JP3484873B2 - 現像ローラ - Google Patents
現像ローラInfo
- Publication number
- JP3484873B2 JP3484873B2 JP10660396A JP10660396A JP3484873B2 JP 3484873 B2 JP3484873 B2 JP 3484873B2 JP 10660396 A JP10660396 A JP 10660396A JP 10660396 A JP10660396 A JP 10660396A JP 3484873 B2 JP3484873 B2 JP 3484873B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- layer
- developing roller
- conductive rubber
- group
- component
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Fee Related
Links
Landscapes
- Dry Development In Electrophotography (AREA)
- Rolls And Other Rotary Bodies (AREA)
- Compositions Of Macromolecular Compounds (AREA)
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、複写機、プリンタ
ーあるいはファクシミリの受信装置など、電子写真方式
を採用した装置に組み込まれる感光体に接触させて使用
される現像ローラに関するものであり、特に、現像ロー
ラの表面層としてＮ−メトキシメチル化ナイロンを使用
してなり、一成分非磁性現像剤を用いた弾性ローラ接触
式現像方法に用いられる現像ローラに関するものであ
る。
ーあるいはファクシミリの受信装置など、電子写真方式
を採用した装置に組み込まれる感光体に接触させて使用
される現像ローラに関するものであり、特に、現像ロー
ラの表面層としてＮ−メトキシメチル化ナイロンを使用
してなり、一成分非磁性現像剤を用いた弾性ローラ接触
式現像方法に用いられる現像ローラに関するものであ
る。
【０００２】
【従来の技術】従来、電子写真機の現像ローラのよう
に、導電性ローラに電圧を印加することによって使用す
るローラ表面の被覆層としては、特公昭５０−１３６６
１号公報に開示されたものに代表されるように、ナイロ
ン系の材料を使用したものが多い。また、特公昭６４−
１０１８号公報、特開昭６４−６６６７４号公報、特開
昭６４−６６６７６号公報等には、最外層にＮ−メトキ
シメチル化ナイロンを使用する技術が開示されている。
しかし、これらの中には、Ｎ−メトキシメチル化ナイロ
ンからなる最外層と、その内側に位置する導電性ゴム層
とのマッチイング、すなわち接着性に関する記載がな
い。最外層がＮ−メトキシメチル化ナイロンで、内層と
のマッチイングに触れた技術としては、特開平２−３１
１８６８号公報、特開平５−３４１６２７公報等に開示
されたもの挙げられる。
に、導電性ローラに電圧を印加することによって使用す
るローラ表面の被覆層としては、特公昭５０−１３６６
１号公報に開示されたものに代表されるように、ナイロ
ン系の材料を使用したものが多い。また、特公昭６４−
１０１８号公報、特開昭６４−６６６７４号公報、特開
昭６４−６６６７６号公報等には、最外層にＮ−メトキ
シメチル化ナイロンを使用する技術が開示されている。
しかし、これらの中には、Ｎ−メトキシメチル化ナイロ
ンからなる最外層と、その内側に位置する導電性ゴム層
とのマッチイング、すなわち接着性に関する記載がな
い。最外層がＮ−メトキシメチル化ナイロンで、内層と
のマッチイングに触れた技術としては、特開平２−３１
１８６８号公報、特開平５−３４１６２７公報等に開示
されたもの挙げられる。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】現像ロ一ラの表面層に
Ｎ−メトキシメチル化ナイロン（有機酸等で自己縮合し
たもの、フイラーを充填したものなども含む）を使用す
ると、現像剤の帯電性、表面の非粘着性、表面層として
の抵抗が良好であるが、良好なニップ幅を得られる程度
に低硬度な導電性ゴム層を用いた場合、その内側に位置
する導電性ゴム層との接着性や、変形追従性に問題が生
じ、現像ローラの耐久性が短くなるという問題がある。
そこで本発明は、Ｎ−メトキシメチル化ナイロンを現像
ローラの表面層として利用する際の前記のような問題点
を解決することを目的とする。
Ｎ−メトキシメチル化ナイロン（有機酸等で自己縮合し
たもの、フイラーを充填したものなども含む）を使用す
ると、現像剤の帯電性、表面の非粘着性、表面層として
の抵抗が良好であるが、良好なニップ幅を得られる程度
に低硬度な導電性ゴム層を用いた場合、その内側に位置
する導電性ゴム層との接着性や、変形追従性に問題が生
じ、現像ローラの耐久性が短くなるという問題がある。
そこで本発明は、Ｎ−メトキシメチル化ナイロンを現像
ローラの表面層として利用する際の前記のような問題点
を解決することを目的とする。
【０００４】
【課題を解決するための手段】本発明は、Ｎ−メトキシ
メチル化ナイロンを現像ローラの表面層として利用する
際の前記のような問題点を解決し、Ｎ−メトキシメチル
化ナイロンを表面保護層とした際に、この表面保護層と
導電性ゴム層との接着性が良好で、耐久性に優れた現像
ローラを提供せんとするものであって、電子写真方式に
よる複写機やプリンターなどが有する感光体に接触させ
て使用する現像ローラであって、電子写真方式による複
写機やプリンターなどが有する感光体に接触させて使用
する現像ローラであって、導電性支持体の外周に、
（Ａ）分子中に少なくとも１個のアルケニル基を有し、
主鎖を構成する繰り返し単位がオキシアルキレン単位で
ある重合体、（Ｂ）分子中に２個以上のヒドロシリル基
を有する硬化剤、（Ｃ）ヒドロシリル化触媒、および、
（Ｄ）導電性付与剤、を主成分とする硬化性組成物から
なる導電性ゴム層が設けられ、その外周にＮ−メトキシ
メチル化ナイロンを主成分とする表面保護層が設けら
れ、前記（Ａ）〜（Ｄ）を主成分とする硬化性組成物か
らなる導電性ゴム層と、Ｎ−メトキシメチル化ナイロン
を主成分とする表面保護層の中間に、カップリング剤層
が設けられた現像ローラ（請求項１）、前記導電性ゴム
層のＪＩＳ Ａ 硬度が５〜４０°の範囲内である現像
ローラ（請求項２）。前記Ｎ−メトキシメチル化ナイロ
ンが自己縮合反応により不溶性となったものである現像
ローラ（請求項３）、前記Ｎ−メトキシメチル化ナイロ
ンが有機酸を触媒として自己縮合させたものである現像
ローラ（請求項４）、前記有機酸がクエン酸である現像
ローラ（請求項５）、前記カップリング剤層が導電性ゴ
ム層中に残ったＳｉＨ基を反応可能なカップリング剤か
