JPWO2002046308A1 - 半導電性樹脂組成物および半導電性部材 - Google Patents

Abstract

本発明の半導電性樹脂組成物は、（Ａ）分子中に１個以上のヒドロシリル化反応可能なアルケニル基を有するオキシアルキレン系重合体、（Ｂ）分子中に２個以上のヒドロシリル基を有する化合物、（Ｃ）ヒドロシリル化触媒、および（Ｄ）イオン性導電性付与剤または（Ｅ）非イオン界面活性剤からなる。また、環境、印加電圧による抵抗変動が極めて小さく、かつ連続使用による抵抗変化が少なく、電子写真用部材として好適に用いられる半導電性部材を提供する。本発明の半導電性部材は、金属支持部材、該支持部材外周面上に形成された半導電性弾性層、さらにその外周面上に形成された１層以上の表面層からなる半導電性部材であって、該部材が特定の抵抗、抵抗比を有するものである。

Description

技術分野
本発明は、半電導性組成物、およびそれから得られる半導電性ゴム製品に関する。さらに詳しくは、たとえば、電子写真方式を採用した画像記録装置に組込まれるローラなどに用いられる半導電性組成物、半導電性ゴム製品およびその半導電性組成物を金属性支持部材のまわりに形成してなる半導電性部材に関する。
また、本発明は、主として複写機、プリンタまたはファクシミリの受信装置など電子写真方式を採用した装置に用いられる半導電性部材に関する。詳細には、一成分静電現像方式を用いた電子写真装置の現像装置に好適に用いられる現像部材、電子写真方式を採用した装置の中間転写装置に好適に用いられる中間転写部材、転写部材、画像記録装置に組み込まれるローラ、電子写真用帯電部材、ドラムなどに関する。
背景技術
樹脂マトリクスに導電性付与剤を添加して半導電性ゴムを得るという手法は極めて一般的であるが、１０^７〜１０^１１Ωｃｍ程度の体積抵抗率を有する半導電性領域にコントロールするのは困難であり、また、カーボンブラックなどの電子伝導性導電性付与剤による導電性付与技術では、系内での均一分散が難しく、得られる半導電性ゴムの電気特性のサンプルバラツキや電圧依存性がしばしば問題となっていた。
このような問題を解決する手段として、非イオン性界面活性剤、好ましくはポリオキシエチレン化合物を導電性付与剤として用いてなる半導電性ローラが、半導電領域へのコントロールが容易で、かつ、電気特性のサンプルバラツキおよび電圧依存性が極めて小さいことを見出した。しかしながら、このようにして得られる半導電性ローラは、場合によっては、導電性付与成分として添加した非イオン性界面活性剤が、ブリードするというリスクを抱えていた。
また、近年、電子写真技術の進歩に伴い、乾式電子写真装置などの画像形成装置には、帯電用、現像用、転写用、トナー供給用などに供される部材として、半導電性弾性体を用いた部材が注目されており、帯電ローラ、現像ローラ、転写ローラ、トナー供給ローラなどの弾性を有するローラの形態で用いられている。弾性ローラによる帯電や転写などのプロセスでは、この高分子部材は、従来のコロトロン帯電器などと比較し、より低い電源電圧で必要な画像形成体帯電電位やトナー転写量が得られるなどの利点がある。
なかでも、前記半導電性弾性体を用いた部材を、一成分静電現像方式を用いた電子写真装置の現像部材として使用することが注目されており、現像ローラなどに用いられている。ここで一成分静電現像方式を用いた現像装置とは、帯電した現像剤を表面に薄層で担持した半導電性弾性部材を、感光体に接触または近接してして電圧印加することにより、現像剤を感光体表面に形成された潜像に静電的に吸着させ顕像化し現像を行なうものである。半導電性弾性層を用いた現像部材は、従来用いられている金属スリーブ上に導電性樹脂層を形成した導電ロールなどと比較すると、感光体とのあいだに安定した接触領域（以下、ニップ領域と称す）が形成できる、または感光体表面への損傷が少ないなどの利点がある。
また、前記半導電性弾性体を用いた部材を乾式電子写真装置の転写部材として使用することが注目されており、中間転写ドラムなどに用いられている。ここで中間転写部材とは感光体上に形成されたトナー像を、感光体上から部材上に転写、担持したのち、紙などの記録材上にトナー像を再転写する部材である。
従来、感光体上のトナー画像は、直接画像担持体上に転写していた。近年電子写真装置のカラー画像への対応が急激に進んでいるが、カラー画像を形成するためには、一般にシアン、マゼンタ、イエローおよびブラックの４色の画像を別々の感光装置で形成し、重ね合わせる必要がある。ところが、紙などの記録材上で４色の画像を重ね合わせた場合、記録材の寸法安定性が良くないため、色ずれをおこし画像品質が大きく低下してしまう。このため、一旦中間転写部材上で４色の画像を重ね合わせたのち記録材上に転写する、いわゆる中間転写方式が注目され、用いられるようになってきた。
また、前記半導電性弾性体を用いた部材を乾式電子写真装置の帯電部材として使用することが注目されており、帯電ローラなどに用いられている。ここで帯電部材とは半導電性弾性部材を感光体に直接接触して電圧印加することにより、感光体表面を帯電するものである。半導電性弾性体を用いた帯電部材は、従来用いられているコロントロン帯電器と比較して、感光体に対して低い電源電圧で必要な帯電量が与えられ、さらにオゾンの発生を抑えられるという利点がある。
前記電子写真方式が採用された画像記録装置には、中間転写体を用いたタイプがある。すなわち、帯電手段により均一に帯電させた静電潜像担持体上に画像書き込み手段により静電潜像を形成し、該静電潜像にトナー粒子を付着させてトナー画像を得る。前記トナー画像を中間転写体に第一の転写手段により一次転写する。さらに該中間転写体上に形成されたトナー画像を記録用紙などの記録材に第二の転写手段により二次転写し、その後、記録紙などの上のトナー画像を定着することによって記録画像を得るタイプのものである。このタイプの画像記録装置に用いる中間転写体は、たとえば円筒形状のものであり、円筒形状のスリーブの外周上に半導電性弾性層を形成したものが用いられる。この中間転写体には、トナー画像を静電潜像担持体から転写するため、低硬度でかつ高い外径精度が要求される。つまり、円筒形状を有した中間転写体は、一般には円筒形状を有した静電潜像担持体と互いに押圧して設置され、静電潜像担持体上に形成されたトナー画像は、静電潜像担持体と中間転写体の間に形成されたニップ領域を介して中間転写体上に転写される。このため、良好な転写画像の画質を得るためには、ニップ領域のプロセス方向の幅（以下、ニップ幅と称す）を一定以上の幅で一定に保つ必要があり、高画質の転写画像を形成するには、中間転写体としては、低硬度で、かつ高い外径精度が要求される。通常、このような高い外径精度を有する中間転写体は、半導電性弾性層を研磨加工することにより得られるが、研磨工程が追加されるためコストが高くなるという不具合がある。
さらに、半導電性弾性層の硬度を低くするために、通常は可塑剤などを添加するが、可塑剤が表面に滲みだし、感光体を汚染し、画像品質を低下させる、あるいは、抵抗均一性、抵抗の経時的安定性が劣るなどの問題がある。また、弾性層の硬度を低くすると研磨加工が困難となり、所定の外径精度を得るのが困難という問題も有する。硬度を低くするために弾性層として発泡体を用いる方法も提案されているが、加圧により永久圧縮歪みが残留し、外径が大きく変化するという課題を有している。このように、ゴムロールの外径精度の改善にかかわる種々の提案がなされているが、低硬度で外径精度が高く、かつ安価で実用的な中間転写体は得られていないのが実情である。
これらの目的に用いられる半導電性弾性体には、従来ゴム・ウレタンなどの高分子エラストマーや高分子フォーム材料が用いられていた。これらの半導電性弾性体に要求される特性としては、感光体とのあいだに安定した接触領域を形成できるゴム硬度を有すること、可塑剤などが滲出して感光体などを汚染することがないこと、かつ１０^４〜１０^９Ωという中抵抗領域で所定の抵抗値を安定して有することが求められる。
一般に、高分子エラストマーやフォームを用いて、前記中抵抗領域の部材を得るには、金属や金属酸化物の粉末、カーボンブラック、または過塩素酸ナトリウムのようなイオン導電性物質を添加する方法が用いられる。しかしながら、金属や金属酸化物の粉末、カーボンブラックなどを用いて、電子写真用などの導電性部材として必要な中抵抗領域に抵抗を制御した場合には、電気抵抗の位置ばらつきが大きく、かつ電気抵抗の電圧依存性が大きいことがあるなどの問題があった。
現像部材の電気抵抗の位置バラツキが大きいと、現像部材上に担持した現像剤の量および帯電量にバラツキを生じ、画像品質が低下する原因となる。
また、中間転写部材の電気抵抗の位置ばらつきが大きいと、感光体から中間転写、中間転写から記録材への各転写プロセスで、転写効率にばらつきを生じ、画像品質が低下する原因となる。また、中間転写部材は、前記のように感光体から中間転写、中間転写から記録材への２つの転写プロセスを仲介するため、感光体および記録材の抵抗に応じた最適な抵抗値を有する必要がある。各電圧での抵抗値を中間転写部材として要求される最適な抵抗範囲に制御する必要があるため、中間転写部材の抵抗値の電圧依存性が大きいと抵抗の制御範囲が非常に狭くなるという問題があった。
また、転写部材の電気抵抗の位置バラツキが大きいと被転写体上の帯電量にバラツキが生じ、画像品質を低下する原因となる。また、被転写体表面の電位は転写に従い上昇するため、転写量を制御するためには表面電位に応じた電圧制御を行う必要があるが、電気抵抗の電圧依存性が大きいと転写部材の抵抗が変化するため、被転写体上の転写量を一定にするためには抵抗変動を補正するための複雑な制御機構が必要である。
また、帯電部材の電気抵抗の位置バラツキが大きいと感光体上の帯電量にバラツキが生じ、画像品質を低下する原因となる。また、感光体表面の電位は帯電に従い上昇するため、帯電量を制御するためには表面電位に応じた電圧制御を行う必要があるが、電気抵抗の電圧依存性が大きいと帯電部材の抵抗が変化するため、被帯電体上の帯電量を一定にするためには抵抗変動を補正するための複雑な制御機構が必要である。
一方、極性を有する高分子材料に、過塩素酸ナトリウムのようなイオン導電性物質を混入させたものを用いることにより、中抵抗領域で抵抗の位置ばらつきや抵抗の電圧依存性が実質的にない高分子部材を製造できることが知られている。このような高分子部材は、３２．５℃、８５％のような高温高湿環境での抵抗と、１５℃、１０％のような低温低湿環境での抵抗の差が大きく、使用される環境により大きく抵抗が変動するという問題、または連続通電により抵抗が大きく変化するという問題を抱えていた。このような環境変化による抵抗変動の影響を抑えるためには、通常は、温度センサー、湿度センサーにより、温度、湿度をモニターし、抵抗変動を補正する、すなわち、温度湿度の値から、抵抗値を予測し、印加する電圧を変化させるなどの電気的制御を加える方法が用いられている。また、連続通電による抵抗変動の影響を抑えるためには、抵抗値をモニターして、抵抗値に応じて印加電圧を変える方法が用いられている。しかしながら、一般にこのような高分子部材の抵抗の温度、湿度による変動は一次関数のような単純な関数で置き換えられる変化ではなく、また環境変動に対し時間的な遅れなどもあるため、正確な抵抗の予測は不可能である。したがって、これらの影響を完全になくすことは事実上不可能である。
さらに、近年カラー化、高速化が要求され、画像の品質に対する要求がますます厳しくなっており、抵抗変動の補正のためにますます複雑な制御を行っているのが現状である。
このような問題を解決する手段として、特開平１１−２９３１２８号公報には、極性高分子化合物にアミド結合を有する第四級アンモニウム塩を含有させた導電性組成物に関する記載がある。しかしながら、このような手段を用いても、３２．５℃、８５％のような高温高湿環境での抵抗と、１５℃、１０％のような低温低湿環境での抵抗の差を２０倍程度に抑制できる程度であり、依然として環境変動により抵抗変化の影響を補正するための制御機構を必要としているのが現実である。
発明の開示
本発明はかかる従来の半導電性弾性材料の欠点を解決し、容易に半導電性領域に抵抗をコントロール可能であり、発現される電気特性のサンプルバラツキおよび電圧依存性が極めて小さく、かつ、導電性付与成分のブリードのリスクを低減した半導電性組成物、それから得られる半導電性ゴム製品および半導電性ローラを提供するものである。
また、環境、印加電圧による抵抗変動が極めて小さく、かつ連続使用による抵抗変化が少なく、電子写真用部材として好適に用いられる半導電性部材を提供することを目的としている。
また、ローラの抵抗の位置ばらつきが小さく、回転時と静止時の抵抗の違いが小さくかつ環境変動による抵抗変化を大幅に抑制した半導電性ローラを提供することを目的としている。
また、環境変動による抵抗変化を大幅に抑制し、複雑な制御を用いずに高品質な画像が得られ、とくにカラーレーザープリンターなどの高品質な画像品質が要求される用途に好適に用いられる現像部材、中間転写部材、転写部材、帯電部材、および安価で、加工が容易で、安定したニップ形成が可能で、しかも均一な高精度な外径を有し、電子写真方式を採用した画像記録装置の中間転写体などに好適に用いられる半導電性ドラムを提供することを目的としている。
すなわち、本発明は、（Ａ）分子中に１個以上のヒドロシリル化反応可能なアルケニル基を有するオキシアルキレン系重合体、（Ｂ）分子中に２個以上のヒドロシリル基を有する化合物、（Ｃ）ヒドロシリル化触媒、および（Ｄ）イオン性導電性付与剤からなる半導電性組成物に関する。
また、（Ａ）分子中に１個以上のヒドロシリル化反応可能なアルケニル基を有するオキシアルキレン系重合体、（Ｂ）分子中に２個以上のヒドロシリル基を有する化合物、（Ｃ）ヒドロシリル化触媒、および（Ｅ）非イオン性界面活性剤からなる半導電性組成物に関する。
前記オキシアルキレン系重合体（Ａ）が、ヒドロシリル化反応可能なアルケニル基を分子鎖末端に有することが好ましい。
前記ヒドロシリル基を有する化合物（Ｂ）が、ポリオルガノハイドロジエンシロキサンであることが好ましい。
前記非イオン性界面活性剤（Ｅ）成分が、ポリオキシエチレン系化合物であることが好ましい。
また、前記半導電性組成物を硬化させて得られる半導電性ゴム製品に関する。
前記ゴム製品が、２０℃、相対湿度６０％の環境下において測定した体積抵抗率が１０^７〜１０^１１Ωｃｍであることが好ましい。
また、前記半導電性組成物を硬化させて得られる半導電性弾性層を、金属性支持部材のまわりに形成してなる半導電性部材に関する。
前記半導電性部材が、２３℃、相対湿度５５％の環境下において、１００Ｖの直流電圧を印加して測定した部材の抵抗が１０^５Ω以上１０^９Ω以下であることが好ましい。
また、金属支持部材、該支持部材外周面上に形成された半導電性弾性層、さらにその外周面上に形成された１層以上の表面層からなる半導電性部材であって、（１）２３℃、相対湿度５５％の環境下において、１０００Ｖの直流電圧を印加して測定した部材の抵抗が１０^５Ω以上１０^９Ω以下、（２）２３℃、相対湿度５５％の環境下において、５００Ｖおよび１０００Ｖの直流電圧を印加して測定を行った部材の抵抗をそれぞれＲ_５００およびＲ_１０００としたときのＲ_５００／Ｒ_１０００の値が０．８以上１．２以下、（３）１５℃、相対湿度１０％の環境下で１０００Ｖの直流電圧を印加して測定した部材の抵抗Ｒ_ＬＬと、３２．５℃、相対湿度８５％の環境下で１０００Ｖの直流電圧を印加して測定した部材の抵抗Ｒ_ＨＨの比Ｒ_ＬＬ／Ｒ_ＨＨが１０以下、の特性を有する半導電性部材に関する。
さらに、２３℃、相対湿度５５％の環境下において、前記半導電性部材を回転させながら、１０００Ｖの直流電圧を連続１００時間印加したときの部材の抵抗が初期の部材の抵抗の０．５倍以上２倍以下であることが好ましい。
さらに、２３℃、相対湿度５５％の環境下において、１０００Ｖの直流電圧を印加して測定した部材の抵抗の位置ばらつきが２０％以下であることが好ましい。
さらに、２３℃、相対湿度５５％の環境下において、１０００Ｖの直流電圧を印加して、回転時および静止時に測定した部材の抵抗をそれぞれＲ_{ｒｏｔａｔｅ}およびＲ_{ｓｔａｔｉｃ}としたとき、Ｒ_{ｒｏｔａｔｅ}／Ｒ_{ｓｔａｔｉｃ}の値が０．７以上１．５以下であることが好ましい。
さらに、アスカーＣ硬度が６０度以下であることが好ましい。
さらに、２３℃、相対湿度５５％の環境下において、１００Ｖおよび１０００Ｖの直流電圧を印加して測定を行った部材の抵抗をそれぞれＲ_１００およびＲ_１０００としたときのＲ_１００／Ｒ_１０００の値が１．０以上１０以下であることが好ましい。
さらに、外径振れが１００μｍ以下であることが好ましい。
前記半導電性弾性層が（Ａ）分子中に１個以上のヒドロシリル化反応可能なアルケニル基を有するオキシアルキレン系重合体、（Ｂ）分子中に２個以上のヒドロシリル基を有する化合物、（Ｃ）ヒドロシリル化触媒、および（Ｅ）非イオン界面活性剤を含む導電性硬化性組成物の硬化物からなることが好ましい。
また、金属支持部材、該支持部材外周面上に形成された半導電性弾性層、さらにその外周面上に形成された１層以上の表面層からなる帯電ローラであって、（１）２３℃、相対湿度５５％の環境下において、１０００Ｖの直流電圧を印加して測定したローラ抵抗が１０^５Ω以上１０^９Ω以下、（２）２３℃、相対湿度５５％の環境下において、５００Ｖおよび１０００Ｖの直流電圧を印加して測定を行ったローラ抵抗をそれぞれＲ_５００およびＲ_１０００としたときのＲ_５００／Ｒ_１０００の値が０．８以上１．２以下、（３）１５℃、相対湿度１０％の環境下で１０００Ｖの直流電圧を印加して測定したローラ抵抗Ｒ_ＬＬと、３２．５℃、相対湿度８５％の環境下で１０００Ｖの直流電圧を印加して測定したローラ抵抗Ｒ_ＨＨの比Ｒ_ＬＬ／Ｒ_ＨＨが１０以下、の特性を有する帯電ローラに関する。
また、金属支持部材、該支持部材外周面上に形成された半導電性弾性層、さらにその外周面上に形成された１層以上の表面層からなる現像ローラであって、（１）２３℃、相対湿度５５％の環境下において、１０００Ｖの直流電圧を印加して測定したローラ抵抗が１０^５Ω以上１０^９Ω以下、（２）２３℃、相対湿度５５％の環境下において、５００Ｖおよび１０００Ｖの直流電圧を印加して測定を行ったローラ抵抗をそれぞれＲ_５００およびＲ_１０００としたときのＲ_５００／Ｒ_１０００の値が０．８以上１．２以下、（３）１５℃、相対湿度１０％の環境下で１０００Ｖの直流電圧を印加して測定したローラ抵抗Ｒ_ＬＬと、３２．５℃、相対湿度８５％の環境下で１０００Ｖの直流電圧を印加して測定したローラ抵抗Ｒ_ＨＨの比Ｒ_ＬＬ／Ｒ_ＨＨが１０以下、の特性を有する現像ローラに関する。
また、金属支持部材、該支持部材外周面上に形成された半導電性弾性層、さらにその外周面上に形成された１層以上の表面層からなる中間転写ローラであって、（１）２３℃、相対湿度５５％の環境下において、１０００Ｖの直流電圧を印加して測定したローラ抵抗が１０^５Ω以上１０^９Ω以下、（２）２３℃、相対湿度５５％の環境下において、５００Ｖおよび１０００Ｖの直流電圧を印加して測定を行ったローラ抵抗をそれぞれＲ_５００およびＲ_１０００としたときのＲ_５００／Ｒ_１０００の値が０．８以上１．２以下、（３）１５℃、相対湿度１０％の環境下で１０００Ｖの直流電圧を印加して測定したローラ抵抗Ｒ_ＬＬと、３２．５℃、相対湿度８５％の環境下で１０００Ｖの直流電圧を印加して測定したローラ抵抗Ｒ_ＨＨの比Ｒ_ＬＬ／Ｒ_ＨＨが１０以下、の特性を有する中間転写ローラに関する。
また、金属支持部材、該支持部材外周面上に形成された半導電性弾性層、さらにその外周面上に形成された１層以上の表面層からなる転写ローラであって、（１）２３℃、相対湿度５５％の環境下において、１０００Ｖの直流電圧を印加して測定したローラ抵抗が１０^５Ω以上１０^９Ω以下、（２）２３℃、相対湿度５５％の環境下において、５００Ｖおよび１０００Ｖの直流電圧を印加して測定を行ったローラ抵抗をそれぞれＲ_５００およびＲ_１０００としたときのＲ_５００／Ｒ_１０００の値が０．８以上１．２以下、（３）１５℃、相対湿度１０％の環境下で１０００Ｖの直流電圧を印加して測定したローラ抵抗Ｒ_ＬＬと、３２．５℃、相対湿度８５％の環境下で１０００Ｖの直流電圧を印加して測定したローラ抵抗Ｒ_ＨＨの比Ｒ_ＬＬ／Ｒ_ＨＨが１０以下、の特性を有する転写ローラに関する。
発明を実施するための最良の形態
本発明の半導電性樹脂組成物は、（Ａ）分子中に１個以上のヒドロシリル化反応可能なアルケニル基を有するオキシアルキレン系重合体、（Ｂ）分子中に２個以上のヒドロシリル基を有する化合物、（Ｃ）ヒドロシリル化触媒、および（Ｄ）イオン性導電性付与剤、または（Ｅ）非イオン界面活性剤からなる。この組成物は硬化前には低粘度であり硬化後には低硬度であるので加工性の観点から優れている。
前記重合体（Ａ）は、前記化合物（Ｂ）とヒドロシリル化反応して硬化する成分であり、分子中に１個以上のヒドロシリル化反応可能なアルケニル基を有するため、ヒドロシリル化反応が起こって高分子状になり硬化する。前記重合体（Ａ）に含まれるアルケニル基の数は、硬化剤である化合物（Ｂ）とヒドロシリル化反応するという点から１個以上必要であるが、ゴム製品とした場合の弾性の点からは、直鎖状分子の場合は、分子の両末端に２個のアルケニル基が存在し、分岐のある分子の場合には、分子末端に２個以上のアルケニル基が存在することが望ましい。本発明の組成物の特徴の１つは、低硬度化に設定しやすいことにある。この特徴を発揮させるにはアルケニル基の数は分子末端に２個以上が好ましいが、重合体（Ａ）の分子量に比してアルケニル基の数が多くなりすぎると剛直になり、良好なゴム弾性が得られにくくなる傾向にある。
前記組成物の硬化物の硬度は、用途などにより適時選択すべきものであるが、通常アスカーＣ硬度で６０度を超えると、対向して用いる感光体などの表面にダメージを与えることがあるため、６０度以下であることが好ましい。
ここで、アルケニル基とは、ヒドロシリル化反応に対して活性のある炭素−炭素２重結合を含む基であれば特に制限されるものではない。前記アルケニル基としては、ビニル基、アリル基、メチルビニル基、プロペニル基、ブテニル基、ペンテニル基、もしくはヘキセニル基等の脂肪族不飽和炭化水素基、シクロプロペニル基、シクロブテニル基、シクロペンテニル基、もしくはシクロヘキセニル基等の環式不飽和炭化水素基、またはメタクリル基等が挙げられる。
ここで、重合体中にアルケニル基を導入する方法としては、例えば末端、主鎖あるいは側鎖に水酸基、アルコキシド基等の官能基を有する有機重合体に、上記官能基に対して反応性を示す活性基及びアルケニル基を有する有機化合物を反応させることによりアルケニル基を末端、主鎖あるいは側鎖に導入する方法が挙げられるが、これに限定されるわけではない。また、上記官能基に対して反応性を示す活性基及びアルケニル基を有する有機化合物の例としては、アクリル酸、メタクリル酸、ビニル酢酸、アクリル酸クロライド、もしくはアクリル酸ブロマイド等のＣ_３−Ｃ_２０の不飽和脂肪酸、酸ハライド、酸無水物等やアリルクロロホルメート（ＣＨ_２＝ＣＨＣＨ_２ＯＣＯＣｌ）、もしくはアリルブロモホルメート（ＣＨ_２＝ＣＨＣＨ_２ＯＣＯＢｒ）等のＣ_３−Ｃ_２０の不飽和脂肪酸置換炭酸ハライド、アリルクロライド、アリルブロマイド、ビニル（クロロメチル）ベンゼン、アリル（クロロメチル）ベンゼン、アリル（ブロモメチル）ベンゼン、アリル（クロロメチル）エーテル、アリル（クロロメトキシ）ベンゼン、１−ブテニル（クロロメチル）エーテル、１−ヘキセニル（クロロメトキシ）ベンゼン、またはアリルオキシ（クロロメチル）ベンゼン等が挙げられる。
前記アルケニル基は、重合体（Ａ）末端に導入されていることが望ましい。このようにアルケニル基が重合体末端にあると、本発明の半導電性組成物を硬化させて得られる硬化物を低硬度、高強度化しやすくなる傾向にある。
前記重合体（Ａ）は、少量の導電性付与剤を添加するだけで所定の抵抗に容易に調整できる。さらには導電付与剤を適切に選ぶことにより、印加電圧による抵抗変動を望ましい範囲に低減できるという特徴を有している。
また、本発明の組成物を硬化させて得られるゴム製品の低硬度化の点で、前記繰り返し単位がオキシプロピレン単位であるオキシプロピレン系重合体が好ましい。つまり、本発明の組成物は、可塑剤のような、感光体に悪影響を与える可能性のある添加物を用いることなく、アスカーＣ硬度が６０度以下で、圧縮永久歪みの小さな組成物が容易に得られるという利点ももつ。
ここで、前記オキシアルキレン系重合体とは、主鎖を構成する単位のうち３０％以上、好ましくは５０％以上がオキシアルキレン単位からなる重合体をいう。オキシアルキレン単位以外に含有される単位としては、重合体製造時の出発物質として使用される活性水素を２個以上有する化合物、たとえば、エチレングリコール、ビスフェノール系化合物、グリセリン、トリメチロールプロパン、またはペンタエリスリトールなどからの単位があげられる。なお、オキシプロピレン系重合体の場合には、エチレンオキシド、ブチレンオキシドなどからなる単位との共重合体（グラフト重合体も含む）であってもよい。
前記オキシアルキレン系重合体の分子量としては、反応性および低硬度化のバランスをよくする観点から、数平均分子量（Ｍｎ）１０００〜５００００であるものが好ましい。より好ましくは、５０００〜４００００、さらに好ましくは５０００〜３００００である。数平均分子量が１０００より小さい場合、この硬化性組成物を硬化させた場合に充分な機械的特性（ゴム硬度、伸び率）などが得られにくくなる。一方、数平均分子量が５００００をこえると、分子中に含まれるアルケニル基１個あたりの分子量が大きくなったり、立体障害で反応性が落ちたりするため、硬化が不充分になることが多く、また、粘度が高くなりすぎて加工性が悪くなる傾向にある。
なお、本発明の数平均分子量とは、クロロホルムを移動相とし、ポリスチレンゲルカラムを用いたＧＰＣ（ゲルパーミエーションクロマトグラフィー）により得られる値をいう。
本発明に使用される化合物（Ｂ）は、分子中に２個以上のヒドロシリル基を有する化合物であるかぎりとくに制限はないが、２〜４０個であることが好ましい。分子中に含まれるヒドロシリル基の数が４０をこえると硬化後も多量のヒドロシリル基が硬化物中に残存しやすくなり、ボイドやクラックの原因となる傾向があり、ヒドロシリル基の数が２より少ないと硬化性の点で問題がある傾向がある。
なお、本発明で、前記ヒドロシリル基を１個有するとは、Ｓｉに結合するＨを１個有することをいい、ＳｉＨ_２の場合にはヒドロシリル基を２個有することになるが、Ｓｉに結合するＨはそれぞれ異なるＳｉに結合する方が硬化性に優れ、ゴム弾性の点からも好ましい。
前記化合物（Ｂ）としては、ポリオルガノハイドロジェンシロキサンが好ましいものの一つとして挙げられる。ここで言うポリオルガノハイドロジェンシロキサンとは、ケイ素原子上に炭化水素基あるいは水素原子を有するシロキサン化合物を指す。その構造について具体的に示すと、

