JPS6264545A - 金属薄膜磁気記録媒体用ポリエステルフイルム - Google Patents
金属薄膜磁気記録媒体用ポリエステルフイルムInfo
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
産業上の利用分野
本発明は金属薄膜磁気記録媒体用ポリエステルフィルム
に関し、更に詳しくはフィルム表面が平滑であり、かつ
走行性に優れた磁気記録層としての金属薄膜面を賦与で
さる表向をもつ金属薄膜磁気記録媒体用二軸配向ポリエ
ステルフィルムに関する。
に関し、更に詳しくはフィルム表面が平滑であり、かつ
走行性に優れた磁気記録層としての金属薄膜面を賦与で
さる表向をもつ金属薄膜磁気記録媒体用二軸配向ポリエ
ステルフィルムに関する。
従来技術
近年、高＠度磁気記録用媒体とし℃、ノくインターを用
いず、磁気記録層として強磁性金ｌｌｌ１薄膜をＡ空蒸
着やスパッタリングの如き甥ｆｆｍ着法又はメッキ法に
よって非磁性支持体上に直接通用することにより形成さ
れた強磁性金Ｊ！１ｉ薄膜磁気記録媒体が提案され℃い
る。例えばＣｏ の蒸着テープ（特開昭５４−１４７
０１０方公報）、Ｃｏ −Ｃｒ合金からなる垂直感化換
（特開昭５２−１３４７０６号公報）等が開示され又い
る。このようなＡＭ、スバンタ又はイオンプレーナイン
タ等の薄膜形成手Ｉｌ！、ｖｃよって形成される金属薄
膜は、厚みが１，５μｍ以下と非ｇＫ薄く、それにも拘
らず、磁気記録層の厚みが３μｍ以上である従来の塗布
ｍ磁気記録媒体（磁性体粉末を有機高分子パインターに
混入させて非磁性支持体に塗布し℃なる磁気記録媒体）
と同等の性能が得られるという特長がある。ところで、
磁気記録媒体の静的特性である保磁力ｔ（ｃ、またはヒ
スナリシスループの角形比のような磁気特性は、用いら
れる非磁性支持体の表面状態にあまり依存しないという
考えがある。このような考えによったものの例として木
国特！Ｉｆ第３，７８７，３２７号明細畜には、真空蒸
着によるＣｏ −Ｃｒの多層４１１Ｂ造体が開示されて
いる。
いず、磁気記録層として強磁性金ｌｌｌ１薄膜をＡ空蒸
着やスパッタリングの如き甥ｆｆｍ着法又はメッキ法に
よって非磁性支持体上に直接通用することにより形成さ
れた強磁性金Ｊ！１ｉ薄膜磁気記録媒体が提案され℃い
る。例えばＣｏ の蒸着テープ（特開昭５４−１４７
０１０方公報）、Ｃｏ −Ｃｒ合金からなる垂直感化換
（特開昭５２−１３４７０６号公報）等が開示され又い
る。このようなＡＭ、スバンタ又はイオンプレーナイン
タ等の薄膜形成手Ｉｌ！、ｖｃよって形成される金属薄
膜は、厚みが１，５μｍ以下と非ｇＫ薄く、それにも拘
らず、磁気記録層の厚みが３μｍ以上である従来の塗布
ｍ磁気記録媒体（磁性体粉末を有機高分子パインターに
混入させて非磁性支持体に塗布し℃なる磁気記録媒体）
と同等の性能が得られるという特長がある。ところで、
磁気記録媒体の静的特性である保磁力ｔ（ｃ、またはヒ
スナリシスループの角形比のような磁気特性は、用いら
れる非磁性支持体の表面状態にあまり依存しないという
考えがある。このような考えによったものの例として木
国特！Ｉｆ第３，７８７，３２７号明細畜には、真空蒸
着によるＣｏ −Ｃｒの多層４１１Ｂ造体が開示されて
いる。
しかしながら、並Ｗ４薄ｍ型の磁気記録媒体−において
は、非磁性支持体表可に形成される金属４映厚さが薄く
、非磁性支持体の衣面状悪（表面凹凸）がそのまま磁気
記録１−表向の凹凸として晃現し、それが雑音の原因と
をることが欠点とされている。
は、非磁性支持体表可に形成される金属４映厚さが薄く
、非磁性支持体の衣面状悪（表面凹凸）がそのまま磁気
記録１−表向の凹凸として晃現し、それが雑音の原因と
をることが欠点とされている。
雑ｔの観点からは、非母性支持体の六而状態が出来るだ
け平滑であることが好ましい。一方ベースフイルムの４
取り９巻出しといったノ）ンドリングの観点から、フィ
ルム相互が平滑であると、フィルム−フィルム相互の滑
り性が恋く、プロンキング現象が発生し％製品にはなり
得す、ベースフィルム表面が粗であることがＩＸされる
。このように、電磁変換特性という観点からは非磁性支
持体の表面が平滑であることがｔ末され、ハンドリング
性の観点からは粗であることが蓋釆される。そこで、こ
れら両者の二律相反する性買を同時Ｖ′ｃ、満足するこ
とが必要とされる。
け平滑であることが好ましい。一方ベースフイルムの４
取り９巻出しといったノ）ンドリングの観点から、フィ
ルム相互が平滑であると、フィルム−フィルム相互の滑
り性が恋く、プロンキング現象が発生し％製品にはなり
得す、ベースフィルム表面が粗であることがＩＸされる
。このように、電磁変換特性という観点からは非磁性支
持体の表面が平滑であることがｔ末され、ハンドリング
性の観点からは粗であることが蓋釆される。そこで、こ
れら両者の二律相反する性買を同時Ｖ′ｃ、満足するこ
とが必要とされる。
更に、金属簿膜磁気記録媒体としては、実際に使用され
る時のム大な問題に、金属薄膜面の走行性かある。従来
の磁性体粉末な有磯鍋号子バインダーに混入させ℃ベー
スフィルムに塗布し℃なる塗布ｍ磁気記録媒体の場合Ｖ
Ｃは、該パインター甲に滑剤を分散させ″Ｃ磁性面の走
行性を同上させることができるが、金属博楔磁気記縁ｄ
体の場合には、このような対策をとることが出来ず、走
行性を安定し℃保つのは非薄に困難であり、待ンこ高温
高湿時の走行性が劣るなどの欠点な有していた。
る時のム大な問題に、金属薄膜面の走行性かある。従来
の磁性体粉末な有磯鍋号子バインダーに混入させ℃ベー
スフィルムに塗布し℃なる塗布ｍ磁気記録媒体の場合Ｖ
Ｃは、該パインター甲に滑剤を分散させ″Ｃ磁性面の走
行性を同上させることができるが、金属博楔磁気記縁ｄ
体の場合には、このような対策をとることが出来ず、走
行性を安定し℃保つのは非薄に困難であり、待ンこ高温
高湿時の走行性が劣るなどの欠点な有していた。
発明の目的
本発明の王たる目的は、フィルム次面が平滑であり、か
つ走行性に優れた磁気記録層とじ℃の金ｗ４薄膜を形成
することができる表面をもつ金＠４膜磁気記録媒体用の
二軸配回ポリエステルフィルムを提供することにある。
つ走行性に優れた磁気記録層とじ℃の金ｗ４薄膜を形成
することができる表面をもつ金＠４膜磁気記録媒体用の
二軸配回ポリエステルフィルムを提供することにある。
本発明のも５１つの目的は、かかるポリエステルフィル
ムの製造方法を提供することである。本発明のさらにも
う１つの目的は、上記ポリエステルフィルムを用いて形
成された金属薄膜磁気記録媒体を提供することである。
ムの製造方法を提供することである。本発明のさらにも
う１つの目的は、上記ポリエステルフィルムを用いて形
成された金属薄膜磁気記録媒体を提供することである。
本発明のその他の目的及び利点は以下の記述から明らか
とをるであろう。
とをるであろう。
発明の構成・効果
本発明によれば、磁気記録層とし℃の金属薄膜が形成さ
れる第１−の表面と、不活性固体微粒子を分散含有する
Ｔｈｍ高分子バインターよりなる易清ノーが塗布されて
いる第２の表面とを有する二軸配向された金Ｊ！１ｉ薄
膜磁気記録媒体用ポリニスアルフィルムであって、上記
６９（ｌの大面は、（ａｌ直径０．２〜２μで高さ２０
〜２００Ａの大きな突起を１ｍｍ３当り１０７個以上１
０９個未満の分布密度で、そして（ｂｌ直径０．０１〜
０．１μで高さ１０〜１００Ａの小さな突起を１ｍｍ３
当９１００個以上１０９個以下の分布密度で有し℃いる
ことを特徴とする金属＃膜磁気記録媒体用ポリエステル
フィルムが提供される。
れる第１−の表面と、不活性固体微粒子を分散含有する
Ｔｈｍ高分子バインターよりなる易清ノーが塗布されて
いる第２の表面とを有する二軸配向された金Ｊ！１ｉ薄
膜磁気記録媒体用ポリニスアルフィルムであって、上記
６９（ｌの大面は、（ａｌ直径０．２〜２μで高さ２０
〜２００Ａの大きな突起を１ｍｍ３当り１０７個以上１
０９個未満の分布密度で、そして（ｂｌ直径０．０１〜
０．１μで高さ１０〜１００Ａの小さな突起を１ｍｍ３
当９１００個以上１０９個以下の分布密度で有し℃いる
ことを特徴とする金属＃膜磁気記録媒体用ポリエステル
フィルムが提供される。
不発明のフィルムを構成するポリエステルは、芳香族二
塩恭酸又はそのエステル形成性誘導体とジオール又はそ
のエステル形成性誘導体とから王として合成される縁状
飽和ポリエステル？包含する。かかるポリエステルの好
ましい８体例とじ又はポリエチレンテレフタレート、ポ
リエチレンインフタレート、ポリテトラメチレンテレツ
メレート、ポリ（１，４−シクロヘキンレンジメチレン
テレフタレートン、ポリエチレン−２，６−ナフタリン
ジカルポキシレート、これらのコポリマー及びこれらと
小割合（好ましくは５電電％以下）の他の熱ｏＪ塑性ポ
リマー（例えばポリエチレン、ポリプロピレン峙）との
混合物を挙げることができる。これらの中ポリエチレン
テレフタレートが＠に好ましく用いられる。
塩恭酸又はそのエステル形成性誘導体とジオール又はそ
のエステル形成性誘導体とから王として合成される縁状
飽和ポリエステル？包含する。かかるポリエステルの好
ましい８体例とじ又はポリエチレンテレフタレート、ポ
リエチレンインフタレート、ポリテトラメチレンテレツ
メレート、ポリ（１，４−シクロヘキンレンジメチレン
テレフタレートン、ポリエチレン−２，６−ナフタリン
ジカルポキシレート、これらのコポリマー及びこれらと
小割合（好ましくは５電電％以下）の他の熱ｏＪ塑性ポ
リマー（例えばポリエチレン、ポリプロピレン峙）との
混合物を挙げることができる。これらの中ポリエチレン
テレフタレートが＠に好ましく用いられる。
ここで云うポリエチレンテレフタレートは、ポリエチレ
ンナレフタレートホモポリマーが最も好適であるが、そ
れのみならず、繰り返し単位の数の８５％以上がエチレ
ンテレフタレート単位よりなり、残りが他の単位である
ような共崖合ポリエチレンテレフタレートも含む。この
他の単位は、特に限定されないが、デトラメチレンテレ
フタレート単位、ｌ、４−シクロヘキシレンジメチレン
テレフタレート単位、エチレン−２，ｂ−ナフタリンジ
カルポ干シレート単位。
ンナレフタレートホモポリマーが最も好適であるが、そ
れのみならず、繰り返し単位の数の８５％以上がエチレ
ンテレフタレート単位よりなり、残りが他の単位である
ような共崖合ポリエチレンテレフタレートも含む。この
他の単位は、特に限定されないが、デトラメチレンテレ
フタレート単位、ｌ、４−シクロヘキシレンジメチレン
テレフタレート単位、エチレン−２，ｂ−ナフタリンジ
カルポ干シレート単位。
エチレン−ｐ−オキジベンゾエート単位等がその代表的
なものとして挙げられる。
なものとして挙げられる。
二軸配向ポリニスデルフィルムは、一般ニ、上述のポリ
エステルを冨法により溶融押出し、二軸に延伸配向しそ
して熱固定することによつて得られる。二軸延伸は例え
ば逐次二軸延伸法。
エステルを冨法により溶融押出し、二軸に延伸配向しそ
して熱固定することによつて得られる。二軸延伸は例え
ば逐次二軸延伸法。
同時二軸姑伸法等の二＠遮伸法で行うことかでさる。こ
の二軸配向ポリニスデルフィルムは、通常、差動走食熱
