JP6461189B2 - 封止シート、電子デバイス用部材および電子デバイス - Google Patents
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Description
しかしながら、これらの方法では、封止内部への水蒸気の侵入を十分に抑制して、有機EL素子の劣化を防止し、確実かつ容易に有機EL素子を封止することが困難であった。
そのため、水蒸気等のガスバリア性により優れる封止シートの開発が切望されている。
前記封止樹脂層が、前記基材樹脂層のマイクロ構造を有する面側に配置され、
前記マイクロ構造が、最大高低差(H)が1〜50μmの凸部が、前記基材樹脂層の表面に2次元配列されてなるものであることを特徴とする封止シート。
〔2〕前記封止樹脂層の厚み(h)と、前記マイクロ構造の最大高低差(H)の比(h/H)が、1.0以上3.0未満であることを特徴とする〔1〕に記載の封止シート。
〔3〕前記封止樹脂層の厚み(h)が、1.0〜100μmである、〔1〕に記載の封止シート。
〔5〕前記凸部が、多角錐形状、円錐形状及びテーパー形状から選ばれる形状を有する、〔4〕に記載の封止シート。
〔6〕前記マイクロ構造が、前記基材樹脂層の表面の少なくとも周縁部に、前記凸部が繋がってレール状になって配置されてなるものである、〔4〕に記載の封止シート。
〔8〕前記凸部の断面形状が、四角形、三角形又は半円形である、〔1〕に記載の封止シート。
〔10〕前記封止樹脂層が、ゴム系樹脂を含有する封止樹脂組成物を用いて形成されたものである、〔1〕に記載の封止シート。
〔11〕前記ゴム系樹脂が、ポリイソブチレン系樹脂である、〔10〕に記載の封止シート。
〔12〕前記封止樹脂層が、ゴム系樹脂及び粘着付与剤を含有する封止樹脂組成物を用いて形成されたものである、〔1〕に記載の封止シート。
〔13〕前記封止樹脂層が、前記基材樹脂層に隣接して形成されている、〔1〕に記載の封止シート。
〔15〕ガスバリア層、基材樹脂層、封止樹脂層の順に積層されてなる積層体である、〔14〕に記載の封止シート。
〔16〕前記基材樹脂層の、温度40℃、相対湿度90%の環境下における水蒸気透過率が、前記封止樹脂層の、温度40℃、相対湿度90%の環境下における水蒸気透過率よりも小さいものである、〔15〕に記載の封止シート。
〔17〕基材樹脂層、ガスバリア層、封止樹脂層の順に積層されてなる積層体である、〔14〕に記載の封止シート。
〔18〕前記〔1〕〜〔17〕のいずれかに記載の封止シートからなる電子デバイス用部材。
〔19〕前記〔18〕に記載の電子デバイス用部材を備える電子デバイス。
からの水蒸気等のガスの侵入も抑制されたものであり、ガスバリア性に極めて優れる。
本発明の電子デバイス用部材及び電子デバイスは、本発明の封止シートを備えるものであるため、封止性能に優れるものである。
本発明の封止シートは、片方の表面にマイクロ構造を有する基材樹脂層と、封止樹脂層とを少なくとも有する封止シートであって、前記封止樹脂層が、前記基材樹脂層のマイクロ構造を有する面側に配置され、前記マイクロ構造が、最大高低差(H)が1〜50μmの凸部が、前記基材樹脂層の表面に2次元配列されてなるものであることを特徴とする。
本明細書において「シート」には、短冊状のもののほか、長尺状(帯状)のものも含まれる。
本発明の封止シートの基材樹脂層は、片方の表面にマイクロ構造を有する。
表面にマイクロ構造が形成された基材樹脂層を用いることで、該基材樹脂層に隣接する層の端部からの水蒸気や酸素等のガスの侵入が抑制され、結果として、優れたガスバリア性を有する封止シートを得ることができる。