（２＜ｍ＋ｎ≦５０、２＜ｍ、０≦ｎ、Ｒとしては主鎖の炭素数が２〜２０の炭化水素で１個以上のフェニル基を含有してもよい。）

（０＜ｍ＋ｎ≦５０、０＜ｍ、０≦ｎ、Ｒとしては主鎖の炭素数が２〜２０の炭化水素で１個以上のフェニル基を含有してもよい。）

（３≦ｍ＋ｎ≦２０、２＜ｍ≦１９、０≦ｎ＜１８、Ｒとしては主鎖の炭素数が２〜２０の炭化水素で１個以上のフェニル基を含有してもよい。）
などで示される鎖状、環状のものや、これらのユニットを２個以上有する

（１≦ｍ＋ｎ≦５０、１≦ｍ、０≦ｎ、Ｒとしては主鎖の炭素数が２〜２０の炭化水素で１個以上のフェニル基を含有してもよい。２≦ｌ、Ｒ^２は２〜４価の有機基であり、Ｒ^１は２価の有機基。ただし、Ｒ^１はＲ^２の構造によってはなくてもよい。）

（０≦ｍ＋ｎ≦５０、０≦ｍ、０≦ｎ、Ｒとしては主鎖の炭素数が２〜２０の炭化水素で１個以上のフェニル基を含有してもよい。２≦ｌ、Ｒ^２は２〜４価の有機基であり、Ｒ^１は２価の有機基。ただし、Ｒ^１はＲ^２の構造によってはなくてもよい。）

（３≦ｍ＋ｎ≦５０、１≦ｍ、０≦ｎ、Ｒとしては主鎖の炭素数が２〜２０の炭化水素で１個以上のフェニル基を含有してもよい。２≦１、Ｒ^２は２〜４価の有機基であり、Ｒ^１は２価の有機基。ただし、Ｒ^１はＲ^２の構造によってはなくてもよい。）
などで示されるものが挙げられる。
またこれら（Ｂ）成分の使用にあたっては、（Ａ）成分、（Ｃ）成分、（Ｄ）成分および（Ｅ）成分との相溶性、あるいは系中における分散安定性がよいものが好ましい。特に系全体の粘度が低い場合には、（Ｂ）成分として上記各成分との相溶性の低いものを使用すると、相分離が起こり硬化不良を引き起こすことがある。また、分散性助剤として、微粉末シリカ等の粒径の小さいフィラーを配合してもよい。
（Ａ）成分、（Ｃ）成分、（Ｄ）成分、および（Ｅ）成分との相溶性、あるいは分散安定性が比較的良好なものとして具体的に示すと、

