JP2691007B2 - 真空連続処理装置 - Google Patents
真空連続処理装置Info
- Publication number
- JP2691007B2 JP2691007B2 JP1066213A JP6621389A JP2691007B2 JP 2691007 B2 JP2691007 B2 JP 2691007B2 JP 1066213 A JP1066213 A JP 1066213A JP 6621389 A JP6621389 A JP 6621389A JP 2691007 B2 JP2691007 B2 JP 2691007B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- vacuum
- tension
- chamber
- processed
- processing chamber
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Lifetime
Links
Classifications
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B29—WORKING OF PLASTICS; WORKING OF SUBSTANCES IN A PLASTIC STATE IN GENERAL
- B29C—SHAPING OR JOINING OF PLASTICS; SHAPING OF MATERIAL IN A PLASTIC STATE, NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; AFTER-TREATMENT OF THE SHAPED PRODUCTS, e.g. REPAIRING
- B29C51/00—Shaping by thermoforming, i.e. shaping sheets or sheet like preforms after heating, e.g. shaping sheets in matched moulds or by deep-drawing; Apparatus therefor
- B29C51/10—Forming by pressure difference, e.g. vacuum
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/22—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
- C23C14/56—Apparatus specially adapted for continuous coating; Arrangements for maintaining the vacuum, e.g. vacuum locks
- C23C14/562—Apparatus specially adapted for continuous coating; Arrangements for maintaining the vacuum, e.g. vacuum locks for coating elongated substrates
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10S—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10S264/00—Plastic and nonmetallic article shaping or treating: processes
- Y10S264/78—Processes of molding using vacuum
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10S—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10S425/00—Plastic article or earthenware shaping or treating: apparatus
- Y10S425/06—Vacuum
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Metallurgy (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Physical Vapour Deposition (AREA)
- Treatment Of Fiber Materials (AREA)
- Furnace Details (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明はプラスチツク成形品たとえばPETフイルム、
天然あるいは合成繊維、また塗装鋼板などの被処理物を
連続的に真空状態で処理、たとえばプラズマ処理、蒸着
等の処理を行なう装置に関するものである。
天然あるいは合成繊維、また塗装鋼板などの被処理物を
連続的に真空状態で処理、たとえばプラズマ処理、蒸着
等の処理を行なう装置に関するものである。
この種の真空連続処理装置には、特開昭57−195739号
に記載のようにロールタイプのシール装置が一般的にな
