JP4724650B2 - はんだ接合方法およびはんだ接合部 - Google Patents
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電子機器のCu電極を、イミダゾール、ベンゾイミダゾール、アルキルイミダゾール、ベンゾトリアゾール、メルカプトベンゾチアゾール、ピロール、チアゾールのいずれかから成る3000Å以下の厚さの防錆皮膜で被覆する工程と、
Ag2.0wt%以上3wt%未満、Cu0.5〜0.8wt%および残部Snおよび不可避不純物から成るはんだとフラックスとを含むはんだペースト層を上記被覆されたCu電極上に形成する工程と、
加熱しながら、前記防錆皮膜及び前記フラックスを排除した後、上記Cu電極上に、Cu 3 Sn層、Cu 6 Sn 5 層から成り、150℃で100時間加熱した後でも4μm以下である膜厚を有する金属間化合物層を含み、頂部を露出するはんだ接合部を形成する工程、
を含むことを特徴とするはんだ接合方法によって達成される。
はんだ材料として最も基本的な特性である融点については、従来のPb−Snはんだ合金と同等の低い融点(220℃以下)を確保する必要がある。Ag含有量が2.0wt%以上であれば、220℃以下の低い融点を確保できる。Ag含有量が2.0wt%未満になると融点が急激に上昇する。一方、Ag含有量が3.0wt%以上になると、針状結晶が多量に発生して電子部品間の短絡を生じ、接合信頼性が低下する。針状結晶による短絡防止および接合信頼性を特に重視する必要がある用途については、Ag含有量を本発明の範囲内で更に2.5wt%以下に限定すると、針状結晶の発生をほぼ完全に防止できるので望ましい。逆に、下記に説明する金属間化合物層の厚さ抑制を特に重視する必要がある用途については、Ag含有量を本発明の範囲内で更に2.5wt%以上に限定すると、金属間化合物層の厚さを更に薄くできるので望ましい。これら両方の条件を同時に満たすAg含有量として2.5wt%が最も望ましい。
はんだ合金とCu電極との界面に金属間化合物が生成することによって、はんだ合金とCu電極とが接合される。すなわち、金属間化合物の生成は接合に必須である。しかし、その一方、金属間化合物層は厚すぎると脆くなり、接合強度が低下する。したがって、金属間化合物層は接合時にできるだけ薄く生成することが望ましく、接合後の熱履歴により成長し難いことが望ましい。本発明者は、電子機器が使用環境で受ける熱履歴として考えられる150℃までの温度について、接合界面の金属間化合物層の厚さを測定した。その結果、Ag含有量が本発明の範囲内であって、Cu含有量が0.5〜0.8wt%の範囲内である場合に、金属間化合物層の厚さを安定して4μm程度以下に抑制できることを見出した。Cu含有量が上記範囲より少なくても多くても、金属間化合物層の厚さは増加する。金属間化合物層の厚さを最も薄く抑制できるCu含有量として0.7wt%が最も望ましい。
本実施例によって、本発明におけるAg含有量の範囲の限定理由を更に具体的に説明する。
本実施例によって、本発明におけるCu含有量の範囲の限定理由を更に具体的に説明する。
加熱処理後の接合強度を調べた。図15に、2.5〜3.5wt%Ag−0.7wt%Cu−Snはんだ合金について、接合したままの状態、125℃で100時間加熱後、および150℃で100時間加熱後の接合強度を示す。図の結果から、本発明により、従来のPb−Snはんだ合金と同等の接合強度が得られることが分かる。特に、従来のPb−Snはんだ合金による接合強度は加熱(熱履歴)により単調に低下するのに対して、本発明による接合強度は加熱によりむしろ向上する傾向が認められる。
Claims (6)
- 下記の工程:
電子機器のCu電極を、イミダゾール、ベンゾイミダゾール、アルキルイミダゾール、ベンゾトリアゾール、メルカプトベンゾチアゾール、ピロール、チアゾールのいずれかから成る3000Å以下の厚さの防錆皮膜で被覆する工程と、
Ag2.0wt%以上3wt%未満、Cu0.5〜0.8wt%および残部Snおよび不可避不純物から成るはんだとフラックスとを含むはんだペースト層を上記被覆されたCu電極上に形成する工程と、
加熱しながら、前記防錆皮膜及び前記フラックスを排除した後、上記Cu電極上に、Cu 3 Sn層、Cu 6 Sn 5 層から成り、150℃で100時間加熱した後でも4μm以下である膜厚を有する金属間化合物層を含み、頂部を露出するはんだ接合部を形成する工程、
を含むことを特徴とするはんだ接合方法。 - 前記はんだ材料がAg2.0〜2.5wt%を含有することを特徴とする請求項1記載のはんだ接合方法。
- 前記はんだ材料がAg2.5wt%以上3.0wt%未満を含有することを特徴とする請求項1記載のはんだ接合方法。
- 前記はんだ材料が、Sb、In、Au、Zn、BiおよびAlから成る群から選択した少なくとも1種の元素を合計で3wt%以下更に含有することを特徴とする請求項1から3までのいずれか1項記載のはんだ接合方法。
- 前記金属間化合物層は、Cu3 Sn層とCu6 Sn5層とが積層して成ることを特徴とする請求項1から4までのいずれか1項記載のはんだ接合方法。
- 請求項1から5までのいずれか1項記載のはんだ接合方法により形成されたはんだ接合部。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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JP2006355149A JP4724650B2 (ja) | 2000-04-17 | 2006-12-28 | はんだ接合方法およびはんだ接合部 |
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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PCT/JP2000/002491 WO2001078931A1 (fr) | 2000-04-17 | 2000-04-17 | Assemblage par brasure |
JPPCT/JP00/02491 | 2000-04-17 | ||
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Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
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JP2001542108 Division | 2000-09-19 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
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JP2007175776A JP2007175776A (ja) | 2007-07-12 |
JP4724650B2 true JP4724650B2 (ja) | 2011-07-13 |
Family
ID=38301475
Family Applications (1)
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Country | Link |
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JP (1) | JP4724650B2 (ja) |
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2009051181A1 (ja) * | 2007-10-19 | 2009-04-23 | Nihon Superior Sha Co., Ltd. | 無鉛はんだ合金 |
TWI401825B (zh) * | 2009-11-27 | 2013-07-11 | Ind Tech Res Inst | 發光二極體晶片的固晶方法及固晶完成之發光二極體 |
JP6214576B2 (ja) * | 2015-01-08 | 2017-10-18 | 三菱電機株式会社 | 半導体デバイスの製造方法 |
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Publication number | Publication date |
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JP2007175776A (ja) | 2007-07-12 |
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A131 | Notification of reasons for refusal |
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A521 | Written amendment |
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A02 | Decision of refusal |
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A521 | Written amendment |
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A911 | Transfer of reconsideration by examiner before appeal (zenchi) |
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A912 | Removal of reconsideration by examiner before appeal (zenchi) |
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A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
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FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
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