（２＜ｋ＜３５、０＜ｌ＜１０、Ｒは炭素数８以上の炭化水素基）
などが挙げられる。
前記化合物（Ｂ）の添加量は、重合体（Ａ）のアルケニル基の総量に対して、化合物（Ｂ）のケイ素原子結合水素原子が０．８〜５．０当量となるように使用することが好ましい。前記重合体（Ａ）のアルケニル基総量に対して前記化合物（Ｂ）のケイ素原子結合水素原子が０．８当量より小さいと、架橋が不充分となる傾向にある。また、５．０当量をこえると、硬化後に残留するケイ素原子結合水素原子の影響により物性が大きく変化する傾向がある。とくにこの影響を抑制したい場合には、１．０〜２．０当量となるように用いることがより好ましい。
本発明の（Ｃ）成分であるヒドロシリル化触媒については、特に制限はなく、任意のものが使用できる。具体的に例示すれば、塩化白金酸、白金の単体、塩化白金酸（アルコールなどの錯体も含む）、白金の各種錯体、ロジウム、ルテニウム、鉄、アルミニウム、チタンなどの金属の塩化物、アルミナ、シリカ、カーボンブラック等の担体に固体白金を担持させたもの；白金−ビニルシロキサン錯体｛例えば、Ｐｔ_ｎ（ＶｉＭｅ_２ＳｉＯＳｉＭｅ_２Ｖｉ）_ｎ、Ｐｔ〔（ＭｅＶｉＳｉＯ）_４〕_ｍ｝；白金−ホスフィン錯体｛例えば、Ｐｔ（ＰＰｈ_３）_４、Ｐｔ（ＰＢｕ_３）_４｝；白金−ホスファイト錯体｛例えば、Ｐｔ〔Ｐ（ＯＰｈ）_３〕_４、Ｐｔ〔Ｐ（ＯＢｕ）_３〕_４｝（式中、Ｍｅはメチル基、Ｂｕはブチル基、Ｖｉはビニル基、Ｐｈはフェニル基を表し、ｎ、ｍは整数を表す）、Ｐｔ（ａｃａｃ）_２、また、Ａｓｈｂｙらの米国特許第３１５９６０１号明細書及び３１５９６６２号明細書中に記載された白金−炭化水素複合体、並びにＬａｍｏｒｅａｕｘらの米国特許第３２２０９７２号明細書中に記載された白金アルコラート触媒も挙げられる。
また、白金化合物以外の触媒の例としては、ＲｈＣｌ（ＰＰｈ_３）_３、ＲｈＣｌ_３、Ｒｈ／Ａｌ_２Ｏ_３、ＲｕＣｌ_３、ＩｒＣｌ_３、ＦｅＣｌ_３、ＡｌＣｌ_３、ＰｄＣｌ_２・２Ｈ_２Ｏ、ＮｉＣｌ_２、またはＴｉＣｌ_４、等が挙げられる。これらの触媒は単独で使用してもよく、２種以上併用しても構わない。触媒活性の点から塩化白金酸、白金−オレフィン錯体、白金−ビニルシロキサン錯体、またはＰｔ（ａｃａｃ）_２等が好ましい。
前記ヒドロシリル化触媒（Ｃ）の添加量にはとくに制限はないが、前記重合体（Ａ）のアルケニル基１モルに対して１０^−１〜１０^−８モルの範囲で用いるのが好ましく、特に１０^−２〜１０^−６モルの範囲で用いるのがより好ましい。また、ヒドロキシル化触媒は、一般に高価で腐食性を有するため、さらに水素ガスを大量に発生して硬化物が発泡してしまう傾向があるので１０^−１モルをこえて用いることは好ましくない。
また、本発明で使用される（Ｄ）成分のイオン性導電性付与剤としては、リチウム、ナトリウム、もしくはカリウムなどの周期律表第１族金属塩およびその錯体、Ｃａ、もしくはＢａなどの周期律表第２族金属塩およびその錯体、カチオン性界面活性剤、アニオン性界面活性剤、または両性界面活性剤などのイオン導電性の導電性付与剤があげられる。
前記周期律表第１族金属塩としては、具体的にはＬｉＣＦ_３ＳＯ_３、ＮａＣｌＯ_４、ＬｉＡｓＦ_６、ＬｉＢＦ_４、ＬｉＩ、ＬｉＣｌ、ＬｉＢｒ、ＮａＳＣＮ、ＫＳＣＮ、ＮａＣｌ、ＮａＩ、またはＫＩなどのアルカリ金属塩などがあげられる。前記周期律表第２族金属塩としてはＣａ（ＣｌＯ_４）_２、Ｂａ（ＣｌＯ_４）_２などがあげられる。また、それら塩との錯体としては、１，４−ブタンジオール、エチレングリコール、ポリエチレングリコール、プロピレングリコール、もしくはポリエチレングリコールなどの多価アルコールとその誘導体の錯体、またはエチレングリコールモノメチルエーテル、もしくはエチレングリコールモノエチルエーテルなどのモノオールとの錯体などがあげられる。また、前記以外でもアミノ基で変性したＤＯＰ、ＤＢＰなどの可塑剤と過塩素酸イオンとの錯塩などの導電性可塑剤などがあげられる。
前記カチオン性界面活性剤としては、ラウリルトリメチルアンモニウムクロライド、ステアリルトリメチルアンモニウムクロライド、オクタデシルトリメチルアンモニウムクロライド、ドデシルトリメチルアンモニウムクロライド、ヘキサデシルトリメチルアンモニウムクロライド、過塩素酸テトラエチルアンモニウム、過塩素酸テトラブチルアンモニウム、ホウフッ化テトラブチルアンモニウム、またはホウフッ化テトラエチルアンモニウムなどの４級アンモニウム塩が、また、アニオン性界面活性剤としては、有機スルホン酸塩、高級アルコールエチレンオキサイド付加硫酸エステル塩、高級アルコールリン酸エステル塩、または高級アルコールエチレンオキサイド付加リン酸エステル塩が、さらに、両性界面活性剤としては、ラウリルベタイン、ステアリルベタイン、またはジメチルアルキルラウリルベタインなどがあげられる。
前記（Ｄ）成分の添加量は、（Ａ）成分の重合体１００重量部に対し好ましくは０．０１〜１００重量部、より好ましくは０．１〜５０重量部である。添加量が０．０１重量部より少ないと、得られる導電付与能が不十分となる傾向にある。また１００重量部をこえると、ブリードなどのリスクが高くなったり、半導電性ゴムの機械強度の著しい低下を招く傾向にある。
前記（Ｄ）成分は、主成分の樹脂マトリクスである重合体（Ａ）と相溶性、あるいは分散安定性に優れ、一般的にコントロールするのが難しいとされる半導電性領域（体積抵抗率１０^７〜１０^１１Ωｃｍ）にコントロールするのが極めて容易であり、導電特性のバラツキおよび電圧依存性を小さくすることができる点で好ましい。
本発明で使用される非イオン界面活性剤（Ｅ）は、本発明のゴム製品に安定的に導電性を付与するための成分である。前記非イオン界面活性剤とは、水溶液でイオンに解離しない界面活性剤をいい、たとえばエーテル型、エーテルエステル型、エステル型、および含窒素型界面活性剤をいう。エーテル型非イオン界面活性剤としては、たとえばポリオキシエチレンアルキル、アルキルフェニルエーテル、アルキルアリルホルムアルデヒド縮合ポリオキシエチレンエーテル、ポリオキシエチレンポリオキシプロピレンブロックコポリマー、またはポリオキシエチレンポリオキシプロピルアルキルエーテルがあげられる。エーテルエステル型非イオン界面活性剤としては、たとえばグリセリンエステルのポリオキシエチレンエーテル、ソルビタンエステルのポリオキシエチレンエーテル、またはソルビトールエステルのポリオキシエチレンエーテルがあげられる。エステル型非イオン界面活性剤としては、たとえばポリエチレングリコール脂肪酸エステル、グリセリンエステル、ポリグリセリンエステル、ソルビタンエステル、プロピレングリコールエステル、またはショ糖エステルがあげられる。含窒素型非イオン界面活性剤としては、たとえば脂肪酸アルカノールアミド、ポリオキシエチレン脂肪酸アミド、ポリオキシエチレンアルキルアミン、またはアミンオキシドがあげられる。
なかでも、ポリオキシエチレン系化合物は、主成分の樹脂マトリクスである重合体（Ａ）と相溶するため、極めて導電特性の安定性に優れ、導電特性のバラツキや電圧依存性が小さい半導電性ゴム製品を提供することができる点で好ましい。前記ポリオキシエチレン系化合物とは、主鎖を構成する繰り返し単位のうち、エチレンオキサイド単位を５０％以上含有するものをいい、従来公知のものをとくに制限無く使用することができる。また、ポリオキシエチレン系化合物の数平均分子量は、１００００未満、さらには５０００未満、とくには３０００未満が好ましい。数平均分子量が１００００以上になると、流動性・作業性の観点から好ましくなく、とくにポリオキシエチレン繰り返し単位の含量が多い場合には、化合物の結晶性が高くなるため、半導電性ゴム内の相溶のバランスが崩れることが懸念される。
前記ポリオキシエチレン系化合物は、分子内に含有する水酸基が数平均が１．２個以下であることが好ましい。分子内に水酸基が存在した場合、（Ｂ）成分、（Ｃ）成分および系中に微量に含有される水によって発泡するリスクが高くなり、良好な硬化物を得ることが難しくなることがある。
また、前記（Ｅ）成分のブリードを防止するために、適宜分子中にヒドロシリル化反応可能なアルケニル基を導入してもよい。この際、分子中に導入されるアルケニル基は、数平均で１．２個以下であることが好ましい。前記アルケニル基が１．２個より多いと（Ａ）成分および（Ｂ）成分で形成される３次元架橋構造に影響を及ぼし、組成物の圧縮永久ひずみなどの機械的な特性が低下する傾向がある。前記（Ｅ）成分は、硬化反応時には硬化剤である（Ｂ）成分のＳｉ−Ｈ基とヒドロシリル化反応により化学結合して最終的には硬化後の架橋構造内に取り込まれる。このため、ブリードのリスクを低減することができる傾向にある。前記（Ｅ）成分中にはヒドロシリル化に対する活性の低い炭素−炭素不飽和結合は有さないことが好ましい。
また、前記（Ｅ）成分におけるアルケニル基としては、（Ａ）成分と同様、ヒドロシリル化反応に対して活性のある炭素−炭素２重結合を含む基であれば特に制限されるものではなく、例えば、ビニル基、アリル基、メチルビニル基、プロペニル基、ブテニル基、ペンテニル基、もしくはヘキセニル基等の脂肪族不飽和炭化水素基、シクロプロペニル基、シクロブテニル基、シクロペンテニル基、もしくはシクロヘキセニル基等の環式不飽和炭化水素基、またはメタクリル基等が挙げられる。
さらに前記（Ｅ）成分は、その分子内に活性水素を持たないことが好ましい。以下の一般式（１）で表されるものが好ましいものとして例示される。
Ｒ（ＣＨ_２ＣＨ_２Ｏ）_ｎＯＲ’　・・・（１）
（Ｒ：炭素数１〜２０のアルケニル基、Ｒ’＝炭素数１〜２０のアルキル基、炭素数１〜２０のアリール基、ｎは１〜５００の整数で、ｎ≧３が好ましい。）
上記記載のアルキル基の具体例としては、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、イソブチル基、ｓｅｃ−ブチル、ｔｅｒｔ−ブチル、ペンチル基、イソペンチル基、ネオペンチル基、ｔｅｒｔ−ペンチル基、ヘキシル基、またはイソヘキシル基等が挙げられ、アリール基の具体例としては、フェニル基、トリル基、メシチル基、キシリル基、クメニル基、ナフチル基、ベンジル基、ベンズヒドリル基、フェネチル基、またはトリチル基等が挙げられる。
ポリオキシエチレン系化合物の具体例としては、ポリオキシエチレンアルキルエーテル、ポリオキシエチレンアルケニルエーテル、ポリオキシエチレンアルキルフェニルエーテル、ポリオキシエチレンポリスチリルフェニルエーテル、ポリオキシエチレン−オキシプロピレングリコール、ポリオキシエチレン−オキシプロピレンアルキルエーテル、ポリオキシエチレンソルビタン脂肪酸エステル、ポリオキシエチレングリセリン脂肪酸エステルなどのポリオキシエチレン多価アルコール脂肪酸部分エステル、ポリオキシエチレン脂肪酸エステル、ポリオキシエチレン化ヒマシ油、ポリオキシエチレンアルキルアミン、またはポリオキシエチレン基含有オルガノポリシロキサンなどがあげられるが、これに限定されるわけではない。
前記（Ｅ）成分の添加量は、所望の導電特性に応じて調整して添加されるが、前記（Ｅ）成分が分子中にヒドロキシル化反応可能なアルケニル基を有する場合は、（Ａ）成分と（Ｂ）成分によるヒドロシリル化反応による３次元的架橋構造の形成を妨げないようにしなければならない。すなわち、（Ｅ）成分の添加量が過剰になった場合、（Ｂ）成分のＳｉ−Ｈ基は、（Ｅ）成分のアルケニル基とのヒドロシリル化反応により消費されてしまい、（Ａ）成分による３次元的架橋構造の形成が不十分となることがある。このような事情から、（Ｅ）成分の添加量は、（Ａ）成分の重合体１００重量部に対し０．０１〜１００重量部が好ましい。より好ましくは０．１〜１００重量部、さらに好ましくは０．５〜７０重量部、特に好ましくは０．５〜５０重量部、最も好ましくは１〜５０重量部である。添加量が０．０１重量部より少ないと、得られる導電付与能が不十分となる傾向にある。また１００重量部をこえると、ブリードなどのリスクが高くなったり、半導電性ゴムの機械強度の著しい低下を招く傾向にある。
導電性付与剤である前記（Ｄ）成分および（Ｅ）成分のうち、イオン導電性付与剤（Ｄ）は抵抗の電圧依存性が小さいという点から好ましい。さらに非イオン界面活性剤（Ｅ）は、抵抗の環境安定性が高いという点でより好ましい。なお、これらの導電性付与剤は、単独で使用しても、また２種以上を併用しても構わない。
前記導電性付与剤（Ｄ）または（Ｅ）の添加量は、（Ａ）〜（Ｃ）成分の合計量に対して、３０重量％以下とすることが、弾性層の機械物性を大きく変化させないという点から好ましい。また、特に電子導電性の導電性付与剤は、添加量を大きくすると、抵抗の電圧依存性が大きくなるため、電圧依存性を所望する範囲内に抑えるために、好ましくは２０重量％以下、より好ましくは１０重量％以下がより望ましい。
ここで、前記ブリードのリスクの低減については、例えば、弾性層のゲル分率の測定により評価することができる。ゲル分率の測定方法としては、ローラの弾性層から０．０１〜０．５ｇ程度の破片を切り取り、あらかじめ重量を測定した（Ｗ_１）金網の袋に入れて、再び重量（Ｗ_２）を測定する。これを、温度２３℃、相対湿度５５％の環境下でアセトンに２４時間浸漬した後、８０℃の熱風乾燥機にて、３時間乾燥させる。これの重量（Ｗ_３）を測定し、
ゲル分率（％）＝（Ｗ_３−Ｗ_１）／（Ｗ_２−Ｗ_１）×１００
の算出式にしたがって、アセトンに溶解しない重量％として、ゲル分率を求める。本結果は、主に（Ａ）、（Ｂ）および（Ｄ）成分以外の成分が化学結合を介して架橋構造に取り込まれている度合いの指標となる値であり、この値が１００％に近づくほど、ブリードのリスクが少ないと考えることができる。
また、前記導電性付与剤（Ｄ）または（Ｅ）のみでは、導電性付与能が不十分な場合に、さらなる導電性を付与するために添加する成分として、アルカリ金属塩を本発明の組成物に加えてもよい。前記アルカリ金属塩は、リチウム、ナトリウム、カリウム等の周期律表第１族金属塩、及びその錯体であれば、特に制限はない。
上記、アルカリ金属塩としては、具体的には、ＮａＣｌＯ_４、ＬｉＣｌＯ_４、ＬｉＡｓＦ_６、ＬｉＢＦ_４、ＬｉＰＦ_６，ＬｉＣＦ_３ＳＯ_３，ＬｉＩ、ＬｉＣｌ、ＬｉＢｒ、ＮａＳＣＮ、ＫＳＣＮ、ＮａＣｌ、ＮａＩ、またはＫＩ等のアルカリ金属塩等が挙げられる。また、それら塩との錯体としては、１，４−ブタンジオール、エチレングリコール、ポリエチレングリコール、プロピレングリコール、もしくはポリエチレングリコール等多価アルコールとその誘導体の錯体、またはエチレングリコールモノメチルエーテル、もしくはエチレングリコールモノエチルエーテル等のモノオールとの錯体などが挙げられる。また上記以外でもアミノ基で変性したＤＯＰ、ＤＢＰ等の可塑剤と過塩素酸イオンとの錯塩等の導電性可塑剤等が挙げられる。前記アルカリ金属塩の添加量は、０．００１〜５重量部、さらには、０．０１〜１重量部であることが好ましい。添加量が０．００１重量部より少ないと、得られる導電付与能が不十分となる傾向にある。また、５重量部をこえると、得られる半導電性ゴムの機械強度の著しい低下を招く傾向にある。
さらに、前記組成物には、貯蔵安定性を改良する目的で、貯蔵安定性改良剤を使用することができる。この貯蔵安定性改良剤としては、前記化合物（Ｂ）の保存安定剤として知られている通常の安定剤であり、所期の目的を達成するものであればよく、とくに限定されるものではない。具体的には、脂肪族不飽和結合を含有する化合物、有機リン化合物、有機硫黄化合物、窒素含有化合物、スズ系化合物、または有機過酸化物などを好適に用いることができる。さらに具体的には、２−ベンゾチアゾリルサルファイド、ベンゾチアゾール、チアゾール、ジメチルアセチレンダイカルボキシレート、ジエチルアセチレンダイカルボキシレート、ブチルヒドロキシトルエン、ブチルヒドロキシアニソール、ビタミンＥ、２−（４−モルフォジニルジチオ）ベンゾチアゾール、３−メチル−１−ブテン−３−オール、アセチレン性不飽和基含有オルガノシロキサン、エチレン性不飽和基含有オルガノシロキサン、アセチレンアルコール、３−メチル−１−ブチル−３−オール、ジアリルフマレート、ジアリルマレエート、ジエチルフマレート、ジエチルマレエート、ジメチルマレエート、２−ペンテンニトリル、２，３−ジクロロプロペン、ジメチルアセチレンカルボキシレート、またはキノリンなどがあげられるが、これらに限定されるわけではない。なかでも、ポットライフおよび速硬化性の両立という点から、チアゾール、ジメチルマレエートがとくに好ましい。なお、前記貯蔵安定性改良剤は、単独で用いてもよく、また、２種以上併用してもよい。
また、本発明の組成物には、加工性やコストを改善するための充填剤、保存安定剤、酸化防止剤、軟化剤、可塑剤、紫外線吸収剤、滑剤、顔料などを添加してもよい。前記充填剤の具体例としては、特にシリカ微粉末、とりわけ比表面積が５０〜３８０ｍ^２／ｇ程度の微粉末シリカが好ましく、その中でも表面処理を施した疎水性シリカが、ローラの強度を好ましい方向に改善する働きが大きいので特に好ましい。前記軟化剤、可塑剤の使用量は（Ａ）成分１００重量部に対して、１５０重量部以下が好ましい。それ以上の添加量になると、ブリード等の問題を生じる傾向にある。
さらに前記組成物には、必要に応じて、各種基材に対する接着性を向上させるための接着性付与剤、粘着性付与樹脂を添加することができる。接着性付与剤の例としては、各種シランカップリング剤やエポキシ樹脂などがあげられる。とくにエポキシ基、メタクリロイル基、またはビニル基などの官能基を有するシランカップリング剤は、組成物の硬化性に及ぼす影響も小さく、接着性の発現にも効果が大きく使いやすい。ただし、使用できるシランカップリング剤はこれらに限定されるものではない。また、シランカップリング剤やエポキシ樹脂と併用してこれらの反応触媒を添加することができる。また、粘着性付与樹脂にはとくに限定はなく、通常、粘着性付与剤として使用されるものを使用できる。具体例としては、フェノール樹脂、変性フェノール樹脂、シクロペンタジエン−フェノール樹脂、キシレン樹脂、クマロン樹脂、石油樹脂、テルペン樹脂、テルペンフェノール樹脂、またはロジンエステル樹脂などがあげられる。なお、これらの使用にあたっては、ヒドロシリル化反応に対する影響を考慮しなければならない。
前記本発明の半導電性組成物を硬化して得られる半導電性ゴム製品は、一般的にコントロールが難しいとされる半導電性領域（体積抵抗率１０^７〜１０^１１Ωｃｍ）に体積抵抗率をコントロールにすることが極めて容易である。ここで、本発明における半導電性ゴム製品の体積抵抗率は、ＪＩＳ　Ｋ−６９１１に準じて測定される。また、金属などの基材に半導電性ゴムを積層させて製造するような場合は、半導電性ゴム部分のみを別途硬化させて、その体積抵抗率を評価することができる。
また、通常、半導電性ゴムは、抵抗測定時の印加電圧を高くすると抵抗が低下するという性質を有し、導電特性の電圧依存性が大きいが、このような特性は、たとえば、電子写真方式を採用した画像記録装置に組み込まれるローラとして用いる場合、電圧の制御が複雑になるため好ましくない。この点、本発明の半導電性組成物を硬化して得られる半導電性ゴム製品は、導電特性の電圧依存性が極めて小さい。なお、この半導電性ゴム製品における導電特性の電圧依存性は、たとえば、半導電性ゴムについて温度２０℃、湿度６０％の恒温恒湿条件下で２４時間放置後、体積抵抗率を印加電圧１００Ｖおよび１０００Ｖでの条件で測定し、１００Ｖ印加での体積抵抗率（Ｒ１００）および１０００Ｖ印加における体積抵抗率（Ｒ１０００）の比の対数値［ＬＯＧ（Ｒ_１００／Ｒ_１０００）］で評価することができる。
また、通常、半導電性ゴムは、導電特性のサンプルバラツキも大きいが、本発明の半導電性組成物を硬化して得られる半導電性ゴムは、導電特性のサンプルバラツキが極めて小さい。なお、この半導電性ゴムにおける導電特性のサンプルバラツキは、例えば、半導電性ゴムについて温度２０℃、湿度６０％の恒温恒湿条件下で２４時間放置後、体積抵抗率を印加電圧１００Ｖおよび１０００Ｖの条件で測定し、最も抵抗の高かった測定値（Ｒ_ＭＡＸ）および最も抵抗の低かった測定値（Ｒ_ＭＩＮ）の比の対数値［ＬＯＧ（Ｒ_ＭＡＸ／Ｒ_ＭＩＮ）］で評価することができる。
前記半導電性ゴム製品は、たとえば、本発明の組成物を、所望の形状の成形空間を有する型に注入したのち、加熱することにより得られる。具体的には、たとえば、液状射出成形、押出し成形、またはプレス成形などにより成形できるが、組成物が液状である点、および生産性の点から、液状射出成形が好ましい。
本発明の組成物は、たとえば、貴金属触媒を用いたアルケニル基に対するＳｉ−Ｈ基の付加反応によって硬化する。従って、硬化速度が非常に速く、ライン生産を行う上で好都合である。本発明の組成物を熱硬化させる温度は、８０℃〜１８０℃の範囲内が好ましい。８０℃以上になると、急激にヒドロシリル化反応が進行し、短い時間で硬化させることができる。
本発明の半導電性部材は、金属性支持部材２０３または円筒状スリーブ２０４を中心に設置した金型に、本発明の半導電性組成物を注型、射出、押出成形などをし、適当な温度、時間で加熱硬化させることによって容易に得られる。前記半導電性部材において、金属性支持部材２０３または円筒状スリーブ２０４のまわりに導電性弾性層２０２が形成されている。前記導電性弾性層にさらに表面層２０１を形成してもよい。図１に部材としてローラを用いた本発明の半導電性ローラの模式図を、図６に本発明の中間転写ドラムの模式図を示す。
前記半導電性部材は、一般的にコントロールが難しいとされる半導電性領域（部材の抵抗１０^５〜１０Ω）に部材の抵抗をコントロールにすることが極めて容易であり、部材抵抗のサンプルバラツキおよび電圧依存性も小さくすることが可能となる。ここで、本発明における部材の抵抗とは、部材を金属プレートに水平に当てて、部材の導電性シャフトの両端部の各々に５００ｇの荷重を金属プレート方向に加え、シャフトと金属プレート間に直流電圧を印加して測定される電気抵抗値をいう。
前記半導電性部材は、２３℃、相対湿度５５％の環境下において、１００Ｖの直流電流を印加した場合、部材の抵抗が１０^５〜１０^９Ωであることが必要である。特に１０^７〜１０^９Ωが好ましい。１０^５Ωより低いと判導電性部材に対向して接触する部材に過剰な電流が流れるなどの問題が生じる傾向にあり、１０^９Ωをこえると半導電性部材表面が帯電しやすくなる傾向がある。
また、別の本発明の半導電性部材１１０は、金属支持部材２０３、該支持部材外周面上に形成された半導電性弾性層２０２、さらにその外周面上に形成された１層以上の表面層２０１からなる半導電性部材であって、（１）２３℃、相対湿度５５％の環境下において、１０００Ｖの直流電圧を印加して測定した部材の抵抗が１０^５Ω以上１０^９Ω以下、（２）２３℃、相対湿度５５％の環境下において、５００Ｖおよび１０００Ｖの直流電圧を印加して測定を行った部材の抵抗をそれぞれＲ_５００およびＲ_１０００としたときのＲ_５００／Ｒ_１０００の値が０．８以上１．２以下、（３）１５℃、相対湿度１０％の環境下で１０００Ｖの直流電圧を印加して測定した部材の抵抗Ｒ_ＬＬと、３２．５℃、相対湿度８５％の環境下で１０００Ｖの直流電圧を印加して測定した部材の抵抗Ｒ_ＨＨの比Ｒ_ＬＬ／Ｒ_ＨＨが１０以下である。