つており、被処理物を一対のロールで圧着してシールを
行なつている。また、特開昭63−305140号のようにスリ
ツト状のシール装置を有するものもある。
に記載のようにロールタイプのシール装置が一般的にな
つており、被処理物を一対のロールで圧着してシールを
行なつている。また、特開昭63−305140号のようにスリ
ツト状のシール装置を有するものもある。
上記従来技術では非常に薄い被処理物の搬送、あるい
は、プラズマ処理等の真空処理時に被処理物にはたらく
熱については考慮されていなかった。
は、プラズマ処理等の真空処理時に被処理物にはたらく
熱については考慮されていなかった。
本発明の目的は、被処理物に損傷等を与えずに真空連
続処理を可能とする真空連続処理装置の提供にある。
続処理を可能とする真空連続処理装置の提供にある。
上記目的は、真空処理室内に張力付与装置と張力をカ
ツトする装置を設け、真空処理室の前後に備えてある予
備真空室内に張力付与装置を設け、前記予備真空室の前
方あるいは後方側に張力をカツトする装置を設け、予備
真空室及び真空処理室において個々に被処理物に適切な
張力を与えることにより達成される。
ツトする装置を設け、真空処理室の前後に備えてある予
備真空室内に張力付与装置を設け、前記予備真空室の前
方あるいは後方側に張力をカツトする装置を設け、予備
真空室及び真空処理室において個々に被処理物に適切な
張力を与えることにより達成される。
予備真空室の前方側より搬送された被処理物は、予備
真空室前に設けられた張力カツト装置により張力はカツ
トされ、真空処理室前後の予備真空室内の被処理物の張
力は、予備真空室内に設けてある張力付与装置により適
切な張力が与えられる。次に真空処理室内の被処理物の
張力は真空処理室内にある張力カツト装置により真空処
理室前方側及び後方側の予備真空室内の張力とは無関係
になり、真空処理室内にある張力付与装置により適切な
張力に設定できる。さらに真空処理室後方側の予備真空
室内の被処理物の張力は、予備真空室内に設けられてい
る張力付与装置により適切に設定される。これにより被
処理物に損傷等を与えることなく真空連続処理すること
が可能となる。
真空室前に設けられた張力カツト装置により張力はカツ
トされ、真空処理室前後の予備真空室内の被処理物の張
力は、予備真空室内に設けてある張力付与装置により適
切な張力が与えられる。次に真空処理室内の被処理物の
張力は真空処理室内にある張力カツト装置により真空処
理室前方側及び後方側の予備真空室内の張力とは無関係
になり、真空処理室内にある張力付与装置により適切な
張力に設定できる。さらに真空処理室後方側の予備真空
室内の被処理物の張力は、予備真空室内に設けられてい
る張力付与装置により適切に設定される。これにより被
処理物に損傷等を与えることなく真空連続処理すること
が可能となる。
以下、本発明の一実施例を図面により説明する。第１
図及び第２図において、１はプラスチツクフイルム例え
ばPETフイルムのような可撓性の被処理物Ｆを真空状態
で連続的にプラズマ処理する真空処理室、２は真空処理
室１の前方側に配置される予備真空室、３は真空処理室
１の後方側に配置される予備真空室で、前記真空処理室
内はこれに接続する真空ポンプ４により10-3トール程度
の真空圧力に保持するように排気導管５を介して真空排
気される。
図及び第２図において、１はプラスチツクフイルム例え
ばPETフイルムのような可撓性の被処理物Ｆを真空状態
で連続的にプラズマ処理する真空処理室、２は真空処理
室１の前方側に配置される予備真空室、３は真空処理室
１の後方側に配置される予備真空室で、前記真空処理室
内はこれに接続する真空ポンプ４により10-3トール程度
の真空圧力に保持するように排気導管５を介して真空排
気される。
前記予備真空室2,3は、これに接続する真空ポンプ６
により、前記真空処理室１内に真空圧力より若干高く、
かつ大気圧より段階的に減じる真空を保持するように排
気導管７を介して真空排気される。
により、前記真空処理室１内に真空圧力より若干高く、
かつ大気圧より段階的に減じる真空を保持するように排
気導管７を介して真空排気される。
処理される被処理物Ｆは巻出軸８より送り出され、巻
出し張力を制御する張力制御用ガイドローラ９を通り前
記予備真空室に送られる。前記予備真空室前方には張力
カツト装置27があり被処理物Ｆの張力を巻出し張力と切
りはなす。この時前記予備真空室２内の被処理物Ｆの張
力は張力検出器28により検出する。前方側予備真空室２
を通過した被処理物Ｆは真空処理室１内に設けられた張
力カツト装置29を介して真空処理室１内でプラズマ処理
される。この時真空処理室内の被処理物Ｆの張力は張力
カツト装置30と31間で張力付与用ガイドローラにより適
切な値に設定される。その後、被処理物Ｆは真空処理室
１の後方の予備真空室３に送られる。予備真空室３内被
処理物Ｆの張力は張力カツト装置31及び32により真空処
理室１内ならびに巻取時の張力とは無関係に予備真空室
３内の張力付与用ガイドローラにより適切な値に設定さ
れ、その張力は張力検出器33により検出される。その
後、被処理物Ｆは巻取張力を制御するガイドローラ10を
経て巻取軸11にて巻きとられる。12a,12bは、被処理物
Ｆを搬送するためのDCモータである。また、34a及び34b