童ｔｔ（ＤＳＣ）を用い、窒素雰囲気下昇温速度ｌυ℃
／ＷＸで求めた融触熱が４（ｍ７Ｍ以上とをる結晶配向
特性を有する。延伸配向後のフィルムの厚さは一般に、
３〜１００μｍ、更には５〜５０μｍの範囲内にあるこ
とか好ましい。
の二軸配向ポリニスデルフィルムは、通常、差動走食熱
童ｔｔ（ＤＳＣ）を用い、窒素雰囲気下昇温速度ｌυ℃
／ＷＸで求めた融触熱が４（ｍ７Ｍ以上とをる結晶配向
特性を有する。延伸配向後のフィルムの厚さは一般に、
３〜１００μｍ、更には５〜５０μｍの範囲内にあるこ
とか好ましい。
本発明の二軸配向ポリエステルフィルムは、磁気記録層
としての金属薄膜が形成される第１の表面に、（ａｌ直
径が０．２〜２μで、高さが２０〜２００Ａの大きな突
起と、ｆｂｌ直径が０．０１〜０．１μで、Ｉ！６さが
１Ｏ−１０ＣＩＡの小さな突起とを該多く分布して存在
し℃いる点に王たる特徴を有する。これら大、小の突起
の分布のｖｆｊ度もまたｍ貴であり、本発明のフィルム
におい℃は、上記大きな突起（ａｔの分布＆ｊ度は上Ｑ
己第１の表面１ｍｍ３当りＩＬＩ’個以上１０７１１１
未満であり、そして上記小さな突起（ｂｌの分／ｆｈ凹
腿は上記第ｌの成語１ｍｍ３当り１０９個以上１０９個
以下である。第１の表面の大、小の突起がこれらの条件
乞満足するならば、金属薄膜磁気記録媒体とした時の雑
音が飛躍的に減少し、ノイズレベルは格段に優れ、金属
薄ｐＡＩｆｉの走行性にも優れたものとをる。しかして
、大きな突起１ａｌは、直径が０．５〜２μ、特［０，
５〜１．５μの範囲内にあり、その突起の誦さが５０〜
２００Ａ％特に７０〜１５０Ａの範囲内にあり、そして
大きな突起の分布密度は第１の表面１ｍｍ３当り１０４
個以上１０９個以下の範囲内にあることが好適である。
としての金属薄膜が形成される第１の表面に、（ａｌ直
径が０．２〜２μで、高さが２０〜２００Ａの大きな突
起と、ｆｂｌ直径が０．０１〜０．１μで、Ｉ！６さが
１Ｏ−１０ＣＩＡの小さな突起とを該多く分布して存在
し℃いる点に王たる特徴を有する。これら大、小の突起
の分布のｖｆｊ度もまたｍ貴であり、本発明のフィルム
におい℃は、上記大きな突起（ａｔの分布＆ｊ度は上Ｑ
己第１の表面１ｍｍ３当りＩＬＩ’個以上１０７１１１
未満であり、そして上記小さな突起（ｂｌの分／ｆｈ凹
腿は上記第ｌの成語１ｍｍ３当り１０９個以上１０９個
以下である。第１の表面の大、小の突起がこれらの条件
乞満足するならば、金属薄膜磁気記録媒体とした時の雑
音が飛躍的に減少し、ノイズレベルは格段に優れ、金属
薄ｐＡＩｆｉの走行性にも優れたものとをる。しかして
、大きな突起１ａｌは、直径が０．５〜２μ、特［０，
５〜１．５μの範囲内にあり、その突起の誦さが５０〜
２００Ａ％特に７０〜１５０Ａの範囲内にあり、そして
大きな突起の分布密度は第１の表面１ｍｍ３当り１０４
個以上１０９個以下の範囲内にあることが好適である。
他方、小さい突起（ｂｌは、直イ至が０．０５〜０．１
μ、その突起範囲内にあり、そし℃小さい突起の分布密
度は第１０）衣囲１ｍｍ３当り１０７個以上１０９蘭以
下の範囲内にあることが好ましい。
μ、その突起範囲内にあり、そし℃小さい突起の分布密
度は第１０）衣囲１ｍｍ３当り１０７個以上１０９蘭以
下の範囲内にあることが好ましい。
本明細４Ｆにおい又、人、小の突起のｆＬ径及び高さ並
びに突起の分布密度はそれぞれ以下に述べる方法によつ
′Ｃ米めうれる値である。
びに突起の分布密度はそれぞれ以下に述べる方法によつ
′Ｃ米めうれる値である。
突起のｌＩｉ径
（ｌｌ 大さな突起の場合：０＆分干渉劇微鈍にコン
火）を用いて、４００倍の倍率で写真を撮影して２０個
の突起の直径を測定して平均値を算出する。
火）を用いて、４００倍の倍率で写真を撮影して２０個
の突起の直径を測定して平均値を算出する。
（１１）小さな突起の場合二走査型電子顕微鏡を用い℃
、４５０００倍の倍率で写真を撮影し１２０個の突起の
直径を測定して平均値を算出する。
、４５０００倍の倍率で写真を撮影し１２０個の突起の
直径を測定して平均値を算出する。
突起の高さ
く１） 大きな突起の場合：高稍度感針式表１粗さ測
定装＠ ＴＡＬＹＳＴＥＦ’ （ＴＡＹＬＯＲ−ＨＯＢ
ＳＯＮ製）を用い℃、測定長０．５鬼で突起の凹凸の山
ＩＲから谷底までの距離を釆め、七〇Ｊ大値から数えて
７番目のもの？突起間さとする。この副足を５回繰返し
工、平均値をもって突起の簡さとする。
定装＠ ＴＡＬＹＳＴＥＦ’ （ＴＡＹＬＯＲ−ＨＯＢ
ＳＯＮ製）を用い℃、測定長０．５鬼で突起の凹凸の山
ＩＲから谷底までの距離を釆め、七〇Ｊ大値から数えて
７番目のもの？突起間さとする。この副足を５回繰返し
工、平均値をもって突起の簡さとする。
（１１） 小さな突起の場合：脹標測定走ｆ［子ｋＩ
Ａ微誂ＥＭＭ ３０００ （エリオニクス製）を用い
て、平面方向に８万倍として高さ方向ＶＣｉ。
Ａ微誂ＥＭＭ ３０００ （エリオニクス製）を用い
て、平面方向に８万倍として高さ方向ＶＣｉ。
〜３０倍にスケールアンプして突起の萬さを測定する。
測定突起個数を１０個とし、その平均値をもって突起の
高さとする。
高さとする。
（１） 大きな突起の場合：突起の直径の測定＋ｉ＋
と同様にし℃写Ａ’Ｙ５枚熾彪し、この写真から突起の
１ｖＡ数を算出し、１ｍｍ３当りの１＠数に換算しＣ求
める。
と同様にし℃写Ａ’Ｙ５枚熾彪し、この写真から突起の
１ｖＡ数を算出し、１ｍｍ３当りの１＠数に換算しＣ求
める。
（１１） 小さな突起の場合二突起の直径の測定（１
１）と同様にして４Ａを５枚撮影し、この写真から突起
の個数？算出し、１ｍｍ３当りの個数に換算して水める
。
１）と同様にして４Ａを５枚撮影し、この写真から突起
の個数？算出し、１ｍｍ３当りの個数に換算して水める
。
ポリ−ステルフィルムの５８１の表面における１−大き
な突起」は、フィルムに成形する前の一ポリエステル中
に予め不活性（ｊ体倣粒十を分散含有・せしめＣお（こ
とにより形成することができる。この不活性固体微粒子
は、特に限定されないが、分牧言・１時にポリニスナル
の物理的、化学的→性の劣化ぞ笑賀的に起さないもので
あればいかなｓものでも良い。かかる不活性固体微粒子
の好ま（−い具体例とじ又は、■二酸化ケイ素（水引物
、ケイ藻土、ケイ砂１石英等？含む）；（リアルミナ；
（■Ｓｉｎ、分を３０瓜ｆｉｔ％以上含有するケイｒＲ
堪（例えば非晶質或は結晶質の粘土鉱物、アルミノシリ
ケート（焼成物や水和物を含む）、温石綿、ジルコン、
フライ７７シ二等）；０Ｍｇ 、 Ｚｎ 、 Ｚｒ、及
び′ｌ″！の酸化物；■Ｃａ、及びＢＩＬの硫酸塩；■
しｉ 、 Ｎａ 、及びＣ＆のリン酸１（１水素堪や２
水素塩を含む）；■Ｌｔ ＋ Ｎａ。
な突起」は、フィルムに成形する前の一ポリエステル中
に予め不活性（ｊ体倣粒十を分散含有・せしめＣお（こ
とにより形成することができる。この不活性固体微粒子
は、特に限定されないが、分牧言・１時にポリニスナル
の物理的、化学的→性の劣化ぞ笑賀的に起さないもので
あればいかなｓものでも良い。かかる不活性固体微粒子
の好ま（−い具体例とじ又は、■二酸化ケイ素（水引物
、ケイ藻土、ケイ砂１石英等？含む）；（リアルミナ；
（■Ｓｉｎ、分を３０瓜ｆｉｔ％以上含有するケイｒＲ
堪（例えば非晶質或は結晶質の粘土鉱物、アルミノシリ
ケート（焼成物や水和物を含む）、温石綿、ジルコン、
フライ７７シ二等）；０Ｍｇ 、 Ｚｎ 、 Ｚｒ、及
び′ｌ″！の酸化物；■Ｃａ、及びＢＩＬの硫酸塩；■
しｉ 、 Ｎａ 、及びＣ＆のリン酸１（１水素堪や２
水素塩を含む）；■Ｌｔ ＋ Ｎａ。
及びＩ（の女息香酸塩；ＱＳ、）Ｃａ、Ｂａ、Ｚｎ、及
びＭｎのナレフタル（ｄ塩１ （！Ｊ Ｍｇ ＊ Ｃａ
＋ Ｂａ Ｉ ｚｎ ＋ Ｃａ ＋Ｐｂ ＋ ｂｒ
＊ Ｍｎ ＋ Ｆｅ ＊ Ｃｏ、及びＮｉのチタン酸塩
：［相］Ｂａ、及びｐｂ のクロム酸塩：＠炭素（例え
ばカーボンブランク、グラファイト等）；＠カラス（例
えばガラス粉、ガラスピーズ４）；ｏｃａ。
びＭｎのナレフタル（ｄ塩１ （！Ｊ Ｍｇ ＊ Ｃａ
＋ Ｂａ Ｉ ｚｎ ＋ Ｃａ ＋Ｐｂ ＋ ｂｒ
＊ Ｍｎ ＋ Ｆｅ ＊ Ｃｏ、及びＮｉのチタン酸塩
：［相］Ｂａ、及びｐｂ のクロム酸塩：＠炭素（例え
ばカーボンブランク、グラファイト等）；＠カラス（例
えばガラス粉、ガラスピーズ４）；ｏｃａ。
及びＭｇの炭＃塩；０ホタル石；［相］Ｚｎ、及びＭ。
の硫化物：及び［株］テトラフルオロエチレン、ポリエ
チレン等の有機高分子物質の粉末が例示される。史に好
ましくは、無水ケイ酸、含水ケイ酸、酸化アルミニウム
、ケイ酸アルミニウム（焼成物、水和物等を含むン、燐
酸１１ｊチウム。
チレン等の有機高分子物質の粉末が例示される。史に好
ましくは、無水ケイ酸、含水ケイ酸、酸化アルミニウム
、ケイ酸アルミニウム（焼成物、水和物等を含むン、燐
酸１１ｊチウム。
燐酸３リチウム、燐酸ナトリウム、燐酸カルシウム、硫
酸バリウム、１１１！化チタン、安息香酸リチウム、こ
れらの化合物の複塩（水和物を含む）。
酸バリウム、１１１！化チタン、安息香酸リチウム、こ
れらの化合物の複塩（水和物を含む）。
ガラス粉、粘土（カオリン、ベントナイト、白土等を含
む）、タルク、ケイ礫土、炭酸カルシウム等が例示され
る。特に好ましくは、二酸化ケイ素、酸化チタン、炭酸
力ルンウムが挙げられる。不活性固体微粒子は平均粒径
が０．０５〜０．５μ、９に０．０５〜ｕ 、 ｉμの
範囲にあるものが好ましい。また、かかる不活性固体微
粒子はあまりに大きな粒子を含むべきではなく、含んで
いたとじ℃も極く少瀘であるべきであり、従つ”ｃａ径
が１μより大きい粒子の割合は全粒子の蔦瀘を基準にし
１５％以下、符に２％以下であることが好ましい。
む）、タルク、ケイ礫土、炭酸カルシウム等が例示され
る。特に好ましくは、二酸化ケイ素、酸化チタン、炭酸
力ルンウムが挙げられる。不活性固体微粒子は平均粒径
が０．０５〜０．５μ、９に０．０５〜ｕ 、 ｉμの
範囲にあるものが好ましい。また、かかる不活性固体微
粒子はあまりに大きな粒子を含むべきではなく、含んで
いたとじ℃も極く少瀘であるべきであり、従つ”ｃａ径
が１μより大きい粒子の割合は全粒子の蔦瀘を基準にし
１５％以下、符に２％以下であることが好ましい。
ポリエステル甲に分散含有させる不活性固体微粒子の菫
は、ポリニスデルを４準にし″（通常υ、υ０５〜１崖
菫％、好ましくは０．００５〜０．５車量％、特に好ま
しくは０．０１〜０．３ Ｊ［重％である。
は、ポリニスデルを４準にし″（通常υ、υ０５〜１崖
菫％、好ましくは０．００５〜０．５車量％、特に好ま
しくは０．０１〜０．３ Ｊ［重％である。
不活性固体微粒子を分散含有したポリエステルは、例え
ば、該微粒子を（好ましくはグリコールスラリーにして
）ポリエステルの反応系に添加することＶこよって、例
えばエステル交換反応、エステル化反工６．！縮合反応
の任意の段階ＩＣ添加することによって製造することが
できる。
ば、該微粒子を（好ましくはグリコールスラリーにして
）ポリエステルの反応系に添加することＶこよって、例
えばエステル交換反応、エステル化反工６．！縮合反応
の任意の段階ＩＣ添加することによって製造することが
できる。
