JPS63289014A - 感光性皮膜組成物 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は感光性皮膜組成物に関し、更に詳しくは皮膜形
成後、紫外線露光により露光部を硬化させ、ついで有機
溶剤で現像処理して非露光部を除去することによってネ
ガティブ像を形成するためのフォトレジスト、特に、プ
リント回路の形成の際に用いられるソルダーレジストと
して有用なネガティブ型感光性皮膜組成物に関する。

従来、ソルダーレジストとして使用される感光性皮膜組
成物としては例えば特公昭６０−３２３６０号や特開昭
６０−２０８３７７号に記載される組成物が知られてい
る。特公昭６０−３２３６０号に示される組成物はエポ
キシ樹脂とエチレン性不飽和カルボン酸との反応生成物
、増感剤（光重合開始剤）、体質顔料及び有機溶剤から
なるものであるが、この組成物で得られる皮膜はソルダ
ーレジストとして使用する上で密着性及びはんだ耐熱性
に問題がある。一方、特開昭６０−２０８３７７号に示
される組成物はエポキシ樹脂１化学当量と不飽和−塩基
酸の０．８〜１．１化学当量とを反応して得られるエポ
キシアクリレート樹脂とエポキシ樹脂１化学当量と不飽
和−塩基酸の０．２〜０．７化学当量とを反応して得ら
れるエポキシエステル樹脂との混合物に有機溶剤、増感
剤（光重合開始剤）、エポキシ樹脂硬化剤を加えた組成
からなっている。この組成物から得られる皮膜は特公昭
６〇−３２３６０号の組成物の欠点である密着性及びは
んだ耐熱性を改害することができるが、エポキシアクリ
レート樹脂として、エポキシ樹脂１化学当量に対し不飽
和−塩基酸を０．２〜０．７化学当量しか反応させてい
ない反応生成物を用いているため、このようなエポキシ
アクリレート樹脂を含む組成物は貯蔵安定性に問題があ
る。

本発明の目的はソルダーレジスト皮膜として密着性及び
はんだ耐熱性にすぐれているばかりでなく組成物として
貯蔵安定性もすぐれた感光性皮膜組成物を提供すること
である。

本発明の感光性皮膜組成物は（ａ）少くとも２個の末端
エポキシ基を有するエポキシ樹脂とこのエポキシ樹脂の
１エポキシ当量当り少くとも約１．０モルの、α、β−
エチレン結合を１個有する不飽和カルボン酸との反応生
成物、（ｂ）エチレン結合を少くとも２個有する不飽和
化合物、（ｃ）増感剤、（ｄ）前記エポキシ樹脂と同種
又は異種のエポキシ樹脂及び（ｅ）エポキシ樹脂硬化剤
を含むことを特徴とするものである。

本発明で用いられる反応生成物は少くとも２個の末端エ
ポキシ基を有するエポキシ樹脂とα。

β−エチレン結合を１個有する不飽和カルボン酸との反
応で得られるエポキシアクリレート樹脂である。ここで
エポキシ樹脂としては油化シェルエポキシ（株）商品名
エピコート８２８．１００１．１００４などのビスフェ
ノール系エポキシ樹脂；大日本インキ化学（株）の商品
名エピクロンＮ−６９５゜Ｎ−６７３，Ｎ−６６５；日
本化薬（株）の商品名ＥＯＣＮ−１０２゜１０３、１０
４などのクレゾールノボラック系のエポキシ樹脂；ダウ
ケミカル日本（株）の商品名ＤＥＮ４３１、４３８．４
８５　；油化シェルエポキシ（株）の商品名エピコート
１５２．１５４などのフェノールノボラック系のエポキ
シ樹脂；チバガイギ−（株）の商品名０１６３．　ＭＹ
−７２０，０５００，油化シェルエポキシ（株）の商品
名エピコートＥ−１０３１，ＹＬ−９３１，９３２゜９
３３．９３４，８産化学（株）の商品名ＴＥＰＩＣ，セ
ラニーズ社の商品名ＥＰＩ−ＲＥＺ　ＳＯ２などの特殊
多官能エポキシ樹脂が用いられる。

