JPWO2002034969A1

JPWO2002034969A1 - はんだ合金およびはんだ接合部

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Publication number: JPWO2002034969A1
Application number: JP2002537933A
Authority: JP
Inventors: 北嶋　雅之; 庄野　忠昭; 本間　仁; 竹居　成和; 野田　豊
Original assignee: Fujitsu Ltd
Current assignee: Fujitsu Ltd
Priority date: 2000-10-24
Filing date: 2001-09-26
Publication date: 2004-03-04
Anticipated expiration: 2021-09-26
Also published as: EP1332831A1; JP3357045B2; AU2001292257A1; KR100760348B1; CN1188241C; KR20020032280A; EP1332831B1; DE60110450T2; WO2002034969A1; KR100726854B1; EP1332831A4; KR20070010204A; US6361626B1; DE60110450D1; KR20020062975A; CN1394155A; TW503145B

Abstract

環境に対して悪影響を及ぼすことがなく、従来のＰｂ−Ｓｎはんだ合金に匹敵するはんだ付け性を有するはんだ合金およびそれを用いたはんだ接合部を提供する。Ｚｎ：３．０〜１４．０ｗｔ％、Ａｌ：０．００２０〜０．００８０ｗｔ％、および残部：Ｓｎおよび不可避的不純物から成るはんだ合金。Ｚｎ：３．０〜１４．０ｗｔ％、Ｂｉ：３．０〜６．０ｗｔ％、Ａｌ：０．００２０〜０．０１００ｗｔ％、および残部：Ｓｎおよび不可避的不純物から成るはんだ合金。上記のはんだ合金から成る、電気・電子機器のはんだ接合部。

Description

技術分野
本発明は、環境に対する安全性の高いはんだ合金およびそれを用いた電気・電子機器のはんだ接合部に関する。
背景技術
従来、各種の電気・電子機器におけるはんだ接合には、融点が低く、大気中等の酸化性雰囲気中でも濡れ性がよい等の観点から、鉛−錫（Ｐｂ−Ｓｎ）系のはんだ合金が多用されている。Ｐｂは毒性を有するため、ＰｂやＰｂ含有合金等を扱う業務については従来から規制がなされており、Ｐｂ中毒等の発生頻度は極めて低く抑えられてきた。
しかし、最近の環境破壊に対する関心の高まりによって、Ｐｂを含むはんだ合金を用いた各種機器、特に電気・電子機器の廃棄処理についても問題視され始めている。
これまで、使用済の電子機器は、通常の産業廃棄物や一般廃棄物と同様に、主として埋め立て処理することが一般的であった。しかし、Ｐｂを含むはんだ合金を多量に用いた使用済み電子機器をそのまま埋め立て処理等により廃棄し続けていくと、Ｐｂの溶出によって環境や生物に悪影響を及ぼすことが危惧される。
そのため近い将来には、Ｐｂ含有はんだ合金を多量に用いた使用済み電子機器は、Ｐｂを回収した後に廃棄することが義務付けられることになるであろう。
