JPWO2008139834A1 - フィルム搬送装置および巻取式真空成膜方法 - Google Patents

Abstract

【課題】ベースフィルムの成膜領域を保護でき、かつ安定したフィルム走行性を実現する。【解決手段】本発明に係る巻取式真空成膜装置１０は、ベースフィルムＦの両側縁部を支持する一対の環状のガイド部１７ｂを有するガイドローラ１７Ａと、ガイドローラ１７Ａに対向して配置されベースフィルムＦの両側縁部を一対のガイド部１７ｂに向けて押圧する補助ローラ１８とを含むガイドユニット２０を有する。これにより、ベースフィルムＦの成膜領域Ｆｃとガイドユニット２０のガイドローラ１７Ａおよび補助ローラ１８の各々のロール面との接触を回避でき、当該成膜領域Ｆｃの保護を図ることができる。【選択図】図３

Description

本発明は、減圧雰囲気内でベースフィルムを連続的に送り出し、走行する前記ベースフィルムに対して成膜処理、加熱処理、プラズマ処理等を行いながら、当該ベースフィルムを連続的に巻き取るフィルム搬送装置および巻取式真空成膜方法に関する。

従来より、巻出しローラから連続的に送り出された長尺のベースフィルムを冷却用ローラに巻き付けながら、当該冷却用ローラに対向配置される蒸発源からの蒸発物質をベースフィルム上に蒸着させ、蒸着後のベースフィルムを巻取りローラで巻き取る巻取式真空蒸着方法が知られている（例えば下記特許文献１参照）。

図５は、この種の従来の巻取式真空蒸着装置の概略構成図である。図において、１は真空チャンバ、２は巻出しローラ、３は冷却（または加熱）用ローラ（メインローラ）、４は巻出しローラ、５は蒸発源である。巻出しローラ２とメインローラ３との間にはガイドローラ６Ａ，６Ｂが配置されており、メインローラ３と巻取りローラ４との間にはガイドローラ７Ａ，７Ｂが配置されている。

ベースフィルムＦは、プラスチックフィルムや金属箔等であり、巻出しローラ２から連続的に送り出され、ガイドローラ６Ａ，６Ｂを介してメインローラ３に供給される。そして、メインローラ３に巻き付けられることでベースフィルムＦは冷却（または加熱）され、この状態において蒸発源５との対向位置で、ベースフィルムＦの一方の面に成膜処理がなされる。成膜されたベースフィルムＦは、ガイドローラ７Ａ，７Ｂを介して巻取りローラ４に連続的に巻き取られる。

特許第３７９５５１８号公報 特開２００４−８７７９２号公報

さて、この種の巻取式真空蒸着装置を構成するガイドローラは、一般に図６に示すような構成を有している。図６に示すガイドローラ８は、円柱状のロール面８ａを有しており、ロール面８ａはベースフィルムＦの一方の面に接触してベースフィルムＦの搬送をガイドする。ロール面８ａに接触し支持されるベースフィルムＦの面は、装置内におけるガイドローラの設置箇所によって異なる。図５に示したガイドローラ６Ｂ，７ＡにあってはベースフィルムＦの成膜面がロール面に接触し、ガイドローラ６Ａ，７ＢにあってはベースフィルムＦの非成膜面がロール面に接触する。

ところが、ベースフィルムＦまたは蒸着材料の種類、成膜形態、装置の使用条件などにより、ベースフィルムＦの成膜領域をガイドローラのロール面に接触させることができない場合がある。ベースフィルムＦの成膜領域にガイドローラのロール面が接触すると、成膜部に微小のキズがつくなどの問題を招くからである。ここでいう成膜領域は、主にベースフィルムの両側縁部を除く部分をいう。

この場合、図５のガイドローラ６Ｂ，７Ａを用いずに、例えば図７に示すようにベースフィルムＦの非成膜面のみを支持するような形態で真空蒸着装置を構成し、ベースフィルムＦの成膜面をガイドローラに接触させない方法が考えられる。しかし、この方法では各ローラの設置位置が制限され、装置構成上の制約が大きくなる。