らなる層である現像ローラ（請求項６）、前記カップリ
ング剤層がアミノシラン系化合物からなる層である現像
ローラ（請求項７）、を内容とするものである。
メチル化ナイロンを現像ローラの表面層として利用する
際の前記のような問題点を解決し、Ｎ−メトキシメチル
化ナイロンを表面保護層とした際に、この表面保護層と
導電性ゴム層との接着性が良好で、耐久性に優れた現像
ローラを提供せんとするものであって、電子写真方式に
よる複写機やプリンターなどが有する感光体に接触させ
て使用する現像ローラであって、電子写真方式による複
写機やプリンターなどが有する感光体に接触させて使用
する現像ローラであって、導電性支持体の外周に、
（Ａ）分子中に少なくとも１個のアルケニル基を有し、
主鎖を構成する繰り返し単位がオキシアルキレン単位で
ある重合体、（Ｂ）分子中に２個以上のヒドロシリル基
を有する硬化剤、（Ｃ）ヒドロシリル化触媒、および、
（Ｄ）導電性付与剤、を主成分とする硬化性組成物から
なる導電性ゴム層が設けられ、その外周にＮ−メトキシ
メチル化ナイロンを主成分とする表面保護層が設けら
れ、前記（Ａ）〜（Ｄ）を主成分とする硬化性組成物か
らなる導電性ゴム層と、Ｎ−メトキシメチル化ナイロン
を主成分とする表面保護層の中間に、カップリング剤層
が設けられた現像ローラ（請求項１）、前記導電性ゴム
層のＪＩＳ Ａ 硬度が５〜４０°の範囲内である現像
ローラ（請求項２）。前記Ｎ−メトキシメチル化ナイロ
ンが自己縮合反応により不溶性となったものである現像
ローラ（請求項３）、前記Ｎ−メトキシメチル化ナイロ
ンが有機酸を触媒として自己縮合させたものである現像
ローラ（請求項４）、前記有機酸がクエン酸である現像
ローラ（請求項５）、前記カップリング剤層が導電性ゴ
ム層中に残ったＳｉＨ基を反応可能なカップリング剤か
らなる層である現像ローラ（請求項６）、前記カップリ
ング剤層がアミノシラン系化合物からなる層である現像
ローラ（請求項７）、を内容とするものである。
【０００５】
【発明の実施の形態】上記のように、本発明の現像ロー
ラは、表面層としてＮ−メトキシメチル化ナイロンを使
用してなり、一成分非磁性現像剤を用いた弾性ローラ接
触式現像方法に用いられるものである。
ラは、表面層としてＮ−メトキシメチル化ナイロンを使
用してなり、一成分非磁性現像剤を用いた弾性ローラ接
触式現像方法に用いられるものである。
【０００６】本発明の現像ローラ１は、たとえば、図１
に示すように、直径１〜１２ｍｍ程度のＳＵＳ（ステン
レス鋼）やアルミニウムなどの金属製シャフト２のまわ
りに、ＪＩＳ Ａ 硬度で５〜４０°程度、好ましくは
１０〜３０°程度で厚さ１〜１５ｍｍ程度の導電性ゴム
層３を設けた後、１０μｍ〜２００μｍ、好ましくは１
０μｍ〜１００μｍ程度のＮ−メトキシメチル化ナイロ
ンからなる表面層４を設けてなる。この現像ローラのロ
ーラ抵抗は、ＤＣ１００Ｖ印加時に１０4 〜１０8 Ω、
好ましくは１０5 Ω〜１０8 Ω程度のものである。
に示すように、直径１〜１２ｍｍ程度のＳＵＳ（ステン
レス鋼）やアルミニウムなどの金属製シャフト２のまわ
りに、ＪＩＳ Ａ 硬度で５〜４０°程度、好ましくは
１０〜３０°程度で厚さ１〜１５ｍｍ程度の導電性ゴム
層３を設けた後、１０μｍ〜２００μｍ、好ましくは１
０μｍ〜１００μｍ程度のＮ−メトキシメチル化ナイロ
ンからなる表面層４を設けてなる。この現像ローラのロ
ーラ抵抗は、ＤＣ１００Ｖ印加時に１０4 〜１０8 Ω、
好ましくは１０5 Ω〜１０8 Ω程度のものである。
【０００７】前記導電性ゴム層３は、（Ａ）分子中に少
なくとも１個のアルケニル基を有し、主鎖を構成する繰
り返し単位がオキシアルキレン単位である重合体、
（Ｂ）分子中に２個以上のヒドロシリル基を有する硬化
剤、（Ｃ）ヒドロシリル化触媒、および、（Ｄ）導電性
付与剤、を主成分とする硬化性組成物からなる。
なくとも１個のアルケニル基を有し、主鎖を構成する繰
り返し単位がオキシアルキレン単位である重合体、
（Ｂ）分子中に２個以上のヒドロシリル基を有する硬化
剤、（Ｃ）ヒドロシリル化触媒、および、（Ｄ）導電性
付与剤、を主成分とする硬化性組成物からなる。
【０００８】前記硬化性組成物中、（Ａ）成分は、硬化
剤である（Ｂ）成分と反応して硬化し、ゴム弾性を有す
る硬化物となる成分である。
剤である（Ｂ）成分と反応して硬化し、ゴム弾性を有す
る硬化物となる成分である。
【０００９】（Ａ）成分の主鎖を構成する繰返し単位は
オキシアルキレン単位であり、主鎖は、出発物質として
活性水素を２個以上有する化合物、たとえばエチレング
リコール、プロピレングリコール、ビスフェノール系化
合物、グリセリン、トリメチロールプロパン、ペンタエ
リストールなどを用い、Ｃ2 〜Ｃ4 のアルキレンオキシ
ドを重合させることにより製造される。このようにして
製造される、主鎖を構成する重合体の具体例としては、
たとえば、ポリエチレンオキシド、ポリプロピレンオキ
シド、ポリブチレンオキシド、さらには、エチレンオキ
シド、プロピレンオキシド、およびブチレンオキシドか
ら選択される２種以上のランダムまたはブロック共重合
体などが挙げられ、アルケニル基が末端に導入されてい
る方がゴム弾性の点から好ましい。
オキシアルキレン単位であり、主鎖は、出発物質として
活性水素を２個以上有する化合物、たとえばエチレング
リコール、プロピレングリコール、ビスフェノール系化
合物、グリセリン、トリメチロールプロパン、ペンタエ
リストールなどを用い、Ｃ2 〜Ｃ4 のアルキレンオキシ
ドを重合させることにより製造される。このようにして
製造される、主鎖を構成する重合体の具体例としては、
たとえば、ポリエチレンオキシド、ポリプロピレンオキ
シド、ポリブチレンオキシド、さらには、エチレンオキ
シド、プロピレンオキシド、およびブチレンオキシドか
ら選択される２種以上のランダムまたはブロック共重合
体などが挙げられ、アルケニル基が末端に導入されてい
る方がゴム弾性の点から好ましい。
【００１０】分子中に少なくとも１個のアルケニル基を
有し、主鎖を構成する繰り返し単位がオキシアルキレン
単位である重合体（（Ａ）成分）の具体例としては、硬
化物の低硬度化の点から、主鎖の繰り返し単位がオキシ
プロピレン単位のものが好ましく、また、吸水性を必要
とするような場合には、オキシプロピレン単位の一部を
オキシエチレン単位に変更した共重合体が好ましい。
有し、主鎖を構成する繰り返し単位がオキシアルキレン
単位である重合体（（Ａ）成分）の具体例としては、硬
化物の低硬度化の点から、主鎖の繰り返し単位がオキシ
プロピレン単位のものが好ましく、また、吸水性を必要
とするような場合には、オキシプロピレン単位の一部を
オキシエチレン単位に変更した共重合体が好ましい。
【００１１】（Ａ）成分に含まれるアルケニル基の数
は、（Ｂ）成分と反応するという点から少なくとも１つ
必要であるが、２〜６個であるのが好ましい。
は、（Ｂ）成分と反応するという点から少なくとも１つ