好ましいＩＩＡ７Ｊ１１時期は崖縮合反シロの初期（例
えば固有粘匣が０．３ Ｋ達するまでの段階）である。
えば固有粘匣が０．３ Ｋ達するまでの段階）である。
また、上記不活性固体微粒子はポリニスナルの製造に用
いられるエステル交換触媒（例えばＣａ 、 Ｍｇ 、
Ｍｎなどの金属の化合物）と例えばリン化合物との反
応によって形成される不溶性触媒ＩＡｄ！であってもよ
（、そのような不活性触媒残置の形成はニスアル交換触
媒とリン化合物のモル比やム縮合反応の温度９時間等を
調節することによって行なうことができる。
いられるエステル交換触媒（例えばＣａ 、 Ｍｇ 、
Ｍｎなどの金属の化合物）と例えばリン化合物との反
応によって形成される不溶性触媒ＩＡｄ！であってもよ
（、そのような不活性触媒残置の形成はニスアル交換触
媒とリン化合物のモル比やム縮合反応の温度９時間等を
調節することによって行なうことができる。
不活性固体微粒子を分散含有するポリニスデルは常法に
従って溶融成形してフィルムとし、更に二軸延伸する。
従って溶融成形してフィルムとし、更に二軸延伸する。
延伸は、また、良く知られた方法で行なうことが′Ｔ：
きる。七の際、延伸倍不は得られる二軸延伸フィルムの
ヤング４籍に縦方向のヤング率が所望の値をとるよ’Ｉ
Ｋ選ばれる。一般に、フィルムは７０〜１５０℃の温度
で縦方向に３．４〜５．５倍、更には３．５〜５．５倍
延伸され、更にこれと直角方向（幅方同）に３．０〜４
．５倍、更に３．２〜４．０倍に延伸される。
きる。七の際、延伸倍不は得られる二軸延伸フィルムの
ヤング４籍に縦方向のヤング率が所望の値をとるよ’Ｉ
Ｋ選ばれる。一般に、フィルムは７０〜１５０℃の温度
で縦方向に３．４〜５．５倍、更には３．５〜５．５倍
延伸され、更にこれと直角方向（幅方同）に３．０〜４
．５倍、更に３．２〜４．０倍に延伸される。
二４ｓｆ、伸フィルムは通′濱１８Ｌｌ〜２３５℃、好
ましくは２００〜２２５℃の温度で熱固定（ヒートセン
ト）される。
ましくは２００〜２２５℃の温度で熱固定（ヒートセン
ト）される。
以上に述べた延伸、熱固定処理により表面に大きな突起
が分布存在するポリエステルフィルムが得られる。
が分布存在するポリエステルフィルムが得られる。
他方、ポリエステルフィルムの第１の表面−における「
小さな突起」は、上記の如くして形成されろ少なくとも
一軸方向に延伸されたフィルムの第１の表面に、無機又
は有機の不活性固体微粒子と有機高分子バインダーとか
らなるｍｓ組成物を塗布することにより形成することが
できる。
小さな突起」は、上記の如くして形成されろ少なくとも
一軸方向に延伸されたフィルムの第１の表面に、無機又
は有機の不活性固体微粒子と有機高分子バインダーとか
らなるｍｓ組成物を塗布することにより形成することが
できる。
この塗布組成物に含ませうる不活性固体微粒子の構成材
料は、１大きな突起」の形成のためにポリエステルに添
加される不活性固体微粒子について述べたものの中から
適当に選ぶことができるが、中でも、シリカ、アルミナ
、酸化チタン、カナリフ９カーボンブランク等が好適に
使用される。小さな突起を形成するのに使用される不活
性固体微粒子は、それがほぼそのまま小さな突起の輪郭
を形成するので、小さな突起に対応し℃、一般にｏ、ｏ
ｉ〜０．１μ、好ましくは０．０５〜０．０９μ、さ
らに好ましくは０．０５〜０．０８μの範囲内の平均粒
径を有することができる。また、かかる不活性固体微粒
子は、その徨度分布においてあまり大きな粒子は含むべ
きではなく、粒子径が０．３μより大きい粒子の割合は
全固体粒子の高々５ム菫％であること力；望ましい。
料は、１大きな突起」の形成のためにポリエステルに添
加される不活性固体微粒子について述べたものの中から
適当に選ぶことができるが、中でも、シリカ、アルミナ
、酸化チタン、カナリフ９カーボンブランク等が好適に
使用される。小さな突起を形成するのに使用される不活
性固体微粒子は、それがほぼそのまま小さな突起の輪郭
を形成するので、小さな突起に対応し℃、一般にｏ、ｏ
ｉ〜０．１μ、好ましくは０．０５〜０．０９μ、さ
らに好ましくは０．０５〜０．０８μの範囲内の平均粒
径を有することができる。また、かかる不活性固体微粒
子は、その徨度分布においてあまり大きな粒子は含むべ
きではなく、粒子径が０．３μより大きい粒子の割合は
全固体粒子の高々５ム菫％であること力；望ましい。
前記塗布組成物は有機溶剤型又は水性型のいずれであっ
てもよいが、物に水性型の塗布組成物であることが好ま
しく、従つ℃、それに使用される有機高分子バインクー
は水浴性、水＃調性又は水分散性高分子物質であること
が望ましくＳｏ 使用しうる有機高分子バ・ｒンターとしては、例えば、
共厘合ポリエチレンテレフタレート。
てもよいが、物に水性型の塗布組成物であることが好ま
しく、従つ℃、それに使用される有機高分子バインクー
は水浴性、水＃調性又は水分散性高分子物質であること
が望ましくＳｏ 使用しうる有機高分子バ・ｒンターとしては、例えば、
共厘合ポリエチレンテレフタレート。
ポリウレタン、ナイロン、メラミン、アクリル酸金属塩
とフィルム形成性高分子物員寺があげられる。これらバ
インター成分の中、特に架橋剤とＬ”（のアクリル酸金
属塩（例えばアクリル酸アルミニウムなど）とフィルム
形成性高分子物質とからなるバインダーが好ましい。こ
こで、フィルム形成性高分子物′ｊＩ［ＶＣは実質的に
線状の水浴性、水Ｍｅ詞性ないし水分散性の高分子物質
が包含さねる。水溶性間分千′＠質としては、例えはポ
リビニルアルコール、水浴性メラミン樹Ｓ＋＝ 、水浴
性成；４ｃ樹脂、ポリアクリルアミド、ポリメメクリル
アミド、フエ／−Ｒａｈ旨（例えばレゾ−７し樹脂ン、
ポリ（Ｃ１−ｃ、 ）アルキレングリコール（例えは、
ポリエチレングリコール。
とフィルム形成性高分子物員寺があげられる。これらバ
インター成分の中、特に架橋剤とＬ”（のアクリル酸金
属塩（例えばアクリル酸アルミニウムなど）とフィルム
形成性高分子物質とからなるバインダーが好ましい。こ
こで、フィルム形成性高分子物′ｊＩ［ＶＣは実質的に
線状の水浴性、水Ｍｅ詞性ないし水分散性の高分子物質
が包含さねる。水溶性間分千′＠質としては、例えはポ
リビニルアルコール、水浴性メラミン樹Ｓ＋＝ 、水浴
性成；４ｃ樹脂、ポリアクリルアミド、ポリメメクリル
アミド、フエ／−Ｒａｈ旨（例えばレゾ−７し樹脂ン、
ポリ（Ｃ１−ｃ、 ）アルキレングリコール（例えは、
ポリエチレングリコール。
ポリプロピレングリフール、ポリトリメチレングリー−
ル、ポリナトラメチレングリコール。
ル、ポリナトラメチレングリコール。
ポリエチレングリコール／ポリプロピレングリフールプ
ロ・ノクフボリマー等）、ポリアクリル酸ソーダ、ポリ
メタクリル酸ソーダ、澱粉、ヒドロキシアルキルセルル
ーズ（例えば、ヒドロキソエチルセルローズ、ヒドロキ
シプロピルセルローズ等）、カルボキシアルキルセルｐ
−ス（例えはカルボキシメチルセルロース、カルボヤシ
エチルセルロース尋）、ポリビニルピロリドン、水浴性
アルキンド樹脂、スルホン敏ンータ基含有共ム合ポリエ
ステル、ヒドロキシル基含有ポリアクリル酸エステル（
例えは、アクリル酸メチルとヒトａキンエチル（メタ）
アリレート又はヒドロキシプロピル（メタ）アクリレー
トとの共重合体）、脂肪族七ノ又はポリグリンジルエー
テル（例えは、エチレングリコールジグリシジルエーテ
ル、ジエチレングリコールジグリシジルエーテル等）、
ポリスチレンスルホン酸ンータ、あるいは水浴性シリコ
ーン樹月旨等をあげることかでさる。これらのうち、脂
肪族注水ｆｉ基を有する高分子物質か好ましく用いられ
る。また、水膨潤性ないし分散性の高分子物質としては
、例えば塩化ビニリデン共重合体（例えば、塩化ビニリ
デンと塩化ビニルとの共重合体）、塩化ビニル共血合体
（例えば塩化ビニルと塩化ビニリデンとの共ム合体）、
アクリル酸エステル共重合体（例えはアクリル酸メチル
とメタクリル酸メチルとの共１合体）、酢酸ビニル共重
合体（例えば酢酸ビニルとエチレンとの共１合体）、カ
ルボキシル蕪含有共夏合ポリエステル、スルホン酸（塩
）基含有共頁合ポリニス１ル、無水マレイン酸共ム合体
（例えば無水マレ１ン隈と塩化ビニル。酢酸ビニルとの
共重合体）、ポリウレタンあるいはエポキシ樹−脂等を
あげることができる。
ロ・ノクフボリマー等）、ポリアクリル酸ソーダ、ポリ
メタクリル酸ソーダ、澱粉、ヒドロキシアルキルセルル
ーズ（例えば、ヒドロキソエチルセルローズ、ヒドロキ
シプロピルセルローズ等）、カルボキシアルキルセルｐ
−ス（例えはカルボキシメチルセルロース、カルボヤシ
エチルセルロース尋）、ポリビニルピロリドン、水浴性
アルキンド樹脂、スルホン敏ンータ基含有共ム合ポリエ
ステル、ヒドロキシル基含有ポリアクリル酸エステル（
例えは、アクリル酸メチルとヒトａキンエチル（メタ）
アリレート又はヒドロキシプロピル（メタ）アクリレー
トとの共重合体）、脂肪族七ノ又はポリグリンジルエー
テル（例えは、エチレングリコールジグリシジルエーテ
ル、ジエチレングリコールジグリシジルエーテル等）、
ポリスチレンスルホン酸ンータ、あるいは水浴性シリコ
ーン樹月旨等をあげることかでさる。これらのうち、脂
肪族注水ｆｉ基を有する高分子物質か好ましく用いられ
る。また、水膨潤性ないし分散性の高分子物質としては
、例えば塩化ビニリデン共重合体（例えば、塩化ビニリ
デンと塩化ビニルとの共重合体）、塩化ビニル共血合体
（例えば塩化ビニルと塩化ビニリデンとの共ム合体）、
アクリル酸エステル共重合体（例えはアクリル酸メチル
とメタクリル酸メチルとの共１合体）、酢酸ビニル共重
合体（例えば酢酸ビニルとエチレンとの共１合体）、カ
ルボキシル蕪含有共夏合ポリエステル、スルホン酸（塩
）基含有共頁合ポリニス１ル、無水マレイン酸共ム合体
（例えば無水マレ１ン隈と塩化ビニル。酢酸ビニルとの
共重合体）、ポリウレタンあるいはエポキシ樹−脂等を
あげることができる。
バインターとしては中でも耐熱性の大きいものが好まし
く、例えばポリビニルアルコール。
く、例えばポリビニルアルコール。
水浴性メラミノ樹脂、しドｃＩ千ジアルキルセルローズ
、ポリランタン樹１」び尋が好適に使用される。
、ポリランタン樹１」び尋が好適に使用される。
これらの水溶性又は水＃潤性ないし水分散性高分子物質
としてはそれ自体既知のものを使用することができ、か
かる高分子物質を与える単黛体又は単漬体混合物及びそ
の（共）ｍ合法については１例えばハ・１ポリ？ −（
Ｉ（ｉｇｈ Ｐｏｌｙｍｅｒ ）Ｖｏｌ ＸＸＩＸ、
’ポリメリゼイション プロセス（Ｐｏｌｙｍｅｒｉｚ
ａｔｉｏｎ Ｐｒｏｃｅｓｓｅｓ ） ’ １９７７
等の文献の引用をもって、ここでの詳細な記述九代える
。
としてはそれ自体既知のものを使用することができ、か
かる高分子物質を与える単黛体又は単漬体混合物及びそ
の（共）ｍ合法については１例えばハ・１ポリ？ −（
Ｉ（ｉｇｈ Ｐｏｌｙｍｅｒ ）Ｖｏｌ ＸＸＩＸ、
’ポリメリゼイション プロセス（Ｐｏｌｙｍｅｒｉｚ
ａｔｉｏｎ Ｐｒｏｃｅｓｓｅｓ ） ’ １９７７
等の文献の引用をもって、ここでの詳細な記述九代える
。
以上に述べた不活性固体微粒子と有機高分子バイツタ−
