JPWO2008018227A1 - セラミック多層基板の製造方法 - Google Patents
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Abstract
Description
11 モジュール
12 セラミックグリーンシート(セラミック基材層)
13 セラミック積層体
14 面内導体パターン(導体パターン)
15 貫通導体パターン(導体パターン)
17,17x ブレイク用パターン
18,18x 空隙
20,22 収縮抑制用グリーンシート
30,32 表面実装型電子部品
Claims (14)
- 複数の未焼成のセラミック基材層を積層してなる未焼成セラミック積層体を形成する第1の工程と、
前記未焼成セラミック積層体を焼成して、未焼成の前記セラミック層を焼結させる第2の工程と、
前記未焼成セラミック積層体の焼成により形成された焼結済みセラミック積層体をブレイクして、1個又は2個以上のセラミック多層基板を取り出す第3の工程と、
を備えた、セラミック多層基板の製造方法において、
前記第1の工程において積層される少なくとも一つの前記未焼成セラミック基材層に、前記セラミック多層基板を取り出す際の境界線となるブレイクラインに沿って、前記第2の工程の焼成時に消失し得るブレイク用パターンを形成しておき、
前記第2の工程において、前記ブレイク用パターンが消失して、前記焼結済みセラミック積層体の内部に空隙が形成され、
前記第3の工程において、前記焼結済みセラミック積層体に、前記空隙を通る切断面を形成して、1個又は2個以上のセラミック多層基板を取り出すことを特徴とする、セラミック多層基板の製造方法。 - 未焼成の前記セラミック基材層の主面に、未焼成の前記セラミック基材層の平面方向の焼成収縮を抑制するための収縮抑制用層が設けられていることを特徴とする、請求項1のセラミック多層基板の製造方法。
- 前記収縮抑制用層は、前記第2の工程の焼成の際には実質的に焼結しないセラミックからなる収縮抑制用層であることを特徴とする、請求項2に記載のセラミック多層基板の製造方法。
- 前記収縮抑制用層は、前記未焼成セラミック積層体の少なくとも一方主面に設けられており、
焼成の後に前記収縮抑制用層を除去することによって、前記セラミック多層基板が取り出されることを特徴とする、請求項2又は3に記載のセラミック多層基板の製造方法。 - 前記ブレイク用パターンは、前記焼成時に消失し得る樹脂を主成分とした樹脂パターンであることを特徴とする、請求項1〜4のいずれか一項に記載のセラミック多層基板の製造方法。
- 前記ブレイク用パターンは、前記第2の工程において温度が前記セラミック層の焼成最高温度付近に達した後に消失し得る材料粉末を含むペーストであることを特徴とする、請求項1〜4のいずれか一項に記載のセラミック多層基板の製造方法。
- 前記材料粉末は、カーボンであることを特徴とする、請求項6に記載のセラミック多層基板の製造方法。
- 前記ブレイク用パターンの少なくとも一端が、前記未焼成セラミック積層体の側面に露出していることを特徴とする、請求項1〜7のいずれか一項に記載のセラミック多層基板の製造方法。
- 前記未焼成セラミック基材層はバインダー樹脂を含んでおり、前記ブレイク用パターンは、焼成の際、前記バインダー樹脂よりも早く消失する樹脂を主成分とすることを特徴とする、請求項8に記載のセラミック多層基板の製造方法。
- 前記ブレイク用パターンは、複数個の前記セラミック多層基板を区画するように、格子状に形成されていることを特徴とする、請求項9に記載のセラミック多層基板の製造方法。
- 隣合う前記セラミック多層基板の間に、1本の前記ブレイク用パターンが配置されていることを特徴とする、請求項10に記載のセラミック多層基板の製造方法。
- 隣合う前記セラミック多層基板の間に、2本以上の前記ブレイク用パターンが配置されていることを特徴とする、請求項10に記載のセラミック多層基板の製造方法。
- 前記未焼成セラミック基材層は、低温焼結セラミック粉末を主成分とする未焼成低温焼結セラミック層であり、前記未焼成セラミック積層体には、金、銀又は銅を主成分とする導体パターンが設けられていることを特徴とする、請求項1〜12のいずれか一項に記載のセラミック多層基板の製造方法。
- 前記焼結済みセラミック積層体の前記セラミック多層基板が取り出される部分、もしくは前記焼結済みセラミック積層体から取り出された前記セラミック多層基板の少なくとも一方主面に、表面実装型電子部品を搭載する工程をさらに備えたことを特徴とする、請求項1〜13のいずれか一項に記載のセラミック多層基板の製造方法。
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