α、β−エチレン結合を１個有する不飽和カルボン酸と
してはアクリル酸、メタクリル酸。

クロトン酸、ケイ皮酸などがある０本発明において用い
られる好ましいエチレン結合を有する不飽和カルボン酸
はアクリル酸である。なお以上のようなエポキシ樹脂又
は不飽和カルボン酸は各々単独又は２種以上混合して使
用される。

本発明を効果的に実施するためには、エチレン結合を１
個有する不飽和カルボン酸はエポキシ樹脂の１エポキシ
当量当り少なくとも約１．０モル、好ましくは約１．０
〜約２モル、更に好ましくは１〜１．２モルの量で用い
ることが重要である。エポキシ当量とは１グラム当量の
エポキシ基を含むダラム単位で表わされたエポキシ樹脂
の重量として定義される。なお不飽和カルボン酸の使用
駄がエポキシ当量当り約１．０モル未満の場合は表−１
に示すように、得られるエポキシアクリレート樹脂は非
常に不安定で短期間でゲル化してしまう。

表−１ 前記エポキシ樹脂と不飽和カルボン酸との反応は予めこ
れらと不活性有機溶剤又は前記エチレン結合を少くとも
２個有する不飽和化合物に溶解し、これに重合禁止剤及
びエステル化触媒を加えて６０〜１２０℃で酸価が２０
以下になるまで反応させることにより行なわれる。即ち
この反応では不活性有機溶剤を用いる場合と前記不飽和
化合物を用いる場合がある。前者の場合はこの不飽和化
合物を多く用いたくない時に使用され、また後者の場合
は揮発性の有機溶剤を用いたくない時に使用される。エ
ポキシ樹脂と不飽和カルボン酸との反応を低粘度で均一
に反応させるためにこれらの方法を採る必要がある。こ
こで用いられる不活性有機溶剤としては、ローオクタン
、ｎ−デカン、ケロシン、石油スピリット、石油ナツタ
、トルエン、キシレン、ツルベントナフタ、テトラリン
、デカリンなどの炭化水素類；テトラクロルエタン、ペ
ンタクロルエタン。

トリクロルエチレン、テトラクロルエチレン。

クロルベンゼン、ブロムベンゼン、ジブロムベンゼン、
クロルトルエンなどのハロゲン化炭化水素類；ｎ−ブチ
ルエーテル、ｎ−ヘキシルエーテル、メチルフェニルエ
ーテル、エチルフェニルエーテル、ｎ−ブチルフェニル
エーテル１などのエーテル類；メチル−ｎ−プロピルケ
トン、メチル−ｎ−へキシルケトン、エチル−ｎ−ブチ
ルケトン、イソホロン、シクロヘキサノンなどのケトン
類；ギ酸−ｎ−ブチル、ギ酸イソアミル、ギ酸−ｎ−ア
ミル、酢酸−ｎ−ブチル、酢酸−ｎ−アミル、酢酸−２
−エチルヘキシル、酢酸シクロヘキシル、メチルセロソ
ルブアセテート、エチルセロソルブアセテート、ブチル
セロソルブアセテート、メチルカルピトールアセテート
、エチルカルピトールアセテート、ブチルカルピトール
アセテートなどのエステル類があり、これらは単独又は
混合して使用される。重合禁止剤としては、ハイドロキ
ノン、ｐ−ｔ−ブチルカテコール、ハイドロキノンモノ
メチルエーテル、ジ−ｔ−ブチル−ｐ−クレゾール、ｐ
−ベンゾキノン、ナフトキノン、ナフテン酸銅などがあ
り、これらはｏ、ｏｔ−ｔ、ｏ重量％の範囲で使用され
る。またエステル化触媒としてはトリエチルアミン。

Ｎ、Ｎ−ジメチルベンジルアミン、Ｎ、Ｎ−ジメチルア
ニリン、ジアザビシクロオクタン、トリス（ジメチルア
ミノメチル）フェノール、ピリジン、ジメチルアミン塩
酸塩、ジエチルアミン塩酸塩。