しかし、これまでに、使用済み電子機器等から効率的に且つ有効にＰｂを除去する技術は確立されていない。また、Ｐｂの回収コストが製品コストの上昇を招く恐れがある。
そこで、Ｐｂを含まない無鉛はんだ合金の開発が強く望まれている。
これまで、無鉛はんだ合金として、例えば錫をベースとし、これにＺｎ（亜鉛）、Ａｇ（銀）、Ｂｉ（ビスマス）、Ｃｕ（銅）、等を複合添加した合金が一部実用化されているが、特殊な用途に限定されている。それは、従来のＰｂ−Ｓｎはんだ合金を用いていた一般的な用途で必要とされる諸特性、すなわち低融点で濡れ性が良いこと、リフロー処理が可能であること、母材と反応して脆い化合物層や脆化層を形成しないこと、等の特性（はんだ付け性）が得られないからである。
現在、有望な無鉛はんだ合金としてＳｎ−Ｚｎはんだ合金が提案されている。Ｓｎ−Ｚｎはんだ合金は融点が２００℃近傍にあり、従来のＳｎ−Ｐｂはんだ合金を代替できる可能性が極めて高い。
しかし、Ｚｎは酸化が激しく、はんだ濡れ性が劣るため、良好なはんだ付け性を確保するためには、窒素ガス等の非酸化性雰囲気を用いる必要がある。
Ｓｎ−Ｚｎ合金のはんだ濡れ性を改善するために、Ｃｕ（銅）やＧｅ（ゲルマニウム）を添加することが提案されているが、期待された濡れ性の向上は得られていない。むしろＣｕの添加によって、Ｃｕ−Ｚｎ金属間化合物がはんだ合金中に急速に形成されるため、はんだ合金の特性が悪化するという欠点がある。
更に、Ｚｎは活性が非常に高く、Ｃｕ母材上にはんだ付けを行った場合に、少量の入熱でもＣｕ−Ｚｎ金属間化合物の厚い層が容易に形成してしまい、接合強度が低下する原因になる。この場合の母材／はんだ界面構造は、Ｃｕ母材／β′−ＣｕＺｎ層／γ−Ｃｕ_５Ｚｎ_８層／はんだ層、という構成になると考えられる。Ｃｕ−Ｚｎ金属間化合物層は、はんだとの界面での接合強度が極めて低く、容易に剥離が発生する。Ｃｕ母材の表面を、Ｎｉ（ニッケル）／Ａｕ（金）めっき、パラジウムめっき、パラジウム／金めっき処理した場合にも、同様な現象が発生してしまう。そのため、電子機器の信頼性の観点から、Ｓｎ−Ｚｎはんだ合金の実用は困難であった。
発明の開示
本発明は、環境に対して悪影響を及ぼすことがなく、従来のＰｂ−Ｓｎはんだ合金に匹敵するはんだ付け性を有するはんだ合金およびそれを用いたはんだ接合部を提供することを目的とする。
上記の目的を達成するために、本願第１発明によれば、下記（１）および（２）が提供される。
（１）Ｚｎ：３．０〜１４．０ｗｔ％、Ａｌ：０．００２０〜０．００８０ｗｔ％、および残部：Ｓｎおよび不可避的不純物から成るはんだ合金。
（２）上記（１）記載のはんだ合金から成る、電気・電子機器のはんだ接合部。
また、本願第２発明によれば、下記（３）および（４）が提供される。
（３）Ｚｎ：３．０〜１４．０ｗｔ％、Ｂｉ：３．０〜６．０ｗｔ％、Ａｌ：０．００２０〜０．０１００ｗｔ％、および残部：Ｓｎおよび不可避的不純物から成るはんだ合金。
（４）上記（３）のはんだ合金から成る、電気・電子機器のはんだ接合部。
発明を実施するための最良の形態
本発明において、合金成分の含有量を限定した理由は下記のとおりである。
・Ｚｎ：３〜１４ｗｔ％（第１・第２発明共通）
Ｚｎは、はんだ合金の融点を下げ、濡れ性を向上させる基本的な合金成分である。Ｚｎ含有量が３〜１４ｗｔ％の範囲内であれば、安定して良好な濡れ性が確保できる。Ｚｎ含有量が３ｗｔ％未満であっても１４ｗｔ％を超えても濡れ性が低下する。
