JPS60130464A - はんだ付け方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本発明ははんだ付は方法に関する。

はんだ付けは、電子部品の基板への実装等に多用されて
おり、電子機器の組立てにおいて重要な役割を演じてい
る。はんだ付けの良否は、電子機器の信頼性、生産性に
直接影響することから、良好なはんだ付けを行なうため
の努力が払われている。ところが、はんだ付けの良否は
、銅線、銅箔等の被はんだ付は材、フラックス、はんだ
、そして予熱温度、はんだ付は速度等のはんだ付【ノ条
件などの多種多様の条件により影響されるため、最適条
件を設定することは非常に困難な状況にある。

これらの条件の中で、被はんだ付は材の表面状態は、は
んだ付けに非常に大きな影響を及ぼしていることが知ら
れている。銅は導電性に優れ、はんだ付は性も良好であ
ることから、電子部品に多用されている。銅表面は０２
　、ＳＯｘ　、ＮＯｘ　。

Ｈ２Ｓ等の腐蝕性ガスと比較的反応し易いため、比較的
短期間にはんだ付は性が落ちてしまう。そのため、銅表
面に耐環境性をもたすため、錫メッキ、半田メッキ、さ
らに銀メッキ等が施されることがある。これらの表面処
理により優れた耐環境性が付与できるが、その工程が入
ることによるコス１へアップ、特に銀メッキでは材料費
が高いため大きなコストアップの要因となる。

そのため銅合金自体のはんだ付は性を上げ、さらに表面
が各種環境条件により劣化しても、優れたはんだ付は性
を具備する銅合金を被はんだ付は材として採用し、メッ
キ処理工程自体を不要、またはメッキを行なうとしても
薄いメッキで充分な耐環境性を持たせるはんだ付は方法
の開発が嘱望されていた。

本発明者等は特定の銅合金が銅のはんだ付【プ性を改良
し、はんだ付は方法を改善することを見出し、本発明を
成すに到った。即ち、本発明はＴｉを０．０１〜１５重
問％および銅を２０〜９９゜９９重量％含有１′る銅合
金に、はんだをフラックスと共に溶融し、凝固させるこ
とを特徴とするはんだ付は方法を提供する。

本発明に用いる銅合金はＴｉを０゜０１〜１５重量％含
めばよい。Ｔｉ含有量が０．０１重量％未満では、Ｔｉ
の効果が表われない。１５重隋％を越えるとＴｉの効果
はあるものの、得られるメリットが少ない割に費用がか
かり好ましくない。

好ましくはＴｉの含有量は０．０１重量％〜５゜６重量
％である。より好ましくは、Ｔｉを０．０１重量％以上
、４．０重量％未満含有する。この範囲内であれば均一
な固溶体を作る温度範囲が広く、容易に製造できる。最
も好ましくは０．０１重鰻％〜３．０重量％である。３
，０重量％以下５− では溶体化処理温度が低く、非常に容易に均一な固溶体
が得られる。Ｃｕに対するｌｉの固溶限（５，６重量％
、８８５℃）を越えてｌｉを添加したものは、ＴｉＣＬ
ＩａまたはＴｉ２Ｃｕ７Ｔ”表現されるＴ１の金属間化
合物が存在する。この化合物自体は、はんだのぬれ性を
害するので、５゜６％以上のＴｉを含む銅合金はマトリ
ックス固溶体のぬれ性は純銅より優れているものの、Ｔ
ｉの増加に従って、金属間化合物が多くなり、ぬれ性を
低下させるため、均一固溶体と比較してはんだけ性は低
下してくる。一般に、添加元素の固溶限は低温で減少す
るので、常温における固溶限を越えるＴｉを含む銅合金
は、合金の製造時に、溶体化処理を行なうことによりＴ
ｉ１Ｃｕａ等の金属間化合物の生成を防ぎ、良好なはん
だ付は性を確保する。

本発明に用いる銅合金は過飽和固溶体、または固溶体等
の状態で使用することができ、またいかなる組織状態で
使用してもよい。即ち、いかなる履歴を経た、いかなる
組織状態で用いてもよい。

６− 銅合金にＴ１を含有させて良好なはんだ刊【プ性を得る
ことの理由は限定的ではないが、Ｔｉを含む銅合金では
、酸化物の生成速度が小さいこと、酸化物の母材に対づ
る密着性が悪く、クラックを多く含んでいること、酸化
物が他の銅合金の酸化物よりフラックス作用を受Ｇノ易
いことがあけられる。