必要であるが、２〜６個であるのが好ましい。
【００１２】（Ａ）成分の分子量としては、反応性およ
び低硬度化のバランスの点から、数平均分子量（Ｍｎ）
で５００〜５０，０００、さらには１，０００〜２０，
０００が好ましく、分子末端にアルケニル基が存在する
ものが、低硬度などの点から好ましい。
び低硬度化のバランスの点から、数平均分子量（Ｍｎ）
で５００〜５０，０００、さらには１，０００〜２０，
０００が好ましく、分子末端にアルケニル基が存在する
ものが、低硬度などの点から好ましい。
【００１３】つぎに、硬化性組成物中の（Ｂ）成分であ
る、分子中に２個以上のヒドロシリル基を有する硬化剤
は、前記（Ａ）成分である、分子中に少なくとも１個の
アルケニル基を有し主鎖を構成する繰り返し単位がオキ
シアルキレン単位である重合体の硬化剤として作用する
成分である。
る、分子中に２個以上のヒドロシリル基を有する硬化剤
は、前記（Ａ）成分である、分子中に少なくとも１個の
アルケニル基を有し主鎖を構成する繰り返し単位がオキ
シアルキレン単位である重合体の硬化剤として作用する
成分である。
【００１４】（Ｂ）成分が分子中に少なくとも２個のヒ
ドロシリル基を有するため、それぞれのヒドロシリル基
が（Ａ）成分の分子中に存在するアルケニル基と反応し
て硬化する。前記ヒドロシリル基の数は、好ましくは２
〜５０個、より好ましくは２〜３０個、さらには２〜２
０個、とくには３〜１２個が好ましい。ヒドロシリル基
の個数が２個より少ないと、硬化性組成物をヒドロシリ
ル化反応により硬化させる場合の硬化速度が遅くなり、
硬化不良を起こす場合が多くなる。また、ヒドロシリル
基の個数が５０個より多くなると、（Ｂ）成分である硬
化剤の安定性、ひいては、硬化性組成物の安定性が悪く
なるうえ、硬化後も多量のヒドロシリル基が硬化物中に
残存しやすくなり、ボイドやクラックの原因となりやす
くなる。
ドロシリル基を有するため、それぞれのヒドロシリル基
が（Ａ）成分の分子中に存在するアルケニル基と反応し
て硬化する。前記ヒドロシリル基の数は、好ましくは２
〜５０個、より好ましくは２〜３０個、さらには２〜２
０個、とくには３〜１２個が好ましい。ヒドロシリル基
の個数が２個より少ないと、硬化性組成物をヒドロシリ
ル化反応により硬化させる場合の硬化速度が遅くなり、
硬化不良を起こす場合が多くなる。また、ヒドロシリル
基の個数が５０個より多くなると、（Ｂ）成分である硬
化剤の安定性、ひいては、硬化性組成物の安定性が悪く
なるうえ、硬化後も多量のヒドロシリル基が硬化物中に
残存しやすくなり、ボイドやクラックの原因となりやす
くなる。
【００１５】ここで、ヒドロシリル基を１個有すると
は、通常、ＳｉＨを１個有することをいうが、同じＳｉ
にＨが複数個結合している場合、たとえば、ＳｉＨ2 の
場合には、ヒドロシリル基を２個有するという。このＳ
ｉに結合する複数のＨは、異なるＳｉに結合していて
も、また、同じＳｉに結合していてもよいが、異なるＳ
ｉに結合している方が硬化性がよく、また、ゴム弾性の
点からも好ましい。
は、通常、ＳｉＨを１個有することをいうが、同じＳｉ
にＨが複数個結合している場合、たとえば、ＳｉＨ2 の
場合には、ヒドロシリル基を２個有するという。このＳ
ｉに結合する複数のＨは、異なるＳｉに結合していて
も、また、同じＳｉに結合していてもよいが、異なるＳ
ｉに結合している方が硬化性がよく、また、ゴム弾性の
点からも好ましい。
【００１６】（Ｂ）成分の分子量は、ローラ加工性など
の点から、数平均分子量（Ｍｎ）で３０，０００以下で
あることが好ましく、さらには２０，０００以下、とく
には１５，０００以下が好ましい。（Ａ）成分との反応
性や相溶性まで考慮すると、３００〜１５，０００がよ
り好ましい。
の点から、数平均分子量（Ｍｎ）で３０，０００以下で
あることが好ましく、さらには２０，０００以下、とく
には１５，０００以下が好ましい。（Ａ）成分との反応
性や相溶性まで考慮すると、３００〜１５，０００がよ
り好ましい。
【００１７】前記のごとき（Ｂ）成分の構造について
は、とくに制限はないが、たとえば一般式（１）： Ｒ1 Ｘa （１） （式中、Ｘは少なくとも１個のヒドロシリル基を含む
基、Ｒ1 は炭素数２〜１５０の１〜４価の炭化水素基、
ａは１〜４から選ばれる整数、ただし、Ｘにｌ個のヒド
ロシリル基しか含まれない場合、ａは２以上である）で
示され、数平均分子量が３０，０００以下である、ヒド
ロシリル基を含有する炭化水素系硬化剤が具体例として
挙げられる。
は、とくに制限はないが、たとえば一般式（１）： Ｒ1 Ｘa （１） （式中、Ｘは少なくとも１個のヒドロシリル基を含む
基、Ｒ1 は炭素数２〜１５０の１〜４価の炭化水素基、
ａは１〜４から選ばれる整数、ただし、Ｘにｌ個のヒド
ロシリル基しか含まれない場合、ａは２以上である）で
示され、数平均分子量が３０，０００以下である、ヒド
ロシリル基を含有する炭化水素系硬化剤が具体例として
挙げられる。
【００１８】前記一般式（１）中、Ｘは少なくとも１個
のヒドロキシル基を含む基を表わすが、その具体例とし
ては、たとえば−ＳｉＨn （ＣＨ3)3-n （ただし、ｎ＝
１〜３）、−ＳｉＨn （Ｃ2 Ｈ5 ）3-n （ただし、ｎ＝
１〜３）、−ＳｉＨn （Ｃ6Ｈ5 ）3-n （ただし、ｎ＝
１〜３）、−ＳｉＨ2 （Ｃ6 Ｈ13）などの、ケイ素原子
を１個だけ含有するヒドロキシル基、
のヒドロキシル基を含む基を表わすが、その具体例とし
ては、たとえば−ＳｉＨn （ＣＨ3)3-n （ただし、ｎ＝
１〜３）、−ＳｉＨn （Ｃ2 Ｈ5 ）3-n （ただし、ｎ＝
１〜３）、−ＳｉＨn （Ｃ6Ｈ5 ）3-n （ただし、ｎ＝
１〜３）、−ＳｉＨ2 （Ｃ6 Ｈ13）などの、ケイ素原子
を１個だけ含有するヒドロキシル基、
【００１９】
【化１】
【００２０】などの、ケイ素原子を２個以上含むヒドロ
キシル基、
キシル基、
【００２１】
【化２】
【００２２】
【化３】
【００２３】
【化４】
【００２４】などで示される、鎖状、枝分かれ状、環状
の各種の多価ハイドロジエンシロキサンより誘導された
ヒドロシリル基などがあげられる。なお、式中、ｍ個の
単位とｐ個の単位、ｎ個の単位とｑ個の単位、ｍ個の単
位とｐ個の単位とｘ個の単位、ｎ個の単位とｑ個の単位
とｙ個の単位、ｍ個の単位とｎ個の単位、さらにはｍ個
の単位とｎ個の単位とｐ個の単位とｑ個の単位がブロッ
ク結合で結合しているように記載されているが、これら
はブロック結合でもランダム結合でもよい。以下の記載
においても同様である。
の各種の多価ハイドロジエンシロキサンより誘導された
ヒドロシリル基などがあげられる。なお、式中、ｍ個の
単位とｐ個の単位、ｎ個の単位とｑ個の単位、ｍ個の単
位とｐ個の単位とｘ個の単位、ｎ個の単位とｑ個の単位
とｙ個の単位、ｍ個の単位とｎ個の単位、さらにはｍ個
の単位とｎ個の単位とｐ個の単位とｑ個の単位がブロッ
ク結合で結合しているように記載されているが、これら