ジメチルアミン酢酸塩、ジエチルアミン酢酸塩、ジメチ
ルアミン硝酸塩などの公知の触媒があり、０．０１〜３
．０重量％の範囲で用いられる。

本発明による組成物に用いられるエチレン結合を少くと
も２個有する不飽和化合物は紫外線に対して露光されて
反応しなければならず、そのため末端にエチレン基を含
んでいることが必要であり、組成物を所望の程度に感光
するに充分な量で用いられる。この様な化合物としては
ポリオールの不飽和エステル、特にエチレングリコール
ジ（メタ）アクリレート、ジエチレングリコールジ（メ
タ）アクリレート、グリセリントリ（メタ）アクリレー
ト、１，３−プロピレンジ（メタ）アクリレート、　１
，２．４−ブタントリオールトリ（メタ）アクリレート
、１．４−ベンゼンジオールジ（メタ）アクリレート、
ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ｌ
、６−ヘキサンシオールジ（メタ）アクリレート、１，
３−プロパンジオールジ（メタ）アクリレート、分子量
２００〜５００を有するポリエチレングリコールのビス
（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリ（
メタ）アクリレートなどや、メチレンビス（メタ）アク
リルアミド、ジエチレントリアミントリ（メタ）アクリ
ルアミド、ビス〔（メタ）アクリルアミドプロポキシ〕
エタン、ビス（メタ）アクリルアミドエチル（メタ）ア
クリレートＮ−〔（β−ヒドロキシエチルオキシ）エチ
ルコアクリルアミド、ジビニルフタレート、ジビニルテ
レフタレート、ジビニルベンゼン−１，３−ジスルホナ
ート、ジビニルブタン−１，４−ジスルホナートなどが
ある。

好ましいエチレン結合を有する不飽和化合物はポリエチ
レングリコールジアクリレート、トリメチロールプロパ
ントリアクリレート、ペンタエリスリトールテトラアク
リレートなどである０以上のような不飽和化合物の相対
的な量は一般的には０．５〜７０重量％、好ましくは約
１〜５０重量％である。

本発明による組成物は更に増感剤を含む。この様な材料
は従来技術において周知である。例えば２−ｔ−ブチル
アントラキノン、１−クロルアントラキノン、ｐ−クロ
ルアントラキノン、２−メチルアントラキノン、２−エ
チルアントラキノン、及びオクタメチルアントラキノン
などのアントラキノン及びアルキル置換又はハロゲンで
置換されたアントラキノンの如き置換されたアントラキ
ノン、並びに１，４−ナフトキノン、９．１０−フエナ
ントラキノン、１．２−ベンゾアントラキノン。

２．３−ベンゾアントラキノン、２−メチル−１，４−
ナフトキノン、２，３−ジクロルナフトキノン、　１．
４−ジメチルアントラキノン、２，３−ジメチルアント
ラキノン、２−フェニルアントラキノン、３−クロル−
２−メチルアントラキノン、７，８，９．１０−テトラ
ヒドロナフタセンキノン、１，２，３．４−テトラヒド
ロヘンシアントラセン−７，１２−ジオンなどの他の置
換された又は置換されていない多核キノンなどが挙げら
れる。その他の増感剤は四塩化炭素、ブロモホルム、ベ
ンジル、ベンゾフェノン、２゜２−ジェトキシアセトフ
ェノン、４，４−ビスメチルアミノベンゾフェノン、ベ
ンゾイン、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインイソ
ブチルエーテル、ベンジルジメチルケタール、α−ヒド
ロキシイソブチルフェノン、チオキサントン、２−クロ
ロチオキサントン、２−メチル−１−［４−（メチルチ
オ）フェニル］−２−モルホリノー１−プロパノン、１
−ヒドロキシシクロへキシルフェニルケトンなどがある
。所望ならばこれら増感剤の混合物も使用できる。増感
剤は組成物を紫外線に対して増感させるに充分な量で用
いられ、一般には約０．１〜１０．０重量％、好ましく
は３〜５重量％である。