とかもの・４機浴剤型又は水性型塗布組成物の調製もそ
れ自体既知の方法で行なうことがでさ〔１プラスチック
フィルム−加工と応用−′プラスチックフィルム研究費
（１９７８）参照〕、例えば水性ｍ塗布組成物は水分散
性高分子バインターの水分散体と不活性固体微粒子の水
分散欲と、これらの分散性を艮（するための界面活性剤
を混合することによってＶ＃螢することができる。更に
架橋剤、ム合触媒、ｖ：外縁吸収剤の如きｔｉＷ剤乞含
有させることができる。
とかもの・４機浴剤型又は水性型塗布組成物の調製もそ
れ自体既知の方法で行なうことがでさ〔１プラスチック
フィルム−加工と応用−′プラスチックフィルム研究費
（１９７８）参照〕、例えば水性ｍ塗布組成物は水分散
性高分子バインターの水分散体と不活性固体微粒子の水
分散欲と、これらの分散性を艮（するための界面活性剤
を混合することによってＶ＃螢することができる。更に
架橋剤、ム合触媒、ｖ：外縁吸収剤の如きｔｉＷ剤乞含
有させることができる。
界面活性剤としてはポリオキシエチレンノニルフェニル
エーテルの如き非イオン性界囲活性刑等が例示できる。
エーテルの如き非イオン性界囲活性刑等が例示できる。
かかる塗布組成物における不活性固体Ｒ１粒子及び有機
高分子バインダーの割合は厳ＶＩｊに制限されるもので
はなく、第１の表面ＶＣ望まれる小さい突起の分亜密度
やバインダーのａＬ類等に厄じ℃変えることができるが
、一般には、不活性固体微粒子は、用いる有機高分子バ
イ／ター１００亘ｍ部ｉつ５〜５０貞電部、好ましくは
１０〜４０嵐菫部、さらに好ましくは２０〜３０ｍ瀘部
の範囲内が好適であり、また、有機読分子バインターは
、塗布組成物の′ＪＬ孟を基準にして一般には０．５〜
３０東斌％、特に１〜２０ム菫％、就中２〜１０ム重％
の範囲内が適当である。
高分子バインダーの割合は厳ＶＩｊに制限されるもので
はなく、第１の表面ＶＣ望まれる小さい突起の分亜密度
やバインダーのａＬ類等に厄じ℃変えることができるが
、一般には、不活性固体微粒子は、用いる有機高分子バ
イ／ター１００亘ｍ部ｉつ５〜５０貞電部、好ましくは
１０〜４０嵐菫部、さらに好ましくは２０〜３０ｍ瀘部
の範囲内が好適であり、また、有機読分子バインターは
、塗布組成物の′ＪＬ孟を基準にして一般には０．５〜
３０東斌％、特に１〜２０ム菫％、就中２〜１０ム重％
の範囲内が適当である。
塗布組成物の第１の表面への塗布は、比較的薄く行なう
べきであり、その塗布奮としては、固形分冷布菫として
１〜／ｉ以上５ダ／−未満、荷に１〜２．５〜／−の範
囲内であることが有利である。この塗布組成物の塗布は
それ自体既知の手段、例えばロールコート法、グラビア
コート法、エアーナイフコート法、含浸法号により行な
うことかでさる。ｌ１１ｐａの乾燥及び／又は硬化は通
常１００〜２４０℃の温度で行なうことができろが、有
利には、二軸配向フィルム製造工程に８ける熱固定処理
と同時に行なうのが好ましい。
べきであり、その塗布奮としては、固形分冷布菫として
１〜／ｉ以上５ダ／−未満、荷に１〜２．５〜／−の範
囲内であることが有利である。この塗布組成物の塗布は
それ自体既知の手段、例えばロールコート法、グラビア
コート法、エアーナイフコート法、含浸法号により行な
うことかでさる。ｌ１１ｐａの乾燥及び／又は硬化は通
常１００〜２４０℃の温度で行なうことができろが、有
利には、二軸配向フィルム製造工程に８ける熱固定処理
と同時に行なうのが好ましい。
塗布組成物Ｖこおける不活性固体微粒子の割合、咳固体
微粒子とバインターとの相対割合、塗布組成物の塗布を
等を適当にコントロールすることにより、実験結果に基
づいて、フィルムの第１の表面に、１′１把の分布ｆ度
範囲内で小さな突起が存在するフ・イルム馨形成するこ
とができる。
微粒子とバインターとの相対割合、塗布組成物の塗布を
等を適当にコントロールすることにより、実験結果に基
づいて、フィルムの第１の表面に、１′１把の分布ｆ度
範囲内で小さな突起が存在するフ・イルム馨形成するこ
とができる。
前記ポリエステルフィルムの第２の表面には。
滑剤として不活性固体微粒子を分散含有する有機高分子
パイングーよりなる易滑Ｊ−が並設される。この易滑層
の形ノ戊のために使用される塗布組成物は、第１の表面
に小さな突起を形成することＶＣ関して！ＩｉＩ述した
塗布組成物の甲から選ぶことができる。第２の表面にお
ける易滑層ケ形成するための塗布組成物は第ｌの表面に
おける小さな突起の形成のために使用される塗布ｋｉＩ
底物と同一であっても或いは異なるもの′１：あっても
よい。
パイングーよりなる易滑Ｊ−が並設される。この易滑層
の形ノ戊のために使用される塗布組成物は、第１の表面
に小さな突起を形成することＶＣ関して！ＩｉＩ述した
塗布組成物の甲から選ぶことができる。第２の表面にお
ける易滑層ケ形成するための塗布組成物は第ｌの表面に
おける小さな突起の形成のために使用される塗布ｋｉＩ
底物と同一であっても或いは異なるもの′１：あっても
よい。
しかし、第２の−ｊ！？、面ｅこおける易滑層は、第１
０表面よりも衣曲が粗いことが望ましい。しかして、第
２の表面上の易滑Ｊ−の表面粗さは、中心線平均粗さＲ
ａ及び１０点平均粗さＲｚで表わして、 ｔＬａは一般に０．００２〜０．Ｕｌ μ、好ましくは
ｏ、ｏ ｕ ３〜０．００７μ、Ｒｚは一般ｉｃ Ｏ，
Ｕ ２〜Ｌｌ ａ、好ましくは０．０３〜０．０７μ の範囲内にあるのが好都合である。
０表面よりも衣曲が粗いことが望ましい。しかして、第
２の表面上の易滑Ｊ−の表面粗さは、中心線平均粗さＲ
ａ及び１０点平均粗さＲｚで表わして、 ｔＬａは一般に０．００２〜０．Ｕｌ μ、好ましくは
ｏ、ｏ ｕ ３〜０．００７μ、Ｒｚは一般ｉｃ Ｏ，
Ｕ ２〜Ｌｌ ａ、好ましくは０．０３〜０．０７μ の範囲内にあるのが好都合である。
これに対し、大さい突起と小さい突起を有する第１の表
面の−ｆｅ圓粗さは、大きい突起及び小さい突起が１Ｉ
ｊＪ記の安住’ｔ ？＃ｉ足し℃いる限り、一般ｉＣＲ
ａ≦Ｌ１．０ｔ１５μ及びＲｚ≦０．０５ μである。
面の−ｆｅ圓粗さは、大きい突起及び小さい突起が１Ｉ
ｊＪ記の安住’ｔ ？＃ｉ足し℃いる限り、一般ｉＣＲ
ａ≦Ｌ１．０ｔ１５μ及びＲｚ≦０．０５ μである。
ここで、中心−平均粗さＲａ及び１０点平均粗さＲｚは
それぞれ下記の方法で求めることかでさる値である。
それぞれ下記の方法で求めることかでさる値である。
Ｊ ｉｓ ＢｔＪ６０１ ＶＣ＄じ、■小坂研究所製ノ
高精度表面粗さ１ｔｉＳｌｉ： −３ＦＡＴを使用して
、針の半径２μｍ、測定荷！［３０■で拡大倍率２０万
倍、カットオフＵ、０８ｍの条件下にチャートをかかせ
、フィルム表面粗さ曲線から七の中心線の方向に測定長
さしの部分を抜き取り、この抜き取り部分の中心線をＸ
軸、縦倍率の方向をＹ＠とし℃、粗さ曲線なＹ ＝ ｆ
（Ｘ）で表わした時、次の式で与えられた値をμｍ単
位で表わす。
高精度表面粗さ１ｔｉＳｌｉ： −３ＦＡＴを使用して
、針の半径２μｍ、測定荷！［３０■で拡大倍率２０万
倍、カットオフＵ、０８ｍの条件下にチャートをかかせ
、フィルム表面粗さ曲線から七の中心線の方向に測定長
さしの部分を抜き取り、この抜き取り部分の中心線をＸ
軸、縦倍率の方向をＹ＠とし℃、粗さ曲線なＹ ＝ ｆ
（Ｘ）で表わした時、次の式で与えられた値をμｍ単
位で表わす。
この測定は測定長を１．２５舅鳳として４個測定し、平
均値で表わす。
均値で表わす。
１０点平均粗さＲｚ
中心線平均粗さＨａで書かせたフィノーム表曲粗さ曲線
において、ピークｕ））の高いものから５点、谷（■の
低いものから５点の和を取り、この和を５で除したもの
であり、次式で与えられる。
において、ピークｕ））の高いものから５点、谷（■の
低いものから５点の和を取り、この和を５で除したもの
であり、次式で与えられる。
前述した塗布組成物を用い又、第１の表凹よりも粗い表
面をもつ易ｆｆｉ層を第２の表面に形成するには、−軸
延伸後に前述の塗布組成物を塗布し、更に、−＠延伸方
向と直角方向に延伸することによってネットワーク状の
微細突起のある表面を形成することができる。その際、
塗布組成物の固形分の塗布輩を５ダ／ゴ以上、特に５〜
２００ｍｇ／ｒｒｔ 、より好ましくは２０〜１００ダ
／イの範囲内にするとよい。このようＫｍ布這を多くす
ることで、七の形成理由は明らかでないが不ントワーク
状の表面を形成できる。
面をもつ易ｆｆｉ層を第２の表面に形成するには、−軸
延伸後に前述の塗布組成物を塗布し、更に、−＠延伸方
向と直角方向に延伸することによってネットワーク状の
微細突起のある表面を形成することができる。その際、
塗布組成物の固形分の塗布輩を５ダ／ゴ以上、特に５〜
２００ｍｇ／ｒｒｔ 、より好ましくは２０〜１００ダ
／イの範囲内にするとよい。このようＫｍ布這を多くす
ることで、七の形成理由は明らかでないが不ントワーク
状の表面を形成できる。
一方、第１の次面は塗布型が少ないので、仮に第２の表
面と同じ組成であっても、ネットワーク状の表面になら
ず小突起のある表面を形成することができる。第２の表
面への塗布は第１の表面への素顔組成物の塗布と同様の
方法で行なうことかで・さ、また塗布後の処理は第１の
表面のところで説明した処理と同じでよい。
面と同じ組成であっても、ネットワーク状の表面になら
ず小突起のある表面を形成することができる。第２の表
面への塗布は第１の表面への素顔組成物の塗布と同様の
方法で行なうことかで・さ、また塗布後の処理は第１の
表面のところで説明した処理と同じでよい。
かくして、前述の表面粗さく Ｒａ ｅ Ｒｚ ）を有
し、且つ突起の高さく前述の大、小の突起の高さの測定
と同様にして測定される）が一般に２ｔＪＯ〜６００Ａ
、好ましくは３００〜５００Ａの範囲内にあるネットワ
ーク状の微細な突起のある表面をもつ易滑層をフィルム
の第２表面に形成することができる。
し、且つ突起の高さく前述の大、小の突起の高さの測定
と同様にして測定される）が一般に２ｔＪＯ〜６００Ａ
、好ましくは３００〜５００Ａの範囲内にあるネットワ
ーク状の微細な突起のある表面をもつ易滑層をフィルム
の第２表面に形成することができる。
以上の如くして形成される本発明の二軸配向ポリニスデ
ルフィルムは、縦方向ヤング率が少なくともｓｓｏｇ、
’−であることが好ましく、さらに好ましくは６００に
９／ス一以上、殊に６５０に！＋／−以上の縦方向ヤン
グ率を有しているのが望ましい。さらに、１５ｏｃでの
横方向熱収縮率は１〜５％の範囲内、好ましくは２〜５
％、より好ましくは２〜４％の範囲内にあるのが好都合
である。
ルフィルムは、縦方向ヤング率が少なくともｓｓｏｇ、
’−であることが好ましく、さらに好ましくは６００に
９／ス一以上、殊に６５０に！＋／−以上の縦方向ヤン
グ率を有しているのが望ましい。さらに、１５ｏｃでの
横方向熱収縮率は１〜５％の範囲内、好ましくは２〜５
％、より好ましくは２〜４％の範囲内にあるのが好都合
である。
ここで、「縦方向ヤング率」及び「横方向熱収縮率」は
それぞれ次のようにし工測定される値である。
それぞれ次のようにし工測定される値である。
ヤング率
フィルムを試料中１０ｍ５長さ１５ｉ）ｆｌに切断し、