は張力カツトするガイドローラを駆動するDCモータであ
る。
出し張力を制御する張力制御用ガイドローラ９を通り前
記予備真空室に送られる。前記予備真空室前方には張力
カツト装置27があり被処理物Ｆの張力を巻出し張力と切
りはなす。この時前記予備真空室２内の被処理物Ｆの張
力は張力検出器28により検出する。前方側予備真空室２
を通過した被処理物Ｆは真空処理室１内に設けられた張
力カツト装置29を介して真空処理室１内でプラズマ処理
される。この時真空処理室内の被処理物Ｆの張力は張力
カツト装置30と31間で張力付与用ガイドローラにより適
切な値に設定される。その後、被処理物Ｆは真空処理室
１の後方の予備真空室３に送られる。予備真空室３内被
処理物Ｆの張力は張力カツト装置31及び32により真空処
理室１内ならびに巻取時の張力とは無関係に予備真空室
３内の張力付与用ガイドローラにより適切な値に設定さ
れ、その張力は張力検出器33により検出される。その
後、被処理物Ｆは巻取張力を制御するガイドローラ10を
経て巻取軸11にて巻きとられる。12a,12bは、被処理物
Ｆを搬送するためのDCモータである。また、34a及び34b
は張力カツトするガイドローラを駆動するDCモータであ
る。
第３図，第４図及び第５図は前記予備真空室２及び３
を構成するシール装置の主要部を示すものであり、第４
図は第３図のＡ−Ａ断面図であり、第５図は第３図のＢ
−Ｂ断面図である。13は上ケース,14は下ケース,15は上
ケース13に案内支持されるシールブロックであり、被処
理物Ｆは下ケース14とシールブロツク15で形成されるス
リツトの間を接触しないで搬送される。16はハンドルで
あり、これを回転させることにより減速機17,歯車18,ボ
ールネジ19及びナツト20を介してシールブロツク15と一
体的に形成されるコラム21及びシールブロツク15を被処
理物Ｆの厚さに応じて上下方向に動かす。22はLMガイド
であり、シールブロツク15の上下方向の動きを案内す
る。23はＯリングであり、上ケース13とシールブロツク
15の間のシールをする。Ｏリング23はシールブロツク15
が上下方向に移動（最大2mm）するにもかかわらず上ケ
ース13とシールブロツク15間のシールを施すため、十分
な弾性体のものを使用している。上ケース13とシールブ
ロツク15のサイドの間隙24はシールブロツク15が滑らか
に上下し、かつ空気の漏れ量が小さくなるように、可能
な範囲で小さく（例えば30ミクロン）している。25は被
処理物Ｆを案内するガイドロールであり、下ケース14の
シール面と被処理物Ｆが接触しないよう、ガイドロール
25の外周面の高さを下ケース14より高くしている。通常
の使用では、被処理物Ｆとシールブロツク15の間隔及び
被処理物Ｆと下ケース14の間隔がいずれも0.1mmとなる
ようにガイドロール25とシールブロツク15の位置を決定
している。26は、被処理物Ｆとガイドロール25に対する
巻き付け角度を大きくするとともに被処理物Ｆに張力を
付与する張力付与用ロールで、シール部分で被処理物Ｆ
が振動し、シール部分の壁面に接触するのを防止してい
る。予備真空室２あるいは３は互いに相対するシール装
置で構成されており、排気導管７を介して真空ポンプ６
で排気される。
を構成するシール装置の主要部を示すものであり、第４
図は第３図のＡ−Ａ断面図であり、第５図は第３図のＢ
−Ｂ断面図である。13は上ケース,14は下ケース,15は上
ケース13に案内支持されるシールブロックであり、被処
理物Ｆは下ケース14とシールブロツク15で形成されるス
リツトの間を接触しないで搬送される。16はハンドルで
あり、これを回転させることにより減速機17,歯車18,ボ
ールネジ19及びナツト20を介してシールブロツク15と一
体的に形成されるコラム21及びシールブロツク15を被処
理物Ｆの厚さに応じて上下方向に動かす。22はLMガイド
であり、シールブロツク15の上下方向の動きを案内す
る。23はＯリングであり、上ケース13とシールブロツク
15の間のシールをする。Ｏリング23はシールブロツク15
が上下方向に移動（最大2mm）するにもかかわらず上ケ
ース13とシールブロツク15間のシールを施すため、十分
な弾性体のものを使用している。上ケース13とシールブ
ロツク15のサイドの間隙24はシールブロツク15が滑らか
に上下し、かつ空気の漏れ量が小さくなるように、可能
な範囲で小さく（例えば30ミクロン）している。25は被
処理物Ｆを案内するガイドロールであり、下ケース14の
シール面と被処理物Ｆが接触しないよう、ガイドロール
25の外周面の高さを下ケース14より高くしている。通常
の使用では、被処理物Ｆとシールブロツク15の間隔及び
被処理物Ｆと下ケース14の間隔がいずれも0.1mmとなる
ようにガイドロール25とシールブロツク15の位置を決定
している。26は、被処理物Ｆとガイドロール25に対する
巻き付け角度を大きくするとともに被処理物Ｆに張力を
付与する張力付与用ロールで、シール部分で被処理物Ｆ
が振動し、シール部分の壁面に接触するのを防止してい
る。予備真空室２あるいは３は互いに相対するシール装
置で構成されており、排気導管７を介して真空ポンプ６
で排気される。
第６図及び第７図は前記張力付与用ガイドローラ26の
支持構造の実施例である。ガイドローラ26はベアリング