例えば、熱可塑性樹脂;エポキシ樹脂、シリコーン樹脂、フェノール樹脂等の熱硬化性樹脂;光硬化性アクリル樹脂、光硬化性ウレタン樹脂、光硬化性エポキシ樹脂等の光硬化性樹脂等が挙げられる。これらの樹脂は1種又は2種以上を組み合わせて用いることができる。
本発明の封止シートの基材樹脂層は、片方の表面にマイクロ構造を有する。
マイクロ構造とは、基材樹脂層の表面に、最大高低差(H)が1〜50μm、好ましくは5〜40μmの凸部が2次元配列してなる構造をいう。
凸部の最大高低差(H)が50μm以上であると、ヘイズが上昇し、有機EL素子等を封止した場合、十分な光学物性が得られなくなるおそれがある。一方、最大高低差(H)が1μm未満であると、封止樹脂層の端部からの水蒸気等のガスの侵入を阻害する本発明の効果が得られなくなるおそれがある。
マイクロ構造(i)の凸部の立体形状は特に制限されず、例えば、三角錐状、四角錐状、五角錐状、六角錐状等の多角錐形状;円錐形状;三角錐台状、四角錐台状、五角錐台状、六角錐台状等の多角錐台形状;円錐台状;テーパー形状;円柱状;多角柱状;等が挙げられる。
マイクロ構造(ii)の、レール状に繋がった凸部(以下、「レール状の凸部」ということがある。)の立体形状としては、特に制限されないが、例えば、基材樹脂層の表面に、レール状の凸部が、(ii−1)環状、渦状、四角形状又は角丸四角形状に配置されてなるもの、(ii−2)格子状、斜線入り格子状又は波線格子状に2次元配列されてなるもの等が挙げられる。
また、マイクロ構造(ii)としては、レール状物の凸部が、断続的にあるいは不規則に配列されているものであってもよい。マイクロ構造(ii)はこれらに限定されるものではない。
マイクロ構造(iii)としては、例えば、レール状の凸部と多角錐形状等の凸部が規則的に、又は不規則に配列されたもの等が挙げられる。
ナノインプリント法を使用してエンボス加工を施す方法は、例えば、次のようにして行うことができる。先ず、適当な支持体の表面に設けた基材樹脂層上に、ナノインプリント用モールドを押圧しながら加熱し、軟化した基材樹脂層の樹脂をモールドの微細形状に押入する。ナノインプリント用モールドは、平面状、ベルト状、ロール状、ロールベルト状等の任意の形態のものを選択できる。その後、冷却してからナノインプリント用モールドを離すことにより、ナノインプリント用モールドに形成されているマイクロ構造が転写された基材樹脂層を得ることができる。
50g/(m2・day)より小さいことが好ましく、30g/(m2・day)より小さいことがより好ましく、20g/(m2・day)より小さいことがさらに好ましい。
基材樹脂層の水蒸気透過率は、水蒸気透過率が0.01g/(m2・day)より大きい場合JIS K 7129記載の乾湿センサー法(Lyssy法)、赤外線センサー法(MOCON法)により測定することができる。水蒸気透過率が0.01g/(m2・day)以下の場合JIS K 7129記載のCa法、API−MASS法により測定することができる。実施例においては、前述の方法を適宜選択して測定することができる。
本発明の封止シートは、封止樹脂を含有する封止樹脂層を有する。
封止樹脂層に用いる樹脂としては、特に制限されない。例えば、ゴム系樹脂、スチレン系熱可塑性エラストマー、(メタ)アクリル系樹脂、ポリオレフィン系樹脂、ポリエステル系樹脂、シリコーン系樹脂、ウレタン系樹脂等が挙げられ、水蒸気透過率が低いという観点からゴム系樹脂が好ましい。
用いる粘着付与剤としては、特に限定されないが、従来公知の天然樹脂系粘着付与剤、合成樹脂系粘着付与剤等が挙げられる。
封止樹脂層中の粘着付与剤の含有量は、通常0〜30質量%、好ましくは10〜30質量%である。
他の成分としては、架橋剤、光安定剤、酸化防止剤、軟化剤、熱安定剤、紫外線吸収剤、充填剤、可塑剤等が挙げられる。これらの添加量は、それぞれの特性、目的とする封止シートに求められる特性に応じ、本発明の目的を阻害しない範囲で決定すればよい。
用いる溶剤としては、前記吸湿材及び封止材と相溶性を有するものであれば特に制約されず、例えば、n−ヘキサン、シクロヘキサン等の脂肪族炭化水素類;ベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類;これらのハロゲン化物;酢酸エチル、酢酸ブチル等のエステル類;メチルエチルケトン、シクロヘキサノン等のケトン類;ジメチルホルムアミド等のアミド類;等が挙げられる。これらは単独で、或いは2種以上を併用して用いることができる。
基材としては、特に制約されず、前記基材樹脂層、後述するガスバリア層と基材樹脂層との積層体、剥離シート等が挙げられる。なかでも、封止シートを効率よく製造する観点から、剥離シートを用いるのが好ましい。
用いる剥離シートは、剥離性を表面に有する剥離シート用基材から構成される。剥離シート用基材としては、特に限定されない。例えば、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリブデン、ポリブタジエン、ポリメチルペンテン、ポリ塩化ビニル、塩化ビニル共重合体、ポリブチレンテレフタレート、ポリウレタン、エチレン−酢酸ビニル共重合体、アイオノマー樹脂、エチレン(メタ)アクリル酸共重合体、ポリスチレン、ポリカーボネート、フッ素樹脂、低密度ポリエチレン、直鎖低密度ポリエチレン、トリアセチルセルロース等の基材樹脂層;上質紙、コート紙、グラシン紙、ラミネート紙等の紙類;が挙げられる。
剥離シート用基材の厚みは、取扱い性の観点から、通常5〜200μm、好ましくは10〜100μmである。
剥離シートとしては、市販品をそのまま用いることができる。
以上のようにして、剥離シート付封止樹脂層を得ることができる。
1.0μm以上であれば、被着体に対し良好な粘着力が得られ、100μm以下であれば、生産性の面で有利であり、取り扱い性に優れる封止シートとなる。
比[h/H]が1.0より小さいと、被着体への封止樹脂層の接触面積が低下し、接着性が低下する。一方、比[h/H]が3.0以上の場合は、封止樹脂層の端部からのガスもしくは水の侵入を防止できない。
なお、h及びHは、具体的には図6に示すものである。
封止樹脂層の水蒸気透過率は、先述の方法により測定することができる。
本発明の封止シートは、ガスバリア層をさらに有することが好ましい。
本発明の封止シートにおけるガスバリア層は、酸素や水蒸気の透過を抑制する特性(以下、「ガスバリア性」という)を有する層である。ガスバリア層を有することで、より優れたガスバリア性を有する封止シートとすることができる。
ガスバリア層の材料としては、例えば、ポリシラザン化合物、ポリカルボシラン化合物、ポリシラン化合物、ポリオルガノシロキサン化合物、テトラオルガノシラン化合物等のケイ素化合物;酸化ケイ素、酸窒化ケイ素、酸化アルミニウム、酸窒化アルミニウム、酸化マグネシウム、酸化亜鉛、酸化インジウム、酸化スズ、酸化ジルコニウム等の無機酸化物;窒化ケイ素、窒化アルミニウム等の無機窒化物;酸化窒化ケイ素等の無機酸化窒化物;アルミニウム、マグネシウム、亜鉛、スズ等の金属;等が挙げられる。これらは、1種単独で、或いは2種以上を組み合わせて使用することができる。2種以上の材料を組み合わせて使用する場合、その組成は均一に分散されていても、漸次変化していてもよい。
ガスバリア層は、単層であっても、複数の層が積層された積層体であってもよい。
ガスバリア層の水蒸気透過率は、先述の方法により測定することができる。
本発明の封止シートは、片方の表面にマイクロ構造を有する基材樹脂層(以下、単に「基材樹脂層」ということがある。)及び封止樹脂層を少なくとも有する。
図7(a)は、基材樹脂層2/封止樹脂層1からなる層構成を有する封止シート(10A)、図7(b)は、基材樹脂層2/ガスバリア層3/封止樹脂層1からなる層構成を有する封止シート(10B)、図7(c)は、ガスバリア層3/基材樹脂層2/封止樹脂層1からなる層構成を有する封止シート(10C)を示す。
なお、封止シート(10C)の場合には、本発明の効果を得る上では、基材樹脂層2の、温度40℃、相対湿度90%の環境下における水蒸気透過率は、封止樹脂層1の、温度40℃、相対湿度90%の環境下における水蒸気透過率よりも小さいものであることが必要である。
また、封止シートは、両面又は片面の最表面に剥離シートを有するものであってもよい。
封止シートの製造方法は特に制約はないが、例えば、封止シート(10A)は、次にようにして製造することができる。
先ず、樹脂表面にマイクロ構造が形成された基材樹脂層2(基材樹脂フィルム又は基材樹脂シート)を用意する。
別に、剥離シート上に封止樹脂層1が形成された、剥離シート付封止樹脂シートを用意する。
次いで、この剥離シート付封止樹脂シートの封止樹脂層1側と、前記基材樹脂層2のマイクロ構造が形成された面側とを貼り合わせることで、剥離シート付の封止シート(10A)を得ることができる。
貼り合わせは、ラミネータを用いて行うことができる(以下にて同じ)。
先ず、基材樹脂層2の、マイクロ構造が形成された面側に、前述した方法等によりガスバリア層3を形成し、ガスバリア層付基材樹脂層を得る。次いで、このガスバリア層付基材樹脂層のガスバリア層3側と、別途用意した、剥離シート付封止樹脂シートの封止樹脂層1側とを貼り合わせることで、剥離シート付の封止シート(10B)を得ることができる。
先ず、樹脂表面にマイクロ構造が形成された基材樹脂層2を用意する。次いで、この基材樹脂層2の、マイクロ構造が形成されていない側の表面に、ガスバリア層3を形成する。
ガスバリア層3を形成する方法としては、前記基材樹脂層2の、マイクロ構造が形成されていない側の表面に、直接ガスバリア層を形成する方法;別途、剥離シート表面にガスバリア層3を形成した剥離シート付ガスバリアシートを用意し、このシートのガスバリア層3側と、基材樹脂層2のマイクロ構造が形成されていない側とを貼り合わせた後、剥離シートを剥離する方法;等が挙げられる。
次いで、基材樹脂層2のマイクロ構造が形成された面側と、別途用意した、剥離シート付封止樹脂シートの封止樹脂層1側とを貼り合わせることで、剥離シート付の封止シート(10C)を得ることができる。
このことは、後述する実施例に記載の方法で行う水分侵入試験で、A又はB評価を与えること等から確認することができる。
従って、本発明の封止シートは、有機ELディスプレイや高精彩カラー液晶ディスプレイ等の高バリア性が特に要求される用途に適用した際の長期信頼性に特に優れる。
本発明の電子デバイス用部材は、本発明の封止シートからなることを特徴とする。本発明の封止シートは、封止シートの垂直方向のみならず、水平方向(端部)からの水蒸気等のガスの侵入も抑制された、ガスバリア性(封止性能)に極めて優れるものである。よって、本発明の電子デバイス用部材は、液晶ディスプレイ、ELディスプレイ等のディスプレイや太陽電池等の電子デバイス用部材等として好適である。
図8中、有機ELデバイスは、基板7上に形成された透明電極6と、該透明電極6上に積層された有機EL素子(正孔輸送層、発光層)5及び背面電極4と、前記有機EL素子5等を封止する封止シート20を備える。
水蒸気透過率は、水蒸気透過率測定装置(Lyssy社製、L80−5000)を用いて、温度40℃、相対湿度90%の条件下で測定した。
封止樹脂層の水蒸気透過率は、封止樹脂層を2枚のポリエチレンテレフタレート(PET)フィルム(三菱樹脂社製、厚さ6μm)で挟むことで、水蒸気透過率測定用のサンプルを得て、測定した。
無アルカリガラス基板(コーニング社製、45mm×45mm)上に、真空蒸着法にて、縦35mm、横35mmで膜厚100nmのカルシウム層を形成した。
次いで、封止シートから剥離シートを剥離し、露出した封止樹脂層とガラス基板上のカルシウム層とを、窒素雰囲気下にて、ラミネータを用いて貼合し、カルシウム層が封止された水分浸入試験用試験片を得た。
得られた試験片を、温度60℃、相対湿度90%の環境下で170時間放置し、カルシウム層の変色の割合(水分浸入の割合)を目視で確認し、下記の基準により水分遮断性を評価した。
A:変色しているカルシウム層の面積が全体の20%未満
B:変色しているカルシウム層の面積が全体の20%以上30%未満
C:変色しているカルシウム層の面積が全体の30%以上50%未満
D:変色しているカルシウム層の面積が全体の50%以上
基材樹脂層(東洋紡社製、A4100、厚さ50μm)に、下記に示すマイクロ構造(図3(d)に示す構造)を熱インプリント法によって形成し、基材樹脂層2Aを得た。
最大高低差〔H〕:20μm
形状:角丸四角形
曲率半径:3mm
断面:三角形(1辺20μm)
ピッチ:20μm
最大辺長:45mm
周期:最大辺長を有する周から内側へ250周期
得られた封止樹脂組成物を、剥離シート(リンテック社製、SP−PET381130、厚み38μm)の剥離処理面上に、乾燥後の厚みが20μmになるように塗工し、得られた塗膜を120℃で2分間乾燥し、封止樹脂層を形成した。次いで、剥離シート(リンテック社製、SP−PET38T103−1、厚み38μm)を、その剥離処理面で封止樹脂層に貼り合わせて、両面に剥離シートが積層された封止樹脂層1Aを得た。
得られた封止シート1につき、水分侵入試験を行った。評価結果を下記表1に示す。
ガラス基板を溶媒で洗浄し、次いでUV/オゾン処理を行った後、その表面にアルミニウム(Al)(高純度化学研究所社製)を0.1nm/sの速度で100nm蒸着させて陰極(第1の電極)を形成した。
得られた陰極(Al膜)上に、(8−ヒドロキシ−キノリノレート)リチウム(Luminescence Technology社製)を10nm、2,9−ジメチル−4,7−ジフェニル−1,10−フェナントロリン(Luminescence Technology社製)を10nm、トリス(8−ヒドロキシ−キノリネート)アルミニウム(Luminescence Technology社製)を40nm、N,N’−ビス(ナフタレン−1−イル)−N,N’−ビス(フェニル)−ベンジデン(Luminescence Technology社製)を60nm、0.1〜0.2nm/sの速度で順次蒸着させ、発光層(有機EL層)を形成した。
次いで、封止シートから剥離シートを剥離し、窒素雰囲気下で、ホットプレートを用いて120℃で10分間加熱して乾燥した後、そのまま放置して室温まで冷却した。
有機EL素子1について、以下の評価を行った。評価結果を下記表1に示す。
有機EL素子1を、温度23℃、相対湿度50%の環境下で200時間放置した後、有機EL素子1を起動させ、非発光箇所の有無を観察し、以下の基準で評価した。
A:非発光箇所が無かった、又は初期の発光面積の5%未満に発生した。
