JP5673535B2 - シート状構造体とその製造方法およびそれを用いた面発光体 - Google Patents
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Description
透明基材の少なくとも片面に、金属酸化物微粒子を含む分散液を塗布する工程と、
基材の軟化点温度以下で乾燥する工程と、
外部刺激処理による自己組織化によって該金属酸化物微粒子の集合体からなる凹凸構造を形成する工程と、
を有し、
前記凹凸構造が、平均深さが5nm以上300nm以下で、平均周期が10nm以上300nm以下の周期性凹凸構造であることを特徴とするシート状構造体の製造方法。
本発明の特徴である金属酸化物微粒子の集合体からなる凹凸構造を有する光取り出し層とは、金属酸化物微粒子が複数個結合して形成された凹凸形状を有する層であり、光取り出し効率の向上を目的として透明基材上に形成された層である。
本発明で用いられる金属酸化物微粒子は、100nm以下の微粒子であることが好ましく、更に好ましくは1nm以上50nm以下の平均粒子径であり、特に好ましくは、1nm以上30nm以下の平均粒子径である。平均粒子径が1nm未満の場合、分散液中で粒子凝集が進んでしまうため、所望の凹凸形状が得られないおそれがある。一方、平均粒子径を100nm以下とすることにより、微粒子自体が光散乱を起こすことによる透明性の低下が少なく、微粒子の集合体による散乱効果が大きくなるため好ましい。ここで平均粒子径とは、走査型電子顕微鏡により200個以上の粒子を観察し、各粒子を同体積の球に換算した時の直径(球換算粒径)の平均値をいう。
まず、四塩化チタン等の四価チタンの化合物とアンモニア等の塩基とを反応させて、水酸化チタンを形成する。次に、この水酸化チタンを酸化剤でペルオキソ化し、超微細粒子のアモルファス型過酸化チタンを形成する。この反応は好ましくは水性媒体中で行なわれる。さらに、任意に加熱処理することによりアナターゼ型過酸化チタンに転移させることも可能である。
本発明のシート状構造体に用いられる透明基材としては、高い光透過性を有していればそれ以外に特に制限はない。例えば、基材としての硬度に優れ、またその表面への膜形成のし易さ等の点で、ガラス基板、樹脂基板、樹脂フィルムなどが好適に挙げられるが、軽量性と柔軟性の観点から透明樹脂フィルムを用いることが好ましい。
本発明で用いることができる外部刺激処理としては、金属酸化物微粒子の集合体を凹凸構造に形成する方法であれば如何なる外部刺激処理も用いることができるが、本発明においては、フレキシブルな基板にダメージを与えないようにすることが必要である。
本発明の実施において、好ましく用いる事ができるプラズマ処理装置について、以下説明するが、本発明はこれに限定されるものではない。尚、本発明では、プラズマ処理としてはフレームプラズマ処理、コロナ放電処理、大気圧プラズマ処理等を対象とするが、以下、大気圧プラズマ処理をプラズマ処理の代表として取り上げ説明する。
メーカー 周波数 製品名
神鋼電機 3kHz SPG3−4500
神鋼電機 5kHz SPG5−4500
春日電機 15kHz AGI−023
神鋼電機 50kHz SPG50−4500
ハイデン研究所 100kHz* PHF−6k
パール工業 200kHz CF−2000−200k
パール工業 400kHz CF−2000−400k
等の市販のものを挙げることが出来、何れも使用することが出来る。
メーカー 周波数 製品名
パール工業 800kHz CF−2000−800k
パール工業 2MHz CF−2000−2M
パール工業 13.56MHz CF−5000−13M
パール工業 27MHz CF−2000−27M