本発明の部材としては、電子写真用部材として用いられるものであれば特に限定されない。たとえば、転写用部材、中間転写用部材、現像用部材、帯電用部材、またはトナー供給用部材などがあげられる。なかでも、転写用部材、中間転写用部材としての半導電性ローラに好適に用いられる。前記半導電性ローラは、具体的には、例えば、電子写真装置用の帯電ローラ、現像ローラ、転写ローラ、給紙ローラ、クリーニングローラ、定着用の加圧ローラ、またはドラム等があげられる。
図２を用いて、画像記録装置の一実施形態である中間転写タイプの電子写真装置を説明する。
アルミニウムパイプ上に感光体材料を塗布して形成した電子写真感光体１０１の表面を、帯電ローラ（帯電器）１０２により均一に帯電させ、つぎに書き込み装置１０４ａから発せられた、画像情報に応じた走査露光光１０４ｂにより、感光体の表面に静電潜像を形成する。この静電潜像は、現像器のうちの、今回形成された静電潜像の色情報に対応する現像器１０５ａにより現像・可視化される。この可視化されたトナー像は、電子写真感光体１０１と中間転写ドラム１１０とが接触した転写領域Ｐ１において、電子写真感光体１０１から中間転写ドラム１１０の表面に、図示しない電源から中間転写ドラム１１０と感光体１０１との間に電圧を印加することにより転写される。転写後の感光体表面は除電ランプ１０８からの光が照射されて除電され、感光体表面に残ったトナーはクリーニング装置１０３により除去される。前記工程を複数回繰り返し、都度、画像情報に応じた色の異なる現像剤を有する現像器１０５ｂ、１０５ｃ、１０５ｄにより現像・可視化され、感光体表面から中間転写ドラム１１０に順次に転写・積層させ、複数のトナー画像を中間転写ドラム表面に積層形成させる。中間転写ドラム１１０の表面に積層形成されたカラートナー画像は、用紙搬送ロール１０９により搬送されて、中間転写ドラム１１０と、ロール形状の転写部材１０６との間に位置した記録材１１２との接触領域において、中間転写ドラム１１０と転写部材１０６との間に印加された電圧により、転写部材１０６から記録材１１２に電荷が移動することにより帯電した記録材表面に静電的に吸着され、記録材表面に一括して転写される。記録材１１２表面に一括して転写されたトナー画像は、定着装置１０７まで搬送され、その定着装置１０７により定着される。
また、図３を用いて画像記録装置のもう１つの実施形態を説明する。
この画像記録装置は、ブラック（Ｋ）、イエロー（Ｙ）、マゼンタ（Ｍ）、シアン（Ｃ）の４色に対応して、表面に感光層を有するドラム状の感光体１０１Ｋ、１０１Ｙ、１０１Ｍ、１０１Ｃと、これらの感光体をそれぞれ一様に帯電する帯電ローラ（帯電器）１０２Ｋ、１０２Ｙ、１０２Ｍ、１０２Ｃと、一様に帯電された感光体にそれぞれ像光を照射して静電潜像を形成する像書き込み装置１０４Ｋ、１０４Ｙ、１０４Ｍ、１０４Ｃと、Ｋ、Ｙ、Ｍ、Ｃの各色の現像剤を収容した４台の現像器１０５Ｋ、１０５Ｙ、１０５Ｍ、１０５Ｃと、前記４つの感光体１０１Ｋ、１０１Ｙ、１０１Ｍ、１０１Ｃのうち２つずつに接触する２本のドラム形状の第一の中間転写ドラム１１０と、これら２本の中間転写ドラムに接触するドラム形状の第二の中間転写ドラム１１１、第二の中間転写ドラム１１１上に重ね合わせ転写されたトナー像を、搬送ローラ１０９によって搬送されてきた記録材１１２上に一括転写するためのローラ形状の転写部材１０６と、記録材１１２上のトナー像を定着する定着装置１０７とを備えている。
各感光体１０１Ｋ、１０１Ｙ、１０１Ｍ、１０１Ｃ上には、各色に対応する静電潜像が形成され、各現像器１０５Ｋ、１０５Ｙ、１０５Ｍ、１０５Ｃにより各色トナーで現像されて各色のトナー像が形成される。各感光体１０１Ｋ、１０１Ｙ、１０１Ｍ、１０１Ｃ上の各色トナー像は２色ずつ第一の中間転写ドラム１１０上に重ね転写されたのち、第二の中間転写ドラム１１１上に４色が重ね合わされる。第二の中間転写ドラム１１１上のトナー像は、第二の中間転写ドラム１１１と転写部材１０６との間に印加された電圧により、転写部材１０６から記録材１１２に電荷が移動して帯電した記録材表面に静電的に吸着され、記録材料１１２上に一括転写されたのち、定着装置１０７により、その記録材１１２上に定着される。
また、図４を用いて画像記録装置のもう１つの実施形態を説明する。
この画像記録装置は、ブラック（Ｋ）、イエロー（Ｙ）、マゼンタ（Ｍ）、シアン（Ｃ）の４色に対応して、表面に感光層を有するドラム状の感光体１０１Ｋ，１０１Ｙ，１０１Ｍ，１０１Ｃと、これらの感光体に一定圧力で接触し、感光体との間に、直流電圧あるいは交流に直流電圧を重畳させて印加することにより、感光体表面を均一に帯電させる帯電部材１０２Ｋ，１０２Ｙ，１０２Ｍ，１０２Ｃと、一様に帯電された感光体にそれぞれ像光を照射して静電潜像を形成する像書き込み装置１０４Ｋ，１０４Ｙ，１０４Ｍ，１０４Ｃと、Ｋ，Ｙ，Ｍ，Ｃの各色の現像剤を収容した４台の現像器１０５Ｋ，１０５Ｙ，１０５Ｍ，１０５Ｃと、上記４つの感光体１０１Ｋ，１０１Ｙ，１０１Ｍ，１０１Ｃに接触するベルト形状の中間転写部材１１８と、この中間転写部材１１８上に重ね合わせ転写されたトナー像を、搬送ローラー１０９によって搬送されてきた記録材１１２上に一括転写するためのローラー形状の転写部材１０６と、記録材１１２上のトナー像を定着する定着装置１０７とを備えている。
また、図５を用いて本発明に基づく現像部材を使用した一実施形態である現像装置を説明する。
現像ローラ（現像部材）１１３は、導電性シャフト（支持部材）２０３の周りに形成された半導電性弾性層２０２、この半導電性弾性層２０２上に必要に応じて形成された表面層２０１から構成される。トナー容器１１５に貯蔵されたトナー１１６は、供給ローラ１１４によって確実に現像ローラ１１３の表面に担持され、トナー容器１１５に取付けられた規制ブレードなどの規制部材１１７によって押圧されて接触帯電・摩擦帯電してトナー薄層となる。このトナー薄層が感光体１０１の表面の静電潜像に付着することによって、トナー像が形成される。現像ローラ１１３や供給ローラ１１４、規制ブレード１１７には、これらの表面電位を調整すべく、直流電圧が印加される場合が多い。図には示されていないが、通常現像ローラの両端部からトナーが漏れるのを防ぐために、ローラ両端部および端部側面はフェルトなどを用いてトナーのシールが行なわれている。
前記金属性支持部材２０３は、ステンレス鋼、鉄にメッキを施したものまたはアルミニウムのシャフト、円筒形状のアルミニウム素管を機械加工により仕上げたドラム、ステンレス板を円筒形状に曲げて作製しこれらのつなぎ部分をレーザー加工により溶接したシームレスロールとしたものを例としてあげることができる。
前記部材２０３に要求される機能は、半導電性弾性層２０２および表面層２０１を支持し所定の形状を維持することである。旋盤加工・研磨加工などの機械加工および引き抜き加工・絞り加工などの賦形加工により、容易に加工できる導電性材料であれば、その材質や加工方法に制限を受けるものではない。
前記弾性層２０２に要求される主な機能は、支持部材２０３を通じ供給される電荷を表面層２０１に伝達するために必要な導電性、半導電性部材１１０と接触する部材との間に安定した接触領域すなわちニップ領域を形成するのに必要な硬度、および軸方向全体に均一なニップ幅を形成するために必要な外径均一性である。
前記半導電性部材の抵抗は、２３℃、相対湿度５５％の環境下において、１０００Ｖの直流電圧を印加して測定した場合、１０^５Ω〜１０^９Ωであることが必要である。１０^５Ωより小さいと、接触する部材との間に過剰な電流が流れ、各種の画像欠陥の原因となり、１０^９Ωより大きいと接触する部材との間に流れる電流が少なくなり、接触する部材を充分帯電できず、画像欠陥の原因となる。抵抗の下限は１０^５Ωであるが、１０^６Ωであることがより好ましい。
前記半導電性部材は、抵抗測定時の印加電圧を高くすると抵抗が低下するという性質をもっているが、このような特性は、半導電性部材として用いる場合、電圧の制御が必要であるため好ましくない。このような点から、前記半導電性部材の、２３℃、相対湿度５５％の環境下において、５００Ｖおよび１０００Ｖの直流電圧を印加して測定を行った部材の抵抗をそれぞれＲ_５００およびＲ_１０００としたときのＲ_５００／Ｒ_１０００の値を０．８〜１．２とすることが必要である。Ｒ_５００／Ｒ_１０００の値が１．２より大きいか、または０．８より小さいと、一定の値の抵抗体とみなすことができないため、電流値を一定にするような特別な制御回路が必要となる。Ｒ_５００／Ｒ_１０００の下限は０．９、上限は１．１であることが好ましい。
さらに、電子写真装置が使用される種々の環境において均一な画像品質を得るためには、通常使用される温度湿度の下限である、１５℃、相対湿度１０％の環境下での部材の抵抗Ｒ_ＬＬと、同じく上限である、３２．５℃、相対湿度８５％の環境下での部材の抵抗Ｒ_ＨＨの比Ｒ_ＬＬ／Ｒ_ＨＨが１０以下であれば、一定の抵抗体として特殊な制御機構を用いず使用できる。さらに、Ｒ_ＬＬ／Ｒ_ＨＨが５以下であれば、カラープリンターなどのとくに高品質な画像を要求される用途においても特別な制御機構を用いずに使用できるため好ましい。
さらに、前記半導電性部材は、連続通電により部材の抵抗が経時的に変化すると、画像品質が経時的に変化するという性質を有する。この連続使用による画質変化を極めて小さくするためには、通常使用される２３℃、相対湿度５５％の環境下において、部材を回転させながら、通常印加される１０００Ｖの直流電圧を連続１００時間印加したときの部材の抵抗が初期の部材の抵抗の０．５〜２倍であることが好ましい。初期抵抗からの変化が２倍をこえると、初期の画質との差が極めて大きくなり、０．５倍より小さいと同様に、初期の画質との差が極めて大きくなる傾向にある。
前記半導電性部材の抵抗の位置ばらつきは、２３℃、相対湿度５５％の環境下において、１０００Ｖの直流電圧を印加して測定した場合、２０％以下であることが必要である。２０％をこえると、乾式電子写真装置などの画像形成装置の、帯電用、現像用、または転写用などの部材として用いた場合に、画像の品質を低下する要因となる傾向がある。位置ばらつきの上限は２０％であるが、１０％以下であることが好ましい。
さらに、前記部材抵抗の変動を補正するために、静止時の部材抵抗を測定し、この値をもとに実際に動作する際の部材に印加する電圧を制御するなどの制御方法を用いるが、静止時と回転時の部材抵抗が大きく異なると、部材抵抗の変動の補正が困難であるため、回転時と静止時の部材抵抗の違いが少ないことが望まれる。すなわち、通常使用する２３℃、相対湿度５５％の環境下において、同じく通常使用される１０００Ｖの直流電圧を印加して、回転時および静止時に測定したローラ抵抗をそれぞれＲ_{ｒｏｔａｔｅ}およびＲ_{ｓｔａｔｉｃ}としたときのＲ_{ｒｏｔａｔｅ}／Ｒ_{ｓｔａｔｉｃ}の値が０．７〜１．５であることが必要である。この場合、静止時のローラ抵抗をモニターして、部材抵抗の変動を容易に補正できる。Ｒ_{ｒｏｔａｔｅ}／Ｒ_{ｓｔａｔｉｃ}の値の上限は１．５であるが、１．３であることが好ましい。一方、下限は０．７であるが、０．９であることが好ましい。Ｒ_{ｒｏｔａｔｅ}／Ｒ_{ｓｔａｔｉｃ}の値が０．７より小さい、あるいは１．５をこえると静止時の抵抗値のモニターによる部材抵抗の変動の補正が正確ではなくなる傾向があり、部材抵抗の変動を補正するために複雑な機構が必要となる場合がある。
近年、電子写真装置の高画質化、高機能化に対する要求はますます厳しくなっており、そのため、半導電性部材がより広い電圧範囲での使用が望まれている。そのような用途で使用する場合、特に前記半導電性部材の、２３℃、相対湿度５５％の環境下において、１００Ｖおよび１０００Ｖの直流電圧を印加して測定を行った部材の抵抗をそれぞれＲ_１００およびＲ_１０００としたときのＲ_１００／Ｒ_１０００の値を０．１〜１０とすることが好ましい。とくに、Ｒ_１００／Ｒ_１０００が０．５〜２の場合には、特別な制御を必要としないため、より好ましい。Ｒ_１００／Ｒ_１０００の値が０．１より小さい、あるいは１０をこえると一定の値の抵抗体とはみなせなくなる傾向にあり、電流値を一定にするための特別な制御回路が必要となる場合がある。
また、前記半導電性弾性層２０２の外周面上に表面層２０１を形成して得られる半導電性部材の外径寸法精度が悪いと、前記ニップ幅が安定しないため、転写した画像を大きく劣化させる。このため、部材の外形の振れを好ましくは１００μｍ以下、より好ましくは６０μｍ以下にすることが好ましい。この点、前記半導電性組成物を用い、上記成型法で作製した半導電性部材１１０は、研磨などの後加工を行わなくてもこのような高い外径寸法精度の成形体が容易に得られるという特徴を持つ点でとくに好ましい。なお、ここで、前記部材の外径の振れとは、部材の半径の変動量を意味し、通常は、部材から離れた位置に設定した基準点と部材の外周面との距離を、部材を回転しながら測定し、その最大値と最小値より求める。
本発明における半導電性部材１１０の製造方法は，特に限定されず、従来公知の各種部材の成形方法を用いることができる。例えば、中心にＳＵＳ製などの金属支持部材２０３を設置した金型に、半導電性組成物を押出成形、プレス成形、射出成形、反応射出成形（ＲＩＭ）、液状射出成形（ＬＩＭ）、注型成形などの各種成形法により成形し、適切な温度および時間で加熱硬化させて金属支持部材２０３のまわりに半導電性弾性層２０２を成形する。ここで、本発明における半導電性部材の製造方法としては、弾性層を形成するための半導電性組成物が液状であることから、生産性、加工性の点で液状射出成形が好ましい。この場合、半導電性組成物は、半硬化させた後に、別途後硬化させるプロセスを設けて完全硬化させてもよい。さらに必要に応じて、前記半導電性弾性層の外側に単数または複数の層２０１を設けてもよい。
前記弾性層２０２は、前記（Ａ）分子中に１個以上のヒドロシリル化反応可能なアルケニル基を有するオキシアルキレン系重合体、前記（Ｂ）分子中に２個以上のヒドロシリル基を有する化合物、前記（Ｃ）ヒドロシリル化触媒、および前記（Ｅ）非イオン界面活性剤を含む導電性硬化性組成物の硬化物からなることが好ましい。前記組成物は硬化前には低粘度であり、硬化後には低硬度であるので加工性の観点から好ましいものである。
この導電性弾性層２０２の上から、表面層２０１を構成する樹脂をスプレー塗布、ディップ塗布、またはロールコートなどの方法を用いて所定の厚みに塗布し、所定の温度で乾燥、硬化させることにより、本発明の半導電性部材１１０が得られる。
前記表面層２０１の具体的主成分としては、とくに限定はないが、導電特性の観点からは−ＮＨＣＯ−結合を含有し、また環境安定性の観点からはポリカーボネート骨格のような−ＲＯＣＯ_２−の繰り返し単位を有する樹脂を主な組成とする樹脂組成物からなっていればよく、ポリアミドやポリウレタンと、ポリカーボネートとのブレンド樹脂であっても、１分子中に−ＮＨＣＯ−結合と−ＲＯＣＯ_２−の繰り返し単位との両方の単位を有するポリカーボネートウレタンなどであってもよい。
前記ポリカーボネートウレタンとしては、−ＲＯＣＯ_２−骨格の−Ｒ基が、脂環式アルキル基または直鎖アルキル基などであるものが好ましい。これらの中でも、表面層の低硬度と低吸水率とがバランス良く得られるという観点からは、−Ｒ基が直鎖アルキル基であることが望ましい。
また、前記ポリカーボネートウレタンは、ポリカーボネートポリオールとポリイソシアネートとの反応によって得られる化合物である。ポリカーボネートポリオールは、多価アルコールとホスゲン、クロル蟻酸エステル、ジアルキルカーボネートまたはジアリルカーボネートとの縮合によって得られる。多価アルコールとしては、１，６−ヘキサンジオール、１，４−ブタンジオール、１，３−ブタンジオールまたは１，５−ペンタンジオールなどを用いるのが望ましく、ポリカーボネートポリオールの数平均分子量（Ｍｎ）は、約３００〜１５０００の範囲内にあることが望ましい。ポリカーボネートポリオールは、単独で使用されるのが好ましいが、ポリエステルポリオール、ポリエーテルポリオールまたはポリエステル−ポリエーテルポリオールと併用することもできる。
前記のポリカーボネートポリオールと反応するポリイソシアネートとしては、トリレンジイソシアネート（ＴＤＩ）、４，４’−ジオフェニルメタンジイソシアネート（ＭＤＩ）、キシレンジイソシアネート（ＸＤＩ）、ヘキサメチレンジイソシアネート（ＨＤＩ）、水添ＭＤＩ、水添ＴＤＩまたはイソホロンジイソシアネート（ＩＰＤＩ）などが使用される。これらの中でも、入手のし易さやコスト、電気特性、機械特性などの特性などのバランスを考慮すると、水添ＭＤＩもしくはＩＰＤＩを用いるのが好ましい。
一方、前記表面層２０１の主成分として、温度、湿度などの環境の変動による抵抗の変動を小さくするという観点から、アクリル−カルボン酸ビニル系共重合体を主成分とする樹脂組成物を用いることもできる。このアクリル−カルボン酸ビニル共重合体は、アクリル酸エステルモノマー成分、メタアクリル酸エステルモノマー成分およびカルボン酸ビニルモノマー成分の合計量が樹脂成分中に５０重量％以上、好ましくは８０重量％以上含有される共重合体であって、前記カルボン酸ビニルモノマー成分が樹脂成分中に３重量％以上、好ましくは５重量％以上、より好ましくは１０重量％以上含有される共重合体である。
前記アクリル酸エステルモノマー成分としては、重合が良好に進行するという観点から、アクリル酸メチル、アクリル酸エチル、アクリル酸ブチル、またはアクリル酸２−エチルヘキシル、などがあげられる。
また前記メタアクリル酸エステルモノマー成分としては、重合が良好に進行するという観点から、メタアクリル酸メチル、メタアクリル酸エチル、またはメタアクリル酸ブチルなどがあげられる。これらの中でも、入手のし易さの観点からは、メタアクリル酸メチルが好ましい。
そして前記カルボン酸ビニルモノマー成分としては、重合が良好に進行するという観点から、酢酸ビニル、プロピオン酸ビニル、吉草酸ビニル、またはイソ吉草酸ビニルなどがあげられる。これらの中でも、入手のし易さ、トナーを良好にマイナス帯電させるという観点からは、酢酸ビニルを用いることが好ましい。
また、前記表面層２０１には抵抗調整、表面形状の調整あるいは導電性弾性層２０２に対する接着性などの観点から、導電剤、各種フィラーあるいはシランカップリング剤の各種添加剤を必要に応じて添加してもよい。
前記表面層２０１の塗布方法にとくに限定はないが、たとえば前記の樹脂を溶剤に溶かして固形分を５〜１５％にしてスプレーあるいはディッピング塗布する方法が簡便である。この際、表面層溶液の被膜性を改善するために、レベリング剤などの各種添加剤を必要に応じて添加してもよい。
前記表面層２０１の厚さは、用いる材料、組成および用途などにより適切な値に設定するものであり、とくに限定されないが、通常５〜５０μｍが好ましい。５μｍより薄くなると耐磨耗性が低下し、長期間の耐久性が低下する傾向がある。５０μｍより厚いと、前記弾性層２０２との線膨張率の差に起因してしわが発生しやすくなるまたは圧縮歪みが大きくなるなどの問題が発生する傾向がある。
また、前記半導電性弾性層２０２の厚みは、用いる用途などに応じて適時設定されるべきもので、とくに限定されないが、通常１〜１０ｍｍが好ましい。厚みが１ｍｍより薄いと、半導電性弾性層２０２の硬度が低くても充分な接触幅を確保することが困難となる傾向にある。また１０ｍｍをこえると、使用状態でねじれなどの好ましくない変形を起しやすくなり、画像欠陥の原因となり易い傾向にある。
本発明の部材を中間転写ドラムとして用いた画像記録装置においては、前記半導電性弾性層２０２の厚みが３〜８ｍｍで、かつ、ドラムの硬度はアスカーＣ硬度６０度以下であることが好ましい。前記半導電性弾性層２０２の厚さが８ｍｍをこえると周方向速度にムラが生じ、中間転写ドラム１１０上に転写させたトナー画質が乱れる傾向にある。また、３ｍｍより小さいと所望のニップ幅を得ることが困難となる傾向にある。ドラムの硬度は低いほど広いニップ幅を安定して得るためには有効であるが、ドラムの硬度が低くなると圧縮永久歪みが大きくなるなどの問題が生じるため、通常、アスカーＣ硬度で２０度以上が好適に用いられる。
以下に具体的実施例にしたがい本発明の説明を行なう。
実施の形態１
実施例１
（Ａ）アリル末端ポリオキシプロピレン（カネカサイリルＡＣＸ００４−Ｎ、鐘淵化学工業株式会社製）１００ｇに対して、（Ｄ）イオン性導電性付与剤（ＬＶ−７０、旭電化株式会社製）１０ｇを混合し、ついでこの混合物に（Ｂ）ポリオルガノハイドロジェンシロキサン（ＡＣＸ−００４−Ｃ、鐘淵化学工業株式会社製）７ｇ、（Ｃ）ビス（１，３−ジビニル−１，１，３，３−テトラメチルジシロキサン）白金錯体触媒（白金含有率１３．２×１０^−５ｍｍｏｌ／μＬ、キシレン溶液）８８μＬ、および貯蔵安定性改良剤として１−エチル‐１−シクロヘキサノールを０．１ｇ秤取し、均一に混合し、組成物を得た。前記組成物を真空脱泡攪拌装置（シーテック株式会社製）で６０分間脱泡を行ったのち、得られた半導電性組成物をフッ素樹脂シートを敷いたアルミの金属枠に充填し、１４０℃、１５分間加熱の条件でプレス成型し、２ｍｍ厚のシート状硬化物を５枚得た。
得られたシート状半導電性ゴムについて、温度２０℃、相対湿度６０％の環境下に２４時間放置後、体積抵抗率を印加電圧１００Ｖおよび１０００Ｖでの条件で測定した。得られた測定結果について、５枚のシートの１００Ｖ印加での体積抵抗率の平均（Ｒ１００）および１０００Ｖ印加における体積抵抗率の平均（Ｒ１０００）を示し、電圧依存性をＲ_１００とＲ_１０００の比の対数値［ＬＯＧ（Ｒ_１００／Ｒ_１０００）］で評価した。また、５枚のうち、最も抵抗の高かった測定値（Ｒ_ＭＡＸ）および最も抵抗の低かった測定値（Ｒ_ＭＩＮ）の比の対数値［ＬＯＧ（Ｒ_ＭＡＸ／Ｒ_ＭＩＮ）］を算出し、サンプルの抵抗バラツキを評価した。配合表および評価結果を表１に示す。
実施例２
（Ｄ）イオン性導電性付与剤（ＬＶ−７０、旭電化株式会社製）を２ｇ配合したこと以外は、実施例１同様にしてシート状硬化物を作成した。配合表および評価結果を表１に示す。
実施例３
（Ｄ）イオン性導電性付与剤（ＬＶ−７０、旭電化株式会社製）を０．５ｇ配合したこと以外は、実施例１同様にしてシート状硬化物を作成した。配合表および評価結果を表１に示す。
実施例４
（Ｄ）成分としてイオン性導電性付与剤（エレガンＬＤ−２０４、日本油脂株式会社製）を２ｇ配合したこと以外は、実施例１同様にしてシート状硬化物を作成した。配合表および評価結果を表１に示す。
実施例５
（Ｄ）成分としてイオン性導電性付与剤（エレガンＬＤ−２０４、日本油脂株式会社製）を０．５ｇ配合したこと以外は、実施例１同様にしてシート状硬化物を作成した。配合表および評価結果を表１に示す。
比較例１
（Ａ）アリル末端ポリオキシプロピレン（カネカサイリルＡＣＸ００４−Ｎ、鐘淵化学工業株式会社製）１００ｇに対して、導電性付与剤としてカーボンブラック（＃３０３０Ｂ、三菱化学株式会社製）５ｇを加えたものを３本ロールで混練した。ついでこの混合物に（Ｂ）ポリオルガノハイドロジェンシロキサン（ＡＣＸ−００４−Ｃ、鐘淵化学工業株式会社製）７ｇ、（Ｃ）ビス（１，３−ジビニル−１，１，３，３−テトラメチルジシロキサン）白金錯体触媒（白金含有率１３．２×１０^−５ｍｍｏｌ／μＬ、キシレン溶液）８８μＬ、および貯蔵安定性改良剤として１−エチル‐１−シクロヘキサノールを０．１ｇ秤取し、均一に混合し、組成物を得た。前記組成物から実施例１同様にして２ｍｍ厚のシート状硬化物を５枚得た。配合表および評価結果を表１に示す。