・Ａｌ：０．００２０〜０．００８０ｗｔ％（第１発明：Ｂｉなし）
・Ａｌ：０．００２０〜０．０１００ｗｔ％（第２発明：Ｂｉ含有）
Ａｌは、Ｓｎ−Ｚｎ合金の酸化を抑制し、良好な濡れ性を確保するために添加する。前述のようにＺｎは酸化が激しく、はんだ表面に生成する酸化皮膜は、母材とはんだとの間に介在して、はんだによる母材の濡れを阻害する。Ａｌによる酸化抑制効果を得るためには、Ａｌ含有量を０．００２０ｗｔ％以上とする必要がある。しかし、Ａｌ含有量が多すぎるとＡｌの酸化皮膜が厚くなり濡れ性が劣化することが実験的に確認されている。そのため、Ａｌ含有量の上限は、Ｂｉを含有しない第１発明では０．００８０ｗｔ％とし、Ｂｉを含有する第２発明では０．０１００ｗｔ％とする。
・Ｂｉ：３．０〜６．０ｗｔ％（第２発明）
Ｂｉは、はんだ合金の融点を更に低下させ、濡れ性を更に向上させる。この効果を得るためには、Ｂｉ含有量を３．０ｗｔ％以上とする必要がある。しかし、Ｂｉ含有量が多すぎると、はんだが硬くなり過ぎて脆くなり、はんだ接合部の信頼性を確保できない。そのため、Ｂｉ含有量の上限は６．０ｗｔ％とする。
はんだ合金、特に電気・電子機器のはんだ接合用のはんだ合金には、下記の特性が要求される。
▲１▼　従来のＳｎ−Ｐｂ共晶はんだ合金にできるだけ近い低温ではんだ付けが可能なこと。すなわち、融点が２００℃を大きく超えず、高くても２２０℃程度以下が確保できること。
▲２▼　母材との濡れ性が良好であること。
▲３▼　母材との反応により脆い金属間化合物や脆化層を形成しないこと。
▲４▼　合金成分の酸化物が、濡れ不良、ボイド、ブリッジ等の欠陥の発生原因とならないこと。
▲５▼　量産工程でのはんだ接合に適した加工・供給形態（はんだペースト、ＢＧＡ用はんだボール等の形態）がとれること。
本発明のＺｎ−Ａｌ−Ｓｎはんだ合金およびＺｎ−Ｂｉ−Ａｌ−Ｓｎはんだ合金は、Ｐｂを含有しないことにより高い環境安全性を備えると同時に、上記の要求特性を備えている。
実施例
表１および表２に示した種々の組成のはんだ合金を溶製し、下記の各方法により、融点（液相線温度）、濡れ時間、接合強度を測定した。
＜融点の測定＞
ＤＳＣ融点測定法（示差走査熱量測定）により、融点の代表値として液相線温度を測定した。
＜濡れ時間の測定＞
レスカ社製メニスカス試験機（Ｓｏｌｄｅｒ　Ｃｈｅｃｋｅｒ　Ｍｏｄｅｌ　ＳＡＴ−５０００）を用い、下記メニスカス試験方法により、濡れ性の代表値として濡れ時間を測定した。なお、試験雰囲気は大気中とした。ただし、雰囲気の酸素濃度の影響を確認するために、表２のサンプルＮｏ．４５および６１については、各々サンプルＮｏ．４４および６０と同じ組成のはんだ合金について酸素濃度２０００ｐｐｍの窒素ガス雰囲気中で試験を行った。
〔メニスカス試験方法〕
塩酸水溶液（約１．２モル／リットル）で洗浄した銅板（５ｍｍ×４０ｍｍ×厚さ０．１ｍｍ）に、ＲＭＡタイプのフラックス（タムラ化研製　ＵＬＦ−５００ＶＳ）を塗布した後、２４０℃、２５０℃または２６０℃に加熱したはんだ合金溶湯中へ、浸漬速度２０ｍｍ／ｓｅｃで浸漬深さ５ｍｍまで浸漬し、濡れ時間を測定した。測定時間は８秒までとした。メニスカス試験では、図１に示すような測定チャートが得られ、このチャートから濡れ時間、濡れ力、ピールバック力等を読み取ることができる。これらのうち本実施例では、合金組成を最も敏感に反映した濡れ時間によって濡れ性を評価した。
