JPS6136862B2 - - Google Patents

Description

【発明の詳細な説明】

〔産業上の利用分野〕 本発明は可撓性に被処理物、例えばプラスチツ
ク成形品を真空処理室内で連続的にプラズマ処理
を行なう連続式真空処理装置に関するものであ
る。 〔従来の技術〕 従来のこの種のプラズマ処理手段としては、プ
ラスチツク成形品などの可撓性の被処理物に改質
特性を施すため、被処理物を真空処理室内へ挿入
してプラズマ処理するバツチ処理方式がある。 また、前記プラズマ処理とは異なるが、金属テ
ープ、金属ワイヤなどの被処理物に真空処理室内
で金属または合金の被膜をイオンプレーテイン
グ、真空蒸着処理などにより連続的に皮膜形成す
る処理装置が特公昭51―40875号などで示されて
いる。 〔発明が解決しようとする問題点〕 しかし、前者のバツチ処理手段においては、被
処理物をその都度、真空処理室内へ出入させてプ
ラズマ表面処理を施すようになつているため、イ
ン、ラインの大量生産には不向きであり、しかも
被処理物の特性を劣化させる恐れがあるなどの問
題点を有している。 すなわち、バツチ処理の場合には、プラスチツ
ク成形品に可塑剤など揮発性成分を含有している
塩化ビニール樹脂の被処理物を真空状態で長時間
保持すると、塩化ビニール樹脂に含有している可
塑剤が急激に抜けることにより被処理物の特性が
劣化するため、大量の被処理物の場合には数十秒
の短時間で処理することが望ましいが、バツチ処
理の場合には真空処理室内で短時間に処理するこ
とができない。 また、後者の連続処理手段においては、被処理
物が金属テープ、金属ワイヤーなどである場合に
は、特に被処理物の表面の損傷や切断などの問題
点はなく、シール手段は容易である。しかし、可
撓性の被処理物においては、前記被処理物の表面
の損傷や切断の問題点があるため、可撓性の被処
理物を連続的に処理する場合には、シール手段が
非常に困難である。 本発明は上記の点に鑑み、プラスチツク成形品
など可撓性の被処理物のプラズマ処理における特
性を良好にすることは勿論、大量生産に適した連
続式真空処理装置を提供することを目的とする。 〔問題点を解決するための手段〕 上記目的は、前後側に予備真空室を少くとも１
個配置した真空処理室により、可撓性の被処理物
を連続的にプラズマ処理する連続式真空処理装置
において、前記予備真空室は、被処理物が挿入さ
れる一対のシールロールのうち、一方のシールロ
ールは軸方向の外周に弾性体を有し、他方のシー
ルロールは軸方向の外周に硬質体を有し、前記弾
性体をたわませることによつて両シールロール間
の軸方向のシールを施す手段と、シールロールの
軸方向に沿つてそれぞれ対接する弾性体のリツプ
ル部材によつてシールロールとケース間の軸方向
のシールを施す手段と、前記シールロール端面と
対接する面に低摩擦材料を形成したサイドピース
およびシールロール端面への押圧力を調整する弾
性体によつてシールロール端面のシールを施す手
段とから構成することによつて達成される。 〔作用〕 上述の構成によれば、シールロール間の軸方向
のシールを施す手段と、シールロールとケース間
の軸方向のシールを施す手段と、シールロール端
面のシールを施す手段により、予備真空室が高真
空度に保持され、これら予備真空室に接続される
真空処理室もさらに高真空度に保持できる。これ
によつて可撓性に被処理物の連続プラズマ処理に
おける良好な改質特性が得られ、生産性の大幅な
向上を図ることができる。 〔実施例〕 以下本発明装置を図面により説明する。 第１図および第２図において、１は塩化ビニー
ル樹脂などプラスチツク成形品の可撓性の被処理
物Ｆを真空状態で連続的にプラズマ処理する真空
処理室で、この真空処理室１内はこれに接続する
真空ポンプ４により25×10^-3トール程度の真空圧
力に保持するように排気管５を介して真空排気さ
れらる。また、この処理室１には図示していない
が、プラズマ処理を施すための陽極、陰極などが
内蔵されている。２は真空処理室の前方側に複数
個配置され、一対のシールロール機構から成る予
備真空室、３は真空処理室１の後方側に複数個配
置され、一対のシールロール機構から成る予備真
空室で、これら予備真空室２，３内には、これに
接続する真空ポンプ６により前記真空処理室１内
の真空葦力より若干高い真空圧力に保持するよう
に排気管７を介して真空排気される。第３図およ
び第４図は前記予備真空室２，３の詳細を示すも
ので、８は両端側がサイドピース９に回転自在に
軸される上ロールで、この上ロール８の表面には
ゴムなどの弾性材１０が一体的に焼着されてい
る。１１は上ロール８と対接するように配設さ
れ、かつ表面に軸質のクロムニツケル層１２を施
した下ロールで、この下ロール１１は両両端側が
サイドピース９に回転自在に軸支されている。そ
して、この両ロール８，１１との間には可撓性の
被処理物Ｆが挿入される。１３は上ケース１４に
固定され、かつ上ロール８の外周面側に配設され
る上ロール支持受けで、この上ロール支持受け１
３の内周面には上ロール８の弾性材１０に対接す
る低摩擦係数のフツソ樹脂膜１５が焼着されてい
る。１６は下ケース１７に固定され、かつ下ロー
ル１１の外周面側に配設される下ロール支持受け
で、この下ロール支持受け１６の内周面には下ロ
ール１の表面に対接する低摩擦係数のフツソ樹脂
膜１８が焼着されてる。第５図は前記サイドピー
ス９と上下ケース１４，１７との取付状態を示し
たもので、サイドピース９の上下ロール８，１１
端部側と対向する面には、低摩擦係数のフツソ樹
脂膜１９が焼着されており、このサイドピース９
はボルト２０を締付けることによりコイルバネ２
１を介して上下ケース１４，１７に押付けられ
る。このとき、上ロール８および下ロール１１と
サイドピース９のフツソ樹脂膜１９との間には20
μｍ程度の隙間が形成される。また、サイドピー
ス９の押付け力はサイドピース９とボルト２０と
の隙間Ｈによつて規制される。第１図および第２
図に戻つて、２２は被処理物Ｆを予備真空室２を
経て真空処理室１内へ移送する送り出し装置、２
３は真空処理室１内でプラズマ処理の施された被
処理物Ｆを巻き取る巻き取り装置、２４は駆動用
モータで、この駆動用モータ２４の駆動力により
回転軸２５および動力分配機２６を介して予備真
空室２，３の上下ロール８，１１を回転させる。 上記のように構成される予備真空室２，３にお
いて、上ロール８と下ロール１１との間のシール
は、上ロール８の弾性材１０のゴムを撓ませるこ
とにより施される。また、上ロール８と上ロール
支持受け１３のフツソ樹脂膜４８および下ロール
１１と下ロール支持受け１６のフツソ樹脂膜１８
との間のシールは、それぞれ両者間の隙間を非常
に小さく、例えば20μｍ程度にすることにより可
能である。さらに、サイドピース９と上ケース１
４、下ケース１７とのシールは、サイドピース９
を上ロール８、下ロール１１、上ロール支持受け
１３、下ロール支持受け１６、上ケース１４、下
ケース１７に押付けることにより施される。 次に本発明の連続式真空処理装置の作動を説明
する。 先ず、真空ポンプ４，６を作動させることによ
り、真空処理室１内および予備真空室２，３内を
真空排除する。このとき、真空処理室１内の圧力
は予備真空室２，３内の圧力より低く保持され
る。また、真空処理室１内には、プラズマ特性を
良くするためのアルゴンガス、窒素ガスなどを封
入する。次に予備真空室２，３の上ロール８、下
ロール１１を駆動用モータ２４の駆動力により回
転させると共に真空処理室１のプラズマ装置を操
作する。この状態馳で被処理物Ｆは送り出し装置
２２から予備真空室２の上ロール８と下ール１１
との間を経て真空処理室１内へ連続的に導入され
る。真空処理室１内では、陽極と陰極間で発生す
るプラズマ放電により被処理物Ｆの表面にプラズ
マ処理が施される。真空処理室１内でプラズマ表
面処理された被処理物Ｆは、直ちに予備真空３の
上ロール８と下ロール１１との間を経て巻取り装
置２３により巻き取られる。このように被処理物
Ｆは真空処理室１内で短時間にプラズマ処理され
るため、塩化ビニー２樹脂などに含有している可
塑剤などの揮発性成分が急激に抜けることがなく
なり、したがつて被処理物Ｆの表面には良好な改
質特性が得られる。 下記表は本発明の実施例において、シール効果
を明らかにするために、被処理物Ｆを連続的に移
送した場合の真空ポンプにより真空排気される真
空処理室１および予備真空室２における真空度の
測定結果を示したものである。 ここで、測定場所は真空処理室１および予備真
空室２の，，について行なつた。