本発明のフォトレジスト組成物にはレジスト層がはんだ
温度に耐え且つ永久的な保護皮膜として用いられる様に
前記反応生成物用エポキシ樹脂と同種又は異種のエポキ
シ樹脂が３〜５０重量％、好ましくは５〜３０重量％と
エポキシ樹脂硬化剤が０．１〜３０．０重量％、好まし
くは０．１〜２０゜０重量％使用される。なおこのエポ
キシ樹脂は単独でも或いは混合して使用してもよい。エ
ポキシ樹脂硬化剤としてはエチレンジアミン、ジエチレ
ントリアミン、トリエチレントリアミン。

ジエチルアミノプロピルアミン、キシリレンジアミンな
どの脂肪族ポリアミン；メタフェニレンジアミン、ジア
ミノジフェニルメタン、ジアミノジフェニルスルホンな
どの芳香族ポリアミン；メンタンジアミン、イソホロン
ジアミン、ビス（４−アミノ−３−メチルシクロヘキシ
ル）メタンなどの脂環族ポリアミン；２−メチルイミダ
ソール、２−エチル−４−メチルイミダゾール、１−ベ
ンジル−２−メチルイミダゾール、２−フェニルイミダ
ゾール、２−フェニル−４−メチル−５−ヒドロキシメ
チルイミダゾールなどのイミダゾール化合物；トリアゾ
ール、ベンゾトリアゾールなどのトリアゾール化合物；
無水マレイン酸、無水コハク酸、無水フタル酸、ＨＰＡ
（、ヘキサヒドロ無水フタル酸）、　ＴＨＰＡ（１，２
，３，４−ラトラヒドロ無水フタル酸）、ＮＡ（無水ナ
ジック酸）、ＭＮＡ　（無水メチルナジック酸）、ＨＥ
Ｔ（無水クロレンド酸）、ＤＤＳＡ（ドデセニル無水コ
ハク酸）、ＴＭＤＡ（無水トリメリット、酸）、ＰＭＤ
Ａ　（無水ピロメリット酸）などの酸無水物；尿素、メ
ラミン、ジアリルメラミン。

リン酸メラミン、２，４−ジアミノ−６−（α′−メチ
ルイミダゾリルー（１’　））エチル−８−トリアジン
などの尿素およびメラミン誘導体；およびジシアンジア
ミドなどが単独又は混合して用いられる。

さらに、本発明の組成物には種々の添加剤として例えば
シリカ、タルク、アルミナ、硫酸バリウム、炭酸カルシ
ウム、クレー、アエロジルなどの無機体質顔料、ポリテ
トラフルオロエチレン、ポリクロロトリフルオロエチレ
ン、テトラフルオロエチレン−ヘキサフルオロプロピレ
ン共重合体などの有機体質顔料、クロムフタロイエロー
、シアニングリーンなどの着色顔料、シリコーンおよび
フッ素系の消泡剤、レベリング剤、防カビ剤、防錆剤な
どを添加することができる。

以上述べた本発明の組成物は不活性有機溶剤を含むもの
と全くこれを含まないものとに分けられる。前者の場合
は、この組成物を基板上に所望の厚さに塗布した後、塗
膜を６０〜８０℃で２０〜６０分間加熱して有機溶剤を
揮散させた後、像部分が透明な所望パターンをコンタク
ト（接触）またはオフコンタクト（非接触）の状態にし
て基板の塗膜上に置き、紫外線を照射して像部分の透明
な所望のパターンを選択的に露光する。これにより塗膜
の露光領域の組成物は交叉結合を生じて不溶性となる。

次に非露光領域を現像用有機溶剤（例えばトリクロルエ
タン、トリクロルエチレン、パークロルエチレンなどの
ハロゲン化炭化水素、メチルセロソルブ、エチルセロソ
ルブ、ブチルセロソルブ、ブチルカルピトールなどの多
価アルコールエーテル類；メチルセロソルブアセテート
、エチルセロソルブアセテート、ブチルセロソルブアセ
テートなどの多価アルコールエーテル類；トルエン、キ
シレン、テトラリンなどの芳香族炭化水素類などの少く
とも１種）で除去現像する。なお、本発明の組成物はエ
ポキシ樹脂、不飽和カルボン酸、不飽和化合物及び体質
顔料の組合せにより室温で粘着性のあるものとないもの
とがあり、前者の場合は所望のパターンを得るためのネ
ガフィルムをオフコンタクト状態で、また後者の場合は
ネガフィルムをコンタクト状態で基板上に置く。