＜接合強度の測定＞
ラップジョイント接合強度試験により、接合強度を測定した。図２に示したように、Ｌ形の銅板試験片をはんだ接合した後、インストロン社製引張試験機により、引張速度１ｍｍ／ｍｉｎで試験した。
＜測定結果の評価＞
〔融点および濡れ性の評価〕
（１）Ｚｎ−Ａｌ−Ｓｎ合金（第１発明）
（１−１）Ｚｎ含有量の影響
図３および図４に、表１のサンプルＮｏ．１〜１２（１．０〜２０．０ｗｔ％Ｚｎ−０．００６０ｗｔ％Ａｌ−Ｓｎ）について、Ｚｎ含有量と融点（液相線温度）との関係およびＺｎ含有量と濡れ時間との関係をそれぞれ示す。ここで、０．００６０ｗｔ％Ａｌは本発明の範囲内のＡｌ含有量である。
Ａｌ含有量が本発明の範囲内の上記値であって、Ｚｎ含有量が本発明の範囲内（３．０〜１４．０ｗｔ％）であるサンプルＮｏ．３〜１１は、融点が低下し（図３）、かつ安定して良好な濡れ性（短時間での濡れ。図４）が得られた。これに対して、Ａｌ含有量が本発明の範囲内の上記値であっても、Ｚｎ含有量が本発明の範囲より少ないサンプルＮｏ．１，２および本発明の範囲より多いサンプルＮｏ．１２は、濡れ性が低下（濡れ時間が増大）した。
（１−２）Ａｌ含有量の影響
図５、６、７に、表１のサンプルＮｏ．１３〜１７（４．０ｗｔ％Ｚｎ−０．０００６〜０．０２０６ｗｔ％Ａｌ−Ｓｎ）、サンプルＮｏ．１８〜２９（８．０ｗｔ％Ｚｎ−０．０００６〜０．７９１２ｗｔ％Ａｌ−Ｓｎ）、およびサンプルＮｏ．３０〜３４（１０．０ｗｔ％Ｚｎ−０．０００６〜０．０２０６ｗｔ％Ａｌ−Ｓｎ）について、Ａｌ含有量と濡れ時間との関係を示す。ここで、４．０ｗｔ％Ｚｎ、８．０ｗｔ％Ｚｎ、および１０．０ｗｔ％Ｚｎは、いずれも本発明の範囲内のＺｎ含有量である。
Ｚｎ含有量が本発明の範囲内の上記各値であって、Ａｌ含有量が本発明（第１発明）の範囲内（０．００２０〜０．００８０ｗｔ％）であるサンプルＮｏ．１５、２０〜２３、および３２は、安定して良好な濡れ性（短時間での濡れ）が得られた。これに対して、Ｚｎ含有量が本発明の範囲内の上記各値であっても、Ａｌ含有量が本発明の範囲より少ないサンプルＮｏ．１４、１８〜１９、３０〜３１、および本発明の範囲より多いサンプルＮｏ．１６〜１７、２４〜２９、３３〜３４は、濡れ性が低下（濡れ時間が増大）した。
（２）Ｚｎ−Ｂｉ−Ａｌ−Ｓｎ合金（第２発明）
（２−１）Ｚｎ含有量の影響
図８に、表２のサンプルＮｏ．４６〜５０（１．０〜２０．０ｗｔ％Ｚｎ−３．０ｗｔ％Ｂｉ−０．００６０ｗｔ％Ａｌ−Ｓｎ）について、Ｚｎ含有量と融点との関係を示す。ここで、３．０ｗｔ％Ｂｉおよび０．００６０ｗｔ％Ａｌは、本発明の範囲内のＢｉ含有量およびＡｌ含有量である。
Ｂｉ含有量およびＡｌ含有量が本発明の範囲内の上記値であって、Ｚｎ含有量が本発明の範囲内であるサンプルは融点が低下した。
（２−２）Ｂｉ含有量の影響
図９および図１０に、表２のサンプルＮｏ．５１〜５６（８．０ｗｔ％Ｚｎ−０〜１０．０ｗｔ％Ｂｉ−０．００６０ｗｔ％Ａｌ−Ｓｎ）について、Ｂｉ含有量と融点との関係およびＢｉ含有量と濡れ時間との関係をそれぞれ示す。ここで、８．０ｗｔ％Ｚｎおよび０．００６０ｗｔ％Ａｌは、本発明の範囲内のＺｎ含有量およびＡｌ含有量である。