35を介してアーム36により支持される。アーム36はベア
リング37を介してベアリングハウジング38,39により支
持される。ベアリングハウジング39とアーム36の支持部
の真空シールは、オイルシール40により行う。アーム36
の大気側の１端にはプレート41がとりつけられている。
プレート41の他の１端はエアシリンダ42のピストン43の
１端に接続されている。これにより張力付与用ガイドロ
ーラ26はエアシリンダ42及びそのピストン43の動きに応
じて作動する。エアシリンダ42に供給するエア圧により
被処理物Ｆに与える張力は制御が可能となり、またピス
トン43に位置検出器を設けることにより張力付与用ガイ
ドローラ26の位置を検出し、さらに適切な位置に設定で
きる。尚、真空処理室１内の張力付与装置も同様の構造
により達成される。
支持構造の実施例である。ガイドローラ26はベアリング
35を介してアーム36により支持される。アーム36はベア
リング37を介してベアリングハウジング38,39により支
持される。ベアリングハウジング39とアーム36の支持部
の真空シールは、オイルシール40により行う。アーム36
の大気側の１端にはプレート41がとりつけられている。
プレート41の他の１端はエアシリンダ42のピストン43の
１端に接続されている。これにより張力付与用ガイドロ
ーラ26はエアシリンダ42及びそのピストン43の動きに応
じて作動する。エアシリンダ42に供給するエア圧により
被処理物Ｆに与える張力は制御が可能となり、またピス
トン43に位置検出器を設けることにより張力付与用ガイ
ドローラ26の位置を検出し、さらに適切な位置に設定で
きる。尚、真空処理室１内の張力付与装置も同様の構造
により達成される。
第８図及び第９図は真空処理室１内の張力カツト装置
の１実施例である。本実施例では張力カツト装置は主に
１対のガイドローラから構成される。44は、真空中での
ガス放出量が小さい高分子材料をコーテイングしたガイ
ドローラであり、その表面と被処理物Ｆとのすべりはな
い。ガイドローラ44の両端はベアリング46を介してベア
リングハウジング47と48により支持されている。ベアリ
ングハウジング47はステー49に固定され、他方のベアリ
ングハウジング49は真空処理室１の側板50に固定されて
いる。ガイドローラ44とベアリングハウジング48との真
空シールはオイルシール51により行う。ガイドローラ44
の大気側の１端には歯車52がとりつけられ、さらにカツ
プリング53を介して駆動用DCモータ54に連結されてい
る。DCモータ54は張力付与用ガイドローラ30（図１中）
の位置を検出し被処理物Ｆが設定速度で適切な張力を付
加された状態で搬送するように制御される。ガイドロー
ラ44と１対をなす他方のガイドローラ55は回転部56,ベ
アリング57、及びシヤフト58により構成される。ガイド
ローラ55はシヤフト58の両端にとりつけられたベアリン
グ59を介してベアリングハウジング60及び61により支持
され、ベアリングハウジング60及び61はアーム62に固定
されている。また、シヤフト58の１端には歯車63がとり
つけられている。アーム62はベアリング64を介してベア
リングハウジング65及び歯車65に支持されている。ベア
リングハウジング65はステー49に固定される。歯車65は
ベアリング66を介してベアリングハウジング67により支
持され、ベアリングハウジング67は真空処理室１の側板
50に固定されている。尚歯車65とアーム62、歯車65とベ
アリングハウジング67の真空シールはオイルシール68と
69によりおこなう。歯車65の大気側の１端には歯車70が
固定されており、歯車51がDCモータ54により回転し、歯
車70及び65が歯車90と逆回転する。歯車65と歯車63はタ
イミングベルト71を介して連結されており、ガイドロー
ラ55は、ガイドローラ45と同じ速度で逆回転する。アー
ム62の１端はプレート72がとりつけられており、プレー
ト72がエアシリンダ等により作動させることでガイドロ
ーラ55は位置を移動できる。初期、被処理物搬通時には
ガイドローラ45と55は間隔が開いている。張力カツト作
動時は、被処理物Ｆをガイドローラ45と55によりはさみ
つける。この時ガイドローラ55の被処理物Ｆへの押しつ
け圧力は、被処理物Ｆに傷がつかない値にエアシリンダ
へのエア圧を調整することで設定する。
の１実施例である。本実施例では張力カツト装置は主に
１対のガイドローラから構成される。44は、真空中での
ガス放出量が小さい高分子材料をコーテイングしたガイ
ドローラであり、その表面と被処理物Ｆとのすべりはな
い。ガイドローラ44の両端はベアリング46を介してベア
リングハウジング47と48により支持されている。ベアリ
ングハウジング47はステー49に固定され、他方のベアリ
ングハウジング49は真空処理室１の側板50に固定されて
いる。ガイドローラ44とベアリングハウジング48との真
空シールはオイルシール51により行う。ガイドローラ44
の大気側の１端には歯車52がとりつけられ、さらにカツ
プリング53を介して駆動用DCモータ54に連結されてい
る。DCモータ54は張力付与用ガイドローラ30（図１中）
の位置を検出し被処理物Ｆが設定速度で適切な張力を付
加された状態で搬送するように制御される。ガイドロー