以上に示した結果から、本発明の半導電性組成物から得られる半導電性ゴムは、極めて、電気特性のサンプルバラツキが小さく、かつ、電気依存性も小さくなることが明らかであり、電子伝導型導電性付与剤として一般的に用いられるカーボンブラックを用いた場合に比べても、極めてサンプルバラツキや電圧依存性で優位性が見られる。
実施例６
（Ａ）アリル末端ポリオキシプロピレン（カネカサイリルＡＣＸ００４−Ｎ、鐘淵化学工業株式会社製）３００ｇに対して、（Ｄ）イオン性導電性付与剤（エレガンＬＤ−２０４、日本油脂株式会社製）３ｇを混合し、ついでこの混合物に（Ｂ）ポリオルガノハイドロジェンシロキサン（ＡＣＸ−００４−Ｃ、鐘淵化学工業株式会社製）２０ｇ、（Ｃ）ビス（１，３−ジビニル−１，１，３，３−テトラメチルジシロキサン）白金錯体触媒（白金含有率１３．２×１０^−５ｍｍｏｌ／μＬ、キシレン溶液）２１０μＬ、および貯蔵安定性改良剤としてジメチルマレートを１０５μＬ秤取し、均一に混合し、組成物を得た。前記組成物を真空脱泡攪拌装置（シーテック株式会社製）で６０分間脱泡を行ったのち、得られた半導電性組成物をローラ成型用金型に射出圧１ＭＰａで注入し、１４０℃、２０分間加熱の条件で、直径８ｍｍのＳＵＳ製のシャフトのまわりに厚み３ｍｍ、長さ２３０ｍｍの半導電性弾性層を設けた半導電性ローラを５本得た。
得られたローラについて、温度２３℃、相対湿度５５％の環境下で、印加電圧１００Ｖおよび１０００Ｖにおけるローラ抵抗を測定した。得られた測定結果について、５本のローラの１００Ｖ印加でのローラ抵抗の平均（Ｒ１００）および１０００Ｖ印加におけるローラ抵抗の平均（Ｒ１０００）を示し、電圧依存性をＲ_１００とＲ_１０００の比の対数値［ＬＯＧ（Ｒ_１００／Ｒ_１０００）］で評価した。また、５本のうち、最も抵抗の高かった測定値（Ｒ_ＭＡＸ）および最も抵抗の低かった測定値（Ｒ_ＭＩＮ）の比の対数値［ＬＯＧ（Ｒ_ＭＡＸ／Ｒ_ＭＩＮ）］を算出し、サンプルの抵抗バラツキを評価した。配合表および評価結果を表２に示す。
比較例２
（Ａ）アリル末端ポリオキシプロピレン（カネカサイリルＡＣＸ００４−Ｎ、鐘淵化学工業株式会社製）３００ｇに対して、導電性付与剤としてカーボンブラック（ＭＡ２２０、三菱化学株式会社製）２４ｇを加えたものを３本ロールで混練した。ついでこの混合物に（Ｂ）ポリオルガノハイドロジェンシロキサン（ＡＣＸ−００４−Ｃ、鐘淵化学工業株式会社製）２０ｇ、（Ｃ）ビス（１，３−ジビニル−１，１，３，３−テトラメチルジシロキサン）白金錯体触媒（白金含有率１３．２×１０^−５ｍｍｏｌ／μＬ、キシレン溶液）２１０μＬ、および貯蔵安定性改良剤としてジメチルマレートを１０５μＬ秤取し、均一に混合し、組成物を得た。前記組成物から実施例６同様にして半導電性ローラを５本得た。配合表および評価結果を表２に示す。