Ｚｎ含有量およびＡｌ含有量が本発明の範囲内の上記値であって、Ｂｉ含有量が本発明の範囲内（３．０〜６．０ｗｔ％）であるサンプルＮｏ．５３〜５４は、融点が低下し（図９）、かつ安定して良好な濡れ性（短時間での濡れ。図１０）が得られた。これに対して、Ｚｎ含有量およびＡｌ含有量が本発明の範囲内の上記値であっても、Ｂｉ含有量が本発明の範囲より少ないサンプルＮｏ．５２は、濡れ性が低下（濡れ時間が増大）した。また、Ｂｉ含有量が本発明の上限６．０ｗｔ％より多いサンプルＮｏ．５５〜５６は、融点が低く、濡れ性も良好であるが、接合部の硬さが高く脆いため実用には適さない。
（２−３）Ａｌ含有量の影響
図１１に、表２のサンプルＮｏ．３５〜４５（８．０ｗｔ％Ｚｎ−３．０ｗｔ％Ｂｉ−０〜０．６５００ｗｔ％Ａｌ−Ｓｎ）について、Ａｌ含有量と濡れ時間との関係を示す。ここで、８．０ｗｔ％Ｚｎおよび３．０ｗｔ％Ｂｉは本発明の範囲内のＺｎ含有量およびＡｌ含有量である。
Ｚｎ含有量およびＢｉ含有量が本発明の範囲内の上記値であって、Ａｌ含有量が本発明（第２発明）の範囲内（０．００２０〜０．０１００ｗｔ％）であるサンプルＮｏ．３８〜４０は、安定して良好な濡れ性（短時間での濡れ）が得られた。これに対して、Ｚｎ含有量およびＢｉ含有量が本発明の範囲内の上記値であっても、Ａｌ含有量が本発明の範囲より少ないサンプルＮｏ．３５〜３７、および本発明の範囲より多いサンプルＮｏ．４１〜４２は、濡れ性が低下（濡れ時間が増大）した。更にＡｌ含有量の多いサンプルＮｏ．４３〜４４は濡れ性は向上（濡れ時間が減少）するが、Ａｌ含有量が多いと、はんだ粉末（φ２０〜４５μｍ）形成時に表面にＡｌが偏析し、はんだペーストとして使用できない。
表２のサンプルＮｏ．５７〜６５はいずれも比較例であり、そのうちＮｏ．５７は従来のＰｂ−Ｓｎ共晶はんだ合金である。Ｎｏ．５８以降は種々のＳｎベース無鉛はんだ合金であり、Ｎｏ．５８はＡｇ−Ｃｕ−Ｓｎ、Ｎｏ．５９はＺｎ−Ｓｎ、Ｎｏ．６０、６１はＺｎ−Ｂｉ−Ｓｎ、Ｎｏ．６２、６３はＺｎ−Ｂｉ−Ｃｕ−Ｓｎ、Ｎｏ．６４はＺｎ−Ｂｉ−Ｇｅ−Ｓｎ、Ｎｏ．６５はＺｎ−Ｂｉ−Ｃｕ−Ｇｅ−Ｓｎである。
これら比較例のＳｎベース無鉛はんだ合金のうち、Ｎｏ．５９，６０，６２，６３，６４，６５は濡れ性が劣り、Ｎｏ．５８は濡れ性が良好であるが融点が２２１．１℃と高いという点で実用性がない。サンプルＮｏ．６１は、サンプルＮｏ．６０と同じ組成のはんだ合金について、濡れ試験を大気中ではなく、酸素濃度２０００ｐｐｍの窒素ガス雰囲気中で行った結果であり、非酸化性の雰囲気中でなくては良好な濡れ性が得られない点で、実用上に劣る。これは、Ｚｎ含有量（８．０ｗｔ％）およびＢｉ含有量（３．０ｗｔ％）は本発明の範囲内であるがＡｌ含有量（０．６５００ｗｔ％）が本発明の範囲より多いサンプルＮｏ．４４、４５についても同様である。
〔接合強度の評価〕
図１２に、本発明の代表例としてサンプルＮｏ．８（８．０ｗｔ％Ｚｎ−０．００６０ｗｔ％Ａｌ−Ｓｎ）、サンプルＮｏ．３９（８．０ｗｔ％Ｚｎ−３．０ｗｔ％Ｂｉ−０．００６０ｗｔ％Ａｌ−Ｓｎ）、サンプルＮｏ．４０（８．０ｗｔ％Ｚｎ−３．０ｗｔ％Ｂｉ−０．０１００ｗｔ％Ａｌ−Ｓｎ）の接合強度を、従来のＰｂ−Ｓｎ共晶はんだ（サンプルＮｏ．５７）および本発明の範囲外の無鉛はんだ（サンプルＮｏ．と比較して示す。同図に示したように、本発明のはんだ合金は従来のＰｂ−Ｓｎ共晶はんだ合金と同等の接合強度が得られた。

〔はんだ粉末の特性とＡｌの効果〕
本発明のはんだ合金を実際にはんだ接合に用いるための典型的な一形態であるはんだ粉末としての特性に対するＡｌの効果を調べた。