はブロック結合でもランダム結合でもよい。以下の記載
においても同様である。
【００２５】前記の各種のヒドロシリル基のうち、
（Ｂ）成分であるヒドロシリル基含有炭化水素系硬化剤
が他の有機重合体との相溶性を損うおそれが少ないとい
う点から、ヒドロシリル基を構成する部分の分子量が５
００以下であるのが好ましく、さらに、ヒドロシリル基
の反応性も考慮すれば、下記のものが好ましい。
（Ｂ）成分であるヒドロシリル基含有炭化水素系硬化剤
が他の有機重合体との相溶性を損うおそれが少ないとい
う点から、ヒドロシリル基を構成する部分の分子量が５
００以下であるのが好ましく、さらに、ヒドロシリル基
の反応性も考慮すれば、下記のものが好ましい。
【００２６】
【化５】
【００２７】なお、以下、これらの基を「（化５）で示
される基」と記す。
される基」と記す。
【００２８】また、前記一般式（１）中、Ｒ1 は炭素数
２〜１５０の１〜４価の炭化水素基を表わし、重合体か
らなる基であってもよい。具体例としては、
２〜１５０の１〜４価の炭化水素基を表わし、重合体か
らなる基であってもよい。具体例としては、
【００２９】
【化６】
【００３０】
【化７】
【００３１】など（なお、これらは特開平３−９５２６
６号公報などに記載されている）、また、Ｒ1 が重合体
からなる基の具体例としては、エチレン、プロピレン、
１−ブテン、イソブチレンなどのような炭素数２〜６の
オレフイン系化合物を主モノマーとして重合させたもの
で、結合手を１〜４個有するもの、ブタジエン、イソプ
レンなどのようなジエン系化合物を単独重合させたり、
前記オレフイン系化合物とジエン系化合物とを共重合さ
せたりしたのち水素添加したもので、結合手を１〜４個
有するものなどが挙げられる。
６号公報などに記載されている）、また、Ｒ1 が重合体
からなる基の具体例としては、エチレン、プロピレン、
１−ブテン、イソブチレンなどのような炭素数２〜６の
オレフイン系化合物を主モノマーとして重合させたもの
で、結合手を１〜４個有するもの、ブタジエン、イソプ
レンなどのようなジエン系化合物を単独重合させたり、
前記オレフイン系化合物とジエン系化合物とを共重合さ
せたりしたのち水素添加したもので、結合手を１〜４個
有するものなどが挙げられる。
【００３２】前記のごときＲ1 およびＸを有する一般式
（１）で表わされる炭化水素系硬化剤の中でも、Ｒ1 が
炭素数５〜２０の炭化水素基で、Ｘが前記（化５）で示
される基の場合の組合わせが、反応性をあげ、良好な網
目構造をとらせる点と、（Ａ）成分との相溶性の点から
好ましい。これらの中でも、Ｒ1 の炭素数が５〜１２の
炭化水素基であることが、原料を容易に入手できる点か
ら好ましく、Ｘが前記（化５）で示される基の中でも環
状ポリシロキサン化合物であることが、（Ａ）成分との
相溶性がよりよくなる点から好ましい。この組合わせに
よって得られる化合物が、炭化水素系硬化剤としては好
ましい。その具体例としては、たとえば、
（１）で表わされる炭化水素系硬化剤の中でも、Ｒ1 が
炭素数５〜２０の炭化水素基で、Ｘが前記（化５）で示
される基の場合の組合わせが、反応性をあげ、良好な網
目構造をとらせる点と、（Ａ）成分との相溶性の点から
好ましい。これらの中でも、Ｒ1 の炭素数が５〜１２の
炭化水素基であることが、原料を容易に入手できる点か
ら好ましく、Ｘが前記（化５）で示される基の中でも環
状ポリシロキサン化合物であることが、（Ａ）成分との
相溶性がよりよくなる点から好ましい。この組合わせに
よって得られる化合物が、炭化水素系硬化剤としては好
ましい。その具体例としては、たとえば、
【００３３】
【化８】
【００３４】などが挙げられる。
【００３５】上記のような（Ｂ）成分であるヒドロシリ
ル基含有炭化水素系硬化剤の製法についてはとくに制限
はなく、任意の方法で製造すればよい。
ル基含有炭化水素系硬化剤の製法についてはとくに制限
はなく、任意の方法で製造すればよい。
【００３６】たとえば、（１）分子中にＳｉＣｌ基をも
つ炭化水素系硬化剤を、ＬｉＡｌＨ 4 、ＮａＢＨ4 など
の還元剤で処理して該硬化剤中のＳｉＣｌ基をＳｉＨ基
に還元する方法、（２）分子中にある官能基Ｘ1 をもつ
炭化水素系化合物と分子中に前記官能基Ｘ1 と反応する
官能基Ｙ1 およびヒドロシリル基の両者を有する化合物
とを反応させる方法、（３）アルケニル基を含有する炭
化水素系化合物に対して少なくとも２個のヒドロシリル
基をもつポリヒドロシラン化合物を選択ヒドロシリル化
することにより、反応後もヒドロシリル基を該炭化水素
系化合物の分子中に残存させる方法、などが例示され
る。
つ炭化水素系硬化剤を、ＬｉＡｌＨ 4 、ＮａＢＨ4 など
の還元剤で処理して該硬化剤中のＳｉＣｌ基をＳｉＨ基
に還元する方法、（２）分子中にある官能基Ｘ1 をもつ
炭化水素系化合物と分子中に前記官能基Ｘ1 と反応する
官能基Ｙ1 およびヒドロシリル基の両者を有する化合物
とを反応させる方法、（３）アルケニル基を含有する炭
化水素系化合物に対して少なくとも２個のヒドロシリル
基をもつポリヒドロシラン化合物を選択ヒドロシリル化
することにより、反応後もヒドロシリル基を該炭化水素
系化合物の分子中に残存させる方法、などが例示され
る。
【００３７】前記方法のうち、（３）の方法が、製造工
程が一般に簡便なため好適に用いることができる。この
場合、一部のポリヒドロシラン化合物のヒドロシリル基
の２個以上が炭化水素系化合物のアルケニル基と反応し
て分子量が増大することがあるが、このように分子量が
増大したものを含むものを（Ｂ）成分として用いても何
ら差しつかえない。
程が一般に簡便なため好適に用いることができる。この
場合、一部のポリヒドロシラン化合物のヒドロシリル基
の２個以上が炭化水素系化合物のアルケニル基と反応し
て分子量が増大することがあるが、このように分子量が
増大したものを含むものを（Ｂ）成分として用いても何
ら差しつかえない。
【００３８】さらに、（Ｂ）成分としてポリシロキサン
系硬化剤も使用することができる。具体例としては、下
記のごとき鎖状、環状のポリオルガノハイドロジエンシ
ロキサン（ポリオキシアルキレン変性体、スチレン類変
性体、オレフイン変性体などを含む）が挙げられる。
系硬化剤も使用することができる。具体例としては、下
記のごとき鎖状、環状のポリオルガノハイドロジエンシ
ロキサン（ポリオキシアルキレン変性体、スチレン類変
性体、オレフイン変性体などを含む）が挙げられる。
【００３９】
【化９】
【００４０】（ｍ、ｎは整数、１０≦ｍ＋ｎ≦５０、２
≦ｍ、０≦ｎ、Ｒはメチル基、分子量が１００〜１０，
０００のポリオキシアルキレン基または炭素数２〜２０
の炭化水素基で１個以上のフエニル基を含有してもよ
い。Ｒが複数個含まれる場合、これらは同じである必要
はない。）
≦ｍ、０≦ｎ、Ｒはメチル基、分子量が１００〜１０，
０００のポリオキシアルキレン基または炭素数２〜２０
の炭化水素基で１個以上のフエニル基を含有してもよ