不活性有機溶剤を全く含まない組成物は室温で粘着性の
ある液状なので、基板にこの組成物を塗布した後、塗膜
に対し、所望のパターンのネガフィルムをオフコンタク
ト状態にして露光を行なう。露光後の現像は前記と同様
に行なわれる。この様にして得られたパターンは、後に
耐熱性を向上させるために紫外線又は１００〜２００℃
の熱を加えて反応させることができる。

以下に本発明の実施例を示すが、本発明はこれらに限定
されるものではない。なお部は全て重量部である。

実施例１ エポキシ当量約１９０のビスフェノール型エポキシ樹脂
エピコート８２８〔油化シェルエポキシ（株）ｉ）１９
０部、トリメチロールプロパントリアクリレート２５０
部を温度計、攪拌機および冷却器を備えた３つロフラス
コに投入し、均一に混合した後、ハイドロキノン１部お
よびアクリル酸７２部を加え均一に混合し、ついで温度
を１００〜１１０℃に保ちながら、ベンジルジメチルア
ミン２部を添加し、１３時間反応させてエポキシアゲリ
レート樹脂を作った。次にこのエポキシアクリレート樹
脂９０部に対してフェノールノボラック型エポキシ樹脂
エピコート１５４〔ダウケミカル日本（株）製〕１０部
、増感剤（光重合開始剤）としてベンジルジメチルケタ
ール５部およびエポキシ樹脂硬化剤として２−エチル−
４−メチルイミダゾール０．５部を混合して本発明の感
光性皮膜組成物を作った。次にこの組成物をローラーコ
ーティング法により銅張り積層板（基板）の銅面に厚さ
０．０２〜０．０５ｍ＋ａに塗布した後、この塗膜面に
所望のネガパターンを０．１ｍｍ離して置き、その上か
ら波長３６５ｎｍでの強度が１０ｍＶ／ｃ＋ｍ”の平行
な紫外線を２０秒間照射露光後、非露光部分をトリクロ
ルエタンで除去現像した。得られた塗膜パターンは２６
０℃−２０秒のはんだ耐熱性と強い密着性を示した。な
お、本組成物のポットライフ（硬化剤混合後の可使時間
）は２５℃で２日で、しかも本組成物からエポキシ樹脂
硬化剤２−エチル−４−メチルイミダゾールを除いた組
成物は５０℃で１力月以上ゲル化することなく安定であ
った。

実施例２ エポキシ当量約２３０のクレゾールノボラック型エポキ
シ樹脂ＥＯＣＮ１０４（日本化薬（株）Ｊｊｌ）２３０
部に対してセロソルブアセテート１００部を温度計、攪
拌機および冷却器を備えた３つロフラスコに投入し、８
０〜１１０℃でＥＯＣＮ１０４を溶解した後、ハイドロ
キノンメチルエーテルを１．５部添加溶解混合し、さら
にアクリル酸７９部を加え均一に混合し、温度１００〜
１１０℃に保ちながらエステル化触媒としてベンジルジ
メチルアミン２部を加え１００〜１１０℃で１０時間反
応させてエポキシアクリレート樹脂を作った０次にこの
エポキシアクリレート樹脂１００部に対してペンタエリ
スリトールテトラアクリレート５部、多官能エポキシ樹
脂ＴＥＰＩＣ（日ｉ化学（株）Ｉａ）１０部、２−メチ
）１．ｒ７’）トラキノン３部、ベンジルジメチルケタ
ール２部、２−フェニルイミダゾール０．５部およびセ
ロソルブアセテート１０部を添加して組成物をカーテン
コーター法により基板の銅面に厚さ０．０１〜０．０２
１１０１に塗布した後、約６０℃で６０分間加熱乾燥し
て室温で粘着性のないようにした後、塗膜面に所望のパ
ターンのネガフィルムを密着させ、その上から波長３６
５ｎｍでの強度が２５ｍす／ｃｒｎ”の紫外線を２０秒
間照射露光し、引続き５％ジオキサン含有トリクロルエ
タンで非露光部分を除去現像し、さらに１５０℃で３０
分間加熱硬化させることにより線間、線幅２００μｍの
塗膜パターンが再現された。このパターンは２６０℃−
６０秒間のはんだ耐熱性と非常に良好な密着性を示した
。なお本組成物のポットライフは２５℃で３日１本組成
物からエポキシ硬化剤を除いた組成物は５０℃で３力月
以上保存してもゲル化せず、非常に優れた貯蔵安定性を
示すした。