ラ44と１対をなす他方のガイドローラ55は回転部56,ベ
アリング57、及びシヤフト58により構成される。ガイド
ローラ55はシヤフト58の両端にとりつけられたベアリン
グ59を介してベアリングハウジング60及び61により支持
され、ベアリングハウジング60及び61はアーム62に固定
されている。また、シヤフト58の１端には歯車63がとり
つけられている。アーム62はベアリング64を介してベア
リングハウジング65及び歯車65に支持されている。ベア
リングハウジング65はステー49に固定される。歯車65は
ベアリング66を介してベアリングハウジング67により支
持され、ベアリングハウジング67は真空処理室１の側板
50に固定されている。尚歯車65とアーム62、歯車65とベ
アリングハウジング67の真空シールはオイルシール68と
69によりおこなう。歯車65の大気側の１端には歯車70が
固定されており、歯車51がDCモータ54により回転し、歯
車70及び65が歯車90と逆回転する。歯車65と歯車63はタ
イミングベルト71を介して連結されており、ガイドロー
ラ55は、ガイドローラ45と同じ速度で逆回転する。アー
ム62の１端はプレート72がとりつけられており、プレー
ト72がエアシリンダ等により作動させることでガイドロ
ーラ55は位置を移動できる。初期、被処理物搬通時には
ガイドローラ45と55は間隔が開いている。張力カツト作
動時は、被処理物Ｆをガイドローラ45と55によりはさみ
つける。この時ガイドローラ55の被処理物Ｆへの押しつ
け圧力は、被処理物Ｆに傷がつかない値にエアシリンダ
へのエア圧を調整することで設定する。
本実施例によれば、被処理物Ｆには損傷等を与えず、
プラズマ処理を連続的に行うことが可能となる。
プラズマ処理を連続的に行うことが可能となる。
本発明によれば、真空連続処理装置の巻出装置、予備
真空室とシール装置、真空処理室及び巻取装置におい
て、それぞれの部分で被処理物Ｆに適切な張力を付与で
きるので、被処理物に機械的な損傷を与えることなく、
またプラズマ処理による熱的なしわの発生をさせること
なく連続的に処理ができる。さらに真空連続処理装置前
後に張力カツト装置を設けていることにより真空連続処
理装置の前及び後工程の影響を受けることなく被処理物
を搬送することができる。
真空室とシール装置、真空処理室及び巻取装置におい
て、それぞれの部分で被処理物Ｆに適切な張力を付与で
きるので、被処理物に機械的な損傷を与えることなく、
またプラズマ処理による熱的なしわの発生をさせること
なく連続的に処理ができる。さらに真空連続処理装置前
後に張力カツト装置を設けていることにより真空連続処
理装置の前及び後工程の影響を受けることなく被処理物
を搬送することができる。
図面は本発明に係る真空連続処理装置の実施例の説明図
で、第１図は真空連続処理装置の概略縦断面図、第２図
は第１図の概略平面図、第３図はシール装置の縦断面
図、第４図は第３図のＡ−Ａ断面図、第５図は第３図の
Ｂ−Ｂ断面図、第６図及び第７図は、それぞれ張力付与
用ガイドローラ部の横断面図及び側面図、第８図は第１
図のＣ−Ｃ断面図、第９図は第８図の上面図である。 １……真空処理室、2,3……予備真空室、4,6……真空ポ
ンプ、5,7……排気導管、８……巻出軸、9,10,25,41a,4
1b……ガイドロール、11……巻取軸、13……上ケース、
14……下ケース、15……シールブロツク、17……減速
機、18……歯車、19……ボールネジ、26……張力付与用
ロール、27,32……張力カツト装置、28,33……張力検出
器、29,31……張力カツト装置、30……張力付与用ガイ
ドローラ、34a,b……DCモータ、36……アーム、44,45…
…ガイドローラ、62……アーム、54……DCモータ。
で、第１図は真空連続処理装置の概略縦断面図、第２図
は第１図の概略平面図、第３図はシール装置の縦断面
図、第４図は第３図のＡ−Ａ断面図、第５図は第３図の
Ｂ−Ｂ断面図、第６図及び第７図は、それぞれ張力付与
用ガイドローラ部の横断面図及び側面図、第８図は第１
図のＣ−Ｃ断面図、第９図は第８図の上面図である。 １……真空処理室、2,3……予備真空室、4,6……真空ポ
ンプ、5,7……排気導管、８……巻出軸、9,10,25,41a,4
1b……ガイドロール、11……巻取軸、13……上ケース、
14……下ケース、15……シールブロツク、17……減速
機、18……歯車、19……ボールネジ、26……張力付与用
ロール、27,32……張力カツト装置、28,33……張力検出
器、29,31……張力カツト装置、30……張力付与用ガイ
ドローラ、34a,b……DCモータ、36……アーム、44,45…
…ガイドローラ、62……アーム、54……DCモータ。
Claims (5)
- 【請求項１】真空処理室の前後方にそれぞれ少なくとも
１個の予備真空室を配置してなる真空連続処理装置にお
いて、 前記予備真空室は被処理物を搬送すると共に真空処理室
を処理室外からシールするシール装置を有し、当該シー
ル装置の前後もしくは一方に被処理物を案内する案内部
材を設け、前記真空処理室及び予備真空室に、それぞれ
個々に張力付与装置を、前記真空処理室内に被処理物の
張力をカットする装置を、それぞれ設けたことを特徴と
する真空連続処理装置。 - 【請求項２】真空処理室の前後方にそれぞれ少なくとも