〔発明の効果〕

本発明の連続式真空処理装置によれば、複数の
予備真空室の真空を、シールロール間の軸方向の
シールを施すシール手段と、シールロールとケー
ス間の軸方向のシールを施す手段と、シールロー
ルとケースの端面間のシールを施すシール手段に
より保持するようにしたので、予備真空室は勿
論、予備真空室に接続する真空処理室も高真空度
に保持することができるため、プラズマ放電によ
る連続処理が可能となり、可撓性の被処理物のプ
ラズマ処理における改質特性を良好にすることは
勿論、生産性の大幅な向上を図ることができる。
したがつて、可撓性の被処理物が塩化ビニール樹
脂はどのフイルムを連続処理する場合に大きな効
果と発揮する。

【図面の簡単な説明】

第１図は本発明の連続式真空処理装置を示す正
面図、第２図は第１図の平面図、第３図および第
４図は本発明の連続式真空処理装置における予備
真空室のロールとケースおよびロール間のシール
手段を説明するための要部拡大図で、第３図は側
面断面図、第４図は第３図の―線矢視図、第
５図は本発明の連続式真空処理装置におけるロー
ルの端面側のシール手段を説明するための要部拡
大図、第６図は本発明装置の他の実施例を示し第
４図に相当する図である。 １……真空処理室、２，３……予備真空室、８
……上ロール、９……サイドピース、１１……下
ロール、Ｆ……被処理物。

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １ 前後側に予備真空室を少くとも１個配置した
   真空処理室により、可撓性の被処理物を連続的に
   プラズマ処理する連続式真空処理装置において、
   前記予備真空室は、被処理物が挿入される一対の
   シールロールのうち、一方のシールロールは軸方
   向の外周に弾性体を有し、他方のシールロールは
   軸方向の外周に硬質体を有し、前記弾性体をたわ
   ませることにより両シールロール間の軸方向のシ
   ールを施す手段と、両シールロールの軸方向に沿
   つてそれぞれ対接する弾性体のリツプル部材によ
   つてシールロールとケース間の軸方向のシールを
   施す手段と、前記シールロール端面と対接する面
   に低摩擦材料を形成したサイドピースおよびシー
   ルロール端面への押圧力を調整する弾性体によつ
   てシールロール端面のシールを施す手段とから構
   成したことを特徴とする連続式真空処理装置。 ２ 前記シールロール端面への押圧力を調整する
   弾性体は、バネ材であることを特徴とする特許請
   求の範囲第１項記載の連続式真空処理装置。