以上に示した結果から、本発明の半導電性部材は、極めて、電気特性のサンプルバラツキが小さく、かつ、電気依存性も小さくなることが明らかであり、電子伝導型導電性付与剤として一般的に用いられるカーボンブラックを用いた場合に比べても、極めてサンプルバラツキや電圧依存性で優位性が見られる。
実施の形態２
実施例７
（Ｅ）成分としてポリオキシエチレンアルケニルエーテル（ノニオンＥ２０５Ｓ、日本油脂株式会社製）１０ｇを混合したこと以外は、実施例１同様にしてシート状硬化物を作成した。配合表および評価結果を表３に示す。
実施例８
（Ｅ）成分としてポリオキシエチレンアルケニルエーテル（ノニオンＥ２０５Ｓ、日本油脂株式会社製）を２ｇ配合したこと以外は、実施例１同様にしてシート状硬化物を作成した。配合表および評価結果を表３に示す。
実施例９
（Ｅ）成分としてポリオキシエチレンアルキルエーテル（ユニオックスＭＭ５００、日本油脂株式会社製）５ｇ配合したこと以外は、実施例１同様にしてシート状硬化物を作成した。配合表および評価結果を表３に示す。

以上に示した結果から、本発明の半導電性組成物から得られる半導電性ゴムは、極めて、電気特性のサンプルバラツキが小さく、かつ、電気依存性も小さくなることが明らかであり、電子伝導型導電性付与剤として一般的に用いられるカーボンブラックを用いた場合に比べても、極めてサンプルバラツキや電圧依存性で優位性が見られる。
実施例１０
（Ｅ）成分として、ポリオキシエチレンアルケニルエーテル（ノニオンＥ２０５Ｓ、日本油脂株式会社製）１５ｇを混合したこと以外は、実施例６同様にして半導電性ローラを５本得た。配合表および評価結果を表４に示す。
比較例３
導電性付与剤としてカーボンブラック（ＭＡ２２０、三菱化学株式会社製）１５ｇを加えたこと以外は、比較例２同様にして半導電性ローラを５本得た。配合表および評価結果を表４に示す。

以上に示した結果から、本発明の半導電性部材は、極めて、電気特性のサンプルバラツキが小さく、かつ、電気依存性も小さくなることが明らかであり、電子伝導型導電性付与剤として一般的に用いられるカーボンブラックを用いた場合に比べても、極めてサンプルバラツキや電圧依存性で優位性が見られる。
実施の形態３
実施例１１
（Ａ）成分であるＡＣＸ００４−Ｎ（鐘淵化学工業製）３００ｇに対して、（Ｅ）成分としてポリオキシエチレンアリルメチルエーテル（ユニルーブＰＫＡ−５００７、日本油脂製、分子量４００）３０ｇを混合し、ついで、この混合物に（Ｂ）成分として下に構造を示す化合物Ｂを２１ｇ、

（Ｃ）成分として、ビス（１，３−ジビニル−１，１，３，３−テトラメチルジシロキサン）白金錯体触媒（白金含有量３ｗｔ％、キシレン溶液）を２１０μＬ、そして貯蔵安定性改良剤として、ジメチルマレートを１０５μＬ秤取し、均一混合し、組成物を得た。前記組成物から実施例６同様にして半導電性ローラを５本得た。配合表および評価結果を表５に示す。
実施例１２
（Ｅ）成分としてユニルーブＰＫＡ５００７を１０５ｇ、（Ｂ）成分として化合物Ｂを４８ｇ用いたこと以外は、実施例１１同様にして半導電性ローラを５本得た。配合表および評価結果を表５に示す。
実施例１３
（Ｅ）成分としてポリオキシエチレン−オキシプロピレン共重合体アリルブチルエーテル（ユニセーフＰＫＡ５０１５、日本油脂製、分子量１６００、主鎖におけるオキシエチレン単位の含有量７５％）を１０５ｇ、（Ｂ）成分として化合物Ｂを２０ｇ用いたこと以外は、実施例１１同様にして半導電性ローラを５本得た。配合表および評価結果を表５に示す。
実施例１４
さらに過塩素酸リチウムを０．５ｇ添加したこと以外は、実施例１３同様にして半導電性ローラを５本得た。配合表および評価結果を表５に示す。
実施例１５
実施例１１記載の処方について、（Ｅ）成分としてポリオキシエチレンアルケニルエーテル（ノニオンＥ２０５Ｓ、日本油脂株式会社製）を３０ｇ、（Ｂ）成分として化合物Ｂを１２ｇ用いたこと以外は、実施例１１同様にして半導電性ローラを５本得た。配合表および評価結果を表５に示す。
比較例４
（Ａ）アリル末端ポリオキシプロピレン（カネカサイリルＡＣＸ００４−Ｎ、鐘淵化学工業株式会社製）３００ｇに対して、導電性付与剤としてカーボンブラック（ＭＡ２２０、三菱化学株式会社製）１５ｇを加えたものを３本ロールで混練した。ついでこの混合物に（Ｂ）化合物Ｂ１２ｇ、（Ｃ）ビス（１，３−ジビニル−１，１，３，３−テトラメチルジシロキサン）白金錯体触媒（白金含有率３ｗｔ％、キシレン溶液）２１０μＬ、および貯蔵安定性改良剤としてジメチルマレートを１０５μＬ秤取し、均一に混合し、組成物を得た。前記組成物から実施例１１同様にして半導電性ローラを５本得た。配合表および評価結果を表５に示す。