１個の予備真空室を配置してなる真空連続処理装置にお
いて、 前記予備真空室は被処理物を搬送すると共に真空処理室
を処理室外からシールするシール装置を有し、当該シー
ル装置の前後もしくは一方に被処理物を案内する案内部
材を設け、前記真空処理室及び予備真空室に、それぞれ
個々に張力付与装置を、前記予備真空室の前方側あるい
は後方側に張力をカットする装置をそれぞれ設けたこと
を特徴とする真空連続処理装置。 - 【請求項３】前記張力を付与する装置の位置を検出して
張力をカットする装置を制御する制御手段を有すること
を特徴とする請求項１または２に記載の真空連続処理装
置。 - 【請求項４】前記張力をカットする装置が、被処理物を
挟み回転するローラであることを特徴とする請求項３に
記載の真空連続処理装置。 - 【請求項５】真空処理室の前後方にそれぞれ少なくとも
１個の予備真空室を配置してなる真空連続処理装置にお
いて、 前記予備真空室は被処理物を搬送すると共に真空処理室
を処理室外からシールするシール装置を有し、当該シー
ル装置の前後もしくは一方に被処理物を案内する案内部
材を設け、前記真空処理室及び予備真空室の外方に、そ
れぞれ個々に被処理物の張力をカットする装置を設けた
ことを特徴とする真空連続処理装置。
Priority Applications (4)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1066213A JP2691007B2 (ja) | 1989-03-20 | 1989-03-20 | 真空連続処理装置 |
| EP90105002A EP0388811A1 (en) | 1989-03-20 | 1990-03-16 | Continuous vacuum processing method and apparatus |
| US07/495,120 US5088908A (en) | 1989-03-20 | 1990-03-19 | Continuous vacuum processing apparatus |
| KR1019900003713A KR900014107A (ko) | 1989-03-20 | 1990-03-20 | 진공연속처리장치 및 방법 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1066213A JP2691007B2 (ja) | 1989-03-20 | 1989-03-20 | 真空連続処理装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH02247382A JPH02247382A (ja) | 1990-10-03 |
| JP2691007B2 true JP2691007B2 (ja) | 1997-12-17 |
Family
ID=13309321
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1066213A Expired - Lifetime JP2691007B2 (ja) | 1989-03-20 | 1989-03-20 | 真空連続処理装置 |
Country Status (4)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US5088908A (ja) |
| EP (1) | EP0388811A1 (ja) |
| JP (1) | JP2691007B2 (ja) |
| KR (1) | KR900014107A (ja) |
Families Citing this family (12)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH07245332A (ja) * | 1994-03-04 | 1995-09-19 | Hitachi Ltd | 半導体製造装置および半導体装置の製造方法ならびに半導体装置 |
| JP3199162B2 (ja) * | 1996-03-18 | 2001-08-13 | 松下電器産業株式会社 | 連続真空処理装置 |
| US5814278A (en) * | 1996-04-26 | 1998-09-29 | Minnesota Mining And Manufacturing Company | Shrouded reaction vessel |
| DE19814805A1 (de) * | 1998-04-02 | 1999-10-07 | Bosch Gmbh Robert | Beschichtungsverfahren eines Wischergummis |
| EP1004369B2 (fr) † | 1998-11-26 | 2008-11-12 | ArcelorMittal France | Sas d'étanchéité pour chambre à vide |
| US6878207B2 (en) * | 2003-02-19 | 2005-04-12 | Energy Conversion Devices, Inc. | Gas gate for isolating regions of differing gaseous pressure |