これらのことにより、Ｔｉを含む銅合金をはんだ付けす
る場合、はんだ付【１時の熱膨張により母材の密着性の
悪い酸化物層が剥離し、残った薄い酸化膜もフラックス
によりたやすく除去されて、母材とはんだのぬれが速や
かに起こるためと解される。

本発明の効果は、表面に銅との酸化物を形成覆るすべて
の銅合金に適応することができる。即ち、種々の金属が
含まれる銅合金中に、Ｔｉが０．０１〜１５重量％含有
すればよい。本発明に用いる銅合金の例としてはＮｉを
７０重量％以下、７−ｎを５０重量％以下、八２を１５
重量％以下含有する銅合金であってもよい。またＦｅを
７重量％以下、ｓｎを１０重量％以下、Ｐｉを５重量％
以下含有する銅合金であってもよい。更に、Ｍｎを５重
量％以下、Ｂｅを５重量％以下、Ｐを８重量％以下、Ａ
ｓを１重量％以下含有する銅合金に適応してもよい。そ
の他、Ｃを０．５重量％以下、Ｃ０を５重量％以下、ｃ
ｒを３重量％以下、ＩＩを３Ｍ間％以下含有する銅合金
あるいは酸素を０゜５重量％以下、Ｓを０．２重鎖％以
下、Ｂｉを０゜３重量％以下、Ｃｄを０．３重量％以下
、Ｚｒを１重量％以下含有する銅合金に適応することも
できる。ｓｂを１重量％以下、Ｔｅを２重量％以下、Ｃ
ａを１重量％以下、Ｍ（Ｉを１１％以下、ｌ−ｉを１重
量％以下含有する銅合金であってもよい。

これらの合金中に不純物として、上記元素以外のものを
総計で１重量％まで含むことも可能である。

本発明に用いる銅合金の製造方法はいかなる方法を用い
てもよい。例えば、真空溶解する方法を用いてもよい。

本発明に用いるフラックスとしては、市販されている殆
んどのフラックスが適用できる。即ち、塩あるいは酸を
含む無機フラックス、有機酸、有機ハロゲン、アミンあ
るいはアミドを含む有機フラックス、ロジン、活性化ロ
ジンあるいはレジンをベースとする樹脂系フラックス、
あるいは無機ガスをフラックスとして用いてもよい。

本発明に用いるはんだとして、Ｓｎを９０重量％以下、
Ｐｂを１０重量％以上含むはんだ、あるいは前記のはん
だ中にｓｂを５重量％以下、Ａｇを５重量％以下含むは
んだを用いてもよい。またＢ１を６０重量％以下、Ｓｎ
を７０重量％以下、Ｃｄを５０重量％以下、Ｉｎを６０
重量％以下、残部Ｐｂを含むはんだでもよい。

ざらに上記はんだ内には、ＪＩＳ　Ｚ−３２８２に記載
する不純物を含んでもよい。

本発明方法において、フラックスは予め銅合金に塗布し
た後に、ある場合には、これを加熱して、溶融はんだと
接触してもよいが、はんだ内にフラックスを含有する、
いわゆるヤニ入りはんだ、またははんだとフラックスを
混合した、いわゆるクリームはんだを用いてはんだ付け
してもよい。

本発明のはんだ付は方法は、被はんだ付は材と９− はんだとのぬれがたやすく発生し、容易にはんだ付【プ
ができる。また、このはんだ付は方法を用いることによ
り、耐環境性が向上する分だけ、銅合金表面のメッキ厚
の減少またはメッキの省略が可能になり、コスト低減に
結びつく。

以下、本発明を実施例により詳細に説明する。

Ｋ１九Ｌ ＴＩの種々の含量を有する銅合金のぬれ時間をメニスコ
グラフを用いて測定した。その結果を第１図に示す。比
較のため、純銅のぬれ時間を点線で示す。

測定方法： 銅合金を５０　Ｘ　５　Ｘ　０　、５　ｍｍに加工し、
その表面の酸化物を取り除いた後、脱脂したものに樹脂
系フラックス（ＣＩＩ　ｗｔ％−０，１８）を塗布した
後、２５０℃で溶融したはんだ（Ｈ６３Ａ　ＪｌＳ　Ｚ
　３２８２）浴に一定速度（４ｎｕ＋／　ｓｅｅ　）で
浸漬し、銅合金がはんだと接触してから、はんだと銅合
金の接触面が溶融はんだ表面と同じ高さになるまでの時
間（ぬれ時間）を測定した。

１０− １ｍ 純銅、Ｔｉを０．４重量％含有する銅合金、Ｔｉを１重
量％含有する銅合金およびＴｉを５重量％含有する銅合
金を５０　ｘ　５　ｘ　Ｏ、５ｍｍに加工し、その表面
の酸化物を取り除いた後、脱脂したものを種々の温度で
１時間酸化処理した後、樹脂系フラックス（Ｃｆｆｉ＝
Ｏ，１８ｗｔ％）を塗布した後、２５０℃で溶融したは
んだ（Ｈ６３Ａ、Ｊ　１Ｓ　３２８２）浴に一定速度（
４ｍＭｓｅｃ　）　テ浸漬し、ぬれ時間を測定した。そ
の結果を第２図に示す。

１１九１ 実施例１に示した方法を用いて、各種合金、各種フラッ
クス、各種はんだのぬれ時間を測定し、各種合金と純銅
のぬれ時間の比を算出した。その結果を表−１に示す。

【図面の簡単な説明】

第１図はＴｉの種々の含有量を有する銅合金のぬれ時間
を示すグラフ、第２図は純銅、Ｔ１を０゜４重量％含有
する銅合金、Ｔｉを１重量％含有する銅合金およびＴｉ
を５重間％含有する銅合金を種々の温度で１時間酸化処
理した後のぬれ時間を示すグラフである。 第１図中、（１）は純銅のぬれ時間、（２）は本発明銅
合金のぬれ時間を現わす。 １３−

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １、　Ｔｉを０６０１〜１５重量％および銅を２０〜９
   ９．９９重量％含有する銅合金に、はんだを７ラツクス
   と共に溶融し、凝固させることを特徴とするはんだ付は
   方法。 ２、　銅合金がＴｉを０．０１〜５．６重量％含有する
   第１項記載の方法。 ３、　銅合金がＴｉを０．０１重量％以上、４゜０重量
   ％未満含有する第１項記載の方法。 ４、　銅合金が過飽和固溶体または固溶体である第１項
   記載の方法。 ５、　銅合金がＴｉを０．０１〜３重量％含有する第１
   項記載の方法。 ６、　銅合金がＮｉを７０重量％以下、Ｚｎを５０重量
   ％以下、Ａｆｉを１５重量％以下含有する第１〜５項い
   ずれかに記載の方法。 ７、　銅合金がＦｅを７重量％以下、Ｓｎを１Ｏ重量％
   以下、Ｐｂを５重量以下含有する第１〜５項いずれかに
   記載の方法。 ８、　銅合金が１ｙｌｎを５重量％以下、Ｂｅを５重量
   ％以下、Ｐを８重量％以下、ＡＳを１重量％以下含有す
   る第１〜５項いずれかに記載の方法。 ９、　銅合金がＣを０．５重量％以下、Ｃ０を５重量％
   以下、Ｏｒを３重量％以下、Ａｇを３重量％以下含有す
   る第１〜５項いずれかに記載の方法。 １０、　銅合金が酸素を０．５重１％以下、Ｓを０．２
   重量％以下、３ｉを０．３重量％以下、Ｃｄを０．３重
   量％以下、ｚｒを１重量％以下含有する第１〜５項いず
   れかに記載の方法。 １１、　銅合金がｓｂを１重量％以下、Ｔｅを２重量％
   以下、Ｃａを１重量％以下、Ｍｏを１重量％以下、Ｌ：
   を１重量％以下含有する第１〜５項いずれかに記載の方
   法。 １２、７ラツクスが無機系フラックス、有機系フラック
   スまたは無機ガスである第１〜１１項いずれかに記載の
   方法。 １３、　はんだがＳｎを９０重量％以下、Ｐｂを１０重
   量％以上含有する第１〜１２項いずれかに記載の方法。 １４、　はんだがＳｎを９０重量％以下、ｓｂを５重量
   ％以下、ＡＱを５重量％以下、残部Ｐｂを含有する第１
   〜１２項いずれかに記載の方法。 １５、　はんだがＳｎを７０重間％以下、３ｉを６０重
   量％以下、Ｃｄを５０重間％以下、Ｉｎを６０重量％以
   下、残部Ｐｂを含有する第１〜１２項いずれかに記載の
   方法。