パール工業 150MHz CF−2000−150M
等の市販のものを挙げることが出来、何れも好ましく使用出来る。
本発明で用いられる好ましいマイクロ波処理としては、0.3GHz〜50GHzの周波数を持つマイクロ波を用いることが好ましく、携帯通信で用いられる0.8GHz及び1.5GHz帯、2GHz帯、アマチュア無線、航空機レーダー等で用いられる1.2GHz帯、電子レンジ、構内無線、VICS等で用いられる2.4GHz帯、船舶レーダー等に用いられる3GHz帯、その他ETCの通信に用いられる5.6GHz等は全て電磁波の範疇に入る電磁波等が好ましいが、更に好ましくは、マイクロ波(周波数0.3GHz〜50GHz)であることが好ましい。
本発明で好ましく用いることができる外部刺激処理として、紫外線照射処理を挙げることができる。紫外線照射の方法は、高圧水銀ランプ、キセノンランプ、重水素ランプ、LEDランプなど如何なる装置を用いても良いが、好ましくは紫外線の光の波長が150〜400nm程度の光を照射できる装置を用いることが好ましく、より好ましくは、185〜365nmの紫外光を照射できる装置が好ましい。
加熱処理としては、オーブンやホットプレートを用いる方法が上げられるが、樹脂基材を劣化させない温度での処理が必要であることから、加熱温度としては、110℃以上200℃以下であることが好ましく、さらに110℃以上150℃以下が好ましい。また、本発明において樹脂基材を劣化させない温度での加熱処理により、金属酸化物微粒子の集合体による凹凸構造を形成するためには、金属酸化物微粒子間の固着を促進させる化合物を用いることが好ましい。
−(R″O)m−R′
で表される基であり、ここにおいてR″は、炭素原子数2〜4のアルキレン基、好ましくはエチレン、プロピレン等の基である。また、R′は水素原子或いは炭素原子数1〜30のアルキル基、アルケニル基、また炭素原子数10以下のアリール基、また、炭素原子数22以下のアシル基、例えば、アセチル基、プロピオニル基等を、また、ベンゾイル基等を表す。また、mは1〜16、好ましくは3〜10の整数を表す。
−(R″O)m−
で表される2価の基が挙げられ、R″については前記同様、炭素原子数2〜4のアルキレン基、好ましくはエチレン、プロピレン等の基が挙げられる。また、ここで、mは、0〜16、好ましくは3〜10の整数を表す。
有機EL素子の層構成の好ましい具体例を以下に示す。
(ii)陽極/正孔輸送層/発光層/電子輸送層/陰極
(iii)陽極/正孔輸送層/発光層/正孔阻止層/電子輸送層/陰極
(iv)陽極/正孔輸送層/発光層/正孔阻止層/電子輸送層/陰極バッファー層/陰極
(v)陽極/陽極バッファー層/正孔輸送層/発光層/正孔阻止層/電子輸送層/陰極バッファー層/陰極
ここで、発光層は、少なくとも発光色の異なる2種以上の発光材料を含有していることが好ましく、単層でも複数の発光層からなる発光層ユニットを形成していてもよい。また、正孔輸送層には正孔注入層、電子阻止層も含まれる。
発光層は、電極または電子輸送層、正孔輸送層から注入されてくる電子及び正孔が再結合して発光する層であり、発光する部分は発光層の層内であっても発光層と隣接層との界面であってもよい。
各発光層間に非発光性の中間層(非ドープ領域等ともいう)を設ける場合について説明する。
注入層は必要に応じて設け、電子注入層と正孔注入層があり、上記の如く陽極と発光層または正孔輸送層の間、及び陰極と発光層または電子輸送層との間に存在させてもよい。
阻止層は、上記の如く有機化合物薄膜の基本構成層の他に必要に応じて設けられるものである。例えば、特開平11−204258号公報、同11−204359号公報、及び「有機EL素子とその工業化最前線(1998年11月30日エヌ・ティー・エス社発行)」の237頁等に記載されている正孔阻止(ホールブロック)層がある。