| SE0401834D0 (sv) * | 2004-07-09 | 2004-07-09 | Gambro Lundia Ab | A continuous method for production of a regioselective porous hollow fibre membrane |
| DE102006025751B4 (de) * | 2006-05-31 | 2010-12-23 | Von Ardenne Anlagentechnik Gmbh | Verfahren zur Abdichtung einer Vakuumkammer und Schleuseneinrichtung für eine Vakuumkammer |
| JP5176684B2 (ja) * | 2008-04-01 | 2013-04-03 | セイコーエプソン株式会社 | 記録装置及び記録方法 |
| US9303316B1 (en) * | 2010-01-15 | 2016-04-05 | Apollo Precision Kunming Yuanhong Limited | Continuous web apparatus and method using an air to vacuum seal and accumulator |
| JP5958092B2 (ja) * | 2012-05-31 | 2016-07-27 | ソニー株式会社 | 成膜装置及び成膜方法 |
| KR102458991B1 (ko) * | 2018-03-30 | 2022-10-25 | 제이에프이 스틸 가부시키가이샤 | 방향성 전기 강판의 제조 방법 및 연속 성막 장치 |
Family Cites Families (21)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US3057792A (en) * | 1957-12-21 | 1962-10-09 | Siemens Ag | Method for improving the imprintability of synthetic material |
| US3897205A (en) * | 1973-07-06 | 1975-07-29 | Us Agriculture | Fireproofing cellulose textiles with tetrakis (hydroxymethyl) phosphonium chloride and aniline |
| US3990390A (en) * | 1975-01-27 | 1976-11-09 | Anatoly Iosifovich Plyshevsky | Apparatus for vacuum coating of a substrate |
| DE2900724C2 (de) * | 1979-01-10 | 1986-05-28 | Siemens AG, 1000 Berlin und 8000 München | Vorrichtung zur Beschichtung von Substraten im Vakuum |
| JPS5730733A (en) * | 1980-07-30 | 1982-02-19 | Shin Etsu Chem Co Ltd | Device for continuous plasma treatment |
| JPS57195739A (en) * | 1981-05-29 | 1982-12-01 | Shin Etsu Chem Co Ltd | Sealing device for continuous vacuum treatment apparatus |
| EP0130444B1 (en) * | 1983-06-17 | 1987-09-23 | Hitachi, Ltd. | Continuous vacuum treating apparatus |
| GB8408023D0 (en) * | 1984-03-28 | 1984-05-10 | Gen Eng Radcliffe Ltd | Vacuum coating apparatus |
| JPS61163272A (ja) * | 1985-01-09 | 1986-07-23 | Canon Inc | 薄膜の製造方法及び該方法に使用する装置 |
| GB8505199D0 (en) * | 1985-02-28 | 1985-04-03 | Bicc Plc | Extrusion control |
| US4743419A (en) * | 1985-03-04 | 1988-05-10 | The Dow Chemical Company | On-line film fluorination method |
| EP0203582B1 (en) * | 1985-05-31 | 1991-03-27 | Hitachi Maxell Ltd. | Method and apparatus for making magnetic recording medium |
| JPH0784660B2 (ja) * | 1985-06-29 | 1995-09-13 | 石川島播磨重工業株式会社 | 真空処理装置のシ−ル装置 |