い。Ｒが複数個含まれる場合、これらは同じである必要
はない。）
【００４１】
【化１０】
【００４２】（ｍ、ｎは整数、１０≦ｍ＋ｎ≦５０、２
≦ｍ、０≦ｎ、Ｒはメチル基、分子量が１００〜１０，
０００のポリオキシアルキレン基または炭素数２〜２０
の炭化水素基で１個以上のフエニル基を含有してもよ
い。Ｒが複数個含まれる場合、これらは同じである必要
はない。）
≦ｍ、０≦ｎ、Ｒはメチル基、分子量が１００〜１０，
０００のポリオキシアルキレン基または炭素数２〜２０
の炭化水素基で１個以上のフエニル基を含有してもよ
い。Ｒが複数個含まれる場合、これらは同じである必要
はない。）
【００４３】
【化１１】
【００４４】（ｍ、ｎは整数、３≦ｍ＋ｎ≦２０、２≦
ｍ≦１９、０≦ｎ≦１８、Ｒはメチル基、分子量が１０
０〜１０，０００のポリオキシアルキレン基または炭素
数２〜２０の炭化水素基で１個以上のフエニル基を含有
してもよい。Ｒが複数個含まれる場合、これらは同じで
ある必要はない。）
ｍ≦１９、０≦ｎ≦１８、Ｒはメチル基、分子量が１０
０〜１０，０００のポリオキシアルキレン基または炭素
数２〜２０の炭化水素基で１個以上のフエニル基を含有
してもよい。Ｒが複数個含まれる場合、これらは同じで
ある必要はない。）
【００４５】なお、（Ａ）成分との相溶性をよりよくす
るためには、前記Ｒがフエニル基を含有しているものが
好ましい。さらに入手のしやすさから、−ＣＨ2 −ＣＨ
2 −Ｃ6 Ｈ5 、−ＣＨ2 −ＣＨ（ＣＨ3 ）−Ｃ6 Ｈ
5 が、また、貯蔵安定性の点から、一ＣＨ2 −ＣＨ（Ｃ
Ｈ3 ）−Ｃ6 Ｈ5 が好ましい。
るためには、前記Ｒがフエニル基を含有しているものが
好ましい。さらに入手のしやすさから、−ＣＨ2 −ＣＨ
2 −Ｃ6 Ｈ5 、−ＣＨ2 −ＣＨ（ＣＨ3 ）−Ｃ6 Ｈ
5 が、また、貯蔵安定性の点から、一ＣＨ2 −ＣＨ（Ｃ
Ｈ3 ）−Ｃ6 Ｈ5 が好ましい。
【００４６】この導電性ゴム層を構成する硬化性組成物
には、前記（Ａ）成分、（Ｂ）成分とともに、（Ｃ）成
分であるヒドロシリル化触媒が使用される。
には、前記（Ａ）成分、（Ｂ）成分とともに、（Ｃ）成
分であるヒドロシリル化触媒が使用される。
【００４７】（Ｃ）成分であるヒドロシリル化触媒につ
いてはとくに制限はなく、その具体例としては、たとえ
ば白金、アルミナやシリカ、カーボンブラックなどの担
体に固体白金を担持させたもの、塩化白金酸、塩化白金
酸とアルコール、アルデヒド、ケトンなどの錯体、白金
／オレフイン錯体、白金／ホスファイト錯体などが挙げ
られる。
いてはとくに制限はなく、その具体例としては、たとえ
ば白金、アルミナやシリカ、カーボンブラックなどの担
体に固体白金を担持させたもの、塩化白金酸、塩化白金
酸とアルコール、アルデヒド、ケトンなどの錯体、白金
／オレフイン錯体、白金／ホスファイト錯体などが挙げ
られる。
【００４８】硬化性組成物は、前記（Ａ）〜（Ｃ）成分
から調整される。（Ａ）成分および（Ｂ）成分の使用割
合は、（Ａ）成分中のアルケニル基１モル当り、（Ｂ）
成分中のヒドロシリル基が０．２〜５．０モル、さらに
は０．４〜２．５モルになるように使用するのがゴム弾
性の点から好ましい。また、（Ｃ）成分であるヒドロシ
リル化触媒の使用量は、（Ａ）成分中のアルケニル基１
モルに対して１０-1〜１０-6モルの範囲で用いられる。
から調整される。（Ａ）成分および（Ｂ）成分の使用割
合は、（Ａ）成分中のアルケニル基１モル当り、（Ｂ）
成分中のヒドロシリル基が０．２〜５．０モル、さらに
は０．４〜２．５モルになるように使用するのがゴム弾
性の点から好ましい。また、（Ｃ）成分であるヒドロシ
リル化触媒の使用量は、（Ａ）成分中のアルケニル基１
モルに対して１０-1〜１０-6モルの範囲で用いられる。
【００４９】上記硬化性組成物には、さらに、導電性付
与剤が（Ｄ）成分として含有される。この（Ｄ）成分で
ある導電性付与剤の具体例としては、カーボンブラック
や金属徴粉末、さらには第４級アンモニウム塩基、カル
ボン酸基、スルホン酸基、硫酸エステル基、リン酸エス
テル基などを含有する有機化合物もしくは重合体、エー
テルエステルアミドもしくはエーテルアミドイミド重合
体、エチレンオキサイド−エピハロヒドリン共重合体、
メトキシポリエチレングリコールアクリレート重合体な
どで代表される導電性ユニットを有する化合物または高
分子化合物などの有機帯電防止剤などが挙げられ、複数
のものを用いてもかまわない。この、（Ｄ）成分の含有
量は、抵抗のバラツキを小さくする観点から、上記
（Ａ）〜（Ｃ）成分の合計量１００重量部に対して、
０．３重量部以上、（Ｄ）成分が固体の場合には、低硬
度の観点から、２０重量部以下であることが良い。好ま
しくは０．５重量部〜１０重量部が良い。
与剤が（Ｄ）成分として含有される。この（Ｄ）成分で
ある導電性付与剤の具体例としては、カーボンブラック
や金属徴粉末、さらには第４級アンモニウム塩基、カル
ボン酸基、スルホン酸基、硫酸エステル基、リン酸エス
テル基などを含有する有機化合物もしくは重合体、エー
テルエステルアミドもしくはエーテルアミドイミド重合
体、エチレンオキサイド−エピハロヒドリン共重合体、
メトキシポリエチレングリコールアクリレート重合体な
どで代表される導電性ユニットを有する化合物または高
分子化合物などの有機帯電防止剤などが挙げられ、複数
のものを用いてもかまわない。この、（Ｄ）成分の含有
量は、抵抗のバラツキを小さくする観点から、上記
（Ａ）〜（Ｃ）成分の合計量１００重量部に対して、
０．３重量部以上、（Ｄ）成分が固体の場合には、低硬
度の観点から、２０重量部以下であることが良い。好ま
しくは０．５重量部〜１０重量部が良い。
【００５０】上記硬化性組成物には、必要であれば、シ
リカ、炭酸マグネシウムなどの非導電性フィラー、老化
防止剤などを加えてもよい。加える量としては、通常前
記（Ａ）〜（Ｄ）成分の合計量１００重量部に対して５
０重量部程度以下、好ましくは２０重量部程度以下であ
るのが、良好なゴム弾性を損なわない点から好ましい。
リカ、炭酸マグネシウムなどの非導電性フィラー、老化
防止剤などを加えてもよい。加える量としては、通常前
記（Ａ）〜（Ｄ）成分の合計量１００重量部に対して５
０重量部程度以下、好ましくは２０重量部程度以下であ
るのが、良好なゴム弾性を損なわない点から好ましい。
【００５１】次に、本発明に係る現像ローラにおける表
面保護層に用いられるＮ−メトキシメチル化ナイロン
は、ナイロンのアミド基の水素の一部が下記式（２）の
ごとく変性されたものである。
面保護層に用いられるＮ−メトキシメチル化ナイロン
は、ナイロンのアミド基の水素の一部が下記式（２）の
ごとく変性されたものである。
【００５２】
【化１２】
【００５３】上記変性の置換度が高くなると、溶媒に対
する溶解性、柔軟性が出てくる。また、Ｎ−メトキシメ
チル化ナイロンは、有機酸などの添加と加熱により、た
とえば下記式（３）、（４）のごとく自己縮合反応を起