正孔輸送層とは、正孔を輸送する機能を有する正孔輸送材料からなり、広い意味で正孔注入層、電子阻止層も正孔輸送層に含まれる。正孔輸送層は単層または複数層設けることができる。
電子輸送層とは、電子を輸送する機能を有する材料からなり、広い意味で電子注入層、正孔阻止層も電子輸送層に含まれる。電子輸送層は単層または複数層設けることができる。
対向電極としては、前記透明導電層に対向する電極をいう。本発明においては、透明導電層を主に陽極として使用するため、対向電極としては以下に示す陰極を用いることができる。陰極としては仕事関数の小さい(4eV以下)金属(電子注入性金属と称する)、合金、電気伝導性化合物及びこれらの混合物を電極物質とするものが用いられる。このような電極物質の具体例としては、ナトリウム、ナトリウム−カリウム合金、マグネシウム、リチウム、マグネシウム/銅混合物、マグネシウム/銀混合物、マグネシウム/アルミニウム混合物、マグネシウム/インジウム混合物、アルミニウム/酸化アルミニウム(Al2O3)混合物、インジウム、リチウム/アルミニウム混合物、希土類金属等が挙げられる。これらの中で、電子注入性及び酸化等に対する耐久性の点から、電子注入性金属とこれより仕事関数の値が大きく安定な金属である第二金属との混合物、例えば、マグネシウム/銀混合物、マグネシウム/アルミニウム混合物、マグネシウム/インジウム混合物、アルミニウム/酸化アルミニウム(Al2O3)混合物、リチウム/アルミニウム混合物、アルミニウム等が好適である。陰極はこれらの電極物質を蒸着やスパッタリング等の方法により薄膜を形成させることにより、作製することができる。また、陰極としてのシート抵抗は数百Ω/□以下が好ましく、膜厚は通常10nm〜5μm、好ましくは50nm〜200nmの範囲で選ばれる。尚、発光した光を透過させるため、有機EL素子の陽極または陰極のいずれか一方が透明または半透明であれば発光輝度が向上し好都合である。
有機EL素子は、透明基材上に透明導電層、有機エレクトロルミネッセンス層、対向電極を順次形成することにより作製できる。
透明基材上に、所望の電極物質を用いて透明導電層を形成することができる。例えば、電極物質としてITO(すずを添加した酸化インジウム)を用いる場合には、蒸着やスパッタリング等の方法により透明導電層を形成することができる。また、金属ナノワイヤや導電性ポリマーあるいは透明導電性金属酸化物を含む材料を、塗布法や印刷法などの液相成膜法を用いて透明導電層を形成することもできる。
陽極バッファー層、正孔輸送層、発光層、正孔阻止層、電子輸送層、陰極バッファー層の全部または一部からなる、透明導電層と陰極の間に形成された層を有機エレクトロルミネッセンス層という。この有機エレクトロルミネッセンス層の作製方法の一例として、正孔注入層/正孔輸送層/発光層/正孔阻止層/電子輸送層からなる有機エレクトロルミネッセンス層の作製法について説明する。
上記の有機エレクトロルミネッセンス層を形成後、その上に陰極用物質からなる薄膜を1μm以下好ましくは50〜200nmの範囲の膜厚になるように、例えば、蒸着やスパッタリング等の方法により形成させ、陰極を設ける。
本発明に係る面発光体は、表示デバイス、ディスプレイ、各種発光光源として用いることができる。発光光源として、例えば、家庭用照明、車内照明、時計や液晶用のバックライト、看板広告、信号機、光記憶媒体の光源、電子写真複写機の光源、光通信処理機の光源、光センサーの光源等が挙げられるがこれに限定するものではないが、特にカラーフィルターと組み合わせた液晶表示装置のバックライト、照明用光源としての用途に有効に用いることができる。