一方、ベースフィルムＦの成膜面に接触するガイドローラを図８Ａに示すように構成する方法がある（例えば上記特許文献２参照）。図８Ａに示すガイドローラ９は、円柱状のロール面９ａに、ベースフィルムＦの両側縁部を支持するように互いに離間して突出形成された一対の環状のガイド部９ｂを備えている。ガイド部９ｂは、非成膜領域あるいは不使用範囲であるベースフィルムＦの両側縁部を支持することで、ベースフィルムＦの成膜領域Ｆｃとロール面９ａとの接触を回避する。

しかしながら、走行するベースフィルムＦは長尺であり、かつ張力が加えられた状態で搬送されるため、走行するベースフィルムＦの中央部が撓み、図８Ｂに示すように、ベースフィルムＦの成膜領域Ｆｃがガイドローラ９のロール面９ａに接触する場合がある。更に、ベースフィルムＦの安定したガイド機能が果たせず、ベースフィルムＦの走行経路が乱れ、ベースフィルムＦの巻取りに支障をきたすという問題がある。

本発明は上述の問題に鑑みてなされ、ベースフィルムの成膜領域を保護でき、かつ安定した走行性を実現することができるフィルム搬送装置および巻取式真空成膜方法を提供することを課題とする。

本発明の一形態に係るフィルム搬送装置は、真空チャンバ内でベースフィルムを搬送するフィルム搬送装置であって、巻出しローラと、巻取りローラと、走行機構とを具備する。上記走行機構は、上記巻出しローラと上記巻取りローラとの間に設置される。上記走行機構は、ガイドユニットを有する。上記ガイドユニットは、ガイドローラと、補助ローラとを含む。上記ガイドローラは、上記ベースフィルムの両側縁部を支持する一対の環状のガイド部を有する。上記補助ローラは、上記ガイドローラに対向して配置され上記ベースフィルムの両側縁部を上記一対のガイド部に向けて押圧する。

本発明の一形態に係る巻取式真空成膜方法は、減圧雰囲気内でベースフィルムを連続的に送り出すことを含む。上記ベースフィルムの少なくとも一方の面は成膜される。上記ベースフィルムは、その両側縁部が挟持されて、巻取り部へ向けて搬送される。

本発明の一実施形態に係るフィルム搬送装置は、真空チャンバ内でベースフィルムを搬送するフィルム搬送装置であって、巻出しローラと、巻取りローラと、走行機構とを具備する。上記走行機構は、上記巻出しローラと上記巻取りローラとの間に設置される。上記走行機構は、ガイドユニットを有する。上記ガイドユニットは、ガイドローラと、補助ローラとを含む。上記ガイドローラは、上記ベースフィルムの両側縁部を支持する一対の環状のガイド部を有する。上記補助ローラは、上記ガイドローラに対向して配置され上記ベースフィルムの両側縁部を上記一対のガイド部に向けて押圧する。

上記フィルム搬送装置においては、走行するベースフィルムは、その両側縁部がガイドユニットによって挟持されて、巻取りローラへ搬送される。これにより、ベースフィルムの成膜領域とガイドユニットのガイドローラおよび補助ローラの各々のロール面との接触を回避でき、当該成膜領域の保護を図ることができる。また、上記構成により、ベースフィルムの安定した走行性を実現でき、ベースフィルムの良好な巻取り性を確保することが可能となる。

ここで、ベースフィルムの成膜領域とは、上記ガイドユニットに接触しないベースフィルムの成膜面の中央部を意味する。このようなベースフィルムには、成膜面の全面が成膜される場合であってもその両側縁部が不使用領域とされるものや、ベースフィルムの両側縁部に成膜材料の付着を阻止するマスクを備えるものも含まれる。

前記フィルム搬送装置は、前記巻出しローラと前記巻取りローラとの間に、前記ベースフィルムを成膜する成膜機構、前記ベースフィルムを加熱する加熱機構および前記ベースフィルムをプラズマ処理するプラズマ処理機構のいずれかをさらに具備してもよい。
これにより、ベースフィルムの走行中に、当該ベースフィルムに対する成膜処理、加熱処理あるいはプラズマ処理を実施することが可能となる。