| JPS6230879A (ja) * | 1985-07-31 | 1987-02-09 | Hitachi Condenser Co Ltd | 薄膜形成方法 |
| JPS6237367A (ja) * | 1985-08-13 | 1987-02-18 | Kawasaki Steel Corp | 方向性けい素鋼板の鉄損低減装置 |
| US4865713A (en) * | 1987-05-26 | 1989-09-12 | Siemens Aktiengesellschaft | Apparatus for applying thin layers onto a substrate |
| JPS63305141A (ja) * | 1987-06-05 | 1988-12-13 | Hitachi Ltd | 真空連続処理装置 |
| JPS63305140A (ja) * | 1987-06-05 | 1988-12-13 | Hitachi Ltd | 真空連続処理装置 |
| JPS63304034A (ja) * | 1987-06-05 | 1988-12-12 | Hitachi Ltd | 真空連続処理装置 |
| US4763601A (en) * | 1987-09-02 | 1988-08-16 | Nippon Steel Corporation | Continuous composite coating apparatus for coating strip |
| DE3731444A1 (de) * | 1987-09-18 | 1989-03-30 | Leybold Ag | Vorrichtung zum beschichten von substraten |
-
1989
- 1989-03-20 JP JP1066213A patent/JP2691007B2/ja not_active Expired - Lifetime
-
1990
- 1990-03-16 EP EP90105002A patent/EP0388811A1/en not_active Withdrawn
- 1990-03-19 US US07/495,120 patent/US5088908A/en not_active Expired - Fee Related
- 1990-03-20 KR KR1019900003713A patent/KR900014107A/ko not_active Abandoned
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| US5088908A (en) | 1992-02-18 |
| EP0388811A1 (en) | 1990-09-26 |
| JPH02247382A (ja) | 1990-10-03 |
| KR900014107A (ko) | 1990-10-22 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JP2691007B2 (ja) | 真空連続処理装置 | |
| US4551310A (en) | Continuous vacuum treating apparatus | |
| JPS625861B2 (ja) | ||
| US3599851A (en) | Hydrodynamic turnover mechanisms | |
| US5643391A (en) | Method and apparatus for an improved roller system for calendar machines | |
| EP0293929B1 (en) | Continuous vacuum processing apparatus | |
| JP2751919B2 (ja) | フィルム材固定機構 | |
| JP2590200B2 (ja) | 真空連続処理装置 | |
| JPH0438774B2 (ja) | ||
| JPH0413270B2 (ja) | ||
| JP3517647B2 (ja) | シート状物搬送装置 | |
| JP2009179446A (ja) | 巻取装置および巻取部材の作製方法 | |
| JPS63305142A (ja) | 真空連続処理装置 | |
| JPH06329336A (ja) | ワイヤ繰出装置用ブレーキ装置 | |
| JPH02167348A (ja) | 真空連続処理装置 | |
| JPH01111874A (ja) | 真空連続処理装置 | |
| JPS63305141A (ja) | 真空連続処理装置 | |
| JP4603180B2 (ja) | 圧延方法 | |
| JPS63304035A (ja) | 真空連続処理装置 | |
| TWI599532B (zh) | 薄膜運送裝置和薄膜運送方法 | |
| JPH0530736B2 (ja) | ||
| JPH01116076A (ja) | 真空連続処理装置 | |
| CN214522626U (zh) | 一种高速凹版印刷机 | |
| JPS6211881Y2 (ja) | ||
| JP4703043B2 (ja) | 連続シート状材料の表面処理装置及び表面処理方法 |