本発明のシート状構造体は、面発光体の一つである有機EL素子に適用できる。有機EL素子としては、複数の発光材料により複数の発光色を同時に発光させて混色により白色発光を得る。複数の発光色の組み合わせとしては、青色、緑色、青色の3原色の3つの発光極大波長を含有させたものでもよいし、青色と黄色、青緑と橙色等の補色の関係を利用した2つの発光極大波長を含有したものでもよい。
《アモルファス型酸化チタン分散液1の作製》
水500mlに50%四塩化チタン溶液(住友シチックス(株)製)10gを添加し、純水を加え1000mlにした溶液を準備する。これに2.5%アンモニア水を滴下してpH6.9に調整し、水酸化チタンを沈殿させた。この沈殿物を純水で上澄み液中の導電率が0.8mS/m以下になるよう洗浄を継続し、導電率が0.738mS/mになったところで洗浄を終了すると、0.73質量%濃度の水酸化物の含有液が430g作製された。
水500mlに50%四塩化チタン溶液(住友シチックス(株)製)10gを添加し、純水を加え1000mlにした溶液を準備する。これに2.5%アンモニア水を滴下してpH6.9に調整し、水酸化チタンを沈殿させた。この沈殿物を純水で上澄み液中の導電率が0.8mS/m以下になるよう洗浄を継続し、導電率が0.738mS/mになったところで洗浄を終了すると、0.73質量%濃度の水酸化物の含有液が430g作製された。
50%四塩化チタン溶液(住友シチックス(株)製)20gに、ZrCl2O・8H2O(塩化オキシジルコン)1.696gを完全に溶かした溶液に純水を加え2000mlにした溶液を作製した。これに2.5%アンモニア水を滴下してpH7.0に調整して、水酸化ジルコニウムと水酸化チタンの混合物を沈殿させた。この沈殿物を純水で上澄み液の導電率が0.8mS/m以下になるようデカンテーション洗浄を繰り返し、導電率が0.702mS/mになったところで洗浄を終了すると、0.79質量%濃度の水酸化物が626g作製された。
上記アモルファス型酸化チタン分散液1をそのまま塗布液1とした。
上記アモルファス型酸化チタン分散液2をそのまま塗布液2とした。
上記アモルファス型TiO2−ZrO2分散液をそのまま塗布液3とした。
上記アモルファス型酸化チタン分散液1に、例示化合物1を2質量%添加、撹拌して塗布液4とした。
酸化ニオブゾル(多木化学(株)製バイラールNb−G6000)に、例示化合物1を2質量%添加、撹拌して塗布液5とした。
塗布液1を、厚さ100μmの二軸延伸PENフィルム(帝人デュポン社製;屈折率1.75)の片面に乾燥膜厚1μmになるように塗布し、80℃のオーブンで1分間乾燥させた。その後、下記条件でプラズマ処理を行い、PENフィルムの片面に金属酸化物微粒子の集合体による凹凸構造を形成したシート状構造体を得た。得られたシートのほぼ中央部の断面のTEM観察、およびほぼ中央部の表面を1辺が80μmの視野のAFM測定をすることにより、平均粒径5nmの酸化チタン微粒子の集合体により、平均深さ50nmの凹凸構造が平均10nm周期で形成されていることを確認し、これをシート1とした。
キャリアガス:窒素(大気圧下)
反応性ガス:酸素(窒素に対して4体積%)
第1電源電力:ハイデン研究所PHF−6k(100kHz)
第2電源電力:パール工業CF−5000−13M(13.56MHz)
印加出力:1.0W/cm2
電極部温度調節:80℃
処理時間:20秒
《シート2の作製》
塗布液1を塗布液2に変更する以外は、シート1の作製と同様にして、PENフィルムの片面に金属酸化物微粒子の集合体による凹凸構造を形成したシート2を得た。シート1と同様の方法で評価した結果、平均粒径35nmの酸化チタン微粒子の集合体により、平均深さ400nmの凹凸構造が平均100nm周期で形成されていることを確認した。