実施例３ エポキシ当量約１００のフェノールノボラック型エポキ
シ樹脂エピコート１５４〔油化シェルエポキシ（株）製
〕１８０部に対してブチルセロソルブアセテート１００
部を温度計、攪拌機および冷却器を備えた３つロフラス
コに投入し、８０〜１１０℃でエピコート１５４を溶解
した後、ハイドロキノン１．５部を添加溶解混合し、さ
らにアクリル酸７９部を加え均一に混合し、温度１００
〜１１０℃に保ちながらエステル化触媒としてエチルア
ミン１部を加え１００〜１１０℃で１６時間反応させて
エポキシアクリレート樹脂を作った。次にこのエポキシ
アクリレート樹脂１００部に対して、トリメチロールプ
ロパントリアクリレート３０部、クレゾールノボラック
型エポキシ靭脂ＥＯＣＮ１０４（日本化薬（株）１２）
１０部、２−クロルチオキサントン３部、４．４−ジメ
チルアミノベンゾフェノン２部を添加して均一に混合後
、さらにタルク５０部、フタロシアニングリーン１部、
シリコーン消泡剤ＫＳ６６〔信越化学工業（株）製〕１
部、アエロシール２００〔日本アエロシール（株）製〕
３部および２−フェニルイミダゾール０．５部を添加混
合分散して本発明の感光性皮膜組成物を作った。次にこ
の組成物をスクリーン印刷法により基板の銅面に厚さ０
．０２〜０．０５ｍｍに塗布した後、約８０℃で３０分
間加熱乾燥して有機溶剤を揮散させた後、塗膜面に所望
のパターンのネガフィルムを０．０５１１Ｉ１１離して
置き、その上から波長３６５ｎｍでの強度が２０ｍＷ／
ｃｍ”の平行な紫外線を１０秒間照射露光後、非露光部
分をトリクロルエチレンで除去現像し、さらに１５０℃
で３０分間加熱硬化することにより、線間、線幅１００
μｍの塗膜パターンが再現された。

このパターンは２６０℃−３０秒のはんだ耐熱性と高い
密着性を示した。なお本組成物２５℃におけるポットラ
イフは２日、またエポキシ樹脂硬化剤２−フェニルイミ
ダゾールを除いた組成物は５０℃で３力月保存してもゲ
ル化せず、非常に優れた貯蔵安定性を示した。