〔１〕Ａｌによる酸化防止効果
一般に、はんだの濡れ性は、はんだの酸化により阻害される。特に、Ｓｎ−Ｚｎ系はんだの場合、Ｚｎが酸化され易く、緻密性が低く厚いＺｎ酸化膜が形成され、それによって濡れ性が劣化する。
Ａｌの添加によりＳｎ−Ｚｎ系はんだの濡れ性が著しく改善される理由は、大気と接触しているはんだの表面領域において、Ｚｎに対してＡｌが優先的に酸化されるためである。これは、Ａｌ原子が、下表に示すように、Ｚｎ原子に比べて電子を放出し易く、酸素との反応性が高いことによる。

Ａｌ酸化膜は緻密性が極めて高いため、一旦形成されるとそれ以降の酸素の侵入を防ぎ、Ａｌ酸化膜自体も薄いまま維持されると共にＺｎの酸化を防止する。
Ｓｎ−Ｚｎ合金の表面におけるＡｌ酸化膜の形成には、はんだ表面におけるＡｌの偏析が大きな影響を及ぼす。実際にはんだペーストとして用いられる形態のはんだ粉末粒子について、Ａｌの表面偏析を調べた。
図１３に、Ｓｎ−６．７ｗｔ％Ｚｎ−０．００２４ｗｔ％Ａｌ合金からなるはんだ粉末粒子（粒径４０μｍ）の表面から内部への深さ方向の元素濃度分布を示す。はんだ粉末の製造条件および元素濃度分布の測定方法は下記のとおりである。
はんだ粉末製造条件
目標合金組成に溶解歩留まりを見込んだ配合組成の溶湯を３００℃で溶製し、この溶湯を非酸化性雰囲気中で２２０℃に保持して遠心噴霧法を行い粉末を形成した。
得られた粉末を分級して、φ３８〜４５μｍの粉末粒度とした。
図１３は粒径φ４０μｍの粉末粒子について測定した結果である。
また、ＩＣＰ法による分析値として上記組成を得た。
元素濃度分布測定方法
下記の装置および条件によりオージェ分析を行い、粉末粒子表面から深さ方向のＳｎ、Ｚｎ、Ａｌ、Ｏの各元素について濃度分布を測定した。
オージェ分析装置：
日本電子製　マイクロオージェ電子分光装置　ＪＡＭＰ−７８００Ｆ
測定条件：
加速電圧　１０ｋＶ
照射電流　３ｎＡ
計測時間　３００ｍｓ×５ｓｗｅｅｐｓ
エッチング速度　３０ｎｍ／ｍｉｎ（ＳｉＯ_２換算）
同図に示したように、はんだ粒子表面から深さ数ｎｍの表面領域にＡｌが高濃度に偏析していることが分かる。酸素（Ｏ）は、はんだ粉末製造時に不可避的に生ずる酸化によるものであり、Ａｌと共に表面領域に高濃度に偏析していることから、粒子表面に厚さ数ｎｍ程度のＡｌ酸化膜が形成されていると考えられる。
このように、Ａｌ添加したＳｎ−Ｚｎ合金においては、はんだ粉末粒子の表面にＡｌが高濃度で偏析しているため、Ｚｎの酸化が防止されて、高い濡れ性が確保できる。また、Ａｌ酸化膜は前述のように非常に緻密であるため、水分の浸入防止効果も高く、高温高湿環境下でのはんだ接合部の耐食性を向上させる。
〔２〕はんだボールの発生とＡｌ含有量の関係
上記のようにＡｌの存在はＡｌ酸化膜の形成によりＳｎ−Ｚｎ系はんだの濡れ性向上に高い効果を発揮する。
しかし、Ａｌ含有量があまり高すぎると、はんだ接合部においてはんだ粉末粒子の未溶融部（はんだボール）が発生して接合不良の原因になる。
図１４（１）〜（４）に、はんだ接合部におけるはんだボールの発生状況を模式的に示す。同図は、基板ＰにリードＱをはんだＲによって接合した状態を示す。同図（１）はＡｌ含有量が本発明の範囲内にある場合であり、はんだ接合部Ｒは完全に溶融している。これに対して、同図（２）〜（４）はＡｌ含有量が本発明の範囲を超えて順次多くなった場合であり、（２）Ａｌ含有量が若干過多で、はんだ接合部Ｒの表面に散発的にはんだボールＢの発生が認められる状態、（３）更にＡｌ含有量が増加して、はんだ接合部Ｒの表面全体ではんだボールＢが発生した状態、（４）Ａｌ含有量が非常に過多で、はんだ接合部Ｒが全く溶融せず、はんだ接合部Ｒ全体が単にはんだボールＢの集合体である状態を示している。各図において、図示の便宜上はんだボールは実際より拡大して示してある。
図１５（１）および（２）に、それぞれＳｎ−７．０ｗｔ％Ｚｎ−０．０４ｗｔ％ＡｌおよびＳｎ−７．０ｗｔ％％Ｚｎ−３．０ｗｔ％Ｂｉ−０．０４ｗｔ％Ａｌの組成のはんだ粉末を配合したはんだペーストを用いたはんだ接合部の外観写真を示す。いずれも、はんだ合金のＡｌ含有量が本発明の上限である０．００８０ｗｔ％（Ｂｉなしの場合）または０．０１００ｗｔ％（Ｂｉありの場合）を大きく超えた組成であり、はんだ接合部の表面全体にはんだボールが発生している。個々のはんだボールＢは、はんだペーストに配合したはんだ合金粉末粒子に対応した粒径であり、はんだ粉末粒子が溶融せずに残存した状態であると考えられる。
表３および表４に、Ａｌ含有量を種々に変えたはんだ合金について、はんだ接合部におけるはんだボールの発生量を示す。ここで、表３は第１発明に関係するＢｉなしの合金について、表４は第２発明に関係するＢｉありの合金について、それぞれはんだボール発生個数、はんだボール発生率、接合部良否判定結果を示す。表３および表４に示した結果に基づいて、Ａｌ含有量とはんだボール発生率との関係をそれぞれ図１６および図１７に示す。

上記の結果から、Ａｌ含有量が本発明の上限を超えるとはんだボール発生率が急激に増加することが分かる。すなわち、Ｂｉなしのはんだ合金の場合には第１発明に従ってＡｌ含有量を０．００８０ｗｔ％以下とし、Ｂｉありのはんだ合金の場合には第２発明に従ってＡｌ含有量を０．０１００ｗｔ％以下とすれば、はんだボールの発生を実質的に防止できることが分かる。
Ａｌ含有量が多いとはんだボールの発生が顕著になるのは、以下の理由によると考えられる。
Ａｌ酸化膜を構成する酸化アルミニウム（Ａｌ_２Ｏ_３）は高融点（２０１５℃）であり、２００℃程度のはんだ接合温度では全く溶融しない。
Ａｌ含有量が適正範囲内であれば、はんだ粉末粒子表面のＡｌ酸化膜は非常に薄く機械的に弱いシェルであり、はんだ接合温度でそれ自体は溶融しなくても内部のはんだが溶融すると自立できずに崩壊してしまい、はんだ粒子同士の溶融・合体により正常な接合部が形成される。崩壊したＡｌ酸化膜は、はんだ接合部内に微量の不純物として含有されるだけであり、はんだ接合品質に対して実質的な影響は及ぼさない。
これに対して、Ａｌ含有量が適正範囲より多すぎると、はんだ粉末粒子表面に形成されたＡｌ酸化膜は厚くなり、機械的に強固なシェルを形成するため、はんだ接合時に崩壊せずに自立構造物として維持され、はんだ粉末粒子同士の溶融・合体を妨げる結果、個々のはんだ粒子がそれぞれはんだボールとして残存する。
このように、本発明のはんだ合金においてＡｌ含有量を上限値以下に限定することは、前述した合金特性としての濡れ性確保と同様に、はんだ粉末特性としてのはんだボール発生防止のためにも、非常に重要である。
以上説明したように、本発明の範囲内の化学組成を有するはんだ合金は、環境に有害なＰｂを含有することなく、従来のＰｂ−Ｓｎはんだ合金に近い低融点と良好な濡れ性を確保できる。