塗布液1を塗布液3に変更する以外は、シート1の作製と同様にして、PENフィルムの片面に金属酸化物微粒子の集合体による凹凸構造を形成したシート3を得た。シート1と同様の方法で評価した結果、平均粒径20nmの酸化チタンと酸化ジルコニウムの複合微粒子の集合体により、平均深さ200nmの凹凸構造が平均200nm周期で形成されていることを確認した。
シート3の作製方法において、透明樹脂フィルムを厚さ100μmの二軸延伸PETフィルム(帝人デュポン社製;屈折率1.65)に変更し、それ以外はシート3の作製と同様にしてPETフィルムの片面に金属酸化物微粒子の集合体による凹凸構造を形成したシート4を得た。シート1と同様の方法で評価した結果、平均粒径20nmの酸化チタンと酸化ジルコニウムの複合微粒子の集合体により、平均深さ250nmの凹凸構造が平均200nm周期で形成されていることを確認した。
塗布液3を、厚さ100μmの二軸延伸PENフィルム(帝人デュポン社製;屈折率1.75)の片面に乾燥膜厚1μmになるように塗布し、80℃のオーブンで1分間乾燥させた。その後、四国計測工業製のマイクロ波反応装置を用い、2.45GHzのマイクロ波を出力600Wで2分間照射し、PENフィルムの片面に金属酸化物微粒子の集合体による凹凸構造を形成したシート5を得た。シート1と同様の方法で評価した結果、平均粒径20nmの酸化チタンと酸化ジルコニウムの複合微粒子の集合体により、平均深さ100nmの凹凸構造が平均150nm周期で形成されていることを確認した。
塗布液1を、厚さ100μmの二軸延伸PENフィルム(帝人デュポン社製;屈折率1.75)の片面に乾燥膜厚1μmになるように塗布し、80℃のオーブンで1分間乾燥させた。その後、高圧水銀ランプを用い、200W/cm2の紫外光を15分間照射し、PENフィルムの片面に金属酸化物微粒子の集合体による凹凸構造を形成したシート6を得た。シート1と同様の方法で評価した結果、平均粒径5nmの酸化チタン微粒子の集合体により、平均深さ5nmの凹凸構造が平均250nm周期で形成されていることを確認した。
塗布液4を、厚さ100μmの二軸延伸PENフィルム(帝人デュポン社製;屈折率1.75)の片面に乾燥膜厚1μmになるように塗布し、80℃のオーブンで1分間乾燥させた。その後、オーブンの温度を120℃に上げ、さらに5時間加熱処理を行い、PENフィルムの片面に金属酸化物微粒子の集合体による凹凸構造を形成したシート7を得た。シート1と同様の方法で評価した結果、平均粒径5nmの酸化チタン微粒子の集合体により、平均深さ150nmの凹凸構造が平均30nm周期で形成されていることを確認した。
塗布液5を、厚さ100μmの二軸延伸PENフィルム(帝人デュポン社製;屈折率1.75)の片面に乾燥膜厚1μmになるように塗布し、80℃のオーブンで1分間乾燥させた。その後、四国計測工業製のマイクロ波反応装置を用い、2.45GHzのマイクロ波を出力600Wで2分間照射し、PENフィルムの片面に金属酸化物微粒子の集合体による凹凸構造を形成したシート8を得た。シート1と同様の方法で評価した結果、平均粒径20nmの酸化ニオブの複合微粒子の集合体により、平均深さ400nmの凹凸構造が平均350nm周期で形成されていることを確認した。
比較例として、樹脂による凹凸形状を形成したシート9を、特開2004−45471号を参考にした下記の方法で作製した。鉄芯表面にクロムメッキし、#250の液体サンドブラスト処理をした後に、再度クロムメッキ処理して作製した、表面に微細な凹凸形状を形成したロール凹版を用い、厚さ100μmの二軸延伸PETフィルム(帝人デュポン社製;屈折率1.65)の片面に、屈折率1.54の硬化性アクリル樹脂による凹凸形状を形成した。シート1と同様の方法で評価した結果、平均深さ1.2μmで、凸同士の間隔が0.5〜2.0μmのランダムな凹凸形状が形成されていることを確認した。