こし不溶性となるとともに、耐水性、耐磨耗性が改善さ
れ、ローラの耐久性が向上する。前記Ｎ−メトキシメチ
ル化ナイロンを自己縮合させる触媒となる有機酸の好ま
しい例としては、クエン酸を挙げることができる。
する溶解性、柔軟性が出てくる。また、Ｎ−メトキシメ
チル化ナイロンは、有機酸などの添加と加熱により、た
とえば下記式（３）、（４）のごとく自己縮合反応を起
こし不溶性となるとともに、耐水性、耐磨耗性が改善さ
れ、ローラの耐久性が向上する。前記Ｎ−メトキシメチ
ル化ナイロンを自己縮合させる触媒となる有機酸の好ま
しい例としては、クエン酸を挙げることができる。
【００５４】
【化１３】
【００５５】
【化１４】
【００５６】前記Ｎ−メトキシメチル化ナイロンからな
る表面層には、必要に応じて内層である前記導電性ゴム
層の（Ｄ）成分である導電性付与剤、あるいは、シリ
カ、炭酸マグネシウムなどの非導電性フィラー、老化防
止剤など、導電性付与目的以外の無機フィラー等を混合
しても良い。
る表面層には、必要に応じて内層である前記導電性ゴム
層の（Ｄ）成分である導電性付与剤、あるいは、シリ
カ、炭酸マグネシウムなどの非導電性フィラー、老化防
止剤など、導電性付与目的以外の無機フィラー等を混合
しても良い。
【００５７】このＮ−メトキシメチル化ナイロンからな
る表面層は、Ｎ−メトキシメチル化ナイロンをアルコー
ルなどの溶媒に希釈後、導電性ゴム層の表面に、ディッ
ピングあるいはスプレー塗布などにより形成する事がで
きる。溶液の粘度が高いときには、導電性ゴム層の表面
にロールクォータにより塗布して形成してもよい。
る表面層は、Ｎ−メトキシメチル化ナイロンをアルコー
ルなどの溶媒に希釈後、導電性ゴム層の表面に、ディッ
ピングあるいはスプレー塗布などにより形成する事がで
きる。溶液の粘度が高いときには、導電性ゴム層の表面
にロールクォータにより塗布して形成してもよい。
【００５８】このような、導電性ゴム層と表面保護層と
の組合せは、良好な接着性を有し、現像ローラとして良
好なものとなる。より、良好な接着性を有する現像ロー
ラを得る為には、カップリング剤を上記導電性ゴム層と
表面保護層との中間層に利用すると有効である。この場
合のカップリング剤としては、導電性ゴム層中に残った
ＳｉＨ基を反応可能なものであるかぎり特に制限はな
く、ビニルシラン系、エポキシシラン系、アミノシラン
系、イソシアネートシラン系、チタンエステル系、リン
酸エステル系などが挙げられる。この中でも特にビニル
シラン系、エポキシシラン系、アミノシラン系、イソシ
アネートシラン系のものが、容易に入手しやすい点から
好ましい。
の組合せは、良好な接着性を有し、現像ローラとして良
好なものとなる。より、良好な接着性を有する現像ロー
ラを得る為には、カップリング剤を上記導電性ゴム層と
表面保護層との中間層に利用すると有効である。この場
合のカップリング剤としては、導電性ゴム層中に残った
ＳｉＨ基を反応可能なものであるかぎり特に制限はな
く、ビニルシラン系、エポキシシラン系、アミノシラン
系、イソシアネートシラン系、チタンエステル系、リン
酸エステル系などが挙げられる。この中でも特にビニル
シラン系、エポキシシラン系、アミノシラン系、イソシ
アネートシラン系のものが、容易に入手しやすい点から
好ましい。
【００５９】前記アミノシラン系のカップリング剤を中
間層としたものは、特にＮ−メトキシメチル化ナイロン
を自己縮合したものを主体とする表面層と前記（Ａ）〜
（Ｄ）成分からなる導電性ゴム層との接着性向上に有効
である。
間層としたものは、特にＮ−メトキシメチル化ナイロン
を自己縮合したものを主体とする表面層と前記（Ａ）〜
（Ｄ）成分からなる導電性ゴム層との接着性向上に有効
である。
【００６０】
（実施例１〜５および比較例１〜２）１０ｍｍφの金属
製シャフトに導電性ゴム層を被覆し約２５ｍｍφのロー
ラを得た。その表面を下記表１に示す中間層、保護層で
被覆し、現像ローラを得た（ただし、保護層の膜厚はす
べて約３０μｍとした。）。得られたローラをプリンタ
ー（ＬＰ−１０００；セイコーエプソン社製４枚機）の
現像ローラ位置に取付け、空回しでローラ耐久性試験を
実施した。結果を表１に示す。
製シャフトに導電性ゴム層を被覆し約２５ｍｍφのロー
ラを得た。その表面を下記表１に示す中間層、保護層で
被覆し、現像ローラを得た（ただし、保護層の膜厚はす
べて約３０μｍとした。）。得られたローラをプリンタ
ー（ＬＰ−１０００；セイコーエプソン社製４枚機）の
現像ローラ位置に取付け、空回しでローラ耐久性試験を
実施した。結果を表１に示す。
【００６１】
【表１】
【００６２】「導電性ゴム層(I) 」：（Ａ−イ）数平均
分子量（Ｍｎ）８，０００、分子量分布（Ｍｗ／Ｍｎ）
２．０（ＧＰＣで測定）、粘度１３０Ｐ（ポアズ；２０
℃）のポリオキシプロピレン系重合体（ポリオキシプロ
ピレンの両末端のＯＨの９０％をアリルエーテル化した
もの）１００ｇ、（Ｂ−イ）式
分子量（Ｍｎ）８，０００、分子量分布（Ｍｗ／Ｍｎ）
２．０（ＧＰＣで測定）、粘度１３０Ｐ（ポアズ；２０
℃）のポリオキシプロピレン系重合体（ポリオキシプロ
ピレンの両末端のＯＨの９０％をアリルエーテル化した
もの）１００ｇ、（Ｂ−イ）式
【００６３】
【化１５】
【００６４】で示されるポリシロキサン系硬化剤（Ｓｉ
Ｈ価０．３５８モル／１００ｇのもの）６．９ｇ、塩化
白金酸（Ｈ2 ＰｔＣ１6 ）の１０％イリプロピルアルコ
ール溶液０．０６ｇ、 およびケッチェンブラックＥＣ
０．５ｇを混合し、減圧（１０ｍｍＨｇ下、１２０分
間）脱泡した。得られた組成物を、１０ｍｍφのステン
レス製シャフトの周りに被覆し、金型内で１２０℃、３
０分間硬化させて、ステンレス製シャフトの周りに厚さ
７．５ｍｍの導電性ゴム層を設けた。
Ｈ価０．３５８モル／１００ｇのもの）６．９ｇ、塩化
白金酸（Ｈ2 ＰｔＣ１6 ）の１０％イリプロピルアルコ
ール溶液０．０６ｇ、 およびケッチェンブラックＥＣ
０．５ｇを混合し、減圧（１０ｍｍＨｇ下、１２０分
間）脱泡した。得られた組成物を、１０ｍｍφのステン
レス製シャフトの周りに被覆し、金型内で１２０℃、３
０分間硬化させて、ステンレス製シャフトの周りに厚さ
７．５ｍｍの導電性ゴム層を設けた。
【００６５】「導電性ゴム層(II)」：末端がトリメチル
シリル基で封鎖され、メチルビニルシロキサン単位を
０．１５モル％含有するポリジメチルシロキサン（重合
度約６，０００）１００部に対して、アセチレンブラッ
クＨＳ−１００（電気化学工業（株）製）２０部の割合
になるようにニーダーに仕込み、混練を行ない、コンパ
ウンドがまとまってから取り出した。得られた混練物
に、架橋剤として２，５−ジメチル−２，５−ジ−ｔ−
ブチルパーオキシヘキサン２部を加え、均一に混合して
シリコーンゴム組成物を調製した。得られたシリコーン
ゴム組成物を、プレス成形（１６０℃×１０分間）によ
り１０ｍｍφのステンレス製シャフトの周りに肉厚７．
５ｍｍになるように被覆して導電性ゴム層を設けた。