前記補助ローラは、前記一対のガイド部に対して前記ベースフィルムの両側縁部を同時に押圧する一対の環状の押圧部を有していてもよい。
これにより、ベースフィルムの成膜領域の保護を図ることができる。

前記補助ローラは、前記一対のガイド部に対して前記ベースフィルムの側縁部を各々独立して押圧可能に一対設けられていてもよい。これにより、ベースフィルムの各々の縁部に対してそれぞれ最適な押圧力を調整できるとともに、ベースフィルムの走行性を制御することができる。

前記走行機構は、前記ベースフィルムの非成膜面と密着して当該ベースフィルムを冷却または加熱するメインローラを有していてもよい。この場合、前記ガイドローラは、前記メインローラと前記巻取りローラとの間に設置することができる。
これにより、ベースフィルムを走行させながら、ベースフィルムを冷却または加熱することができ、当該冷却または加熱したベースフィルムの良好な巻取り性を確保することができる。

また、本発明の一実施形態に係る巻取式真空成膜方法は、減圧雰囲気内でベースフィルムを連続的に送り出すことを含む。上記ベースフィルムの少なくとも一方の面は成膜される。上記ベースフィルムは、その両側縁部が挟持されて、巻取り部へ向けて搬送される。

上記巻取式真空成膜方法においては、成膜したベースフィルムの両側縁部を挟持して当該ベースフィルムを巻取り部へ向けて搬送するようにしている。これにより、当該ベースフィルムの成膜領域を保護しつつベースフィルムの安定した走行性を実現し、ベースフィルムの良好な巻取り性を確保することができる。

以下、本発明の実施の形態について図面を参照して説明する。なお、本実施形態では、フィルム搬送装置および巻取式真空成膜方法として、巻取式真空蒸着装置および巻取式真空蒸着方法に本発明を適用した例について説明する。

図１は、本発明の一実施形態による巻取式真空蒸着装置１０の概略構成図である。この巻取式真空蒸着装置１０は、長尺のベースフィルムＦの一方の面に所定の蒸着材料を連続的に蒸着する装置である。

真空チャンバ１１には図示せずとも真空排気手段が接続されており、真空チャンバ１１の内部が所定の減圧度に真空排気可能に構成されている。真空チャンバ１１の内部には、巻出しローラ１２、冷却用のメインローラ１３および巻取りローラ１４が配置されており、メインローラ１３の対向位置には、成膜機構を構成する蒸発源１５が設置されている。ベースフィルムＦは、巻出しローラ１２から連続的に送り出され、メインローラ１３上で冷却されながら蒸発源１５との対向位置で成膜された後、巻取りローラ１４に巻き取られる。

また、巻出しローラ１２とメインローラ１３との間には、成膜前のベースフィルムＦの走行をガイドするガイドローラ１６Ａおよびガイドローラ１６Ｂが設置されており、メインローラ１３と巻取りローラ１４との間には、成膜後のベースフィルムＦの走行をガイドするガイドユニット２０およびガイドローラ１７Ｂが配置されている。これら、ガイドローラ１６Ａ，１６Ｂ、メインローラ１３、ガイドユニット２０およびガイドローラ１７Ｂにより、本発明に係る「走行機構」が構成されている。

ここで、ベースフィルムＦは、所定幅に裁断された長尺の絶縁性プラスチックフィルムでなり、例えば、ＯＰＰ（延伸ポリプロピレン）フィルム、ＰＥＴ（ポリエチレンテレフタレート）フィルム、ＰＩ（ポリイミド）フィルム等が用いられる。また、ベースフィルムＦは、金属箔であってもよい。

本実施形態において、ベースフィルムＦは、その成膜面の両側縁部が非成膜領域とされるものや、成膜面の全域が成膜される場合であってもその両側縁部が不使用領域とされるものが該当する。成膜面の両側縁部を非成膜領域とするためには、例えば図２に示すように、メインローラ１３と蒸発源１５との間にマスク２５を配置する方法がある。ベースフィルムＦの両側縁部はマスク２５で被覆され、中央部の成膜領域のみ蒸着膜Ｆｍが成膜される。

巻出しローラ１２および巻取りローラ１４はそれぞれ独立した回転駆動部を備えており、ベースフィルムＦを等速度で連続的に送り出し又は巻き取るように構成されている。メインローラ１３は筒状でステンレスや鉄等の金属製とされ、回転駆動部を有し、内部には冷却媒体循環系等の冷却機構が設けられている。ベースフィルムＦは、その非成膜面がメインローラ１３に密着して冷却処理を施されながら、外面側の成膜面が蒸発源１５からの蒸着物質で成膜される。

蒸発源１５は、蒸着物質を収容するとともに、蒸着物質を抵抗加熱、誘導加熱、電子ビーム加熱等の公知の手法で加熱蒸発させる機構を備えている。この蒸発源１５は、メインローラ１３の下方に配置され、蒸着物質の蒸気を、対向するメインローラ１３上のベースフィルムＦの成膜面へ付着させて被膜を形成する。

蒸着物質は特に限定されないが、例えば、Ａｌ（アルミニウム）、Ｃｏ（コバルト）、Ｃｕ（銅）、Ｎｉ（ニッケル）、Ｔｉ（チタン）等の金属元素単体のほか、Ａｌ−Ｚｎ（亜鉛）、Ｃｕ−Ｚｎ、Ｆｅ（鉄）−Ｃｏ等の二種以上の金属あるいは多元系合金が適用される。なお、蒸発源１５は一つに限らず、複数設けられてもよい。

ガイドローラ１６Ａおよびガイドローラ１７Ｂは、ベースフィルムＦの非成膜面と接触しベースフィルムＦの走行をガイドする円柱状のロール体からなり、例えば図６に示したガイドローラ８と同様な構成を有している。また、ガイドローラ１６Ｂは、ベースフィルムＦの成膜面と接触しベースフィルムＦの走行をガイドする円柱状のロール体からなり、上述のガイドローラ１６Ａ，１７Ｂと同様な構成を有している。なお、これらのガイドローラ１６Ａ，１６Ｂ，１７ＢはベースフィルムＦの走行に連れ回って回転するフリーローラとして構成されているが、それぞれ独立した回転機構部を備えていても構わない。

ガイドユニット２０は、メインローラ１３とガイドローラ１７ｂとの間に設置されており、成膜処理されたベースフィルムＦを巻取りローラ１４側に向けて搬送するガイド機能を有している。図３は本実施形態のガイドユニット２０の構成の一例を示す側面図である。図３に示すガイドユニット２０は、ガイドローラ１７Ａと補助ローラ１８を備えている。

ガイドローラ１７Ａは、ベースフィルムＦの成膜面Ｆａと対向するロール面１７ａを有する円柱状のロール体で構成され、真空チャンバ１１内においてその軸位置が固定されて設置されている。このガイドローラ１７Ａのロール面１７ａには、ベースフィルムの成膜面Ｆａの成膜領域Ｆｃを挟む両側縁部を支持する一対の環状のガイド部１７ｂ，１７ｂが突出形成されており、成膜領域Ｆｃとロール面１７ａとの間に一定の間隙を形成している。ガイド部１７ｂ，１７ｂは、ガイドローラ１７Ａのロール面１７ａと一体形成されたものでもよいし、別部品として構成されたものでもよい。

なお、このガイドローラ１７ＡはフィルムＦの走行に連れ回って回転するフリーローラとして構成されているが、独立した回転機構部を備えていても構わない。また、ガイド部１７ｂの構成材料は特に限定されず、金属、樹脂のほか、ゴム等の弾性体を用いることができる。

一方、補助ローラ１８は、ガイドローラ１７Ａと対向して配置された円柱状のロール体で構成されている。この補助ローラ１８のロール面１８ａには、ベースフィルムＦの非成膜面Ｆｂ側に接触しベースフィルムＦの両側縁部をガイドローラ１７Ａのガイド部１７ｂ，１７ｂに向けて押圧する一対の環状の押圧部１８ｂ，１８ｂが突出形成されている。押圧部１８ｂ，１８ｂは、補助ローラ１８のロール面１８ａと一体形成されたものでもよいし、別部品として構成されたものでもよい。

