材のガラス転移温度よりも低いガラス転移温度を持つ熱軟化性層と、
前記熱軟化性層と前記粒子層間に形成された、Si、Alから選択される少なくとも一種の元素を含有することを特徴とする耐エッチング層と、を備えることを特徴とする凸凹パターン形成用部材。
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Families Citing this family (29)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
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JP5359270B2 (ja) * | 2006-06-30 | 2013-12-04 | 王子ホールディングス株式会社 | 単粒子膜エッチングマスクを用いた微細構造体の製造方法およびナノインプリント用または射出成型用モールドの製造方法 |
KR100891095B1 (ko) * | 2007-02-13 | 2009-03-31 | 삼성전자주식회사 | 마이크로 어레이 및 그 제조 방법 |
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JP2010074004A (ja) * | 2008-09-19 | 2010-04-02 | Fujifilm Corp | 表面処理方法、表面処理用マスク、及び光学デバイス |
WO2010032543A1 (ja) * | 2008-09-19 | 2010-03-25 | 富士フイルム株式会社 | 表面処理用マスク及びその製造方法、表面処理方法、並びに、粒子含有フィルム及びその製造方法 |
JP2010074006A (ja) * | 2008-09-19 | 2010-04-02 | Fujifilm Corp | 表面処理用マスク及びその製造方法、表面処理方法、光学デバイス、並びに、粒子含有フィルム及びその製造方法 |
WO2010078306A2 (en) * | 2008-12-30 | 2010-07-08 | 3M Innovative Properties Company | Method for making nanostructured surfaces |
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US20120328829A1 (en) * | 2010-03-03 | 2012-12-27 | Vang Kalc C | Composite with nano-structured layer |
CN102933633B (zh) | 2010-06-08 | 2014-09-17 | Dic株式会社 | 表面具有微细凹凸的成形体及其制造方法 |
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JP5573918B2 (ja) * | 2012-10-24 | 2014-08-20 | 王子ホールディングス株式会社 | 単粒子膜エッチングマスクを有する表面微細凹凸構造体形成基板の製法 |
JP2013210678A (ja) * | 2013-06-21 | 2013-10-10 | Oji Holdings Corp | 非平面上単粒子膜の製造方法、該単粒子膜エッチングマスクを用いた微細構造体の製造方法および該製造方法で得られた微細構造体。 |
JP5720762B2 (ja) * | 2013-11-29 | 2015-05-20 | 王子ホールディングス株式会社 | 単粒子膜エッチングマスクを有する表面微細凹凸構造体形成用基板及び表面微細凹凸構造体。 |
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Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US8323520B2 (en) | 2009-02-25 | 2012-12-04 | Kabushiki Kaisha Toshiba | Method for manufacturing fine concave-convex pattern and sheet for manufacturing fine concave-convex pattern |
US9114592B2 (en) | 2009-02-25 | 2015-08-25 | Kabushiki Kaisha Toshiba | Method for manufacturing fine concave-convex pattern and sheet for manufacturing fine concave-convex pattern |
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