B:非発光箇所が初期の発光面積の5%以上10%未満に発生した。
C:非発光箇所が初期の発光面積の10%以上15%未満に発生した。
D:非発光箇所が初期の発光面積の15%以上に発生した。
封止樹脂層を、乾燥後の厚みが30μmとなるよう形成したこと以外、実施例1と同様にして剥離シート付封止シート2を作成し、水分浸入試験を行い評価した。封止樹脂層の水蒸気透過率は6.0g/(m2・day)であった。
次いで、実施例1と同様にして、有機EL素子2を作製し、有機EL素子の評価を行った。評価結果を下記表1に示す。
封止樹脂層を、乾燥後の厚みが59μmとなるよう形成したこと以外、実施例1と同様にして剥離シート付封止シート3を作成し、水分浸入試験を行い評価した。封止樹脂層の水蒸気透過率は2.5g/(m2・day)であった。
次いで、実施例1と同様にして、有機EL素子3を作製し、有機EL素子の評価を行った。評価結果を下記表1に示す。
下記に示すマイクロ構造(図3(b)に示す構造)を形成した基材樹脂層2B(厚さ50μm)を用いたこと以外は、実施例1と同様に剥離シート付封止シート4を作成し、水分浸入試験を行い評価した。基材樹脂層2Bの水蒸気透過率は10g/(m2・day)であった。
最大高低差〔H〕:20μm
形状:渦状
断面:三角形(1辺20μm)
最大径:63mm
ピッチ:20μm
周期:開始点から1ピッチずれた点までの渦を1周期として、最大径から内側へ1500周期
下記に示すマイクロ構造(図2(a)に示す構造)を形成した基材樹脂層2C(厚さ50μm)を用いたこと以外は、実施例1と同様に剥離シート付封止シート5を作成し、水分浸入試験を行い評価した。基材樹脂層2Cの水蒸気透過率は10g/(m2・day)であった。
最大高低差〔H〕:20μm
形状:六角錐
ピッチ:20μm
下記に示すマイクロ構造(図4(b)に示す構造)を形成した基材樹脂層2D(厚さ50μm)を用いたこと以外は、実施例1と同様に剥離シート付封止シート6を作成し、水分浸入試験を行い評価した。基材樹脂層2Dの水蒸気透過率は9.3g/(m2・day)であった。
最大高低差〔H〕:20μm
形状:メッシュ状(直交+斜交)
断面:三角形(半径20μm)
ピッチ:直交100μmとし、斜交は直交の交点を通過
下記に示すマイクロ構造(図4(c)に示す構造)を形成した基材樹脂層2E(厚さ50μm)を用い、封止樹脂層の厚みを21μmとなるよう形成したこと以外は、実施例1と同様に剥離シート付封止シート7を作成し、水分浸入試験を行い評価した。基材樹脂層2E及び封止樹脂層1Bの水蒸気透過率は各々9.5g/(m2・day)、7g/(m2・day)であった。
最大高低差〔H〕:20μm
形状:メッシュ状(波線)
断面:台形(上底10μm、下底20μm、上底をガスバリア形成面側とする)
ピッチ:100μm
下記に示すマイクロ構造(図4(c)に示す構造)を形成した基材樹脂層2F(厚さ50μm)を用いたこと以外は、実施例7と同様に剥離シート付封止シート8を作成し、水分浸入試験を行い評価した。基材樹脂層2Fの水蒸気透過率は9.5g/(m2・day)であった。
最大高低差〔H〕:20μm
形状:メッシュ状(波線)
断面:半円形(半径20μm)
ピッチ:100μm
下記に示すマイクロ構造(図4(c)に示す構造)を形成した基材樹脂層2G(厚さ50μm)を用いたこと以外は、実施例1と同様に剥離シート付封止シート9を作成し、水分浸入試験を行い評価した。基材樹脂層2Gの水蒸気透過率は9.5g/(m2・day)であった。
最大高低差〔H〕:20μm
形状:メッシュ状(波線)
断面:三角形(1辺20μm)
ピッチ:100μm