チャック間１ｔ）Ｏｍにし℃、引張速度１０ｆｉ／分、
チャート速度５００ｓｔｍ／分にて、インストロンクイ
ブの万能引張試験装置で引張る。得られた荷車−伸び曲
線の豆上り部の接線より、ヤング率を計算する。
チャック間１ｔ）Ｏｍにし℃、引張速度１０ｆｉ／分、
チャート速度５００ｓｔｍ／分にて、インストロンクイ
ブの万能引張試験装置で引張る。得られた荷車−伸び曲
線の豆上り部の接線より、ヤング率を計算する。
熱収縮率
１５０℃の熱風循環式炉（ギヤー老化試験機）にて３０
分間自由熱収縮させて下記式で算出する。
分間自由熱収縮させて下記式で算出する。
原長とし壬は３００鱈を採用すり一９
本発明により提供される第１の表面に特定の大きい突起
及び′小さい突起を有し且つ第２の大面に易滑ｊ−が塗
設された二軸配向ポリエステルフィルムは、第ｌの表面
が平滑であり、かつ走行性に浚れた金属薄膜Ｉｆ５ｖ形
成することが可能であり、金属薄膜磁気記録媒体用のベ
ースフィルムとし又好適である。特に１本発明により提
供されるフィルムを用いれは、雑音が飛躍的に減少し、
ノイズレベルが格段に優れ、かつ金属薄膜面の走行性に
優れた金属薄膜磁気記録媒体の製造することができる。
及び′小さい突起を有し且つ第２の大面に易滑ｊ−が塗
設された二軸配向ポリエステルフィルムは、第ｌの表面
が平滑であり、かつ走行性に浚れた金属薄膜Ｉｆ５ｖ形
成することが可能であり、金属薄膜磁気記録媒体用のベ
ースフィルムとし又好適である。特に１本発明により提
供されるフィルムを用いれは、雑音が飛躍的に減少し、
ノイズレベルが格段に優れ、かつ金属薄膜面の走行性に
優れた金属薄膜磁気記録媒体の製造することができる。
本発明のポリエステルフィルムを用いての金属薄ａ磁気
記録媒体の製造はそれ自体既知の方法、例えは特開昭５
４−１４７０１０号公報、ｔ￥ｆ開昭５２−１３４７０
６号公報に記載の方法により行なうことができ、具体市
には、例えば真空蒸着法、イオンブレーティング法、ス
パッタ法が好ましく使用できる。
記録媒体の製造はそれ自体既知の方法、例えは特開昭５
４−１４７０１０号公報、ｔ￥ｆ開昭５２−１３４７０
６号公報に記載の方法により行なうことができ、具体市
には、例えば真空蒸着法、イオンブレーティング法、ス
パッタ法が好ましく使用できる。
真２５着法の場合には、Ｉ Ｏ−’ 〜１０−’ Ｔｏ
ｒｒの真空下でタンクステンボートやアルミナノー−人
中のａｍ金属を抵抗加熱、１％周波加熱、電子ビーム加
熱等により蒸発させ、上記支持体上に沈層せしめる。ｉ
層金禰とし℃はＦｅ ＊ Ｎｉ 、 Ｃ。
ｒｒの真空下でタンクステンボートやアルミナノー−人
中のａｍ金属を抵抗加熱、１％周波加熱、電子ビーム加
熱等により蒸発させ、上記支持体上に沈層せしめる。ｉ
層金禰とし℃はＦｅ ＊ Ｎｉ 、 Ｃ。
及びそれらの合金が通常用いられる。また、本発明には
、Ｏ１雰囲気中でＦ＠を蒸着させ酸化鉄薄膜を得る反応
Ａ漕法も適用できる。イオンプレーディング法では、１
０−’ 〜１０−’ Ｔｏｒｒ の不活性ガスを主成分
とする雰囲気中でＤＣグクー放寛、ＲＦクロー放ｔ′ｔ
ｔ起し、放電中で金属を蒸着さす。不活性ガスとしては
通、ｌ Ａｒが用いられる。スパッタ法では１０−”
〜１０−’ ＴｏｒｒのＡｒを主成分とする雰囲気中で
グロー放電を起し、生じたＡｒイオンでターゲット表面
の原子をたたき出丁。グロー放電を起す方法としてｌＩ
流２極、３極スパツク法及び高岡波スパッタ法がある。
、Ｏ１雰囲気中でＦ＠を蒸着させ酸化鉄薄膜を得る反応
Ａ漕法も適用できる。イオンプレーディング法では、１
０−’ 〜１０−’ Ｔｏｒｒ の不活性ガスを主成分
とする雰囲気中でＤＣグクー放寛、ＲＦクロー放ｔ′ｔ
ｔ起し、放電中で金属を蒸着さす。不活性ガスとしては
通、ｌ Ａｒが用いられる。スパッタ法では１０−”
〜１０−’ ＴｏｒｒのＡｒを主成分とする雰囲気中で
グロー放電を起し、生じたＡｒイオンでターゲット表面
の原子をたたき出丁。グロー放電を起す方法としてｌＩ
流２極、３極スパツク法及び高岡波スパッタ法がある。
又、マグネトロン放電を利用したマグネト−ンスパソク
法もある。
法もある。
本発明における磁気＃膜の厚さは高密度磁気記録媒体と
して光分な信号出力を提供するものでな（すればならな
い。従つ又磁気＃膜の庫さは薄膜形成法、用途によって
異なるが、一般に０．０２〜１．５ μｍ （２００〜
１５０００ Ａ ）の間にあることが好ましい。
して光分な信号出力を提供するものでな（すればならな
い。従つ又磁気＃膜の庫さは薄膜形成法、用途によって
異なるが、一般に０．０２〜１．５ μｍ （２００〜
１５０００ Ａ ）の間にあることが好ましい。
オーディオ、ビデオ、コンピューター等の長手記録用磁
気薄膜の形成法としては、蒸着（熱蒸層、電子ビーム＃
層等）、スパッタリング（２他直流スパツタリング、高
周波スパッタリング等）等の方法が挙げられる。蒸着の
場合、磁化容易軸をテープ水平方向に発現するようＣ。
気薄膜の形成法としては、蒸着（熱蒸層、電子ビーム＃
層等）、スパッタリング（２他直流スパツタリング、高
周波スパッタリング等）等の方法が挙げられる。蒸着の
場合、磁化容易軸をテープ水平方向に発現するようＣ。
等の強磁性体金属を非磁性ポリエステル支持体Ｖこ灯し
連続的に斜方蒸着を行い、繰り返し積層することで、結
晶磁気異方性、形状異方性をテープ水平方向に発現させ
るものである。従ってトータルとしての金属薄膜厚さは
、０．０２〜０．５ａｍ （２００〜５０ＵＯＡ ）１
！度であることが良い。
連続的に斜方蒸着を行い、繰り返し積層することで、結
晶磁気異方性、形状異方性をテープ水平方向に発現させ
るものである。従ってトータルとしての金属薄膜厚さは
、０．０２〜０．５ａｍ （２００〜５０ＵＯＡ ）１
！度であることが良い。
また、上述の如きオーディオ、ビデオ、コンピューター
等の長手記録用の他に、高密度デジタル記録が可能な方
法としてＰＣＭ、７レキシプルデイスク用に、磁化容易
軸を非磁性ポリニスナル支持体の垂直方向く発現するよ
う、例えばＣｏ Ｋ Ｃｒを適当型混入（１０〜２Ｌ１
％）Ｌｉ、発生する減磁界を抑えて垂直方向に磁化容易
軸を発現させ、基盤面に対し垂直方向に記録を行う垂直
磁気記録法も通用できる。
等の長手記録用の他に、高密度デジタル記録が可能な方
法としてＰＣＭ、７レキシプルデイスク用に、磁化容易
軸を非磁性ポリニスナル支持体の垂直方向く発現するよ
う、例えばＣｏ Ｋ Ｃｒを適当型混入（１０〜２Ｌ１
％）Ｌｉ、発生する減磁界を抑えて垂直方向に磁化容易
軸を発現させ、基盤面に対し垂直方向に記録を行う垂直
磁気記録法も通用できる。
通常スバンタ法で０．２〜１．５μ厚みのＣＯ〜Ｃｒ合
金が用いられる。このｌｉｅ非磁性支持体と、垂直方向
に磁化容易軸を有する磁気記録層の間にパーマロイ（Ｆ
・−Ｎｉ ） 、スーパーマロイ等の高透磁率材料から
なる磁束集束体薄膜を配することができる。磁束集束体
とし℃の誦透磁軍材料はスパッタリングによつて形成さ
れ、膜厚は０．１〜１ ａｖｅｒ （１０００〜１００
００ Ａ ）の低保磁力（５００ｅ以下）４膜層である
。このときの磁気記録層のＣｏ −Ｃｒ膜厚は、０．２
〜１．５ μｍ （２０００〜１５０００ Ａ ）程度
に形成するとよい。
金が用いられる。このｌｉｅ非磁性支持体と、垂直方向
に磁化容易軸を有する磁気記録層の間にパーマロイ（Ｆ
・−Ｎｉ ） 、スーパーマロイ等の高透磁率材料から
なる磁束集束体薄膜を配することができる。磁束集束体
とし℃の誦透磁軍材料はスパッタリングによつて形成さ
れ、膜厚は０．１〜１ ａｖｅｒ （１０００〜１００
００ Ａ ）の低保磁力（５００ｅ以下）４膜層である
。このときの磁気記録層のＣｏ −Ｃｒ膜厚は、０．２
〜１．５ μｍ （２０００〜１５０００ Ａ ）程度
に形成するとよい。
実施例
以下、実施例を掲げ℃本発明な更に説明する。
なお、例中の諸特性は下記の方法で測定した。
Ｌ 不活性固体微粒子の平均粒径
島ＩａＭ作所製セントリ７ユーグル パーティクル サ
イズ アナライザー（ＣｅｎｔｒｉｆｕｇａｌＰａｒｔ
ｉｃｌｅ ５ｉｚｅ Ａｎａｌｙｓｅｒ ） ＣＰ−５
０１１１を用い℃測定した。得られた遠心沈降曲線を基
に算出した各粒径の粒子とその存在瀘との！に積重ｆｉ
Ｃ−ラ、５０マスパーセントに相当する粒径を読み取
り、この値を上記平均粒径とした（「粒度測定技術」日
刊工業ｗｒ閣社発行。
イズ アナライザー（ＣｅｎｔｒｉｆｕｇａｌＰａｒｔ
ｉｃｌｅ ５ｉｚｅ Ａｎａｌｙｓｅｒ ） ＣＰ−５
０１１１を用い℃測定した。得られた遠心沈降曲線を基
に算出した各粒径の粒子とその存在瀘との！に積重ｆｉ
Ｃ−ラ、５０マスパーセントに相当する粒径を読み取
り、この値を上記平均粒径とした（「粒度測定技術」日
刊工業ｗｒ閣社発行。
１９７５年、２４２〜２４７頁参照）。
２ 電磁変ｙｌ特性（記録密度特性ン
１０ＫＢｉ’Ｉ記録再生時のＳ／Ｎ （ｄＢＪ比及び１
０ＫＢＰＩ記録再生時の出力に対する５０ＫＢＰＩ記録
再生時の出力の低下率により、高密度記録特性、待にノ
イズレベルの大きさを評価した。
０ＫＢＰＩ記録再生時の出力に対する５０ＫＢＰＩ記録
再生時の出力の低下率により、高密度記録特性、待にノ
イズレベルの大きさを評価した。
３、 動！Ｓ慝係数μに
＾１図に不ｊヌロく、２５Ｃ１相対湿度６０％で金属薄
異デープの金属面側を外径２０ｗａ９！Ｊ０） ｓｕｓ
２７１Ｊ８ｉｌｌ定律（衣圓粗さ０．３ Ｓ ）に毎
秒２５ａａ／式の速さで移動、犀擦させる。
異デープの金属面側を外径２０ｗａ９！Ｊ０） ｓｕｓ
２７１Ｊ８ｉｌｌ定律（衣圓粗さ０．３ Ｓ ）に毎
秒２５ａａ／式の速さで移動、犀擦させる。
入口テンション゛ｒ、が３０Ｊ／とをるよ５テンシヨン
コントローラー２をＩＡ堅した時の出ロナンションＴ、
（出ロアンション検出機ＩＯで検出）ｙより次式で動摩
擺・係数μｋを算出する。
コントローラー２をＩＡ堅した時の出ロナンションＴ、
（出ロアンション検出機ＩＯで検出）ｙより次式で動摩
擺・係数μｋを算出する。
谷側でを工ｊａｍ足行時の動摩帰係数をもつ℃μにとす
る〇 この時θ＝１５２°（＝ １８０にフジアン）を用いた
。
る〇 この時θ＝１５２°（＝ １８０にフジアン）を用いた
。
実施例１〜３及び比較例１〜３
ジメチルテレフタレート１００嵐鷺部及びエチレングリ
コール７０ム′ｊｋ部に触媒として酢酸北鉛０．０２３
車量部（０，０２０モル％対ジメチルテレフグレート）
を加え、１５０〜２４０ ’Ｃで４時間メタ／−ルを留
去しつつエステル交換反Ｊ６ Ｙ竹い、次いで安定剤（
燐化合物のグリコール浴液）をトリメチルホスフェート
換算で０．０３４ＭＬ友部箔加した。久に、■縮合触媒
としｉ ０．０４３［４４部の二酸化アンチ七ンを添加
し、さらに表−１に記載した桟部、平均程径及び溝 ’−ｒ− ０，５μ以上の粒子級度の不活性固体粒子を所定量添加
して、１關Ｍｇ以下の高真仝で４時間電線合反応を行い
固有粘度（〔η〕二〇−クロａ ７ ｚノール溶媒、２
５’Ｃ測定） ０．６５のポリエチレンナシフタレート
を得た。
コール７０ム′ｊｋ部に触媒として酢酸北鉛０．０２３
車量部（０，０２０モル％対ジメチルテレフグレート）
を加え、１５０〜２４０ ’Ｃで４時間メタ／−ルを留