以上に示した結果から、本発明の半導電性部材は、極めて、電気特性のサンプルバラツキが小さく、かつ、電気依存性も小さくなることが明らかであり、電子伝導型導電性付与剤として一般的に用いられるカーボンブラックを用いた場合に比べても、極めてサンプルバラツキや電圧依存性で優位性が見られる。また、（Ｅ）成分としてアルケニル基含有ポリオキシエチレン系重合体とすると、化学結合を介して、架橋構造内に取りこみ、ブリードのリスクをより低減することができた。
実施の形態４
これらの実施例および比較例の半導電性ローラは長さ２４８ｍｍ、外径１６ｍｍのステンレスシャフトの表面にプライマー処理を施したものを支持部材とした。
実施例１６
（Ａ）アリル末端ポリオキシプロピレン（カネカサイリルＡＣＸ００４−Ｎ、鐘淵化学工業株式会社製）１００重量部に対して、（Ｂ）ポリオルガノハイドロジェンシロキサン（ＡＣＸ−００４−Ｃ、鐘淵化学工業株式会社製）６．６重量部、（Ｃ）ビス（１，３−ジビニル−１，１，３，３−テトラメチルジシロキサン）白金錯体触媒（白金含有率３ｗｔ％、キシレン溶液）０．０６重量部、および（Ｅ）非イオン界面活性剤（ノニオンＥ２０５Ｓ、日本油脂株式会社製）３重量部を混合し、減圧（１０ｍｍＨｇ以下、１２０分間）脱泡した。
前記シャフトを設置した金型内に得られた組成物を注入したのち、金型ごと１４０℃で３０分間加熱し、組成物を硬化させることにより、シャフトの外周上に厚さ約５ｍｍの半導電性弾性層を形成した。半導電性弾性層は、２１℃、相対湿度６０％の条件下で、アスカーＣ硬度が４０度であった。
つぎに半導電性弾性層の表面に、ポリエーテルウレタン（Ｙ２５８、大日精化工業株式会社製）をメチルエチルケトン／ジメチルホルムアミド＝１／１で固形分５％になるよう希釈した溶液に導電剤としてカーボンブラック（ＭＡ２２０、三菱化学株式会社製）を樹脂固形分に対して１０重量部分散した溶液を作製し、半導電性弾性層の表面にスプレーにより塗布乾燥（１６０℃、３０分）し、半導電性弾性層の外周面上に１０μｍの表面層を形成し、半導電性ローラを作製した。
以上のようにして作製した半導電性ローラを２３℃、相対湿度５５％の環境下に２４時間放置後、この環境下で以下の測定を行った。このローラの印加電圧による抵抗変化を調べるため、ローラをアルミニウム板上にのせ１Ｋｇの荷重下（すなわちローラ全体に１ｋｇの荷重をかけた状態）で、アルミニウム板とシャフト間に１００Ｖ、５００Ｖおよび１０００Ｖの直流電圧を印加しＲ_５００およびＲ_１０００の測定を行った。測定はローラを９０度づつ回転しながら４度行ないその平均値をローラ抵抗とした。その結果Ｒ_５００は１．５×１０^８Ω、Ｒ_１０００は１．４×１０^８Ωであり、Ｒ_５００／Ｒ_１０００は１．０７であった。
また、ローラの抵抗の環境依存性を測定するため、ローラを▲１▼１５℃、相対湿度１０％（ＬＬ）の環境下および▲２▼３２．５℃、相対湿度８５％（ＨＨ）の環境下にそれぞれ２４時間放置後、引き続き▲１▼、▲２▼それぞれの環境下でローラをアルミニウム板上にのせ、１Ｋｇの荷重下で、アルミニウム板とシャフト間に１０００Ｖの直流電圧を印加しながらローラの抵抗Ｒ_ＬＬおよびＲ_ＨＨを測定した。その結果Ｒ_ＬＬおよびＲ_ＨＨは２．０×１０^８Ω（Ｒ_ＬＬ）および７．０×１０^７Ω（Ｒ_ＨＨ）であり、Ｒ_ＬＬ／Ｒ_ＨＨは２．９であった。
つぎにこのローラを直径３０ｍｍのステンレス製パイプに１Ｋｇの荷重で押しつけ、ローラを毎分３０回転の速度で回転させながら、１０００Ｖの直流電圧を１００時間印加したのち、ローラをアルミニウム板上にのせ１Ｋｇの荷重下で、アルミニウム板とシャフト間に１０００Ｖの直流電圧を印加し、再びＲ_１０００を測定したところ、２．２×１０^８Ωであり、電圧連続印加前の１．５７倍であった。
また、ローラの抵抗の位置ばらつきを測定するため、図７に示した２０ｍｍ幅のアルミニウム製の電極板３０２を電気絶縁体３０１上に２０ｍｍ間隔で５本配置した測定電極上にのせ、１Ｋｇの荷重下で、各アルミニウム電極とシャフト間に１０００Ｖの電圧を印加することにより各位置の抵抗を測定した。測定は軸方向に５点の測定を周方向に９０度づつ回転しながら４カ所の計２０点で行ない、次式から抵抗の位置ばらつきを求めたところ、１２％であった。
抵抗の位置ばらつき＝（抵抗の最大値−抵抗の最小値）×１００／（（抵抗の最大値＋抵抗の最小値）×２）（％）
また、回転時のローラ抵抗Ｒ_{ｒｏｔａｔｅ}を、ローラを外径３０ｍｍのステンレス製パイプに１ｋｇの荷重で押しつけ、ローラを１分間に３０回転の速度で回転させながら、１０００Ｖの直流電圧を印加することにより測定した。前記条件で１０回／秒のサンプリングを３０秒間行ない、その平均値を計算した結果、回転時のローラ抵抗は１．２５×１０^８Ωであった。前記Ｒ_１０００を静止時の抵抗Ｒ_{ｓｔａｔｉｃ}とし、Ｒ_{ｒｏｔａｔｅ}／Ｒ_{ｓｔａｔｉｃ}を計算すると０．８９であった。
実施例１７
（Ｅ）成分として非イオン界面活性剤（ユニオックスＭＭ５００、日本油脂株式会社製）５重量部を用いたこと以外は実施例１６同様にして半導電性弾性層を形成した。前記弾性層は、２１℃、相対湿度６０％の条件下で、アスカーＣ硬度が４０度であった。
つぎに実施例１６同様にして前記半導電性弾性層の外周面上に１０μｍの表面層を形成し、半導電性ローラを作製した。
作製した半導電性ローラを２３℃、相対湿度５５％の環境下に２４時間放置後、実施例１６同様にして評価を行った。
その結果、Ｒ_５００は１．０×１０^８Ω、Ｒ_１０００は９．５×１０^７Ω、Ｒ_５００／Ｒ_１０００は１．０５であった。また、ローラの抵抗のＲ_ＬＬおよびＲ_ＨＨは、２．０×１０^８Ω（Ｒ_ＬＬ）および６．０×１０^７Ω（Ｒ_ＨＨ）であり、Ｒ_ＬＬ／Ｒ_ＨＨは３．３であった。
さらに１００時間電圧連続印加後のＲ_１０００は、１．５×１０^８Ωとなり、電圧連続印加前の１．５８倍になった。
また、抵抗の位置ばらつきは５．５％であった。
さらに、Ｒ_{ｒｏｔａｔｅ}は８．５×１０^７Ω、実施例１６と同様にＲ_１０００をＲ_{ｓｔａｔｉｃ}とし、Ｒ_{ｒｏｔａｔｅ}／Ｒ_{ｓｔａｔｉｃ}を計算したところ、０．８９であった。
比較例５
（Ｅ）成分の代わりに導電剤としてカーボンブラック（ＭＡ２２０、三菱化学株式会社製）５重量部を用いたこと以外は実施例１６同様にして半導電性弾性層を形成した。前記弾性層は、２１℃、相対湿度６０％の条件下で、アスカーＣ硬度が４０度であった。
つぎに実施例１６同様にして前記半導電性弾性層の外周面上に１０μｍの表面層を形成し、半導電性ローラを作製した。
作製した半導電性ローラを２３℃、相対湿度５５％の環境下に２４時間放置後、実施例１６同様にして評価を行った。
その結果、Ｒ_５００は３．５×１０^７Ω、Ｒ_１０００は２．０×１０^７Ω、Ｒ_５００／Ｒ_１０００は１．７５であった。また、ローラの抵抗のＲ_ＬＬおよびＲ_ＨＨは２．０×１０^８Ω（Ｒ_ＬＬ）および１．０×１０^７Ω（Ｒ_ＨＨ）であり、Ｒ_ＬＬ／Ｒ_ＨＨは２０であった。
さらに１００時間電圧連続印加後のＲ_１０００は、４．５×１０^７Ωに変化し、電圧連続印加前の２．２５倍となった。
また、抵抗の位置ばらつきは５５％であった。
さらに、Ｒ_{ｒｏｔａｔｅ}は４．５×１０^７Ω、実施例１６と同様にＲ_１０００をＲ_{ｓｔａｔｉｃ}とし、Ｒ_{ｒｏｔａｔｅ}／Ｒ_{ｓｔａｔｉｃ}を計算したところ、２．２５であった。
実施の形態５
これらの実施例および比較例の転写部材は長さ２４８ｍｍ、外径１６ｍｍのステンレスシャフトの表面にプライマー処理を施したものを支持部材とし、ローラ形状に成型した転写ローラを全て転写部材とした。
実施例１８
実施例１６同様にして、ステンレスシャフトの外周上に半導電性弾性層を形成した。前記弾性層は、２１℃、相対湿度６０％の条件下で、アスカーＣ硬度が４０度であった。
ついで、実施例１６同様にして転写ローラを作製した。
作製した転写ローラを２３℃、相対湿度５５％の環境下に２４時間放置後、実施例１６同様にして評価を行った。
その結果、Ｒ_５００は１．５×１０^８Ω、Ｒ_１０００は１．４×１０^８Ω、Ｒ_５００／Ｒ_１０００は１．０７であった。
また、Ｒ_ＬＬよびＲ_ＨＨは２．０×１０^８Ω（Ｒ_ＬＬ）および７．０×１０^７Ω（Ｒ_ＨＨ）であり、Ｒ_ＬＬ／Ｒ_ＨＨは２．９であった。
さらに、１００時間電圧連続印加後のＲ_１０００は２．２×１０^８Ωであり、電圧連続印加前の１．５７倍であった。
実施例１９
実施例１７同様にして、ステンレスシャフトの外周上に半導電性弾性層を形成した。前記弾性層は、２１℃、相対湿度６０％の条件下で、アスカーＣ硬度が４０度であった。
ついで、転写ローラを実施例１７同様にして作製した。
作製した転写ローラを２３℃、相対湿度５５％の環境下に２４時間放置後、実施例１６同様にして評価を行った。
その結果、Ｒ_５００は１．０×１０^８Ω、Ｒ_１０００は９．５×１０^７Ω、Ｒ_５００／Ｒ_１０００は１．０５であった。また、ローラの抵抗のＲ_ＬＬおよびＲ_ＨＨは２．０×１０^８Ω（Ｒ_ＬＬ）および６．０×１０^７Ω（Ｒ_ＨＨ）であり、Ｒ_ＬＬ／Ｒ_ＨＨは３．３であった。
さらに１００時間電圧連続印加後のＲ_１０００は、１．５×１０^８Ωとなり、電圧連続印加前の１．５８倍になった。
比較例６
比較例５同様にして、ステンレスシャフトの外周上に半導電性弾性層を形成した。前記弾性層は、２１℃、相対湿度６０％の条件下で、アスカーＣ硬度が４０度であった。
ついで、転写ローラを比較例５同様にして作製した。
作製した転写ローラを２３℃、相対湿度５５％の環境下に２４時間放置後、実施例１６同様にして評価を行った。
その結果、Ｒ_５００は３．５×１０^７Ω、Ｒ_１０００は２．０×１０^７Ω、Ｒ_５００／Ｒ_１０００は１．７５であった。また、ローラの抵抗のＲ_ＬＬおよびＲ_ＨＨは２．０×１０^８Ω（Ｒ_ＬＬ）および１．０×１０^７Ω（Ｒ_ＨＨ）であり、Ｒ_ＬＬ／Ｒ_ＨＨは２０であった。
さらに１００時間電圧連続印加後のＲ_１０００は、４．５×１０^７Ωに変化し、電圧連続印加前の２．２５倍となった。
つぎに、実施の形態５における実施例および比較例に示された転写ローラの転写特性（残留トナー量と転写ムラおよび画像の中抜け）を中間転写タイプのレーザービームプリンター（図２に記載の装置）を用い、平均粒径６μｍのシアン（Ｃ）、マゼンダ（Ｍ）、イエロー（Ｙ）、ブラック（Ｋ）の４色の球形トナーを用いて、各種環境下で画像出力し、評価した。
中間転写ローラ上の転写画像を、作製した転写ローラを用いて紙に二次転写した。前記二次転写において、中間転写ローラと紙の後ろに配置した転写ロールとの転写電圧は１０００Ｖ、ローラ周速は１００ｍｍ／秒とした。また、転写ロールと中間転写体ロールの接触圧は、導電性バックアップロールの両端にスプリング機構を用い線圧を１５０ｇ／ｃｍとし、線画、ハーフトーン画像、文字画像を出力、画像評価し転写特性を評価した。また、前記評価をＣ、Ｍ、Ｙ、Ｋ各４色のトナーで行い、トナー間の画質の比較を行った。その結果、前記実施例１８および１９に従って作製した転写ローラを用いた実施例では、線画、ハーフトーン画像ともに良好な画質が得られ、４色のトナー間の差も見られなかった。また、転写ローラは低温低湿下および高温高湿下において、同一の転写電圧で転写を行っても画質に大きな差が見られなかった。
しかし、比較例６の転写ローラは、低温低湿環境下では、低濃度ハーフトーン画像にかすれが見られたため、転写電圧を１５００Ｖにあげて転写を行ったところ、ハーフトーン画像のかすれは低減されたが、４色で低減の度合いに差が見られた。また、ローラの軸方向の濃度バラツキも見られた。
実施の形態６
これらの実施例および比較例の帯電部材は長さ２４８ｍｍ、外径１６ｍｍのステンレスシャフトの表面にプライマー処理を施したものを支持部材とし、ローラ形状に成型した帯電ローラを全て帯電部材とした。
実施例２０
実施例１６同様にして、ステンレスシャフトの外周上に半導電性弾性層を形成した。前記弾性層は、２１℃、相対湿度６０％の条件下で、アスカーＣ硬度が４０度であった。
ついで、実施例１６同様にして帯電ローラを作製した。
作製した帯電ローラを２３℃、相対湿度５５％の環境下に２４時間放置後、実施例１６同様にして評価を行った。
その結果、Ｒ_５００は１．５×１０^８Ω、Ｒ_１０００は１．４×１０^８Ω、Ｒ_５００／Ｒ_１０００は１．０７であった。
また、Ｒ_ＬＬおよびＲ_ＨＨは２．０×１０^８Ω（Ｒ_ＬＬ）および７．０×１０^７Ω（Ｒ_ＨＨ）であり、Ｒ_ＬＬ／Ｒ_ＨＨは２．９であった。
さらに１００時間電圧連続印加後のＲ_１０００は２．２×１０^８Ωであり、電圧連続印加前の１．５７倍であった。
実施例２１
実施例１７同様にして、ステンレスシャフトの外周上に半導電性弾性層を形成した。前記弾性層は、２１℃、相対湿度６０％の条件下で、アスカーＣ硬度が４０度であった。
ついで、帯電ローラを実施例１７同様にして作製した。
作製した帯電ローラを２３℃、相対湿度５５％の環境下に２４時間放置後、実施例１６同様にして評価を行った。
その結果、Ｒ_５００は１．０×１０^８Ω、Ｒ_１０００は９．５×１０^７Ω、Ｒ_５００／Ｒ_１０００は１．０５であった。また、ローラの抵抗のＲ_ＬＬおよびＲ_ＨＨは２．０×１０^８Ω（Ｒ_ＬＬ）および６．０×１０^７Ω（Ｒ_ＨＨ）であり、Ｒ_ＬＬ／Ｒ_ＨＨは３．３であった。
さらに１００時間電圧連続印加後のＲ_１０００は、１．５×１０^８Ωとなり、電圧連続印加前の１．５８倍になった。
比較例７
比較例５同様にして、ステンレスシャフトの外周上に半導電性弾性層を形成した。前記弾性層は、２１℃、相対湿度６０％の条件下で、アスカーＣ硬度が４０度であった。
ついで、帯電ローラを比較例５同様にして作製した。
作製した帯電ローラを２３℃、相対湿度５５％の環境下に２４時間放置後、実施例１６同様にして評価を行った。
その結果、Ｒ_５００は３．５×１０^７Ω、Ｒ_１０００は２．０×１０^７Ω、Ｒ_５００／Ｒ_１０００は１．７５であった。また、ローラの抵抗のＲ_ＬＬおよびＲ_ＨＨは２．０×１０^８Ω（Ｒ_ＬＬ）および１．０×１０^７Ω（Ｒ_ＨＨ）であり、Ｒ_ＬＬ／Ｒ_ＨＨは２０であった。
さらに１００時間電圧連続印加後のＲ_１０００は、４．５×１０^７Ωに変化し、電圧連続印加前の２．２５倍となった。
つぎに、実施の形態６における実施例および比較例に示された帯電ローラを図２に記載のレーザービームプリンタの帯電ローラとして取りつけた。ＬＬ（１５℃、１０％Ｒｈ）、ＮＮ（２３℃、５５％Ｒｈ）、ＨＨ（３２．５℃、８５％Ｒｈ）の各種環境下でハーフトーン画像をＣ、Ｍ、Ｙ、Ｋ各４色のトナーで出力しハーフトーンのかすれ、色むらなどの画質の比較を行うことで、帯電特性の評価を行った。その結果、前記実施例２０および２１に従って作製した帯電ローラを用いた場合、ハーフトーン画像のかすれ、色むらなどは見られなかった。また、帯電ローラは低温低湿下および高温高湿下において、同一の条件で転写が可能で、環境によるハーフトーン画像の濃度の違いも見られなかった。
しかし、比較例７の帯電ローラは、低温低湿環境下では、低濃度ハーフトーン画像にかすれが見られたため、転写電圧を１５００Ｖにあげて転写を行ったところ、ハーフトーン画像のかすれは低減されたが、４色で低減の度合いに差が見られた。また、ローラの軸方向の濃度バラツキも見られた。
実施の形態７
これらの実施例および比較例の現像部材は、外径１２ｍｍのステンレスシャフトの表面にプライマー処理を施したものを支持部材とし、ローラ形状に成型した現像ローラを全て現像部材とした。
実施例２２
実施例１６同様にして、ステンレスシャフトの外周上に半導電性弾性層を形成した。前記弾性層は、２１℃、相対湿度６０％の条件下で、アスカーＣ硬度が４０度であった。
ついで、実施例１６同様にして現像ローラを作製した。
作製した現像ローラを２３℃、相対湿度５５％の環境下に２４時間放置後、実施例１６同様にして評価を行った。
その結果、Ｒ_５００は１．５×１０^８Ω、Ｒ_１０００は１．４×１０^８Ω、Ｒ_５００／Ｒ_１０００は１．０７であった。
また、Ｒ_ＬＬおよびＲ_ＨＨは２．０×１０^８Ω（Ｒ_ＬＬ）および７．０×１０^７Ω（Ｒ_ＨＨ）であり、Ｒ_ＬＬ／Ｒ_ＨＨは２．９であった。
さらに、１００時間電圧連続印加後のＲ_１０００は２．２×１０^８Ωであり、電圧連続印加前の１．５７倍であった。
実施例２３
実施例１７同様にして、ステンレスシャフトの外周上に半導電性弾性層を形成した。前記弾性層は、２１℃、相対湿度６０％の条件下で、アスカーＣ硬度が４０度であった。
ついで、現像ローラを実施例１７同様にして作製した。
作製した現像ローラを２３℃、相対湿度５５％の環境下に２４時間放置後、実施例１６同様にして評価を行った。
その結果、Ｒ_５００は１．０×１０^８Ω、Ｒ_１０００は９．５×１０^７Ω、Ｒ_５００／Ｒ_１０００は１．０５であった。また、ローラの抵抗のＲ_ＬＬおよびＲ_ＨＨは２．０×１０^８Ω（Ｒ_ＬＬ）および６．０×１０^７Ω（Ｒ_ＨＨ）であり、Ｒ_ＬＬ／Ｒ_ＨＨは３．３であった。
さらに１００時間電圧連続印加後のＲ_１０００は、１．５×１０^８Ωとなり、電圧連続印加前の１．５８倍になった。
比較例８
比較例５同様にして、ステンレスシャフトの外周上に半導電性弾性層を形成した。前記弾性層は、２１℃、相対湿度６０％の条件下で、アスカーＣ硬度が４０度であった。
ついで、現像ローラを比較例５同様にして作製した。
作製した現像ローラを２３℃、相対湿度５５％の環境下に２４時間放置後、実施例１６同様にして評価を行った。
その結果、Ｒ_５００は３．５×１０^７Ω、Ｒ_１０００は２．０×１０^７Ω、Ｒ_５００／Ｒ_１０００は１．７５であった。また、ローラの抵抗のＲ_ＬＬおよびＲ_ＨＨは２．０×１０^８Ω（Ｒ_ＬＬ）および１．０×１０^７Ω（Ｒ_ＨＨ）であり、Ｒ_ＬＬ／Ｒ_ＨＨは２０であった。
さらに１００時間電圧連続印加後のＲ_１０００は、４．５×１０^７Ωに変化し、電圧連続印加前の２．２５倍となった。
つぎに、実施の形態７における実施例および比較例で作製した現像ローラの現像特性を評価するために、図５記載の現像装置の現像ローラとして取り付け、レーザービームプリンタに組込み、画像出力を行った。評価は、ＬＬ（１５℃、１０％Ｒｈ）、ＮＮ（２３℃、５５％Ｒｈ）、ＨＨ（３２．５℃、８５％Ｒｈ）の各種環境下でハーフトーン画像をＣ、Ｍ、Ｙ、Ｋ各４色のトナーで出力し、ハーフトーンのかすれ、色むらなどの画質の比較を行うことで行った。その結果、前記実施例２２および２３に従って作製した現像ローラを用いた場合、ハーフトーン画像のかすれ、色むらなどは見られなかった。また、帯電ローラは低温低湿下および高温高湿下において、同一の条件で転写が可能で、環境によるハーフトーン画像の濃度の違いも見られなかった。
しかし、比較例８の帯電ローラは、高温高湿環境下ではとくに高濃度側のハーフトーン画像濃度が濃くなり、低温低湿環境下では全体に画像が薄くなり、低濃度ハーフトーン画像にかすれが見られた。また、ハーフトーン画像の色むらも実施例で作製した現像ローラを用いた場合と比較すると大きく、良好な画像が得られなかった。
実施の形態８
これらの実施例および比較例の中間転写ドラムは、長さ２４８ｍｍ、外径３２ｍｍ、肉厚２ｍｍのアルミニウムスリーブの表面にプライマー処理を施したものを支持部材とした。
実施例２４
実施例１６同様にして、アルミニウムスリーブの外周上に半導電性弾性層を形成した。前記弾性層は、２１℃、相対湿度６０％の条件下で、アスカーＣ硬度が４０度であった。
ついで、実施例１６同様にして中間転写ドラムを作製した。
作製した中間転写ドラムを２３℃、相対湿度５５％の環境下に２４時間放置後、実施例１６同様にして評価を行った。
その結果、Ｒ_５００は１．５×１０^８Ω、Ｒ_１０００は１．４×１０^８Ω、Ｒ_５００／Ｒ_１０００は１．０７であった。
また、Ｒ_ＬＬおよびＲ_ＨＨは２．０×１０^８Ω（Ｒ_ＬＬ）および７．０×１０^７Ω（Ｒ_ＨＨ）であり、Ｒ_ＬＬ／Ｒ_ＨＨは２．９であった。
さらに、１００時間電圧連続印加後のＲ_１０００は２．２×１０^８Ωであり、電圧連続印加前の１．５７倍であった。
実施例２５
実施例１７同様にして、アルミニウムスリーブの外周上に半導電性弾性層を形成した。前記弾性層は、２１℃、相対湿度６０％の条件下で、アスカーＣ硬度が４０度であった。
ついで、中間転写ドラムを実施例１７同様にして作製した。
作製した中間転写ドラムを２３℃、相対湿度５５％の環境下に２４時間放置後、実施例１６同様にして評価を行った。
その結果、Ｒ_５００は１．０×１０^８Ω、Ｒ_１０００は９．５×１０^７Ω、Ｒ_５００／Ｒ_１０００は１．０５であった。また、ローラの抵抗のＲ_ＬＬおよびＲ_ＨＨは２．０×１０^８Ω（Ｒ_ＬＬ）および６．０×１０^７Ω（Ｒ_ＨＨ）であり、Ｒ_ＬＬ／Ｒ_ＨＨは３．３であった。
さらに１００時間電圧連続印加後のＲ_１０００は、１．５×１０^８Ωとなり、電圧連続印加前の１．５８倍になった。
比較例９
比較例５同様にして、アルミニウムスリーブの外周上に半導電性弾性層を形成した。前記弾性層は、２１℃、相対湿度６０％の条件下で、アスカーＣ硬度が４０度であった。
ついで、中間転写ドラムを比較例５同様にして作製した。
作製した中間転写ドラムを２３℃、相対湿度５５％の環境下に２４時間放置後、実施例１６同様にして評価を行った。
その結果、Ｒ_５００は３．５×１０^７Ω、Ｒ_１０００は２．０×１０^７Ω、Ｒ_５００／Ｒ_１０００は１．７５であった。また、ローラの抵抗のＲ_ＬＬおよびＲ_ＨＨは２．０×１０^８Ω（Ｒ_ＬＬ）および１．０×１０^７Ω（Ｒ_ＨＨ）であり、Ｒ_ＬＬ／Ｒ_ＨＨは２０であった。
さらに１００時間電圧連続印加後のＲ_１０００は、４．５×１０^７Ωに変化し、電圧連続印加前の２．２５倍となった。
つぎに、実施の形態８における実施例および比較例に示された中間転写ドラムの転写特性（残留トナー量と転写ムラおよび画像の中抜け）を評価するため、図３に記載の中間転写タイプのレーザービームプリンターの中間転写ドラムとして取りつけた。平均粒径６μｍのシアン（Ｃ）、マゼンダ（Ｍ）、イエロー（Ｙ）、ブラック（Ｋ）の４色の球形トナーを用いて、各種環境下で画像出力し、評価した。
評価は、ＬＬ（１５℃、１０％Ｒｈ）、ＮＮ（２３℃、５５％Ｒｈ）、ＨＨ（３２．５℃、８５％Ｒｈ）の各種環境下で、線画、ハーフトーン画像、文字画像をＣ、Ｍ、Ｙ、Ｋ各４色のトナーで出力し、画像のかすれ、色むらなどの画質の比較を行うことで行った。その結果、前記実施例２４および２５に従って作製した中間転写ドラムを用いた場合、線画、ハーフトーン画像のともに良好な画質が得られ、４色のトナー間の差も見られなかった。また、ＬＬ環境、ＮＮ環境、ＨＨ環境の各環境による画質の違いも極めて少なく、良好な画質が得られた。
しかし、比較例９の中間転写ドラムは、ハーフトーン画像に色むらが見られ、ＬＬ環境、ＮＮ環境、ＨＨ環境の各環境で色合いに違いが見られた。
実施の形態９
これらの実施例および比較例の半導電性ドラムは、長さ２４８ｍｍ、外径３２ｍｍ、肉厚２ｍｍのアルミニウムパイプ素管の両端近傍を旋盤加工し、この加工部分に回転軸を有するフランジを圧入し、さらに、前記フランジの回転軸を基準とし、アルミニウム素管の表面を旋盤加工と研磨加工により外径公差±０．０１ｍｍ以下、外径の振れ精度を０．０１ｍｍに仕上げたものの表面にプライマー処理を施したものを支持部材（円筒状スリーブ）とした。
実施例２６
実施例１６同様にして、アルミニウムスリーブの外周上に半導電性弾性層を形成した。
つぎに半導電性弾性層の表面に、ポリエーテルウレタン（Ｙ２５８、大日精化工業株式会社製）をメチルエチルケトン／ジメチルホルムアミド＝１／１で固形分５％になるよう希釈した溶液を作製し、半導電性弾性層の表面にスプレーにより塗布乾燥（１６０℃、３０分）し、半導電性弾性層の外周面上に１０μｍの表面層を形成し、半導電性ドラムを作製した。
作製した半導電性ドラムを２３℃、相対湿度５５％の環境下に２４時間放置後、この環境下で以下の測定を行った。
最初に高分子計器株式会社製アスカーＣ型硬度計を用いて、軸方向３点×周方向４点、計１２点の硬度を測定、平均し、アスカーＣ硬度を求めたところ、４５．５度であった。
つぎに、この転写ローラのＲ_１００、Ｒ_５００およびＲ_１０００の測定を実施例１６と同様の方法で行ったところ、Ｒ_１００は１．５×１０^８Ω、Ｒ_５００は１．５×１０^８Ω、Ｒ_１０００は１．４×１０^８Ω、Ｒ_１００／Ｒ_１０００は１．０７、Ｒ_５００／Ｒ_１０００は１．０７であった。
また、Ｒ_ＬＬおよびＲ_ＨＨは２．０×１０^８Ω（Ｒ_ＬＬ）および７．０×１０^７Ω（Ｒ_ＨＨ）であり、Ｒ_ＬＬ／Ｒ_ＨＨは２．９であった。
さらに１００時間電圧連続印加後のＲ_１０００は２．２×１０^８Ωであり、電圧連続印加前の１．５７倍であった。
また、ドラム両端のアルミスリーブが露出した部分をＶブロックに載せ、ドラムを回転させながらキーエンス社製レーザー外径測定器を用いて、軸方向５点で基準位置からドラム端部までの距離の最大値と最小値との差を測定することにより、ドラムの外径の振れを測定した。その結果、振れの最大は５５μｍ、平均は４０μｍであった。
実施例２７
（Ｅ）成分として非イオン界面活性剤（ユニオックスＭＭ５００、日本油脂株式会社製）５重量部を用いたこと以外は実施例２６同様にしてアルミニウムスリーブの外周上に半導電性弾性層、さらにその表面に表面層を形成し、半導電性ドラムを作製した。
作製した半導電性ドラムを２３℃、相対湿度５５％の環境下に２４時間放置後、この環境下で以下の測定を行った。
実施例２６と同様の方法で測定したアスカーＣ硬度は、４６度であった。
つぎに、この中間転写ドラムのＲ_１００、Ｒ_５００およびＲ_１０００の測定を実施例１６と同様の方法で行ったところ、Ｒ_１００は１．０×１０^８Ω、Ｒ_５００は１．０×１０^８Ω、Ｒ_１０００は９．５×１０^７Ω、Ｒ_１００／Ｒ_１０００は１．０５、Ｒ_５００／Ｒ_１０００は１．０５であった。また、ローラの抵抗のＲ_ＬＬおよびＲ_ＨＨは２．０×１０^８Ω（Ｒ_ＬＬ）および６．０×１０^７Ω（Ｒ_ＨＨ）であり、Ｒ_ＬＬ／Ｒ_ＨＨは３．３であった。
さらに１００時間電圧連続印加後のＲ_１０００は、１．５×１０^８Ωとなり、電圧連続印加前の１．５８倍になった。
さらに、実施例２６同様にしてドラムの外径の振れを測定した結果、振れの最大値は６０μｍ、平均は４８μｍであった。
実施例２８
半導電性組成物に含有される導電性付与剤（ＬＶ−７０、旭電化株式会社製）１０重量部を用いたこと以外は、実施例２６同様にしてアルミニウムスリーブの外周上に半導電性弾性層を形成した。
ついで、表面層に含まれる導電剤としてカーボンブラック（３０３０Ｂ、三菱化学株式会社製）を樹脂固形分に対し２０重量部分散した溶液とした以外は、実施例２６同様にして表面層を形成し、半導電性ドラムを作製した。
実施例２６と同様の方法で測定したアスカーＣ硬度は、４６度であった。
つぎに、この中間転写ドラムのＲ_１００、Ｒ_５００およびＲ_１０００の測定を実施例１６と同様の方法で行ったところ、Ｒ_１００は１．６×１０^８Ω、Ｒ_５００は１．５×１０^７Ω、Ｒ_１０００は１．４×１０^７Ω、Ｒ_１００／Ｒ_１０００は１．１４、Ｒ_５００／Ｒ_１０００は１．０７であった。
また、ローラの抵抗のＲ_ＬＬおよびＲ_ＨＨは２．５×１０^７Ω（Ｒ_ＬＬ）および１．０×１０^７Ω（Ｒ_ＨＨ）であり、Ｒ_ＬＬ／Ｒ_ＨＨは２．５であった。
さらに、実施例２６同様にしてドラムの外径の振れを測定した結果、振れの最大値は６０μｍ、平均は４８μｍであった。
比較例１０
導電性カーボンブラック１０重量部、パラフィンオイル２０重量部、酸化亜鉛５重量部、加硫剤２重量部、高級脂肪酸１．５重量部、ニトリルブタジエンゴム（ＮＢＲ）４０重量部、およびＥＰＤＭ６０重量部を、２本ロールにて冷却しながら３０分間混合してコンパウンドを作成した。得られたコンパウンドを５ｍｍ厚のシート状に形成した。このシートを前記円筒状スリーブの外周上に巻きつけ、１６０℃で３０分間加硫処理を行い、半導電性弾性層を形成した。加硫後の外径精度を測定したところ、０．１ｍｍ以上の振れがあったため、振れが１００μｍ以下におさまるよう表面研磨加工を行った。
つぎに、実施例２６と同様にしてその表面に表面層を形成し、半導電性ドラムを作製した。
実施例２６と同様の方法で測定したアスカーＣ硬度は、７０度であった。
つぎに、この中間転写ドラムのＲ_１００、Ｒ_５００およびＲ_１０００の測定を実施例１６と同様の方法で行ったところ、Ｒ_１００は２．０×１０^７Ω、Ｒ_５００は１．０×１０^７Ω、Ｒ_１０００は１．８×１０^６Ω、Ｒ_１００／Ｒ_１０００は１１．１、Ｒ_５００／Ｒ_１０００は５．５６であった。
また、ローラの抵抗のＲ_ＬＬおよびＲ_ＨＨは３．０×１０^６Ω（Ｒ_ＬＬ）および１．０×１０^６Ω（Ｒ_ＨＨ）であり、Ｒ_ＬＬ／Ｒ_ＨＨは３．０であった。
さらに、実施例２６同様にしてドラムの外径の振れを測定した結果、振れの最大値は７５μｍ、平均は６５μｍであった。
つぎに、実施の形態９における実施例および比較例に示された中間転写ドラムの転写特性（残留トナー量と転写ムラおよび画像の中抜け）を、平均粒径６μｍ球形トナーを用いて、各種環境下で評価した。
感光体と中間転写ドラムを５０ｇ／ｃｍの押圧で密着させ、転写電圧４００Ｖでトナー画像を感光体から中間転写体に一次転写し、さらに中間転写ドラム上の転写画像を紙に二次転写し、転写特性を評価した。なお、二次転写において、中間転写ドラムと紙の後ろに配置した導電性バックアップロールとの転写電圧は１０００Ｖ、ドラム周速は１００ｍｍ／秒とした。また、導電性バックアップロールと中間転写ドラムの接触圧は、導電性バックアップロールの両端にスプリング機構を用い線圧を１５０ｇ／ｃｍとした。
この結果、前記実施例による半導電性ドラムを中間転写ドラムとして用いた場合は、密着不良、ヘタリが生じず、転写特性も良好であった。特に、実施例２６〜２８の中間転写ドラムは、低温低湿下および高温高湿下でも同一の条件で転写が可能であった。
しかし、比較例１０の中間転写ドラムは、均一なニップが形成されず、ロール長手方向に転写ムラが生じた。また、高温高湿下では転写電圧を落とす必要があった。さらに、長時間感光体に当接した場合に感光体の汚染が観測された。
産業上の利用可能性
本発明により、容易に半導電性領域に抵抗をコントロール可能であり、得られる半導電性ローラにおける電気特性（ローラ抵抗）のサンプルバラツキおよび電圧依存性が極めて小さく、かつ、ブリードのリスクが低減された半導電性ローラの提供が可能となった。
本発明により、高温高湿環境での抵抗と低温低湿環境での抵抗の変動および抵抗の電圧変動、連続使用による抵抗変化、抵抗の位置ばらつきおよび回転時と静止時の抵抗の差が極めて小さく、転写用部材，現像用部材，帯電用部材，トナー供給用部材などの電子写真用部材として好適に用いられる半導電性部材の提供が可能となった。
特に、本発明に係る転写部材、中間転写部材、帯電部材または現像部材を用いた画像記録装置では、使用される環境による画像品質の変動が極めて少なく、高品質の画像が得られる。
【図面の簡単な説明】
図１は、本発明の半導電性ローラの模式図である。
図２は、画像記録装置の一実施形態である中間転写タイプの電子写真装置の構成図である。
図３は、画像記録装置の別の実施形態を示す構成図である。
図４は、画像記録装置のまた別の実施形態を示す構成図である。
図５は、現像ローラとその周辺構造を示す模式図である。
図６は、本発明の中間転写ドラムの模式図である。
図７は、抵抗の位置ばらつきの測定に用いた測定電極の模式図である。