また、本発明のはんだ合金は、主たる合金成分であるＺｎが安価であり、典型的には電気・電子機器に従来多量に用いられていたＰｂ−Ｓｎはんだ合金と同程度に安価に提供される。
本発明のはんだ合金は、例えば酸素、窒素、水素等の不可避的不純物を少量含んでいても特に問題はない。ただし、酸素は多量に存在するとはんだ合金を脆くする恐れがあるので、酸素含有量は極力微量にすべきである。
産業上の利用可能性
本発明によれば、環境に対して悪影響を及ぼすことがなく、従来のＰｂ−Ｓｎはんだ合金に匹敵するはんだ付け性を有するはんだ合金およびそれを用いたはんだ接合部が提供される。
【図面の簡単な説明】
図１は、濡れ性を評価するためのメニスカス試験の方法を示すグラフである。
図２は、ラップジョイント接合強度試験の方法を示す模式図である。
図３は、Ｘｗｔ％Ｚｎ−０．００６０ｗｔ％Ａｌ−Ｓｎはんだ合金のＺｎ含有量（Ｘ）と融点（液相線温度）との関係を示すグラフである。
図４は、Ｘｗｔ％Ｚｎ−０．００６０ｗｔ％Ａｌ−Ｓｎはんだ合金のＺｎ含有量（Ｘ）と濡れ時間との関係を示すグラフである。
図５は、４ｗｔ％Ｚｎ−Ｘｗｔ％Ａｌ−Ｓｎはんだ合金のＡｌ含有量（Ｘ）と濡れ時間との関係を示すグラフである。
図６は、８ｗｔ％Ｚｎ−Ｘｗｔ％Ａｌ−Ｓｎはんだ合金のＡｌ含有量（Ｘ）と濡れ時間との関係を示すグラフである。
図７は、１０ｗｔ％Ｚｎ−Ｘｗｔ％Ａｌ−Ｓｎはんだ合金のＡｌ含有量（Ｘ）と濡れ時間との関係を示すグラフである。
図８は、Ｘｗｔ％Ｚｎ−３Ｂｉ−０．００６０ｗｔ％Ａｌ−Ｓｎはんだ合金のＺｎ含有量（Ｘ）と融点（液相線温度）との関係を示すグラフである。
図９は、８Ｚｎ−Ｘｗｔ％Ｂｉ−０．００６０ｗｔ％Ａｌ−Ｓｎはんだ合金のＢｉ含有量（Ｘ）と融点（液相線温度）との関係を示すグラフである。
図１０は、８ｗｔ％Ｚｎ−Ｘｗｔ％Ｂｉ−０．００６０ｗｔ％Ａｌ−Ｓｎはんだ合金のＢｉ含有量（Ｘ）と濡れ時間との関係を示すグラフである。
図１１は、８ｗｔ％Ｚｎ−３ｗｔ％Ｂｉ−Ｘｗｔ％Ａｌ−Ｓｎはんだ合金のＡｌ含有量（Ｘ）と濡れ時間との関係を示すグラフである。
図１２は、種々の組成のはんだ合金について、ラップジョイント接合強度を比較して示すグラフである。
図１３は、Ｓｎ−Ｚｎ−Ａｌだ合金粉末粒子の表面領域における深さ方向の元素分布を示すグラフである。
図１４は、Ｓｎ−Ｚｎ−Ａｌはんだ合金粉末によるはんだ接合部におけるはんだボールの発生状況を示す模式図である。
図１５は、Ｓｎ−Ｚｎ−Ａｌはんだ合金粉末およびＳｎ−Ｚｎ−Ｂｉ−Ａｌはんだ合金粉末によるはんだ接合部に発生したはんだボールの外観写真である。
図１６は、Ｓｎ−Ｚｎ−Ａｌはんだ合金粉末のＡｌ含有量とはんだ接合部におけるはんだボールの発生率との関係を示すグラフである。
図１７は、Ｓｎ−Ｚｎ−Ｂｉ−Ａｌはんだ合金粉末のＡｌ含有量とはんだ接合部におけるはんだボールの発生率との関係を示すグラフである。

Claims

Ｚｎ：３．０〜１４．０ｗｔ％、Ａｌ：０．００２０〜０．００８０ｗｔ％、および残部：Ｓｎおよび不可避的不純物から成るはんだ合金。
請求項１記載のはんだ合金から成る、電気・電子機器のはんだ接合部。
Ｚｎ：３．０〜１４．０ｗｔ％、Ｂｉ：３．０〜６．０ｗｔ％、Ａｌ：０．００２０〜０．０１００ｗｔ％、および残部：Ｓｎおよび不可避的不純物から成るはんだ合金。
請求項３記載のはんだ合金から成る、電気・電子機器のはんだ接合部。