去しつつエステル交換反Ｊ６ Ｙ竹い、次いで安定剤（
燐化合物のグリコール浴液）をトリメチルホスフェート
換算で０．０３４ＭＬ友部箔加した。久に、■縮合触媒
としｉ ０．０４３［４４部の二酸化アンチ七ンを添加
し、さらに表−１に記載した桟部、平均程径及び溝 ’−ｒ− ０，５μ以上の粒子級度の不活性固体粒子を所定量添加
して、１關Ｍｇ以下の高真仝で４時間電線合反応を行い
固有粘度（〔η〕二〇−クロａ ７ ｚノール溶媒、２
５’Ｃ測定） ０．６５のポリエチレンナシフタレート
を得た。
このポリエチレンテレフタレートを常法に従って溶融押
出し、急冷し℃厚さ２１０μｍの未延伸フィルムを作成
し、久いで該未延伸フィルムな縦方向ＩＣ９０℃で３．
５倍、横方向に１００℃で４．０倍の逐次二＠延伸を行
ない、更に２０５℃で３０秒間熱固定を行ない、１５μ
ｍの二軸配向フィルム？作成した。
出し、急冷し℃厚さ２１０μｍの未延伸フィルムを作成
し、久いで該未延伸フィルムな縦方向ＩＣ９０℃で３．
５倍、横方向に１００℃で４．０倍の逐次二＠延伸を行
ない、更に２０５℃で３０秒間熱固定を行ない、１５μ
ｍの二軸配向フィルム？作成した。
その際、゛実施例１〜３及び比較例１．２では横延伸前
の＝ＩＩＩ＋１延伸フィルムに久の組成の塗液なロール
コート法でフィルムの表面囚および（８１に塗布した。
の＝ＩＩＩ＋１延伸フィルムに久の組成の塗液なロール
コート法でフィルムの表面囚および（８１に塗布した。
この表面囚は第ｌの表面を形成し、表面（Ｂ＋は第２の
表印を形成する。
表印を形成する。
フィルム赤面＋Ｂ） Ｋ塗布した塗液の組成二〇アクリ
ル酸アルミ（浅田化学に、に、Ｐ−３■）２ ｗｔ％Ｔ
！８液・・・・・・１２．ｉ［菫部０ポリエチレングリ
コール（日本油脂製分子ｉｉ １９．０００ ）２ ｗ
ｔ％溶液・・・・・・ ５ムｊＩｔ部０ポリエチレン
グリコールジグリシジルエーテル（長潮産業製 ＮＥＲ
ＯＩＯ■） ２ ｗｔ％Ｉ＠液・・・・・・ ２２［を部０ポリオキ
シエ千レンツニルフェニルエーテル２ ｗｔ％浴液・・
・・・・ ＩＭ賃部０コロイダルシリカ水分散液（平
均粒ｔｈ７０〜８０μｍのコロイダルシリカ２ｗｔ％分
散液）・・・・・・８．５Ｍ貨部 塗布型はウェットで約２．２Ｍ／ｍであり、固形分とし
て約０．０１２６１／ｒｎ”である。
ル酸アルミ（浅田化学に、に、Ｐ−３■）２ ｗｔ％Ｔ
！８液・・・・・・１２．ｉ［菫部０ポリエチレングリ
コール（日本油脂製分子ｉｉ １９．０００ ）２ ｗ
ｔ％溶液・・・・・・ ５ムｊＩｔ部０ポリエチレン
グリコールジグリシジルエーテル（長潮産業製 ＮＥＲ
ＯＩＯ■） ２ ｗｔ％Ｉ＠液・・・・・・ ２２［を部０ポリオキ
シエ千レンツニルフェニルエーテル２ ｗｔ％浴液・・
・・・・ ＩＭ賃部０コロイダルシリカ水分散液（平
均粒ｔｈ７０〜８０μｍのコロイダルシリカ２ｗｔ％分
散液）・・・・・・８．５Ｍ貨部 塗布型はウェットで約２．２Ｍ／ｍであり、固形分とし
て約０．０１２６１／ｒｎ”である。
フィルム衣ｔｈ囚に塗布した塗液の組ｇ：フィルム−ａ
１１１ （Ｂ＋に用いたものと同じである。
１１１ （Ｂ＋に用いたものと同じである。
どツクアノブロールの速度調整で塗布量を表−ｉｙこ示
す様に槌々変更することによつて）・ｆルム衣面囚の突
起をコントロールした。
す様に槌々変更することによつて）・ｆルム衣面囚の突
起をコントロールした。
この様てして得られた二軸配向フィルムの滑り性は良好
で７０ツキングも発生せず、良好に巻き取れた。
で７０ツキングも発生せず、良好に巻き取れた。
フィルム表面囚及びＣＢ＋の表面の特性については衣−
１にまとめて示す。
１にまとめて示す。
このポリエステルフィルムの表面囚に真駆蒸膚によりコ
バルト−ニッケル合金薄［を１０００Ａの膜厚で形成し
た。続いて１／４′巾にフィルムの機械方向に切断し、
金属薄膜磁気記録す一ブとし、０．３μｍのギヤツブ焚
のリングヘッドを用いて９ 、５ ｃｒｎ／ ｓｅｃの
スピードで記録再生し、電磁変挾持性（デジタルの記録
密度特性）を評価した。この結果を表−１に示す。
バルト−ニッケル合金薄［を１０００Ａの膜厚で形成し
た。続いて１／４′巾にフィルムの機械方向に切断し、
金属薄膜磁気記録す一ブとし、０．３μｍのギヤツブ焚
のリングヘッドを用いて９ 、５ ｃｒｎ／ ｓｅｃの
スピードで記録再生し、電磁変挾持性（デジタルの記録
密度特性）を評価した。この結果を表−１に示す。
この結果から本発明の磁気記録媒体のＳ／Ｎは大きく、
かつノイズレベルは格段に優れ℃いることか理解される
。
かつノイズレベルは格段に優れ℃いることか理解される
。
次に走行性を５０回くり返し定行後の動摩擦係数μにで
、第１図に示す装置を用い５０回（り返し走行後の磁性
Ｉ−のスフランチの程度による下記基準で摩耗性を評価
した。
、第１図に示す装置を用い５０回（り返し走行後の磁性
Ｉ−のスフランチの程度による下記基準で摩耗性を評価
した。
○ニスクラッチがほとんど認められないＸ：スフランチ
が著しく認められる 表−１にμに、摩耗性評価結果を示す〃ｉ、本発明の実
施例１〜３はいずれも走行性、金ＩＡ薄膜面の摩耗性共
に良好であった。
が著しく認められる 表−１にμに、摩耗性評価結果を示す〃ｉ、本発明の実
施例１〜３はいずれも走行性、金ＩＡ薄膜面の摩耗性共
に良好であった。
実施例 ４〜６
フイルム表［１０因に塗布する冷徹を下記に示す市布故
に変更する以外は実施例１〜３と同様−に行なった。
に変更する以外は実施例１〜３と同様−に行なった。
く塗］ロヲに瓦ン
カルボン酸アミン塩基を有するボリウレタ／水分散放〔
東洋ポリマー四裂二商品名メルシー５１３５Ｊ２８ｊｌ
菫部（非揮発成分とし℃）、アクリル樹月旨エマＩレジ
ョン〔メタクリル酸メチｌし／アクリルはエチル／アク
リルアミド＝４９／４３／８ （モル％ン〕２８Ｎ筐部
、＃：リエチレノワックスエマルジョン（融点約１０５
℃）７重賞部、コロイタルンリ力水分′￥ｌ液（＋均粒
径４０〜ｓ ｕ ｍ／Ｉ） ２７ Ｍ ｊｔ ｔ’４及
びポリオキシエチレンノニルフェニルエーテル（Ｂｌｌ
ｆｌｌｌｋｒ■裏：ａ品名ＮＳ−２０８，５〕１０＊輩
ｆＡをイオ’、’交換水で希釈溶解し、固形分濃度２Ｊ
ＩＬ菫％の塗布液を調製した。
東洋ポリマー四裂二商品名メルシー５１３５Ｊ２８ｊｌ
菫部（非揮発成分とし℃）、アクリル樹月旨エマＩレジ
ョン〔メタクリル酸メチｌし／アクリルはエチル／アク
リルアミド＝４９／４３／８ （モル％ン〕２８Ｎ筐部
、＃：リエチレノワックスエマルジョン（融点約１０５
℃）７重賞部、コロイタルンリ力水分′￥ｌ液（＋均粒
径４０〜ｓ ｕ ｍ／Ｉ） ２７ Ｍ ｊｔ ｔ’４及
びポリオキシエチレンノニルフェニルエーテル（Ｂｌｌ
ｆｌｌｌｋｒ■裏：ａ品名ＮＳ−２０８，５〕１０＊輩
ｆＡをイオ’、’交換水で希釈溶解し、固形分濃度２Ｊ
ＩＬ菫％の塗布液を調製した。
切られた２軸配向ポリエチレンテレフグレートフイルム
及び金属薄膜磁気記録テープの特性を衣−２に示す。
及び金属薄膜磁気記録テープの特性を衣−２に示す。
′５）ｌ凡例７〜９
実施例３と同じポリマーを用い、未延伸フィルムを作成
し℃谷々、表−３に記載の装膜条−件１こよって（ただ
し、弐に記載され℃いないものは、実施例３と同一条件
である。）１０μｍフィルムを作成した。その際フィル
ム４１１１（Ａ）、ｔＢＩＫ大施例３と同じ組成の塗漱
な同じ条件で塗布した。
し℃谷々、表−３に記載の装膜条−件１こよって（ただ
し、弐に記載され℃いないものは、実施例３と同一条件
である。）１０μｍフィルムを作成した。その際フィル
ム４１１１（Ａ）、ｔＢＩＫ大施例３と同じ組成の塗漱
な同じ条件で塗布した。
このポリエステルフィルムのノー囚に真空蒸ｆｉ［より
コバルトーニンケル合金薄狭？：１０００Ａの膜厚で形
成した。続い”Ｃｌ ／ ４’巾にフィルムの機械方向
に切断し、金属４濃磁気記録テープとし、０．３μｍの
ギヤツプ長のリングヘッドを用いて９．５ｃ＋ａ／ｓｅ
ｃのスピードで記録再生し、電磁変換特性（デジタルの
記録密度特性）を評価した。この結果を次−３に示す。
コバルトーニンケル合金薄狭？：１０００Ａの膜厚で形
成した。続い”Ｃｌ ／ ４’巾にフィルムの機械方向
に切断し、金属４濃磁気記録テープとし、０．３μｍの
ギヤツプ長のリングヘッドを用いて９．５ｃ＋ａ／ｓｅ
ｃのスピードで記録再生し、電磁変換特性（デジタルの
記録密度特性）を評価した。この結果を次−３に示す。
更に、練り返し足付時の耐久性を評価した。
すなわち第１図に示す様な動摩擦係数を測定する装置を
用い、走行試験を５０回繰り返すことによつて、テープ
のエツジのタメージを下自己基準で評価した。
用い、走行試験を５０回繰り返すことによつて、テープ
のエツジのタメージを下自己基準で評価した。
◎：エッジのクメージがほとんどない
Ｑ：エツジのタメージが若干あるか、実用上特に支障な
い ×：エツジのクメージがはなはだしい 得られた結果は表−３に示すＯ
い ×：エツジのクメージがはなはだしい 得られた結果は表−３に示すＯ
第１図は、動摩擦係数を測定する装置の概略図である。
ロール４及びロールｌ０ＩＣおいで張力′ｒ１及びＴ、
を測定し走行時のフィルムの摩擦係数を算出する。
を測定し走行時のフィルムの摩擦係数を算出する。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １、磁気記録層としての金属薄膜が形成される第１の表
面と、不活性固体微粒子を分散含有する有機高分子バイ
ンダーよりなる易滑層が塗布されている第２の表面とを
有する二軸配向された金属薄膜磁気記録媒体用ポリエス
テルフィルムであつて、上記第１の表面は、（ａ）直径
０．２〜２μで高さ２０〜２００Åの大きな突起を１ｍ
ｍ＾３当り１０＾３個以上１０＾６個未満の分布密度で
、そして（ｂ）直径０．０１〜０．１μで高さ１０〜１
００Åの小さな突起を１ｍｍ＾３当り１０＾６個以上１
０＾９個以下の分布密度で有していることを特徴とする
金属薄膜磁気記録媒体用ポリエステルフィルム。 ２、大きな突起が直径が０．５〜２μで高さが５０〜２
００Åであり、その分布密度が１ｍｍ＾３当り１０＾４
個以上１０＾５個以下である特許請求の範囲第１項記載
のポリエステルフィルム。 ３、小さな突起が直径が０．０５〜０．１μで高さが１
０〜１００Åであり、その分布密度が１ｍｍ＾３当り１
０＾７個以上１０＾８個以下である特許請求の範囲第１
項記載のポリエステルフィルム。 ４、大きな突起は、フィルム中に分散せしめた平均粒径
０．０５〜０．５μの不活性個体微粒子によつて付与さ
れたものである特許請求の範囲第１項記載のポリエステ
ルフィルム。 ５、小さな突起は、第１の表面に、平均粒径０．０１〜
０．１μの不活性固体微粒子と有機高分子バインダーと
を含有する塗布組成物を塗布することにより形成された
ものである特許請求の範囲第１項記載のポリエステルフ
ィルム。 ６、第２の表面における易滑層は、中心線平均粗さＲａ
が０．００２〜０．０１μで、１０点平均粗さＲｚが０
．０１〜０．１μの範囲内にある表面粗さ特性を有する
特許請求の範囲第１項記載のポリエステルフィルム。 ７、第２の表面における易滑層が、突起の高さが２００
〜６００Åのネットワーク状の微細な突起のある表面を