比較例として、微粒子を含有した樹脂による凹凸形状を形成したシート10を、下記の方法で作製した。シート9の作製方法において、用いる硬化性樹脂を、屈折率1.54のアクリル樹脂中に粒径200nmの酸化チタン微粒子を10質量%分散させた樹脂に変更した以外は、シート9の作製方法と同様にしてシート10を作製した。シート1と同様の方法で評価した結果、平均深さ1.0μmで、凸同士の間隔が0.1〜1.5μmのランダムな凹凸形状が形成され、部分的に凸部の欠落が見られる形状であることを確認した。
比較例として、凹凸構造を有しない酸化チタン被膜を形成したシート11を、下記の方法で作製した。塗布液1を、厚さ100μmの二軸延伸PENフィルム(帝人デュポン社製;屈折率1.75)の片面に乾燥膜厚1μmになるように塗布し、80℃のオーブンで1分間乾燥させた。その後、オーブンの温度を100℃に上げ、さらに5時間加熱処理を行い、シート11を得た。シート1と同様の方法で評価した結果、金属酸化物微粒子の集合体による凹凸構造は形成されず、平均粒径5nmの酸化チタン微粒子による平滑な酸化チタン層が形成されていることを確認した。
得られたシート1〜11の評価を以下の方法で行った。
水蒸気透過率の評価は、モコン法を用い、MOCON社製PERMATRAN−W3/33を用いて、JIS規格のK7129法(温度40℃、湿度90%RH)に基づいて測定した。その結果、シート1〜8については、モコン法の測定限界(0.01g/m2/day)未満であり、シート9、10、11に対し防湿性が向上していることがわかった。結果を表1に水蒸気バリア性として記載する。
《有機EL素子1の作製》
厚さ100μmの二軸延伸PENフィルム(帝人デュポン社製;屈折率1.75)上にITO(インジウムチンオキシド;屈折率1.85)を100nm製膜しパターニングを行った後、このITO導電性層を設けた基板をイソプロピルアルコールで超音波洗浄し、乾燥窒素ガスで乾燥し、UVオゾン洗浄を5分間行った。この基板上に、ポリ(3,4−エチレンジオキシチオフェン)−ポリスチレンスルホネート(PEDOT/PSS、Bayer製、Baytron P Al 4083)を純水で70%に希釈した溶液を3000rpm、30秒でスピンコート法により製膜した後、基板表面温度200℃にて1時間乾燥し、膜厚30nmの正孔注入層を設けた。
モノクロロベンゼン 100g
ポリ−N,N′−ビス(4−ブチルフェニル)−N,N′−ビス(フェニル)ベンジジン(ADS254BE:アメリカン・ダイ・ソース社製)
0.5g
次いで、発光層塗布液を下記のように調製し、スピンコーターにて、2000rpm、30秒の条件で塗布した。さらに基板表面温度120℃で30分加熱し発光層を設けた。別途用意した基板にて、同条件にて塗布を行い測定したところ、膜厚は40nmであった。尚、下記発光層組成物のうち、最も低いTgを示したのはH−Aであり、132℃であった。
酢酸ブチル 100g
H−A 1g
D−A 0.11g
D−B 0.002g
D−C 0.002g
次いで、電子輸送層用塗布液を下記のように調製し、スピンコーターにて、1500rpm、30秒の条件で塗布した。さらに基板表面温度120℃で30分加熱し電子輸送層を設けた。別途用意した基板にて、同条件にて塗布を行い測定したところ、膜厚は30nmであった。
2,2,3,3−テトラフルオロ−1−プロパノール 100g
ET−A 0.75g
次いで、電子輸送層まで設けた基板を、大気曝露せずに、蒸着機に移動し、4×10−4Paまで減圧した。尚、フッ化カリウムおよびアルミニウムをそれぞれタンタル製抵抗加熱ボートに入れ、蒸着機に取り付けておいた。