Claims (21)

1. （Ａ）分子中に１個以上のヒドロシリル化反応可能なアルケニル基を有するオキシアルキレン系重合体、（Ｂ）分子中に２個以上のヒドロシリル基を有する化合物、（Ｃ）ヒドロシリル化触媒、および（Ｄ）イオン性導電性付与剤からなる半導電性組成物。
2. （Ａ）分子中に１個以上のヒドロシリル化反応可能なアルケニル基を有するオキシアルキレン系重合体、（Ｂ）分子中に２個以上のヒドロシリル基を有する化合物、（Ｃ）ヒドロシリル化触媒、および（Ｅ）非イオン性界面活性剤からなる半導電性組成物。
3. 前記オキシアルキレン系重合体（Ａ）が、ヒドロシリル化反応可能なアルケニル基を分子鎖末端に有する請求の範囲第１項または第２項記載の半導電性組成物。
4. 前記ヒドロシリル基を有する化合物（Ｂ）が、ポリオルガノハイドロジェンシロキサンである請求の範囲第１項または第２項記載の半導電性組成物。
5. 前記非イオン性界面活性剤（Ｅ）成分が、ポリオキシエチレン系化合物である請求の範囲第２項記載の半導電性組成物。
6. 請求の範囲第１項または第２項記載の半導電性組成物を硬化させて得られる半導電性ゴム製品。
7. ２０℃、相対湿度６０％の環境下において測定した体積抵抗率が１０^７〜１０^１１Ωｃｍである請求の範囲第６項記載の半導電性ゴム製品。
8. 請求の範囲第１項または第２項記載の半導電性組成物を硬化させて得られる半導電性弾性層を、金属性支持部材のまわりに形成してなる半導電性部材。
9. ２３℃、相対湿度５５％の環境下において、１００Ｖの直流電圧を印加して測定した部材の抵抗が１０^５Ω以上１０^９Ω以下である請求の範囲第８項記載の半導電性部材。
10. 金属支持部材、該支持部材外周面上に形成された半導電性弾性層、さらにその外周面上に形成された１層以上の表面層からなる半導電性部材であって、下記（１）〜（３）の特性を有する半導電性部材。
    （１）２３℃、相対湿度５５％の環境下において、１０００Ｖの直流電圧を印加して測定した部材の抵抗が１０^５Ω以上１０^９Ω以下
    （２）２３℃、相対湿度５５％の環境下において、５００Ｖおよび１０００Ｖの直流電圧を印加して測定を行った部材の抵抗をそれぞれＲ_５００およびＲ_１０００したときのＲ_５００／Ｒ_１０００の値が０．８以上１．２以下
    （３）１５℃、相対湿度１０％の環境下で１０００Ｖの直流電圧を印加して測定した部材の抵抗Ｒ_ＬＬと、３２．５℃、相対湿度８５％の環境下で１０００Ｖの直流電圧を印加して測定した部材の抵抗Ｒ_ＨＨの比Ｒ_ＬＬ／Ｒ_ＨＨが１０以下
11. さらに、２３℃、相対湿度５５％の環境下において、前記半導電性部材を回転させながら、１０００Ｖの直流電圧を連続１００時間印加したときの部材の抵抗が初期の部材の抵抗の０．５倍以上２倍以下である請求の範囲第１０項記載の半導電性部材。
12. さらに、２３℃、相対湿度５５％の環境下において、１０００Ｖの直流電圧を印加して測定した部材の抵抗の位置ばらつきが２０％以下である請求の範囲第１０項記載の半導電性部材。
13. さらに、２３℃、相対湿度５５％の環境下において、１０００Ｖの直流電圧を印加して、回転時および静止時に測定した部材の抵抗をそれぞれＲ_{ｒｏｔａｔｅ}およびＲ_{ｓｔａｔｉｃ}としたとき、Ｒ_{ｒｏｔａｔｅ}／Ｒ_{ｓｔａｔｉｃ}の値が０．７以上１．５以下である請求の範囲第１０項記載の半導電性部材。
14. さらに、アスカーＣ硬度が６０度以下である請求の範囲第１０項記載の半導電性部材。
15. さらに、２３℃、相対湿度５５％の環境下において、１００Ｖおよび１０００Ｖの直流電圧を印加して測定を行った部材の抵抗をそれぞれＲ_１００およびＲ_１０００としたときのＲ_１００／Ｒ_１０００の値が０．１以上１０以下である請求の範囲第１０項記載の半導電性部材。
16. さらに、外径振れが１００μｍ以下である請求の範囲第１０項記載の半導電性部材。
17. 前記半導電性弾性層が（Ａ）分子中に１個以上のヒドロシリル化反応可能なアルケニル基を有するオキシアルキレン系重合体、（Ｂ）分子中に２個以上のヒドロシリル基を有する化合物、（Ｃ）ヒドロシリル化触媒、および（Ｅ）非イオン界面活性剤を含む導電性硬化性組成物の硬化物からなる請求の範囲１０項記載の半導電性部材。
18. 金属支持部材、該支持部材外周面上に形成された半導電性弾性層、さらにその外周面上に形成された１層以上の表面層からなる帯電ローラであって、下記（１）〜（３）の特性を有する帯電ローラ。
    （１）２３℃、相対湿度５５％の環境下において、１０００Ｖの直流電圧を印加して測定したローラ抵抗が１０^５Ω以上１０^９Ω以下
    （２）２３℃、相対湿度５５％の環境下において、５００Ｖおよび１０００Ｖの直流電圧を印加して測定を行ったローラ抵抗をそれぞれＲ_５００およびＲ_１０００としたときのＲ_５００／Ｒ_１０００の値が０．８以上１．２以下
    （３）１５℃、相対湿度１０％の環境下で１０００Ｖの直流電圧を印加して測定したローラ抵抗Ｒ_ＬＬと、３２．５℃、相対湿度８５％の環境下で１０００Ｖの直流電圧を印加して測定したローラ抵抗Ｒ_ＨＨの比Ｒ_ＬＬ／Ｒ_ＨＨが１０以下
19. 金属支持部材、該支持部材外周面上に形成された半導電性弾性層、さらにその外周面上に形成された１層以上の表面層からなる現像ローラであって、下記（１）〜（３）の特性を有する現像ローラ。
    （１）２３℃、相対湿度５５％の環境下において、１０００Ｖの直流電圧を印加して測定したローラ抵抗が１０^５Ω以上１０^９Ω以下
    （２）２３℃、相対湿度５５％の環境下において、５００Ｖおよび１０００Ｖの直流電圧を印加して測定を行ったローラ抵抗をそれぞれＲ_５００およびＲ_１０００としたときのＲ_５００／Ｒ_１０００の値が０．８以上１．２以下
    （３）１５℃、相対湿度１０％の環境下で１０００Ｖの直流電圧を印加して測定したローラ抵抗Ｒ_ＬＬと、３２．５℃、相対湿度８５％の環境下で１０００Ｖの直流電圧を印加して測定したローラ抵抗Ｒ_ＨＨの比Ｒ_ＬＬ／Ｒ_ＨＨが１０以下
20. 金属支持部材、該支持部材外周面上に形成された半導電性弾性層、さらにその外周面上に形成された１層以上の表面層からなる中間転写ローラであって、下記（１）〜（３）の特性を有する中間転写ローラ。
    （１）２３℃、相対湿度５５％の環境下において、１０００Ｖの直流電圧を印加して測定したローラ抵抗が１０^５Ω以上１０^９Ω以下
    （２）２３℃、相対湿度５５％の環境下において、５００Ｖおよび１０００Ｖの直流電圧を印加して測定を行ったローラ抵抗をそれぞれＲ_５００およびＲ_１０００としたときのＲ_５００／Ｒ_１０００の値が０．８以上１．２以下
    （３）１５℃、相対湿度１０％の環境下で１０００Ｖの直流電圧を印加して測定したローラ抵抗Ｒ_ＬＬと、３２．５℃、相対湿度８５％の環境下で１０００Ｖの直流電圧を印加して測定したローラ抵抗Ｒ_ＨＨの比Ｒ_ＬＬ／Ｒ_ＨＨが１０以下
21. 金属支持部材、該支持部材外周面上に形成された半導電性弾性層、さらにその外周面上に形成された１層以上の表面層からなる転写ローラであって、下記（１）〜（３）の特性を有する転写ローラ。
    （１）２３℃、相対湿度５５％の環境下において、１０００Ｖの直流電圧を印加して測定したローラ抵抗が１０^５Ω以上１０^９Ω以下
    （２）２３℃、相対湿度５５％の環境下において、５００Ｖおよび１０００Ｖの直流電圧を印加して測定を行ったローラ抵抗をそれぞれＲ_５００およびＲ_１０００としたときのＲ_５００／Ｒ_１０００の値が０．８以上１．２以下
    （３）１５℃、相対湿度１０％の環境下で１０００Ｖの直流電圧を印加して測定したローラ抵抗Ｒ_ＬＬと、３２．５℃、相対湿度８５％の環境下で１０００Ｖの直流電圧を印加して測定したローラ抵抗Ｒ_ＨＨの比Ｒ_ＬＬ／Ｒ_ＨＨが１０以下

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