シリル基で封鎖され、メチルビニルシロキサン単位を
０．１５モル％含有するポリジメチルシロキサン（重合
度約６，０００）１００部に対して、アセチレンブラッ
クＨＳ−１００（電気化学工業（株）製）２０部の割合
になるようにニーダーに仕込み、混練を行ない、コンパ
ウンドがまとまってから取り出した。得られた混練物
に、架橋剤として２，５−ジメチル−２，５−ジ−ｔ−
ブチルパーオキシヘキサン２部を加え、均一に混合して
シリコーンゴム組成物を調製した。得られたシリコーン
ゴム組成物を、プレス成形（１６０℃×１０分間）によ
り１０ｍｍφのステンレス製シャフトの周りに肉厚７．
５ｍｍになるように被覆して導電性ゴム層を設けた。
【００６６】「中間層」：ビニルシラン（日本ユニカ
ー（株）製；Ａ−１７１）をメタノールに溶解した５％
溶液。 「中間層」：イソシアネートシラン（日本ユニカー
（株）製；Ｙ−９０３０）を酢酸エチルに溶解した５％
溶液。 「中間層」：アミノシラン（日本ユニカー（株）製；
Ａ−１１２２）をメタノールに溶解した５％溶液。これ
らの中間層はすべてディッピング方式で導電性ゴム層の
表面に塗布して形成した。
ー（株）製；Ａ−１７１）をメタノールに溶解した５％
溶液。 「中間層」：イソシアネートシラン（日本ユニカー
（株）製；Ｙ−９０３０）を酢酸エチルに溶解した５％
溶液。 「中間層」：アミノシラン（日本ユニカー（株）製；
Ａ−１１２２）をメタノールに溶解した５％溶液。これ
らの中間層はすべてディッピング方式で導電性ゴム層の
表面に塗布して形成した。
【００６７】「保護層（i-1)」：Ｎ−メトキシメチル化
ナイロンの２０％溶液（鉛市（株）製；ＥＭ２０）をメ
タノールで２倍希釈して１０％溶液として使用した。 「保護層（i-2)」：Ｎ−メトキシメチル化ナイロンの２
０％溶液（鉛市（株）製；ＥＭ２０）にＮ−メトキシメ
チル化ナイロン固形分１００重量部に対して３重量部の
クエン酸を添加したものをメタノールで２倍希釈して１
０％溶液として使用した。 「保護層(ii)」：ペレット状の共重合ポリアミド（東レ
製；ＣＭ−８０００）をメタノールで希釈して１０％溶
液として使用した。これらの表面保護層は、すべて、上
記溶液をスプレー塗布し加熱して形成した。
ナイロンの２０％溶液（鉛市（株）製；ＥＭ２０）をメ
タノールで２倍希釈して１０％溶液として使用した。 「保護層（i-2)」：Ｎ−メトキシメチル化ナイロンの２
０％溶液（鉛市（株）製；ＥＭ２０）にＮ−メトキシメ
チル化ナイロン固形分１００重量部に対して３重量部の
クエン酸を添加したものをメタノールで２倍希釈して１
０％溶液として使用した。 「保護層(ii)」：ペレット状の共重合ポリアミド（東レ
製；ＣＭ−８０００）をメタノールで希釈して１０％溶
液として使用した。これらの表面保護層は、すべて、上
記溶液をスプレー塗布し加熱して形成した。
【００６８】
【発明の効果】以上のように、主鎖を横成する繰り返し
単位がオキシアルキレン単位でありヒドロシリル化反応
で硬化する導電性ゴム層の表面に、Ｎ−メトキシメチル
化ナイロンを主成分とする表面保護層を設けた本発明の
現像ローラは、中間層にカップリング剤層を設けている
ので、導電性ゴム層と表面保護層との接着性がよく耐久
性に優れる。前記導電性ゴム層のＪＩＳ Ａ 硬度は５
〜４０°の範囲内とすることが好ましい。前記Ｎ−メト
キシメチル化ナイロンは、自己縮合反応により不溶性と
なったものであることが好ましく、また有機酸を触媒と
して自己縮合させたものであることが好ましく、さらに
前記有機酸がクエン酸であることが好ましい。また、前
記カップリング剤層は、導電性ゴム層中に残ったＳｉＨ
基を反応可能なカップリング剤からなる層であることが
好ましく、またアミノシラン系化合物からなる層である
ことが好ましく、さらに前記カップリング剤としては特
にアミノシラン系カップリング剤が好ましい。
単位がオキシアルキレン単位でありヒドロシリル化反応
で硬化する導電性ゴム層の表面に、Ｎ−メトキシメチル
化ナイロンを主成分とする表面保護層を設けた本発明の
現像ローラは、中間層にカップリング剤層を設けている
ので、導電性ゴム層と表面保護層との接着性がよく耐久
性に優れる。前記導電性ゴム層のＪＩＳ Ａ 硬度は５
〜４０°の範囲内とすることが好ましい。前記Ｎ−メト
キシメチル化ナイロンは、自己縮合反応により不溶性と
なったものであることが好ましく、また有機酸を触媒と
して自己縮合させたものであることが好ましく、さらに
前記有機酸がクエン酸であることが好ましい。また、前
記カップリング剤層は、導電性ゴム層中に残ったＳｉＨ
基を反応可能なカップリング剤からなる層であることが
好ましく、またアミノシラン系化合物からなる層である
ことが好ましく、さらに前記カップリング剤としては特
にアミノシラン系カップリング剤が好ましい。
【図１】 現像ローラの断面説明図。
１ 現像ローラ、 ２ 金属製シャフト、３ 導電性ゴ
ム層、 ４ 表面保護層。
ム層、 ４ 表面保護層。
─────────────────────────────────────────────────────
フロントページの続き
(72)発明者 大越 洋
滋賀県大津市比叡辻２−１−１ 鐘淵化
学工業株式会社内
(72)発明者 福田 丞
滋賀県大津市比叡辻２−１−１ 鐘淵化
学工業株式会社内
(56)参考文献 特開 平７−333915（ＪＰ，Ａ)
特開 平８−39699（ＪＰ，Ａ)
特開 平８−101580（ＪＰ，Ａ)
特開 平７−219311（ＪＰ，Ａ)
(58)調査した分野(Int.Cl.7，ＤＢ名)
G03G 15/08 501
F16C 13/00
Claims (7)
- 【請求項１】 電子写真方式による複写機やプリンター
などが有する感光体に接触させて使用する現像ローラで
あって、導電性支持体の外周に、（Ａ）分子中に少なく
とも１個のアルケニル基を有し、主鎖を構成する繰り返
し単位がオキシアルキレン単位である重合体、（Ｂ）分
子中に２個以上のヒドロシリル基を有する硬化剤、
（Ｃ）ヒドロシリル化触媒、および、（Ｄ）導電性付与
剤、を主成分とする硬化性組成物からなる導電性ゴム層
が設けられ、その外周にＮ−メトキシメチル化ナイロン
を主成分とする表面保護層が設けられ、前記（Ａ）〜
（Ｄ）を主成分とする硬化性組成物からなる導電性ゴム
層と、Ｎ−メトキシメチル化ナイロンを主成分とする表
面保護層の中間に、カップリング剤層が設けられた現像
ローラ。 - 【請求項２】 前記導電性ゴム層のＪＩＳ Ａ 硬度が
５〜４０°の範囲内である請求項１記載の現像ローラ。 - 【請求項３】 前記Ｎ−メトキシメチル化ナイロンが自
己縮合反応により不溶性となったものである請求項１ま
たは２記載の現像ローラ。 - 【請求項４】 前記Ｎ−メトキシメチル化ナイロンが有
機酸を触媒として自己縮合させたものである請求項３記
載の現像ローラ。 - 【請求項５】 前記有機酸がクエン酸である請求項４記