マイクロ構造が形成された基材樹脂層2A(厚さ50μm)のマイクロ構造が形成されていない面に、プラズマ化学気相成長法により、厚み100nmの酸化ケイ素膜(ガスバリア層)を形成した。
アクリル酸ブチル90部、及びアクリル酸10部、アゾビスイソブチロニトリル0.2部を反応器に入れ混合した。次いで、得られた混合物内に窒素ガスを4時間吹き込んで脱気した後、撹拌しながら60℃まで昇温した。そのまま、撹拌を60℃で24時間続けることで重合反応を行なった。次いで、反応混合物を酢酸エチルで希釈することで、固形分濃度が33%のアクリル系共重合体(重量平均分子量:650,000)の酢酸エチル溶液を得た。
ポリイソシアネート化合物(日本ポリウレタン社製、コロネートL)を、その固形分が、前記酢酸エチル溶液の固形分100部に対して1.5部になるように添加し、次いで、トルエンを加えることで、固形分濃度20%の封止樹脂組成物を得た。
得られた封止樹脂組成物を、剥離シート(リンテック社製、SP−PET381130、厚み38μm)の剥離処理面上に、乾燥後の厚みが21μmになるようにそれぞれ塗工し、得られた塗膜を120℃で2分間乾燥し、封止樹脂層1Cを形成した。実施例1と同様に剥離シート付封止シート10を作成し、水分浸入試験を行い評価した。封止樹脂層1Cの水蒸気透過率は95g/(m2・day)であった。
封止樹脂層の乾燥後の厚みが59μmとなるよう形成したこと以外、実施例10と同様に剥離シート付封止シート11を作成し、水分浸入試験を行い評価した。封止樹脂層1Dの水蒸気透過率は32g/(m2・day)であった。
次いで、実施例1と同様にして、有機EL素子11を作製し、有機EL素子の評価を行った。評価結果を下記表1に示す。
マイクロ構造が形成されていない基材樹脂層2H(PETフィルム、東洋紡社製、コスモシャインA4100、厚さ50μm)を用いたこと以外は、実施例1と同様に剥離シート付封止シート1rを作成し、水分浸入試験を行い評価を行った。基材樹脂層2Hの水蒸気透過率は7g/(m2・day)であった。
次いで、実施例1と同様にして、有機EL素子1rを作製し、有機EL素子の評価を行った。評価結果を下記表1に示す。
封止樹脂層の乾燥後の厚みが19μmとなるよう形成したこと以外、実施例1と同様に剥離シート付封止シート2rを作成し、水分浸入試験を行い評価した。封止樹脂層1Eの水蒸気透過率は7.5g/(m2・day)であった。
次いで、実施例1と同様にして、有機EL素子2rを作製し、有機EL素子の評価を行った。評価結果を下記表1に示す。
封止樹脂層の乾燥後の厚みが60μmとなるよう形成したこと以外、実施例1と同様に剥離シート付封止シート3rを作成し、水分浸入試験を行い評価した。封止樹脂層1Fの水蒸気透過率は2.3g/(m2・day)であった。
次いで、実施例1と同様にして、有機EL素子3rを作製し、有機EL素子の評価を行った。評価結果を下記表1に示す。
封止樹脂層の乾燥後の厚みが19μmとなるよう形成したこと以外、実施例10と同様に剥離シート付封止シート4rを作成し、水分浸入試験を行い評価した。封止樹脂層1Gの水蒸気透過率は100g/(m2・day)であった。
次いで、実施例1と同様にして、有機EL素子4rを作製し、有機EL素子の評価を行った。評価結果を下記表1に示す。
封止樹脂層の乾燥後の厚みが60μmとなるよう形成したこと以外、実施例10と同様に剥離シート付封止シート5rを作成し、水分浸入試験を行い評価した。封止樹脂層1Hの水蒸気透過率は30g/(m2・day)であった。
次いで、実施例1と同様にして、有機EL素子5rを作製し、有機EL素子の評価を行った。評価結果を下記表1に示す。