補助ローラ１８の軸部には、当該補助ローラ１８をガイドローラ１７Ａに向けて押圧する押圧機構１９が接続されている。この押圧機構１９は、ばね、シリンダ等の付勢手段を具備し、軸位置が固定されたガイドローラ１７Ａと協働してフィルムＦの両側縁部に対する所定の挟持圧を発生させる。これにより、ベースフィルムＦの走行位置のずれを防止するとともにベースフィルムＦの撓みを防止する。

なお、この補助ローラ１８はベースフィルムＦの走行に連れ回って回転するフリーローラとして構成されているが、独立した回転機構部を備えていても構わない。また、押圧部１８ｂの構成材料は特に限定されず、金属、合成樹脂のほか、ゴム等の弾性体を用いることができる。

以上のように構成される本実施形態においては、所定の減圧雰囲気に真空排気された真空チャンバ１１の内部において、巻取り部１２からベースフィルムＦが連続的に送り出され、走行するベースフィルムＦに対してメインローラ１３上で成膜処理された後、巻取り部１４へ巻き取られる。

このとき、本実施形態によれば、成膜されたベースフィルムＦの成膜領域Ｆｃは、ガイドローラ１７Ａのロール面１７ａと対向する位置関係で搬送されることになるが、ベースフィルムＦの両側縁部がガイドローラ１７Ａのガイド部１７ｂ，１７ｂと補助ローラ１８の押圧部１８ｂ，１８ｂとの間で挟持された状態で搬送されるので、成膜領域Ｆｃがガイドローラ１７Ａのロール面１７ａに接触することはない。これにより、成膜領域Ｆｃの保護を図ることができ、ロール面１７ａとの接触による蒸着被膜の損傷や特性の劣化を防止することができる。

また、本実施形態によれば、ガイドユニット２０によってベースフィルムＦの両側縁部を挟持した状態で搬送する構成であるので、ベースフィルムＦの安定した走行性を実現でき、巻取り部１４におけるベースフィルムＦの良好な巻取り性を確保することができる。

図４は、本発明の他の実施形態によるガイドユニット３０の構成例を示す正面図である。図４に示すガイドユニット３０は、上述した構成のガイドローラ１７Ａと、このガイドローラ１７Ａの一対のガイド部１７ｂ，１７ｂに向けてベースフィルムＦの非成膜面Ｆｂ側に接触しベースフィルムＦの両側縁部を押圧する一対の補助ローラ１８Ａ，１８Ｂを備えている。

これらの補助ローラ１８Ａ，１８Ｂは、各々の回転軸が支持ブラケット２１Ａ，２１Ｂにそれぞれ回転自在に支持されているとともに、これらの支持ブラケット２１Ａ，２１Ｂは、互いに独立した押圧機構２２Ａ，２２Ｂにそれぞれ連結されている。押圧機構２２Ａ，２２Ｂは、ばね、シリンダ等の付勢手段を具備し、軸位置が固定されたガイドローラ１８Ａと協働してベースフィルムＦの両側縁部に対する所定の挟持圧を発生させる。これにより、ベースフィルムＦの走行位置のずれを防止するとともにベースフィルムＦの撓みを防止する。

なお、補助ローラ１８Ａ，１８ＢはベースフィルムＦの走行に連れ回って回転するフリーローラとして構成されているが、独立した回転機構部を備えていても構わない。また、補助ローラ１８Ａ，１８Ｂの構成材料は特に限定されず、金属、樹脂のほか、ゴム等の弾性体を用いることができる。

以上のように構成される本実施形態においては、ベースフィルムＦの両側縁部がガイドローラ１７Ａのガイド部１７ｂ，１７ｂと補助ローラ１８Ａ，１８Ｂとの間で挟持された状態で搬送されるので、ベースフィルムＦの成膜領域Ｆｃがガイドローラ１７Ａのロール面１７ａに接触することはない。これにより、成膜領域Ｆｃの保護を図ることができ、ロール面１７ａとの接触による蒸着被膜の損傷や特性の劣化を防止することができる。