比較例１　（特開昭６０−２０８３７７号に基づく例）
エポキシ当量約１８０のフェノールノボラック型エポキ
シ樹脂エピクロンＮ−７４０（大日本インキ化学工業（
株）製エポキシ樹脂〕１８０部に対して、セロソルブア
セテート（不活性有機溶剤）１００部を温度計、攪拌機
および冷却器を備えた３つロフラスコに投入し、８０〜
１１０℃でエピクロンＮ−７４０を溶解した後、ハイド
ロキノン１部を添加溶解混合する。さらにアクリル酸７
２部を加え均一に混合し、トリエチルアミンを３部加え
、温度１１０℃で６時間反応させてフェノールノボラッ
ク型エポキシアクリレート樹脂を作った、一方エポキシ
当量２２０のタレゾールノボラック型エポキシ慴脂エピ
クロンＮ−６６０（大日本インキ工業（株）製〕２２０
部にに対してセロソルブアラテート１００部を前記と同
様の方法で投入溶解した後、ハイドロキノン１．５部を
添加混合し、アクリル酸３６部を加え均一に混合し、さ
らにトリエチルアミン２部を加え、１１０℃で４時間反
応させてタレゾールノボラック型エポキシアクリレート
樹脂を作った１次に前記フェノールノボラック型エポキ
シアクリレート樹脂２０部とクレゾールノボラック型エ
ポキシアクリレート樹脂８０部とを混合し、これにさら
に増感剤（光重合開始剤）として１−クロルアントラキ
ノン４部、エポキシ樹脂硬化剤として２−エチル−４−
メチルイミダゾール１部を混合して比較用感光性皮膜組
成物を作った０次にこの組成物をローラーコーティング
法により基板の銅面に塗布し、６０℃で１時間乾燥し、
この塗膜にネガフィルムを密着させ、その上から波長３
６５ｎｍでの強度が３０ｍＷ／ｃｍ”の紫外線を２０秒
間照射露光後、トリエンで非露光部分を除去現像し、得
られた塗膜パターンを１５０℃で３分間加熱硬化させた
。このパターンは２６０’Ｃ−３０秒のはんだ耐熱性と
強い密着性を示した。

しかし本組成物はポットライフ（可使時間）が７時間と
短く、非常に不安定であった。またこの組成物から硬化
剤を除いた組成物について５０”Ｃにおける貯蔵安定性
を調べたところ、３，４日でゲル化した。

比較例２（特公昭６０−３２３６０号に基づく例）エポ
キシ当量１８０のフェノールノボラック型エポキシ樹脂
ＤＥＮ４３８（ダウケミカル日本（株）ｍｌ）１８０部
に対して、セロソルブアセテート１００部を温度計、攪
拌機および冷却器を備えた３つロフラスコに投入し、８
０〜１１０’ＣでＤＥＮ４３８を溶解した後、ハイドロ
キノン１部を添加混合し、アクリル酸７２部を加え均一
に混合し、さらにベンジルジメチルアミン３部を加え、
温度１１０’Ｃで６時間反応させてフェノールノボラッ
ク型エポキシアクリレート樹脂を作った０次にこのエポ
キシアクリレート樹脂７０部、セロソルブアセテート３
０部、フタロシアニングリーン０．５部、微粉タルク３
０部、増感剤（光重合開始剤）としてジメトキシフェニ
ルアセトフェノン７部およびシリコーン消泡剤として信
越化学工業（株）製ＫＳ６６を１部添加混合して比較用
感光性皮膜組成物を作った。次にこの組成物をスクリー
ン印刷法により基板の銅面に塗布し、８０℃で３０分間
乾燥して塗膜の粘着性がないようにしてから、塗膜に所
望のネガパターンを密着させ、その上から波長３６５ｎ
ｍでの強度が３０ｍ１＋！／ｃｍ”の紫外線を１５秒間
照射露光後、トリクロルエチレンで未露光部分を溶解除
去現像し、残部の塗膜パターンを１５０℃で３０分間加
熱硬化させた。このパターンは密着性が悪く、しかも２
６０℃で５秒程度のはんだ耐熱性しか示さなかった。

特許出願人　タムラ化研株式会社 「 代理人　弁理士　佐　１）守　雑芥２名′ｊ１’＋ 壜

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. １、（ａ）少くとも２個の末端エポキシ基を有するエポ
   キシ樹脂とこのエポキシ樹脂の１エポキシ当量当り少く
   とも約１．０モルの、α，β−エチレン結合を１個有す
   る不飽和カルボン酸との反応生成物、（ｂ）エチレン結
   合を少くとも２個有する不飽和化合物、（ｃ）増感剤、
   （ｄ）前記エポキシ樹脂と同種又は異種のエポキシ樹脂
   及び（ｅ）エポキシ樹脂硬化剤を含む感光性皮膜組成物
   。