下記式中、(b)は、基材樹脂層2/ガスバリア層3/封止樹脂層1、(c)は、ガスバリア層3/基材樹脂層2/封止樹脂層1、の層構成を示す。
2・・・基材樹脂層
3・・・ガスバリア層
4・・・背面電極
5・・・有機EL素子
6・・・透明電極
7・・・基板
10A、10B、10C、20・・・封止シート
H・・・最大高低差
h・・・封止樹脂層の厚み
Claims (19)
- 片方の表面にマイクロ構造を有する基材樹脂層と、封止樹脂層とを少なくとも有する封止シートであって、
前記封止樹脂層が、前記基材樹脂層のマイクロ構造を有する面側に配置され、
前記マイクロ構造が、最大高低差(H)が5〜50μmの凸部が、前記基材樹脂層の表面に2次元配列されてなるものであり、
前記封止樹脂層の厚み(h)と、前記マイクロ構造の最大高低差(H)の比(h/H)が、1.0以上3.0未満であることを特徴とする封止シート。 - 前記封止樹脂層の厚み(h)と、前記マイクロ構造の最大高低差(H)の比(h/H)が、1.0以上2.0未満であることを特徴とする請求項1に記載の封止シート。
- 前記封止樹脂層の厚み(h)が、5.0〜100μmである、請求項1に記載の封止シート。
- 前記マイクロ構造が、前記基材樹脂層の表面に、(i)複数の凸部がナノオーダーのピッチで規則的に、又は不規則に配列しているもの、(ii)前記凸部が繋がってレール状になって規則的に、又は不規則に配列しているもの、又は、(iii)これらの組み合わせからなるものである、請求項1に記載の封止シート。
- 前記凸部が、多角錐形状、円錐形状及びテーパー形状(ただし、多角錐形状、及び円錐形状を除く。)から選ばれる形状を有する、請求項4に記載の封止シート。
- 前記マイクロ構造が、前記基材樹脂層の表面の少なくとも周縁部に、前記凸部が繋がってレール状になって配置されてなるものである、請求項4に記載の封止シート。
- 前記マイクロ構造が、前記基材樹脂層の表面に、前記凸部が繋がってレール状になって、環状、渦状、四角形状、角丸四角形状、格子状、斜線入り格子状、又は波線格子状に、2次元配列されてなるものである、請求項4に記載の封止シート。
- 前記凸部の断面形状が、四角形、三角形又は半円形である、請求項1に記載の封止シート。
- 前記マイクロ構造が、エンボス加工により形成されたものである、請求項1に記載の封止シート。
- 前記封止樹脂層が、ゴム系樹脂を含有する樹脂組成物を用いて形成されたものである、請求項1に記載の封止シート。
- 前記ゴム系樹脂が、ポリイソブチレン系樹脂である、請求項10に記載の封止シート。
- 前記封止樹脂層が、ゴム系樹脂及び粘着付与剤を含有する封止樹脂組成物を用いて形成されたものである、請求項1に記載の封止シート。
- 前記封止樹脂層が、前記基材樹脂層に隣接して形成されている、請求項1に記載の封止シート。
- さらにガスバリア層を有する、請求項1に記載の封止シート。
- ガスバリア層、基材樹脂層、封止樹脂層の順に積層されてなる積層体である、請求項14に記載の封止シート。
- 前記基材樹脂層の、温度40℃、相対湿度90%の環境下における水蒸気透過率が、
前記封止樹脂層の、温度40℃、相対湿度90%の環境下における水蒸気透過率よりも小さいものである、請求項15に記載の封止シート。 - 基材樹脂層、ガスバリア層、封止樹脂層の順に積層されてなる積層体である、請求項14に記載の封止シート。
- 請求項1〜17のいずれかに記載の封止シートからなる電子デバイス用部材。
- 請求項18に記載の電子デバイス用部材を備える電子デバイス。
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