載の現像ローラ。 - 【請求項６】 前記カップリング剤層が導電性ゴム層中
に残ったＳｉＨ基を反応可能なカップリング剤からなる
層である請求項１〜５のいずれかに記載の現像ローラ。 - 【請求項７】 前記カップリング剤層がアミノシラン系
化合物からなる層である請求項１〜６のいずれかに記載
の現像ローラ。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10660396A JP3484873B2 (ja) | 1996-04-26 | 1996-04-26 | 現像ローラ |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10660396A JP3484873B2 (ja) | 1996-04-26 | 1996-04-26 | 現像ローラ |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH09292767A JPH09292767A (ja) | 1997-11-11 |
| JP3484873B2 true JP3484873B2 (ja) | 2004-01-06 |
Family
ID=14437711
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP10660396A Expired - Fee Related JP3484873B2 (ja) | 1996-04-26 | 1996-04-26 | 現像ローラ |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3484873B2 (ja) |
Families Citing this family (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP3854733B2 (ja) * | 1998-09-03 | 2006-12-06 | キヤノン株式会社 | 現像装置 |
| KR20030060971A (ko) * | 2000-12-07 | 2003-07-16 | 가네가후치 가가쿠 고교 가부시키가이샤 | 반도전성 수지 조성물 및 반도전성 부재 |
| JP6292204B2 (ja) | 2015-09-28 | 2018-03-14 | コニカミノルタ株式会社 | 中間転写体および画像形成装置 |
-
1996
- 1996-04-26 JP JP10660396A patent/JP3484873B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH09292767A (ja) | 1997-11-11 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| KR100317983B1 (ko) | 현상롤러_ | |
| JP3578510B2 (ja) | 発泡弾性体層を有するローラーの製法 | |
| JP3484873B2 (ja) | 現像ローラ | |
| JP3914511B2 (ja) | ロール用ゴム組成物およびそれを用いたイオン導電性ゴムロール | |
| JP3493901B2 (ja) | 現像ローラ | |
| JP2922712B2 (ja) | 熱定着用シリコーンゴムローラの製造方法 | |
| JP3493914B2 (ja) | 現像ローラ | |
| JP3493902B2 (ja) | 現像ローラ | |
| JP2007033665A (ja) | 導電性ローラ | |
| JP3518895B2 (ja) | 硬化性導電性組成物 | |
| JPH09292754A (ja) | ローラ | |
| JP3449837B2 (ja) | 導電性ローラー | |
| JP3391902B2 (ja) | 導電性ローラー | |
| JP3451815B2 (ja) | 帯電ローラ | |
| JPH08176445A (ja) | 油面接着性に優れる室温硬化性オルガノポリシロキサン組成物 | |
| JP3605976B2 (ja) | 現像ローラ | |
| JPH09296118A (ja) | 半導電性組成物およびそれを用いたローラ | |
| JP3543868B2 (ja) | ローラー用組成物およびそれからのローラー | |
| JP3490500B2 (ja) | 硬化性導電性組成物 | |
| JP4161674B2 (ja) | 導電性ローラ | |
| JPH10186834A (ja) | 現像ローラ | |
| JPH09211933A (ja) | 半導電性ローラ | |
| JPH09124752A (ja) | ローラー用硬化性組成物およびそれからのローラー | |
| JP3301310B2 (ja) | 弾性体ロール及びその製造方法 | |
| JP3832002B2 (ja) | ローラ |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| S533 | Written request for registration of change of name |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313533 |
|
| R350 | Written notification of registration of transfer |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (prs date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20071024 Year of fee payment: 4 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (prs date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20081024 Year of fee payment: 5 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (prs date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20081024 Year of fee payment: 5 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (prs date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20091024 Year of fee payment: 6 |
|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |