JPS63289014A - 感光性皮膜組成物 - Google Patents
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- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/004—Photosensitive materials
- G03F7/027—Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds
- G03F7/028—Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds with photosensitivity-increasing substances, e.g. photoinitiators
- G03F7/031—Organic compounds not covered by group G03F7/029
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Epoxy Resins (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は感光性皮膜組成物に関し、更に詳しくは皮膜形
成後、紫外線露光により露光部を硬化させ、ついで有機
溶剤で現像処理して非露光部を除去することによってネ
ガティブ像を形成するためのフォトレジスト、特に、プ
リント回路の形成の際に用いられるソルダーレジストと
して有用なネガティブ型感光性皮膜組成物に関する。
成後、紫外線露光により露光部を硬化させ、ついで有機
溶剤で現像処理して非露光部を除去することによってネ
ガティブ像を形成するためのフォトレジスト、特に、プ
リント回路の形成の際に用いられるソルダーレジストと
して有用なネガティブ型感光性皮膜組成物に関する。
従来、ソルダーレジストとして使用される感光性皮膜組
成物としては例えば特公昭60−32360号や特開昭
60−208377号に記載される組成物が知られてい
る。特公昭60−32360号に示される組成物はエポ
キシ樹脂とエチレン性不飽和カルボン酸との反応生成物
、増感剤(光重合開始剤)、体質顔料及び有機溶剤から
なるものであるが、この組成物で得られる皮膜はソルダ
ーレジストとして使用する上で密着性及びはんだ耐熱性
に問題がある。一方、特開昭60−208377号に示
される組成物はエポキシ樹脂1化学当量と不飽和−塩基
酸の0.8〜1.1化学当量とを反応して得られるエポ
キシアクリレート樹脂とエポキシ樹脂1化学当量と不飽
和−塩基酸の0.2〜0.7化学当量とを反応して得ら
れるエポキシエステル樹脂との混合物に有機溶剤、増感
剤(光重合開始剤)、エポキシ樹脂硬化剤を加えた組成
からなっている。この組成物から得られる皮膜は特公昭
6〇−32360号の組成物の欠点である密着性及びは
んだ耐熱性を改害することができるが、エポキシアクリ
レート樹脂として、エポキシ樹脂1化学当量に対し不飽
和−塩基酸を0.2〜0.7化学当量しか反応させてい
ない反応生成物を用いているため、このようなエポキシ
アクリレート樹脂を含む組成物は貯蔵安定性に問題があ
る。
成物としては例えば特公昭60−32360号や特開昭
60−208377号に記載される組成物が知られてい
る。特公昭60−32360号に示される組成物はエポ
キシ樹脂とエチレン性不飽和カルボン酸との反応生成物
、増感剤(光重合開始剤)、体質顔料及び有機溶剤から
なるものであるが、この組成物で得られる皮膜はソルダ
ーレジストとして使用する上で密着性及びはんだ耐熱性
に問題がある。一方、特開昭60−208377号に示
される組成物はエポキシ樹脂1化学当量と不飽和−塩基
酸の0.8〜1.1化学当量とを反応して得られるエポ
キシアクリレート樹脂とエポキシ樹脂1化学当量と不飽
和−塩基酸の0.2〜0.7化学当量とを反応して得ら
れるエポキシエステル樹脂との混合物に有機溶剤、増感
剤(光重合開始剤)、エポキシ樹脂硬化剤を加えた組成
からなっている。この組成物から得られる皮膜は特公昭
6〇−32360号の組成物の欠点である密着性及びは
んだ耐熱性を改害することができるが、エポキシアクリ
レート樹脂として、エポキシ樹脂1化学当量に対し不飽
和−塩基酸を0.2〜0.7化学当量しか反応させてい
ない反応生成物を用いているため、このようなエポキシ
アクリレート樹脂を含む組成物は貯蔵安定性に問題があ
る。
本発明の目的はソルダーレジスト皮膜として密着性及び
はんだ耐熱性にすぐれているばかりでなく組成物として
貯蔵安定性もすぐれた感光性皮膜組成物を提供すること
である。
はんだ耐熱性にすぐれているばかりでなく組成物として
貯蔵安定性もすぐれた感光性皮膜組成物を提供すること
である。
本発明の感光性皮膜組成物は(a)少くとも2個の末端
エポキシ基を有するエポキシ樹脂とこのエポキシ樹脂の
1エポキシ当量当り少くとも約1.0モルの、α、β−
エチレン結合を1個有する不飽和カルボン酸との反応生
成物、(b)エチレン結合を少くとも2個有する不飽和
化合物、(c)増感剤、(d)前記エポキシ樹脂と同種
又は異種のエポキシ樹脂及び(e)エポキシ樹脂硬化剤
を含むことを特徴とするものである。
エポキシ基を有するエポキシ樹脂とこのエポキシ樹脂の
1エポキシ当量当り少くとも約1.0モルの、α、β−
エチレン結合を1個有する不飽和カルボン酸との反応生
成物、(b)エチレン結合を少くとも2個有する不飽和
化合物、(c)増感剤、(d)前記エポキシ樹脂と同種
又は異種のエポキシ樹脂及び(e)エポキシ樹脂硬化剤
を含むことを特徴とするものである。
本発明で用いられる反応生成物は少くとも2個の末端エ
ポキシ基を有するエポキシ樹脂とα。
ポキシ基を有するエポキシ樹脂とα。
β−エチレン結合を1個有する不飽和カルボン酸との反
応で得られるエポキシアクリレート樹脂である。ここで
エポキシ樹脂としては油化シェルエポキシ(株)商品名
エピコート828.1001.1004などのビスフェ
ノール系エポキシ樹脂;大日本インキ化学(株)の商品
名エピクロンN−695゜N−673,N−665;日
本化薬(株)の商品名EOCN−102゜103、10
4などのクレゾールノボラック系のエポキシ樹脂;ダウ
ケミカル日本(株)の商品名DEN431、438.4
85 ;油化シェルエポキシ(株)の商品名エピコート
152.154などのフェノールノボラック系のエポキ
シ樹脂;チバガイギ−(株)の商品名0163. MY
−720,0500,油化シェルエポキシ(株)の商品
名エピコートE−1031,YL−931,932゜9
33.934,8産化学(株)の商品名TEPIC,セ
ラニーズ社の商品名EPI−REZ SO2などの特殊
多官能エポキシ樹脂が用いられる。
応で得られるエポキシアクリレート樹脂である。ここで
エポキシ樹脂としては油化シェルエポキシ(株)商品名
エピコート828.1001.1004などのビスフェ
ノール系エポキシ樹脂;大日本インキ化学(株)の商品
名エピクロンN−695゜N−673,N−665;日
本化薬(株)の商品名EOCN−102゜103、10
4などのクレゾールノボラック系のエポキシ樹脂;ダウ
ケミカル日本(株)の商品名DEN431、438.4
85 ;油化シェルエポキシ(株)の商品名エピコート
152.154などのフェノールノボラック系のエポキ
シ樹脂;チバガイギ−(株)の商品名0163. MY
−720,0500,油化シェルエポキシ(株)の商品
名エピコートE−1031,YL−931,932゜9
33.934,8産化学(株)の商品名TEPIC,セ
ラニーズ社の商品名EPI−REZ SO2などの特殊
多官能エポキシ樹脂が用いられる。
α、β−エチレン結合を1個有する不飽和カルボン酸と
してはアクリル酸、メタクリル酸。
してはアクリル酸、メタクリル酸。
クロトン酸、ケイ皮酸などがある0本発明において用い
られる好ましいエチレン結合を有する不飽和カルボン酸
はアクリル酸である。なお以上のようなエポキシ樹脂又
は不飽和カルボン酸は各々単独又は2種以上混合して使
用される。
られる好ましいエチレン結合を有する不飽和カルボン酸
はアクリル酸である。なお以上のようなエポキシ樹脂又
は不飽和カルボン酸は各々単独又は2種以上混合して使
用される。
本発明を効果的に実施するためには、エチレン結合を1
個有する不飽和カルボン酸はエポキシ樹脂の1エポキシ
当量当り少なくとも約1.0モル、好ましくは約1.0
〜約2モル、更に好ましくは1〜1.2モルの量で用い
ることが重要である。エポキシ当量とは1グラム当量の
エポキシ基を含むダラム単位で表わされたエポキシ樹脂
の重量として定義される。なお不飽和カルボン酸の使用
駄がエポキシ当量当り約1.0モル未満の場合は表−1
に示すように、得られるエポキシアクリレート樹脂は非
常に不安定で短期間でゲル化してしまう。
個有する不飽和カルボン酸はエポキシ樹脂の1エポキシ
当量当り少なくとも約1.0モル、好ましくは約1.0
〜約2モル、更に好ましくは1〜1.2モルの量で用い
ることが重要である。エポキシ当量とは1グラム当量の
エポキシ基を含むダラム単位で表わされたエポキシ樹脂
の重量として定義される。なお不飽和カルボン酸の使用
駄がエポキシ当量当り約1.0モル未満の場合は表−1
に示すように、得られるエポキシアクリレート樹脂は非
常に不安定で短期間でゲル化してしまう。
表−1
前記エポキシ樹脂と不飽和カルボン酸との反応は予めこ
れらと不活性有機溶剤又は前記エチレン結合を少くとも
2個有する不飽和化合物に溶解し、これに重合禁止剤及
びエステル化触媒を加えて60〜120℃で酸価が20
以下になるまで反応させることにより行なわれる。即ち
この反応では不活性有機溶剤を用いる場合と前記不飽和
化合物を用いる場合がある。前者の場合はこの不飽和化
合物を多く用いたくない時に使用され、また後者の場合
は揮発性の有機溶剤を用いたくない時に使用される。エ
ポキシ樹脂と不飽和カルボン酸との反応を低粘度で均一
に反応させるためにこれらの方法を採る必要がある。こ
こで用いられる不活性有機溶剤としては、ローオクタン
、n−デカン、ケロシン、石油スピリット、石油ナツタ
、トルエン、キシレン、ツルベントナフタ、テトラリン
、デカリンなどの炭化水素類;テトラクロルエタン、ペ
ンタクロルエタン。
れらと不活性有機溶剤又は前記エチレン結合を少くとも
2個有する不飽和化合物に溶解し、これに重合禁止剤及
びエステル化触媒を加えて60〜120℃で酸価が20
以下になるまで反応させることにより行なわれる。即ち
この反応では不活性有機溶剤を用いる場合と前記不飽和
化合物を用いる場合がある。前者の場合はこの不飽和化
合物を多く用いたくない時に使用され、また後者の場合
は揮発性の有機溶剤を用いたくない時に使用される。エ
ポキシ樹脂と不飽和カルボン酸との反応を低粘度で均一
に反応させるためにこれらの方法を採る必要がある。こ
こで用いられる不活性有機溶剤としては、ローオクタン
、n−デカン、ケロシン、石油スピリット、石油ナツタ
、トルエン、キシレン、ツルベントナフタ、テトラリン
、デカリンなどの炭化水素類;テトラクロルエタン、ペ
ンタクロルエタン。
トリクロルエチレン、テトラクロルエチレン。
クロルベンゼン、ブロムベンゼン、ジブロムベンゼン、
クロルトルエンなどのハロゲン化炭化水素類;n−ブチ
ルエーテル、n−ヘキシルエーテル、メチルフェニルエ
ーテル、エチルフェニルエーテル、n−ブチルフェニル
エーテル1などのエーテル類;メチル−n−プロピルケ
トン、メチル−n−へキシルケトン、エチル−n−ブチ
ルケトン、イソホロン、シクロヘキサノンなどのケトン
類;ギ酸−n−ブチル、ギ酸イソアミル、ギ酸−n−ア
ミル、酢酸−n−ブチル、酢酸−n−アミル、酢酸−2
−エチルヘキシル、酢酸シクロヘキシル、メチルセロソ
ルブアセテート、エチルセロソルブアセテート、ブチル
セロソルブアセテート、メチルカルピトールアセテート
、エチルカルピトールアセテート、ブチルカルピトール
アセテートなどのエステル類があり、これらは単独又は
混合して使用される。重合禁止剤としては、ハイドロキ
ノン、p−t−ブチルカテコール、ハイドロキノンモノ
メチルエーテル、ジ−t−ブチル−p−クレゾール、p
−ベンゾキノン、ナフトキノン、ナフテン酸銅などがあ
り、これらはo、ot−t、o重量%の範囲で使用され
る。またエステル化触媒としてはトリエチルアミン。
クロルトルエンなどのハロゲン化炭化水素類;n−ブチ
ルエーテル、n−ヘキシルエーテル、メチルフェニルエ
ーテル、エチルフェニルエーテル、n−ブチルフェニル
エーテル1などのエーテル類;メチル−n−プロピルケ
トン、メチル−n−へキシルケトン、エチル−n−ブチ
ルケトン、イソホロン、シクロヘキサノンなどのケトン
類;ギ酸−n−ブチル、ギ酸イソアミル、ギ酸−n−ア
ミル、酢酸−n−ブチル、酢酸−n−アミル、酢酸−2
−エチルヘキシル、酢酸シクロヘキシル、メチルセロソ
ルブアセテート、エチルセロソルブアセテート、ブチル
セロソルブアセテート、メチルカルピトールアセテート
、エチルカルピトールアセテート、ブチルカルピトール
アセテートなどのエステル類があり、これらは単独又は
混合して使用される。重合禁止剤としては、ハイドロキ
ノン、p−t−ブチルカテコール、ハイドロキノンモノ
メチルエーテル、ジ−t−ブチル−p−クレゾール、p
−ベンゾキノン、ナフトキノン、ナフテン酸銅などがあ
り、これらはo、ot−t、o重量%の範囲で使用され
る。またエステル化触媒としてはトリエチルアミン。
N、N−ジメチルベンジルアミン、N、N−ジメチルア
ニリン、ジアザビシクロオクタン、トリス(ジメチルア
ミノメチル)フェノール、ピリジン、ジメチルアミン塩
酸塩、ジエチルアミン塩酸塩。
ニリン、ジアザビシクロオクタン、トリス(ジメチルア
ミノメチル)フェノール、ピリジン、ジメチルアミン塩
酸塩、ジエチルアミン塩酸塩。
ジメチルアミン酢酸塩、ジエチルアミン酢酸塩、ジメチ
ルアミン硝酸塩などの公知の触媒があり、0.01〜3
.0重量%の範囲で用いられる。
ルアミン硝酸塩などの公知の触媒があり、0.01〜3
.0重量%の範囲で用いられる。
本発明による組成物に用いられるエチレン結合を少くと
も2個有する不飽和化合物は紫外線に対して露光されて
反応しなければならず、そのため末端にエチレン基を含
んでいることが必要であり、組成物を所望の程度に感光
するに充分な量で用いられる。この様な化合物としては
ポリオールの不飽和エステル、特にエチレングリコール
ジ(メタ)アクリレート、ジエチレングリコールジ(メ
タ)アクリレート、グリセリントリ(メタ)アクリレー
ト、1,3−プロピレンジ(メタ)アクリレート、 1
,2.4−ブタントリオールトリ(メタ)アクリレート
、1.4−ベンゼンジオールジ(メタ)アクリレート、
ペンタエリスリトールテトラ(メタ)アクリレート、l
、6−ヘキサンシオールジ(メタ)アクリレート、1,
3−プロパンジオールジ(メタ)アクリレート、分子量
200〜500を有するポリエチレングリコールのビス
(メタ)アクリレート、トリメチロールプロパントリ(
メタ)アクリレートなどや、メチレンビス(メタ)アク
リルアミド、ジエチレントリアミントリ(メタ)アクリ
ルアミド、ビス〔(メタ)アクリルアミドプロポキシ〕
エタン、ビス(メタ)アクリルアミドエチル(メタ)ア
クリレートN−〔(β−ヒドロキシエチルオキシ)エチ
ルコアクリルアミド、ジビニルフタレート、ジビニルテ
レフタレート、ジビニルベンゼン−1,3−ジスルホナ
ート、ジビニルブタン−1,4−ジスルホナートなどが
ある。
も2個有する不飽和化合物は紫外線に対して露光されて
反応しなければならず、そのため末端にエチレン基を含
んでいることが必要であり、組成物を所望の程度に感光
するに充分な量で用いられる。この様な化合物としては
ポリオールの不飽和エステル、特にエチレングリコール
ジ(メタ)アクリレート、ジエチレングリコールジ(メ
タ)アクリレート、グリセリントリ(メタ)アクリレー
ト、1,3−プロピレンジ(メタ)アクリレート、 1
,2.4−ブタントリオールトリ(メタ)アクリレート
、1.4−ベンゼンジオールジ(メタ)アクリレート、
ペンタエリスリトールテトラ(メタ)アクリレート、l
、6−ヘキサンシオールジ(メタ)アクリレート、1,
3−プロパンジオールジ(メタ)アクリレート、分子量
200〜500を有するポリエチレングリコールのビス
(メタ)アクリレート、トリメチロールプロパントリ(
メタ)アクリレートなどや、メチレンビス(メタ)アク
リルアミド、ジエチレントリアミントリ(メタ)アクリ
ルアミド、ビス〔(メタ)アクリルアミドプロポキシ〕
エタン、ビス(メタ)アクリルアミドエチル(メタ)ア
クリレートN−〔(β−ヒドロキシエチルオキシ)エチ
ルコアクリルアミド、ジビニルフタレート、ジビニルテ
レフタレート、ジビニルベンゼン−1,3−ジスルホナ
ート、ジビニルブタン−1,4−ジスルホナートなどが
ある。
好ましいエチレン結合を有する不飽和化合物はポリエチ
レングリコールジアクリレート、トリメチロールプロパ
ントリアクリレート、ペンタエリスリトールテトラアク
リレートなどである0以上のような不飽和化合物の相対
的な量は一般的には0.5〜70重量%、好ましくは約
1〜50重量%である。
レングリコールジアクリレート、トリメチロールプロパ
ントリアクリレート、ペンタエリスリトールテトラアク
リレートなどである0以上のような不飽和化合物の相対
的な量は一般的には0.5〜70重量%、好ましくは約
1〜50重量%である。
本発明による組成物は更に増感剤を含む。この様な材料
は従来技術において周知である。例えば2−t−ブチル
アントラキノン、1−クロルアントラキノン、p−クロ
ルアントラキノン、2−メチルアントラキノン、2−エ
チルアントラキノン、及びオクタメチルアントラキノン
などのアントラキノン及びアルキル置換又はハロゲンで
置換されたアントラキノンの如き置換されたアントラキ
ノン、並びに1,4−ナフトキノン、9.10−フエナ
ントラキノン、1.2−ベンゾアントラキノン。
は従来技術において周知である。例えば2−t−ブチル
アントラキノン、1−クロルアントラキノン、p−クロ
ルアントラキノン、2−メチルアントラキノン、2−エ
チルアントラキノン、及びオクタメチルアントラキノン
などのアントラキノン及びアルキル置換又はハロゲンで
置換されたアントラキノンの如き置換されたアントラキ
ノン、並びに1,4−ナフトキノン、9.10−フエナ
ントラキノン、1.2−ベンゾアントラキノン。
2.3−ベンゾアントラキノン、2−メチル−1,4−
ナフトキノン、2,3−ジクロルナフトキノン、 1.
4−ジメチルアントラキノン、2,3−ジメチルアント
ラキノン、2−フェニルアントラキノン、3−クロル−
2−メチルアントラキノン、7,8,9.10−テトラ
ヒドロナフタセンキノン、1,2,3.4−テトラヒド
ロヘンシアントラセン−7,12−ジオンなどの他の置
換された又は置換されていない多核キノンなどが挙げら
れる。その他の増感剤は四塩化炭素、ブロモホルム、ベ
ンジル、ベンゾフェノン、2゜2−ジェトキシアセトフ
ェノン、4,4−ビスメチルアミノベンゾフェノン、ベ
ンゾイン、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインイソ
ブチルエーテル、ベンジルジメチルケタール、α−ヒド
ロキシイソブチルフェノン、チオキサントン、2−クロ
ロチオキサントン、2−メチル−1−[4−(メチルチ
オ)フェニル]−2−モルホリノー1−プロパノン、1
−ヒドロキシシクロへキシルフェニルケトンなどがある
。所望ならばこれら増感剤の混合物も使用できる。増感
剤は組成物を紫外線に対して増感させるに充分な量で用
いられ、一般には約0.1〜10.0重量%、好ましく
は3〜5重量%である。
ナフトキノン、2,3−ジクロルナフトキノン、 1.
4−ジメチルアントラキノン、2,3−ジメチルアント
ラキノン、2−フェニルアントラキノン、3−クロル−
2−メチルアントラキノン、7,8,9.10−テトラ
ヒドロナフタセンキノン、1,2,3.4−テトラヒド
ロヘンシアントラセン−7,12−ジオンなどの他の置
換された又は置換されていない多核キノンなどが挙げら
れる。その他の増感剤は四塩化炭素、ブロモホルム、ベ
ンジル、ベンゾフェノン、2゜2−ジェトキシアセトフ
ェノン、4,4−ビスメチルアミノベンゾフェノン、ベ
ンゾイン、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインイソ
ブチルエーテル、ベンジルジメチルケタール、α−ヒド
ロキシイソブチルフェノン、チオキサントン、2−クロ
ロチオキサントン、2−メチル−1−[4−(メチルチ
オ)フェニル]−2−モルホリノー1−プロパノン、1
−ヒドロキシシクロへキシルフェニルケトンなどがある
。所望ならばこれら増感剤の混合物も使用できる。増感
剤は組成物を紫外線に対して増感させるに充分な量で用
いられ、一般には約0.1〜10.0重量%、好ましく
は3〜5重量%である。
本発明のフォトレジスト組成物にはレジスト層がはんだ
温度に耐え且つ永久的な保護皮膜として用いられる様に
前記反応生成物用エポキシ樹脂と同種又は異種のエポキ
シ樹脂が3〜50重量%、好ましくは5〜30重量%と
エポキシ樹脂硬化剤が0.1〜30.0重量%、好まし
くは0.1〜20゜0重量%使用される。なおこのエポ
キシ樹脂は単独でも或いは混合して使用してもよい。エ
ポキシ樹脂硬化剤としてはエチレンジアミン、ジエチレ
ントリアミン、トリエチレントリアミン。
温度に耐え且つ永久的な保護皮膜として用いられる様に
前記反応生成物用エポキシ樹脂と同種又は異種のエポキ
シ樹脂が3〜50重量%、好ましくは5〜30重量%と
エポキシ樹脂硬化剤が0.1〜30.0重量%、好まし
くは0.1〜20゜0重量%使用される。なおこのエポ
キシ樹脂は単独でも或いは混合して使用してもよい。エ
ポキシ樹脂硬化剤としてはエチレンジアミン、ジエチレ
ントリアミン、トリエチレントリアミン。
ジエチルアミノプロピルアミン、キシリレンジアミンな
どの脂肪族ポリアミン;メタフェニレンジアミン、ジア
ミノジフェニルメタン、ジアミノジフェニルスルホンな
どの芳香族ポリアミン;メンタンジアミン、イソホロン
ジアミン、ビス(4−アミノ−3−メチルシクロヘキシ
ル)メタンなどの脂環族ポリアミン;2−メチルイミダ
ソール、2−エチル−4−メチルイミダゾール、1−ベ
ンジル−2−メチルイミダゾール、2−フェニルイミダ
ゾール、2−フェニル−4−メチル−5−ヒドロキシメ
チルイミダゾールなどのイミダゾール化合物;トリアゾ
ール、ベンゾトリアゾールなどのトリアゾール化合物;
無水マレイン酸、無水コハク酸、無水フタル酸、HPA
(、ヘキサヒドロ無水フタル酸)、 THPA(1,2
,3,4−ラトラヒドロ無水フタル酸)、NA(無水ナ
ジック酸)、MNA (無水メチルナジック酸)、HE
T(無水クロレンド酸)、DDSA(ドデセニル無水コ
ハク酸)、TMDA(無水トリメリット、酸)、PMD
A (無水ピロメリット酸)などの酸無水物;尿素、メ
ラミン、ジアリルメラミン。
どの脂肪族ポリアミン;メタフェニレンジアミン、ジア
ミノジフェニルメタン、ジアミノジフェニルスルホンな
どの芳香族ポリアミン;メンタンジアミン、イソホロン
ジアミン、ビス(4−アミノ−3−メチルシクロヘキシ
ル)メタンなどの脂環族ポリアミン;2−メチルイミダ
ソール、2−エチル−4−メチルイミダゾール、1−ベ
ンジル−2−メチルイミダゾール、2−フェニルイミダ
ゾール、2−フェニル−4−メチル−5−ヒドロキシメ
チルイミダゾールなどのイミダゾール化合物;トリアゾ
ール、ベンゾトリアゾールなどのトリアゾール化合物;
無水マレイン酸、無水コハク酸、無水フタル酸、HPA
(、ヘキサヒドロ無水フタル酸)、 THPA(1,2
,3,4−ラトラヒドロ無水フタル酸)、NA(無水ナ
ジック酸)、MNA (無水メチルナジック酸)、HE
T(無水クロレンド酸)、DDSA(ドデセニル無水コ
ハク酸)、TMDA(無水トリメリット、酸)、PMD
A (無水ピロメリット酸)などの酸無水物;尿素、メ
ラミン、ジアリルメラミン。
リン酸メラミン、2,4−ジアミノ−6−(α′−メチ
ルイミダゾリルー(1’ ))エチル−8−トリアジン
などの尿素およびメラミン誘導体;およびジシアンジア
ミドなどが単独又は混合して用いられる。
ルイミダゾリルー(1’ ))エチル−8−トリアジン
などの尿素およびメラミン誘導体;およびジシアンジア
ミドなどが単独又は混合して用いられる。
さらに、本発明の組成物には種々の添加剤として例えば
シリカ、タルク、アルミナ、硫酸バリウム、炭酸カルシ
ウム、クレー、アエロジルなどの無機体質顔料、ポリテ
トラフルオロエチレン、ポリクロロトリフルオロエチレ
ン、テトラフルオロエチレン−ヘキサフルオロプロピレ
ン共重合体などの有機体質顔料、クロムフタロイエロー
、シアニングリーンなどの着色顔料、シリコーンおよび
フッ素系の消泡剤、レベリング剤、防カビ剤、防錆剤な
どを添加することができる。
シリカ、タルク、アルミナ、硫酸バリウム、炭酸カルシ
ウム、クレー、アエロジルなどの無機体質顔料、ポリテ
トラフルオロエチレン、ポリクロロトリフルオロエチレ
ン、テトラフルオロエチレン−ヘキサフルオロプロピレ
ン共重合体などの有機体質顔料、クロムフタロイエロー
、シアニングリーンなどの着色顔料、シリコーンおよび
フッ素系の消泡剤、レベリング剤、防カビ剤、防錆剤な
どを添加することができる。
以上述べた本発明の組成物は不活性有機溶剤を含むもの
と全くこれを含まないものとに分けられる。前者の場合
は、この組成物を基板上に所望の厚さに塗布した後、塗
膜を60〜80℃で20〜60分間加熱して有機溶剤を
揮散させた後、像部分が透明な所望パターンをコンタク
ト(接触)またはオフコンタクト(非接触)の状態にし
て基板の塗膜上に置き、紫外線を照射して像部分の透明
な所望のパターンを選択的に露光する。これにより塗膜
の露光領域の組成物は交叉結合を生じて不溶性となる。
と全くこれを含まないものとに分けられる。前者の場合
は、この組成物を基板上に所望の厚さに塗布した後、塗
膜を60〜80℃で20〜60分間加熱して有機溶剤を
揮散させた後、像部分が透明な所望パターンをコンタク
ト(接触)またはオフコンタクト(非接触)の状態にし
て基板の塗膜上に置き、紫外線を照射して像部分の透明
な所望のパターンを選択的に露光する。これにより塗膜
の露光領域の組成物は交叉結合を生じて不溶性となる。
次に非露光領域を現像用有機溶剤(例えばトリクロルエ
タン、トリクロルエチレン、パークロルエチレンなどの
ハロゲン化炭化水素、メチルセロソルブ、エチルセロソ
ルブ、ブチルセロソルブ、ブチルカルピトールなどの多
価アルコールエーテル類;メチルセロソルブアセテート
、エチルセロソルブアセテート、ブチルセロソルブアセ
テートなどの多価アルコールエーテル類;トルエン、キ
シレン、テトラリンなどの芳香族炭化水素類などの少く
とも1種)で除去現像する。なお、本発明の組成物はエ
ポキシ樹脂、不飽和カルボン酸、不飽和化合物及び体質
顔料の組合せにより室温で粘着性のあるものとないもの
とがあり、前者の場合は所望のパターンを得るためのネ
ガフィルムをオフコンタクト状態で、また後者の場合は
ネガフィルムをコンタクト状態で基板上に置く。
タン、トリクロルエチレン、パークロルエチレンなどの
ハロゲン化炭化水素、メチルセロソルブ、エチルセロソ
ルブ、ブチルセロソルブ、ブチルカルピトールなどの多
価アルコールエーテル類;メチルセロソルブアセテート
、エチルセロソルブアセテート、ブチルセロソルブアセ
テートなどの多価アルコールエーテル類;トルエン、キ
シレン、テトラリンなどの芳香族炭化水素類などの少く
とも1種)で除去現像する。なお、本発明の組成物はエ
ポキシ樹脂、不飽和カルボン酸、不飽和化合物及び体質
顔料の組合せにより室温で粘着性のあるものとないもの
とがあり、前者の場合は所望のパターンを得るためのネ
ガフィルムをオフコンタクト状態で、また後者の場合は
ネガフィルムをコンタクト状態で基板上に置く。
不活性有機溶剤を全く含まない組成物は室温で粘着性の
ある液状なので、基板にこの組成物を塗布した後、塗膜
に対し、所望のパターンのネガフィルムをオフコンタク
ト状態にして露光を行なう。露光後の現像は前記と同様
に行なわれる。この様にして得られたパターンは、後に
耐熱性を向上させるために紫外線又は100〜200℃
の熱を加えて反応させることができる。
ある液状なので、基板にこの組成物を塗布した後、塗膜
に対し、所望のパターンのネガフィルムをオフコンタク
ト状態にして露光を行なう。露光後の現像は前記と同様
に行なわれる。この様にして得られたパターンは、後に
耐熱性を向上させるために紫外線又は100〜200℃
の熱を加えて反応させることができる。
以下に本発明の実施例を示すが、本発明はこれらに限定
されるものではない。なお部は全て重量部である。
されるものではない。なお部は全て重量部である。
実施例1
エポキシ当量約190のビスフェノール型エポキシ樹脂
エピコート828〔油化シェルエポキシ(株)i)19
0部、トリメチロールプロパントリアクリレート250
部を温度計、攪拌機および冷却器を備えた3つロフラス
コに投入し、均一に混合した後、ハイドロキノン1部お
よびアクリル酸72部を加え均一に混合し、ついで温度
を100〜110℃に保ちながら、ベンジルジメチルア
ミン2部を添加し、13時間反応させてエポキシアゲリ
レート樹脂を作った。次にこのエポキシアクリレート樹
脂90部に対してフェノールノボラック型エポキシ樹脂
エピコート154〔ダウケミカル日本(株)製〕10部
、増感剤(光重合開始剤)としてベンジルジメチルケタ
ール5部およびエポキシ樹脂硬化剤として2−エチル−
4−メチルイミダゾール0.5部を混合して本発明の感
光性皮膜組成物を作った。次にこの組成物をローラーコ
ーティング法により銅張り積層板(基板)の銅面に厚さ
0.02〜0.05m+aに塗布した後、この塗膜面に
所望のネガパターンを0.1mm離して置き、その上か
ら波長365nmでの強度が10mV/c+m”の平行
な紫外線を20秒間照射露光後、非露光部分をトリクロ
ルエタンで除去現像した。得られた塗膜パターンは26
0℃−20秒のはんだ耐熱性と強い密着性を示した。な
お、本組成物のポットライフ(硬化剤混合後の可使時間
)は25℃で2日で、しかも本組成物からエポキシ樹脂
硬化剤2−エチル−4−メチルイミダゾールを除いた組
成物は50℃で1力月以上ゲル化することなく安定であ
った。
エピコート828〔油化シェルエポキシ(株)i)19
0部、トリメチロールプロパントリアクリレート250
部を温度計、攪拌機および冷却器を備えた3つロフラス
コに投入し、均一に混合した後、ハイドロキノン1部お
よびアクリル酸72部を加え均一に混合し、ついで温度
を100〜110℃に保ちながら、ベンジルジメチルア
ミン2部を添加し、13時間反応させてエポキシアゲリ
レート樹脂を作った。次にこのエポキシアクリレート樹
脂90部に対してフェノールノボラック型エポキシ樹脂
エピコート154〔ダウケミカル日本(株)製〕10部
、増感剤(光重合開始剤)としてベンジルジメチルケタ
ール5部およびエポキシ樹脂硬化剤として2−エチル−
4−メチルイミダゾール0.5部を混合して本発明の感
光性皮膜組成物を作った。次にこの組成物をローラーコ
ーティング法により銅張り積層板(基板)の銅面に厚さ
0.02〜0.05m+aに塗布した後、この塗膜面に
所望のネガパターンを0.1mm離して置き、その上か
ら波長365nmでの強度が10mV/c+m”の平行
な紫外線を20秒間照射露光後、非露光部分をトリクロ
ルエタンで除去現像した。得られた塗膜パターンは26
0℃−20秒のはんだ耐熱性と強い密着性を示した。な
お、本組成物のポットライフ(硬化剤混合後の可使時間
)は25℃で2日で、しかも本組成物からエポキシ樹脂
硬化剤2−エチル−4−メチルイミダゾールを除いた組
成物は50℃で1力月以上ゲル化することなく安定であ
った。
実施例2
エポキシ当量約230のクレゾールノボラック型エポキ
シ樹脂EOCN104(日本化薬(株)Jjl)230
部に対してセロソルブアセテート100部を温度計、攪
拌機および冷却器を備えた3つロフラスコに投入し、8
0〜110℃でEOCN104を溶解した後、ハイドロ
キノンメチルエーテルを1.5部添加溶解混合し、さら
にアクリル酸79部を加え均一に混合し、温度100〜
110℃に保ちながらエステル化触媒としてベンジルジ
メチルアミン2部を加え100〜110℃で10時間反
応させてエポキシアクリレート樹脂を作った0次にこの
エポキシアクリレート樹脂100部に対してペンタエリ
スリトールテトラアクリレート5部、多官能エポキシ樹
脂TEPIC(日i化学(株)Ia)10部、2−メチ
)1.r7’)トラキノン3部、ベンジルジメチルケタ
ール2部、2−フェニルイミダゾール0.5部およびセ
ロソルブアセテート10部を添加して組成物をカーテン
コーター法により基板の銅面に厚さ0.01〜0.02
1101に塗布した後、約60℃で60分間加熱乾燥し
て室温で粘着性のないようにした後、塗膜面に所望のパ
ターンのネガフィルムを密着させ、その上から波長36
5nmでの強度が25mす/crn”の紫外線を20秒
間照射露光し、引続き5%ジオキサン含有トリクロルエ
タンで非露光部分を除去現像し、さらに150℃で30
分間加熱硬化させることにより線間、線幅200μmの
塗膜パターンが再現された。このパターンは260℃−
60秒間のはんだ耐熱性と非常に良好な密着性を示した
。なお本組成物のポットライフは25℃で3日1本組成
物からエポキシ硬化剤を除いた組成物は50℃で3力月
以上保存してもゲル化せず、非常に優れた貯蔵安定性を
示すした。
シ樹脂EOCN104(日本化薬(株)Jjl)230
部に対してセロソルブアセテート100部を温度計、攪
拌機および冷却器を備えた3つロフラスコに投入し、8
0〜110℃でEOCN104を溶解した後、ハイドロ
キノンメチルエーテルを1.5部添加溶解混合し、さら
にアクリル酸79部を加え均一に混合し、温度100〜
110℃に保ちながらエステル化触媒としてベンジルジ
メチルアミン2部を加え100〜110℃で10時間反
応させてエポキシアクリレート樹脂を作った0次にこの
エポキシアクリレート樹脂100部に対してペンタエリ
スリトールテトラアクリレート5部、多官能エポキシ樹
脂TEPIC(日i化学(株)Ia)10部、2−メチ
)1.r7’)トラキノン3部、ベンジルジメチルケタ
ール2部、2−フェニルイミダゾール0.5部およびセ
ロソルブアセテート10部を添加して組成物をカーテン
コーター法により基板の銅面に厚さ0.01〜0.02
1101に塗布した後、約60℃で60分間加熱乾燥し
て室温で粘着性のないようにした後、塗膜面に所望のパ
ターンのネガフィルムを密着させ、その上から波長36
5nmでの強度が25mす/crn”の紫外線を20秒
間照射露光し、引続き5%ジオキサン含有トリクロルエ
タンで非露光部分を除去現像し、さらに150℃で30
分間加熱硬化させることにより線間、線幅200μmの
塗膜パターンが再現された。このパターンは260℃−
60秒間のはんだ耐熱性と非常に良好な密着性を示した
。なお本組成物のポットライフは25℃で3日1本組成
物からエポキシ硬化剤を除いた組成物は50℃で3力月
以上保存してもゲル化せず、非常に優れた貯蔵安定性を
示すした。
実施例3
エポキシ当量約100のフェノールノボラック型エポキ
シ樹脂エピコート154〔油化シェルエポキシ(株)製
〕180部に対してブチルセロソルブアセテート100
部を温度計、攪拌機および冷却器を備えた3つロフラス
コに投入し、80〜110℃でエピコート154を溶解
した後、ハイドロキノン1.5部を添加溶解混合し、さ
らにアクリル酸79部を加え均一に混合し、温度100
〜110℃に保ちながらエステル化触媒としてエチルア
ミン1部を加え100〜110℃で16時間反応させて
エポキシアクリレート樹脂を作った。次にこのエポキシ
アクリレート樹脂100部に対して、トリメチロールプ
ロパントリアクリレート30部、クレゾールノボラック
型エポキシ靭脂EOCN104(日本化薬(株)12)
10部、2−クロルチオキサントン3部、4.4−ジメ
チルアミノベンゾフェノン2部を添加して均一に混合後
、さらにタルク50部、フタロシアニングリーン1部、
シリコーン消泡剤KS66〔信越化学工業(株)製〕1
部、アエロシール200〔日本アエロシール(株)製〕
3部および2−フェニルイミダゾール0.5部を添加混
合分散して本発明の感光性皮膜組成物を作った。次にこ
の組成物をスクリーン印刷法により基板の銅面に厚さ0
.02〜0.05mmに塗布した後、約80℃で30分
間加熱乾燥して有機溶剤を揮散させた後、塗膜面に所望
のパターンのネガフィルムを0.0511I11離して
置き、その上から波長365nmでの強度が20mW/
cm”の平行な紫外線を10秒間照射露光後、非露光部
分をトリクロルエチレンで除去現像し、さらに150℃
で30分間加熱硬化することにより、線間、線幅100
μmの塗膜パターンが再現された。
シ樹脂エピコート154〔油化シェルエポキシ(株)製
〕180部に対してブチルセロソルブアセテート100
部を温度計、攪拌機および冷却器を備えた3つロフラス
コに投入し、80〜110℃でエピコート154を溶解
した後、ハイドロキノン1.5部を添加溶解混合し、さ
らにアクリル酸79部を加え均一に混合し、温度100
〜110℃に保ちながらエステル化触媒としてエチルア
ミン1部を加え100〜110℃で16時間反応させて
エポキシアクリレート樹脂を作った。次にこのエポキシ
アクリレート樹脂100部に対して、トリメチロールプ
ロパントリアクリレート30部、クレゾールノボラック
型エポキシ靭脂EOCN104(日本化薬(株)12)
10部、2−クロルチオキサントン3部、4.4−ジメ
チルアミノベンゾフェノン2部を添加して均一に混合後
、さらにタルク50部、フタロシアニングリーン1部、
シリコーン消泡剤KS66〔信越化学工業(株)製〕1
部、アエロシール200〔日本アエロシール(株)製〕
3部および2−フェニルイミダゾール0.5部を添加混
合分散して本発明の感光性皮膜組成物を作った。次にこ
の組成物をスクリーン印刷法により基板の銅面に厚さ0
.02〜0.05mmに塗布した後、約80℃で30分
間加熱乾燥して有機溶剤を揮散させた後、塗膜面に所望
のパターンのネガフィルムを0.0511I11離して
置き、その上から波長365nmでの強度が20mW/
cm”の平行な紫外線を10秒間照射露光後、非露光部
分をトリクロルエチレンで除去現像し、さらに150℃
で30分間加熱硬化することにより、線間、線幅100
μmの塗膜パターンが再現された。
このパターンは260℃−30秒のはんだ耐熱性と高い
密着性を示した。なお本組成物25℃におけるポットラ
イフは2日、またエポキシ樹脂硬化剤2−フェニルイミ
ダゾールを除いた組成物は50℃で3力月保存してもゲ
ル化せず、非常に優れた貯蔵安定性を示した。
密着性を示した。なお本組成物25℃におけるポットラ
イフは2日、またエポキシ樹脂硬化剤2−フェニルイミ
ダゾールを除いた組成物は50℃で3力月保存してもゲ
ル化せず、非常に優れた貯蔵安定性を示した。
比較例1 (特開昭60−208377号に基づく例)
エポキシ当量約180のフェノールノボラック型エポキ
シ樹脂エピクロンN−740(大日本インキ化学工業(
株)製エポキシ樹脂〕180部に対して、セロソルブア
セテート(不活性有機溶剤)100部を温度計、攪拌機
および冷却器を備えた3つロフラスコに投入し、80〜
110℃でエピクロンN−740を溶解した後、ハイド
ロキノン1部を添加溶解混合する。さらにアクリル酸7
2部を加え均一に混合し、トリエチルアミンを3部加え
、温度110℃で6時間反応させてフェノールノボラッ
ク型エポキシアクリレート樹脂を作った、一方エポキシ
当量220のタレゾールノボラック型エポキシ慴脂エピ
クロンN−660(大日本インキ工業(株)製〕220
部にに対してセロソルブアラテート100部を前記と同
様の方法で投入溶解した後、ハイドロキノン1.5部を
添加混合し、アクリル酸36部を加え均一に混合し、さ
らにトリエチルアミン2部を加え、110℃で4時間反
応させてタレゾールノボラック型エポキシアクリレート
樹脂を作った1次に前記フェノールノボラック型エポキ
シアクリレート樹脂20部とクレゾールノボラック型エ
ポキシアクリレート樹脂80部とを混合し、これにさら
に増感剤(光重合開始剤)として1−クロルアントラキ
ノン4部、エポキシ樹脂硬化剤として2−エチル−4−
メチルイミダゾール1部を混合して比較用感光性皮膜組
成物を作った0次にこの組成物をローラーコーティング
法により基板の銅面に塗布し、60℃で1時間乾燥し、
この塗膜にネガフィルムを密着させ、その上から波長3
65nmでの強度が30mW/cm”の紫外線を20秒
間照射露光後、トリエンで非露光部分を除去現像し、得
られた塗膜パターンを150℃で3分間加熱硬化させた
。このパターンは260’C−30秒のはんだ耐熱性と
強い密着性を示した。
エポキシ当量約180のフェノールノボラック型エポキ
シ樹脂エピクロンN−740(大日本インキ化学工業(
株)製エポキシ樹脂〕180部に対して、セロソルブア
セテート(不活性有機溶剤)100部を温度計、攪拌機
および冷却器を備えた3つロフラスコに投入し、80〜
110℃でエピクロンN−740を溶解した後、ハイド
ロキノン1部を添加溶解混合する。さらにアクリル酸7
2部を加え均一に混合し、トリエチルアミンを3部加え
、温度110℃で6時間反応させてフェノールノボラッ
ク型エポキシアクリレート樹脂を作った、一方エポキシ
当量220のタレゾールノボラック型エポキシ慴脂エピ
クロンN−660(大日本インキ工業(株)製〕220
部にに対してセロソルブアラテート100部を前記と同
様の方法で投入溶解した後、ハイドロキノン1.5部を
添加混合し、アクリル酸36部を加え均一に混合し、さ
らにトリエチルアミン2部を加え、110℃で4時間反
応させてタレゾールノボラック型エポキシアクリレート
樹脂を作った1次に前記フェノールノボラック型エポキ
シアクリレート樹脂20部とクレゾールノボラック型エ
ポキシアクリレート樹脂80部とを混合し、これにさら
に増感剤(光重合開始剤)として1−クロルアントラキ
ノン4部、エポキシ樹脂硬化剤として2−エチル−4−
メチルイミダゾール1部を混合して比較用感光性皮膜組
成物を作った0次にこの組成物をローラーコーティング
法により基板の銅面に塗布し、60℃で1時間乾燥し、
この塗膜にネガフィルムを密着させ、その上から波長3
65nmでの強度が30mW/cm”の紫外線を20秒
間照射露光後、トリエンで非露光部分を除去現像し、得
られた塗膜パターンを150℃で3分間加熱硬化させた
。このパターンは260’C−30秒のはんだ耐熱性と
強い密着性を示した。
しかし本組成物はポットライフ(可使時間)が7時間と
短く、非常に不安定であった。またこの組成物から硬化
剤を除いた組成物について50”Cにおける貯蔵安定性
を調べたところ、3,4日でゲル化した。
短く、非常に不安定であった。またこの組成物から硬化
剤を除いた組成物について50”Cにおける貯蔵安定性
を調べたところ、3,4日でゲル化した。
比較例2(特公昭60−32360号に基づく例)エポ
キシ当量180のフェノールノボラック型エポキシ樹脂
DEN438(ダウケミカル日本(株)ml)180部
に対して、セロソルブアセテート100部を温度計、攪
拌機および冷却器を備えた3つロフラスコに投入し、8
0〜110’CでDEN438を溶解した後、ハイドロ
キノン1部を添加混合し、アクリル酸72部を加え均一
に混合し、さらにベンジルジメチルアミン3部を加え、
温度110’Cで6時間反応させてフェノールノボラッ
ク型エポキシアクリレート樹脂を作った0次にこのエポ
キシアクリレート樹脂70部、セロソルブアセテート3
0部、フタロシアニングリーン0.5部、微粉タルク3
0部、増感剤(光重合開始剤)としてジメトキシフェニ
ルアセトフェノン7部およびシリコーン消泡剤として信
越化学工業(株)製KS66を1部添加混合して比較用
感光性皮膜組成物を作った。次にこの組成物をスクリー
ン印刷法により基板の銅面に塗布し、80℃で30分間
乾燥して塗膜の粘着性がないようにしてから、塗膜に所
望のネガパターンを密着させ、その上から波長365n
mでの強度が30m1+!/cm”の紫外線を15秒間
照射露光後、トリクロルエチレンで未露光部分を溶解除
去現像し、残部の塗膜パターンを150℃で30分間加
熱硬化させた。このパターンは密着性が悪く、しかも2
60℃で5秒程度のはんだ耐熱性しか示さなかった。
キシ当量180のフェノールノボラック型エポキシ樹脂
DEN438(ダウケミカル日本(株)ml)180部
に対して、セロソルブアセテート100部を温度計、攪
拌機および冷却器を備えた3つロフラスコに投入し、8
0〜110’CでDEN438を溶解した後、ハイドロ
キノン1部を添加混合し、アクリル酸72部を加え均一
に混合し、さらにベンジルジメチルアミン3部を加え、
温度110’Cで6時間反応させてフェノールノボラッ
ク型エポキシアクリレート樹脂を作った0次にこのエポ
キシアクリレート樹脂70部、セロソルブアセテート3
0部、フタロシアニングリーン0.5部、微粉タルク3
0部、増感剤(光重合開始剤)としてジメトキシフェニ
ルアセトフェノン7部およびシリコーン消泡剤として信
越化学工業(株)製KS66を1部添加混合して比較用
感光性皮膜組成物を作った。次にこの組成物をスクリー
ン印刷法により基板の銅面に塗布し、80℃で30分間
乾燥して塗膜の粘着性がないようにしてから、塗膜に所
望のネガパターンを密着させ、その上から波長365n
mでの強度が30m1+!/cm”の紫外線を15秒間
照射露光後、トリクロルエチレンで未露光部分を溶解除
去現像し、残部の塗膜パターンを150℃で30分間加
熱硬化させた。このパターンは密着性が悪く、しかも2
60℃で5秒程度のはんだ耐熱性しか示さなかった。
特許出願人 タムラ化研株式会社
「
代理人 弁理士 佐 1)守 雑芥2名′j1’+
壜
Claims (1)
- 1、(a)少くとも2個の末端エポキシ基を有するエポ
キシ樹脂とこのエポキシ樹脂の1エポキシ当量当り少く
とも約1.0モルの、α,β−エチレン結合を1個有す
る不飽和カルボン酸との反応生成物、(b)エチレン結
合を少くとも2個有する不飽和化合物、(c)増感剤、
(d)前記エポキシ樹脂と同種又は異種のエポキシ樹脂
及び(e)エポキシ樹脂硬化剤を含む感光性皮膜組成物
。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP12525387A JPS63289014A (ja) | 1987-05-21 | 1987-05-21 | 感光性皮膜組成物 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP12525387A JPS63289014A (ja) | 1987-05-21 | 1987-05-21 | 感光性皮膜組成物 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS63289014A true JPS63289014A (ja) | 1988-11-25 |
Family
ID=14905535
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP12525387A Pending JPS63289014A (ja) | 1987-05-21 | 1987-05-21 | 感光性皮膜組成物 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS63289014A (ja) |
Cited By (11)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH01141904A (ja) * | 1987-11-30 | 1989-06-02 | Taiyo Ink Seizo Kk | 感光性熱硬化性樹脂組成物及びソルダーレジストパターン形成方法 |
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- 1987-05-21 JP JP12525387A patent/JPS63289014A/ja active Pending
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