また、本実施形態によれば、ガイドユニット３０によってベースフィルムＦの両側縁部を挟持した状態で搬送する構成であるので、ベースフィルムＦの安定した走行性を実現でき、巻取り部１４におけるベースフィルムＦの良好な巻取り性を確保することができる。

更に、本実施形態によれば、ガイドローラ１７Ａのガイド部１７ｂ，１７ｂに対してフィルムＦの両側縁部を個々の補助ローラ１８Ａ，１８Ｂで押圧する構成であるので、フィルムＦの各々の縁部に対してそれぞれ最適な押圧力を調整することができ、これによりフィルムＦの走行性を制御することが可能となる。

以上、本発明の実施形態について説明したが、勿論、本発明はこれに限定されることはなく、本発明の技術的思想に基づいて種々の変形が可能である。

例えば以上の実施形態では、成膜後のベースフィルムＦの成膜面に対向するガイドローラ１７Ａに補助ローラ１８（１８Ａ，１８Ｂ）を対向配置させて本発明に係るガイドユニット２０（３０）を構成するようにしたが、成膜前のベースフィルムＦの成膜面に対向するガイドローラ１６Ｂ（図１）にも上記補助ローラを対向配置させてガイドユニットを構成するようにしてもよい。

あるいは、すべてのガイドローラに対して上記構成の補助ローラを対向配置させても構わない。これにより、ベースフィルムの両面の保護を図りながら、ベースフィルムを巻き取ることが可能となる。

また、以上の実施形態では、成膜手段として蒸発源１５を用いる真空蒸着法を適用して金属膜を成膜する例について説明したが、これに限られず、スパッタ法や各種ＣＶＤ法等、金属膜あるいは非金属膜を成膜する他の成膜法も適用可能であり、これら成膜法に合わせてスパッタターゲット等の成膜手段を適宜採用することが可能である。また、メインローラ１３は、冷却用ローラとして構成される場合に限らず、加熱用ローラとして構成されてもよい。

更に、以上の実施形態では、巻取式真空蒸着装置等の成膜装置に本発明のフィルム搬送装置を適用した例について説明したが、これに限られず、例えば、巻出しローラと巻取りローラとの間に加熱処理手段またはプラズマ処理手段等を設置し、ベースフィルムを走行させながら加熱処理またはプラズマ処理等を行うフィルム処理装置にも本発明は適用可能である。更に、巻出しローラから巻取りローラへ単にベースフィルムを搬送する装置にも適用可能であり、この場合、チャンバ内は減圧雰囲気に限られず、大気圧であってもよい。

本発明の一実施形態による巻取式真空成膜装置としての巻取式真空蒸着装置の概略構成図である。 図１の巻取式真空蒸着装置における要部の構成例を示す側面図である。 本発明に係るガイドユニットの一構成例を示す正面図である。 本発明に係るガイドユニットの他の構成例を示す正面図である。 従来の巻取式真空蒸着装置の概略構成図である。 従来のガイドローラの一構成例を示す正面図である。 従来の他の巻取式真空蒸着装置の概略構成図である。 従来のガイドローラの他の構成例を示す正面図である。

符号の説明

１０ 巻取式真空蒸着装置
１１ 真空チャンバ
１２ 巻出しローラ
１３ メインローラ
１４ 巻取りローラ
１５ 蒸発源
１６Ａ，１６Ｂ，１７Ａ，１７Ｂ ガイドローラ
１７ａ ロール面
１７ｂ ガイド部
１８，１８Ａ，１８Ｂ 補助ローラ
１８ａ ロール面
１８ｂ 押圧部
１９ 押圧機構
２０，３０ ガイドユニット
２１Ａ，２１Ｂ 支持ブラケット
２２Ａ，２２Ｂ 押圧機構
２５ マスク
Ｆ ベースフィルム
Ｆａ 成膜面
Ｆｂ 非成膜面
Ｆｃ 成膜領域

図５は、この種の従来の巻取式真空蒸着装置の概略構成図である。図において、１は真空チャンバ、２は巻出しローラ、３は冷却（または加熱）用ローラ（メインローラ）、４は巻取りローラ、５は蒸発源である。巻出しローラ２とメインローラ３との間にはガイドローラ６Ａ，６Ｂが配置されており、メインローラ３と巻取りローラ４との間にはガイドローラ７Ａ，７Ｂが配置されている。