《有機EL素子2〜6の作製》
基板として実施例1で作製したシート1、3、4、9、10を用い、有機EL素子1の作製と同様にして、光取り出し層を形成した反対面上に、ITO透明導電層、有機エレクトロルミネッセンス層、陰極を形成し、本発明のシート状構造体を基板として用いた有機EL素子2〜4、および比較の有機EL素子5、6を作製した。
〔外部取り出し量子効率〕
作製した有機EL素子に対し、2.5mA/cm2定電流を流したときの外部取り出し量子効率(%)を不活性ガス雰囲気下で測定した。なお、測定には分光放射輝度計CS−1000(コニカミノルタセンシング製)を用いた。得られた結果を有機EL素子1の測定値を100としたときの相対値で表2に表した。
作製した有機EL素子を100℃、40%RHの恒温槽中に24時間保管した後の発光状態を目視で観察し、下記のランクづけを行った。
△:輝点あるいは黒点がみられ、発光輝度が不安定である
×:発光しない
得られた結果を表2に表した。
実施例1で作製した本発明の有機EL素子1の光出射面側にシート3を貼付けた後、透明バリヤフィルム(二酸化ケイ素膜で被覆された透明樹脂フィルム)で覆い、フレキシブルな面発光体とした。本発明に係る面発光体は多少の屈曲動作に対しても高い発光効率を維持し、発光寿命の長い白色光を発する薄型の照明装置として使用することが出来た。
31 大気圧プラズマ処理容器
32 放電空間
36 角筒型電極
40 電界印加手段
41 第1電源
42 第2電源
43 第1フィルタ
44 第2フィルタ
50 ガス供給手段
51 ガス発生装置
52 給気口
53 排気口
60 電極温度調節手段
64 ガイドロール
65 ニップロール
68、69 仕切板
F 基材
G′ 処理排気口
36a 角筒型電極
36A 金属母体
36B 誘電体被覆層
Claims (8)
- 透明基材上に、自己組織化による金属酸化物微粒子の集合体からなる凹凸構造を有し、かつ、該凹凸構造が、平均深さが5nm以上300nm以下で、平均周期が10nm以上300nm以下の周期性凹凸構造である光取り出し層が設けられたことを特徴とするシート状構造体。
- 該金属酸化物微粒子が、平均粒子径1nm以上30nm以下のアモルファス型金属酸化物微粒子であることを特徴とする請求項1に記載のシート状構造体。
- 該金属酸化物微粒子が、4族または5族の元素でなる酸化物微粒子もしくは4族と5族の元素でなる複合酸化物微粒子であることを特徴とする請求項1または2に記載のシート状構造体。
- 該透明基材が透明樹脂フィルムであることを特徴とする請求項1〜3のいずれか1項に記載のシート状構造体。
- 請求項1〜4のいずれか1項に記載のシート状構造体の製造方法において、
透明基材の少なくとも片面に、金属酸化物微粒子を含む分散液を塗布する工程と、
基材の軟化点温度以下で乾燥する工程と、
外部刺激処理による自己組織化によって該金属酸化物微粒子の集合体からなる凹凸構造を形成する工程と、
を有し、
前記凹凸構造が、平均深さが5nm以上300nm以下で、平均周期が10nm以上300nm以下の周期性凹凸構造であることを特徴とするシート状構造体の製造方法。 - 前記外部刺激処理が、プラズマ放電処理、マイクロ波照射処理、紫外線照射処理から選ばれる処理であることを特徴とする請求項5に記載のシート状構造体の製造方法。
- 請求項1〜4のいずれか1項に記載のシート状構造体を、透明基板として用いたことを特徴とする面発光体。
- 請求項1〜4のいずれか1項に記載のシート状構造体を、光の出射側の表面に貼合することを特徴とする面発光体。
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