もつ特許請求の範囲第１項記載のポリエステルフィルム
。 ８、縦方向ヤング率が少なくとも５５０ｋｇ／ｍｍ＾２
であり、横方向熱収縮率が１〜５％である特許請求の範
囲第１項記載のポリエステルフィルム。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP60-114202 | 1985-05-29 | ||
| JP11420285 | 1985-05-29 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6264545A true JPS6264545A (ja) | 1987-03-23 |
| JPH0433273B2 JPH0433273B2 (ja) | 1992-06-02 |
Family
ID=14631761
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP61122257A Granted JPS6264545A (ja) | 1985-05-29 | 1986-05-29 | 金属薄膜磁気記録媒体用ポリエステルフイルム |
Country Status (5)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US4670319A (ja) |
| EP (1) | EP0203604B1 (ja) |
| JP (1) | JPS6264545A (ja) |
| KR (1) | KR930005779B1 (ja) |
| DE (1) | DE3673565D1 (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6453840A (en) * | 1987-08-25 | 1989-03-01 | Toray Industries | Polyester laminated film |
| WO1992005942A1 (en) * | 1990-10-08 | 1992-04-16 | Teijin Limited | Polyester film for magnetic recording media |
| JPH04249153A (ja) * | 1991-02-06 | 1992-09-04 | Teijin Ltd | 磁気記録媒体用ポリエステルフイルム |
| CN102001201A (zh) * | 2009-08-26 | 2011-04-06 | 富士胶片株式会社 | 层压膜和复合膜 |
Families Citing this family (44)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS62245520A (ja) * | 1986-04-16 | 1987-10-26 | Diafoil Co Ltd | 磁気記録媒体 |
| US5985402A (en) * | 1986-12-19 | 1999-11-16 | Hitachi, Ltd. | Magnetic disk and its manufacturing method |
| US5139849A (en) * | 1987-02-02 | 1992-08-18 | Canon Kabushiki Kaisha | Magnetic recording medium |
| DE3888860T2 (de) * | 1987-02-02 | 1994-08-04 | Canon Kk | Magnetischer Aufzeichnungsträger. |
| US5106681A (en) * | 1987-02-12 | 1992-04-21 | Diafoil Company, Limited | Polyester films, magnetic recording media and film capacitors produced therefrom |
| ATE132073T1 (de) * | 1987-04-07 | 1996-01-15 | Toray Industries | Polyesterfilm |
| WO1988008437A1 (en) * | 1987-05-01 | 1988-11-03 | Toray Industries, Inc. | Polyester film and magnetic recording medium |
| US5737159A (en) * | 1987-07-29 | 1998-04-07 | Hitachi, Ltd. | Magnetic disk and its manufacturing method |
| JPH0827934B2 (ja) * | 1987-09-10 | 1996-03-21 | ダイアホイルヘキスト株式会社 | 磁気カード |
| US4952449A (en) * | 1987-10-09 | 1990-08-28 | Toray Industries, Inc. | Biaxially oriented polyester film |
| JPH0652567B2 (ja) * | 1987-10-23 | 1994-07-06 | 富士写真フイルム株式会社 | 磁気記録媒体 |
| US5188891A (en) * | 1987-12-25 | 1993-02-23 | Diafoil Company, Limited | Magnetic recording medium comprising a polyester film substrate, a magnetic coating and a specified back coat layer |
| US5045379A (en) * | 1988-06-03 | 1991-09-03 | Diafoil Company, Limited | Polyester film for high density magnetic recording medium |
| JP2728268B2 (ja) * | 1988-09-08 | 1998-03-18 | ティーディーケイ株式会社 | テープ状磁気記録媒体 |
| US5217820A (en) * | 1988-12-16 | 1993-06-08 | Kabushiki Kaisha Toshiba | High density slave magnetic recording media having specified perpendicular squareness rectangular ratio, roughness and number of projections |
| FR2640983B1 (ja) * | 1988-12-28 | 1992-09-25 | Rhone Poulenc Films | |
| JPH02193313A (ja) * | 1989-01-20 | 1990-07-31 | Fuji Photo Film Co Ltd | 磁気記録媒体 |
| US5202810A (en) * | 1989-04-27 | 1993-04-13 | Hitachi, Ltd. | Magnetic disk having an improved surface configuration |
| JP2770048B2 (ja) * | 1989-06-15 | 1998-06-25 | コニカ株式会社 | 磁気記録媒体 |
| JP2811329B2 (ja) * | 1989-09-14 | 1998-10-15 | コニカ株式会社 | 磁気記録媒体 |
| US5116658A (en) * | 1989-12-04 | 1992-05-26 | Konica Corporation | Magnetic recording medium |
| US5091269A (en) * | 1989-12-14 | 1992-02-25 | Sony Corporation | Magnetic recording medium lubricant consisting of an amine salt of carboxylic acid, an amine salt of perfluoroalkyl carboxylic acid or an fluoro amine salt of perfluoro carboxylic acid |
| US5324582A (en) * | 1990-08-17 | 1994-06-28 | Konica Corporation | Magnetic recording medium |
| JP3014009B2 (ja) * | 1991-01-11 | 2000-02-28 | ミネソタ マイニング アンド マニュファクチャリング カンパニー | 磁気記録媒体 |
| US5431983A (en) * | 1991-04-25 | 1995-07-11 | Teijin Limited | Magnetic recording tape comprising a polyethylene-2,6-napthalate substrate, magnetic metal thin film, and a backcoat layer |
| GB9110902D0 (en) * | 1991-05-21 | 1991-07-10 | Ici Plc | Polymeric film |
| JP2777003B2 (ja) * | 1991-06-28 | 1998-07-16 | 帝人株式会社 | 磁気記録媒体用ポリエステルフイルム及びその製造方法 |
| JPH05154972A (ja) * | 1991-07-02 | 1993-06-22 | Unitika Ltd | 粗面化フィルムおよびその製造方法 |
| JPH05114127A (ja) * | 1991-10-23 | 1993-05-07 | Hitachi Ltd | 磁気デイスク及びその製造方法並びに磁気デイスク装置 |
| JP2585494B2 (ja) * | 1991-11-13 | 1997-02-26 | 帝人株式会社 | ポリエチレン―２，６―ナフタレートフィルム |
| DE69227354T2 (de) * | 1991-11-18 | 1999-05-06 | Toray Industries | Biaxial orientierter Film aus thermoplastischem Harz |
| EP0548904B1 (en) * | 1991-12-25 | 2006-06-14 | Teijin Limited | Polyester films for magnetic recording medium |
| JPH05189747A (ja) * | 1992-01-16 | 1993-07-30 | Diafoil Co Ltd | デジタル・コンパクト・カセット用ベースフィルム |