ガイドユニット２０は、メインローラ１３とガイドローラ１７Ｂとの間に設置されており、成膜処理されたベースフィルムＦを巻取りローラ１４側に向けて搬送するガイド機能を有している。図３は本実施形態のガイドユニット２０の構成の一例を示す側面図である。図３に示すガイドユニット２０は、ガイドローラ１７Ａと補助ローラ１８を備えている。

以上のように構成される本実施形態においては、所定の減圧雰囲気に真空排気された真空チャンバ１１の内部において、巻出しローラ１２からベースフィルムＦが連続的に送り出され、走行するベースフィルムＦに対してメインローラ１３上で成膜処理された後、巻取りローラ１４へ巻き取られる。

また、本実施形態によれば、ガイドユニット２０によってベースフィルムＦの両側縁部を挟持した状態で搬送する構成であるので、ベースフィルムＦの安定した走行性を実現でき、巻取りローラ１４におけるベースフィルムＦの良好な巻取り性を確保することができる。

これらの補助ローラ１８Ａ，１８Ｂは、各々の回転軸が支持ブラケット２１Ａ，２１Ｂにそれぞれ回転自在に支持されているとともに、これらの支持ブラケット２１Ａ，２１Ｂは、互いに独立した押圧機構２２Ａ，２２Ｂにそれぞれ連結されている。押圧機構２２Ａ，２２Ｂは、ばね、シリンダ等の付勢手段を具備し、軸位置が固定されたガイドローラ１７Ａと協働してベースフィルムＦの両側縁部に対する所定の挟持圧を発生させる。これにより、ベースフィルムＦの走行位置のずれを防止するとともにベースフィルムＦの撓みを防止する。

また、本実施形態によれば、ガイドユニット３０によってベースフィルムＦの両側縁部を挟持した状態で搬送する構成であるので、ベースフィルムＦの安定した走行性を実現でき、巻取りローラ１４におけるベースフィルムＦの良好な巻取り性を確保することができる。

Claims (6)

1. 真空チャンバ内でベースフィルムを搬送するフィルム搬送装置であって、
   巻出しローラと、
   巻取りローラと、
   前記ベースフィルムの両側縁部を支持する一対の環状のガイド部を有するガイドローラと、前記ガイドローラに対向して配置され前記ベースフィルムの両側縁部を前記一対のガイド部に向けて押圧する補助ローラとを含むガイドユニットを有する、前記巻出しローラと前記巻取りローラとの間に設置された走行機構と
   を具備するフィルム搬送装置。
2. 請求項１に記載のフィルム搬送装置であって、
   前記巻出しローラと前記巻取りローラとの間に、前記ベースフィルムを成膜する成膜機構、前記ベースフィルムを加熱する加熱機構および前記ベースフィルムをプラズマ処理するプラズマ処理機構のいずれかをさらに具備する
   フィルム搬送装置。
3. 請求項１に記載のフィルム搬送装置であって、
   前記補助ローラは、前記一対のガイド部に対して前記ベースフィルムの両側縁部を同時に押圧する一対の環状の押圧部を有する
   フィルム搬送装置。
4. 請求項１に記載のフィルム搬送装置であって、
   前記補助ローラは、前記一対のガイド部に対して前記ベースフィルムの側縁部を各々独立して押圧可能に一対設けられている
   フィルム搬送装置。
5. 請求項１に記載のフィルム搬送装置であって、
   前記走行機構は、前記ベースフィルムの非成膜面と密着して当該ベースフィルムを冷却または加熱するメインローラを有し、
   前記ガイドローラは、前記メインローラと前記巻取りローラとの間に設置されている
   フィルム搬送装置。
6. 減圧雰囲気内でベースフィルムを連続的に送り出し、
   前記ベースフィルムの少なくとも一方の面を成膜し、
   成膜した前記ベースフィルムの両側縁部を挟持して当該ベースフィルムを巻取り部へ向けて搬送する
   巻取式真空成膜方法。

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