| US5434000A (en) * | 1992-07-30 | 1995-07-18 | Toyo Boseki Kabushiki Kaisha | Biaxially oriented polyester film |
| JP2732997B2 (ja) * | 1993-01-29 | 1998-03-30 | 帝人株式会社 | 二軸配向ポリエチレン―２，６―ナフタレートフィルム |
| US5677033A (en) * | 1993-02-11 | 1997-10-14 | Teijin Limited | Biaxially oriented, unidirectionally long polyethylene-2,6-naphthalenedicarboxylate film |
| EP0940426B1 (en) * | 1993-02-15 | 2003-02-05 | Teijin Limited | Biaxially oriented, unidirectionally long polyethylene-2,6-naphthalenedicarboxylate film |
| US5626942A (en) * | 1993-05-05 | 1997-05-06 | Toray Industries, Inc. | Polyester film and process for producing the same |
| US5607747A (en) * | 1994-04-15 | 1997-03-04 | Minnesota Mining And Manufacturing Company | Magnetic recording media having a backside coating which includes multicomponent, nonmagnetic particles |
| US5976668A (en) * | 1995-02-28 | 1999-11-02 | Sony Corporation | Base film for magnetic recording medium and magnetic recording medium using same |
| US6553788B1 (en) * | 1999-02-23 | 2003-04-29 | Nippon Sheet Glass Co., Ltd. | Glass substrate for magnetic disk and method for manufacturing |
| US7544408B2 (en) * | 2006-02-14 | 2009-06-09 | Toray Plastics (America), Inc. | Biaxially oriented polyester film for molding process |
| JP5492781B2 (ja) * | 2007-10-31 | 2014-05-14 | デュポン・テイジン・フィルムズ・ユー・エス・リミテッド・パートナーシップ | コーティングされた物品 |
| KR101268250B1 (ko) * | 2009-06-30 | 2013-05-30 | 코오롱인더스트리 주식회사 | 열수축성 폴리에스테르계 필름 |
Citations (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5517851A (en) * | 1978-07-21 | 1980-02-07 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | Magnetic recording medium |
| JPS57189336A (en) * | 1981-05-18 | 1982-11-20 | Hitachi Maxell Ltd | Magnetic recording medium |
| JPS5868225A (ja) * | 1981-10-13 | 1983-04-23 | Toray Ind Inc | 磁気記録媒体 |
| JPS5938925A (ja) * | 1982-08-26 | 1984-03-03 | Toray Ind Inc | 磁気記録材料 |
| JPS5984927A (ja) * | 1982-11-02 | 1984-05-16 | Toray Ind Inc | 磁気記録媒体用ポリエステルフイルム |
| JPS5992428A (ja) * | 1982-11-18 | 1984-05-28 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 磁気記録媒体 |
| JPS615431A (ja) * | 1984-06-19 | 1986-01-11 | Toray Ind Inc | 磁気記録媒体用ポリエステルフイルム |
Family Cites Families (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS57130234A (en) * | 1981-02-02 | 1982-08-12 | Fuji Photo Film Co Ltd | Magnetic recording medium |
| DE3275959D1 (en) * | 1981-03-30 | 1987-05-07 | Teijin Ltd | Magnetic recording medium |
| US4578729A (en) * | 1981-10-15 | 1986-03-25 | Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. | Magnetic recording medium |
| EP0088634B1 (en) * | 1982-03-10 | 1986-12-30 | Toray Industries, Inc. | Laminated film and magnetic recording medium made therewith |
| JPS599428A (ja) * | 1982-07-09 | 1984-01-18 | Kubota Ltd | 廃熱ボイラを備えた焼却炉の自動燃焼制御方法 |
-
1986
- 1986-05-28 EP EP19860107299 patent/EP0203604B1/en not_active Expired - Lifetime
- 1986-05-28 DE DE8686107299T patent/DE3673565D1/de not_active Expired - Lifetime
- 1986-05-29 JP JP61122257A patent/JPS6264545A/ja active Granted
- 1986-05-29 KR KR1019860004234A patent/KR930005779B1/ko not_active IP Right Cessation
- 1986-05-29 US US06/868,048 patent/US4670319A/en not_active Expired - Lifetime
Patent Citations (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5517851A (en) * | 1978-07-21 | 1980-02-07 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | Magnetic recording medium |
| JPS57189336A (en) * | 1981-05-18 | 1982-11-20 | Hitachi Maxell Ltd | Magnetic recording medium |
| JPS5868225A (ja) * | 1981-10-13 | 1983-04-23 | Toray Ind Inc | 磁気記録媒体 |
| JPS5938925A (ja) * | 1982-08-26 | 1984-03-03 | Toray Ind Inc | 磁気記録材料 |
| JPS5984927A (ja) * | 1982-11-02 | 1984-05-16 | Toray Ind Inc | 磁気記録媒体用ポリエステルフイルム |
| JPS5992428A (ja) * | 1982-11-18 | 1984-05-28 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 磁気記録媒体 |
| JPS615431A (ja) * | 1984-06-19 | 1986-01-11 | Toray Ind Inc | 磁気記録媒体用ポリエステルフイルム |
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6453840A (en) * | 1987-08-25 | 1989-03-01 | Toray Industries | Polyester laminated film |
| JPH0574462B2 (ja) * | 1987-08-25 | 1993-10-18 | Toray Industries | |
| WO1992005942A1 (en) * | 1990-10-08 | 1992-04-16 | Teijin Limited | Polyester film for magnetic recording media |
| JPH04249153A (ja) * | 1991-02-06 | 1992-09-04 | Teijin Ltd | 磁気記録媒体用ポリエステルフイルム |
| CN102001201A (zh) * | 2009-08-26 | 2011-04-06 | 富士胶片株式会社 | 层压膜和复合膜 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| DE3673565D1 (de) | 1990-09-27 |
| JPH0433273B2 (ja) | 1992-06-02 |
| EP0203604A2 (en) | 1986-12-03 |
| EP0203604B1 (en) | 1990-08-22 |
| EP0203604A3 (en) | 1988-07-13 |
| KR860008872A (ko) | 1986-12-18 |
| US4670319A (en) | 1987-06-02 |
| KR930005779B1 (ko) | 1993-06-24 |
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| JPH0367623B2 (ja) |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| EXPY | Cancellation because of completion of term |