JPS63304034A - 真空連続処理装置 - Google Patents
真空連続処理装置Info
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- JPS63304034A JPS63304034A JP62139751A JP13975187A JPS63304034A JP S63304034 A JPS63304034 A JP S63304034A JP 62139751 A JP62139751 A JP 62139751A JP 13975187 A JP13975187 A JP 13975187A JP S63304034 A JPS63304034 A JP S63304034A
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Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/22—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
- C23C14/56—Apparatus specially adapted for continuous coating; Arrangements for maintaining the vacuum, e.g. vacuum locks
- C23C14/562—Apparatus specially adapted for continuous coating; Arrangements for maintaining the vacuum, e.g. vacuum locks for coating elongated substrates
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01J—CHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
- B01J3/00—Processes of utilising sub-atmospheric or super-atmospheric pressure to effect chemical or physical change of matter; Apparatus therefor
- B01J3/002—Component parts of these vessels not mentioned in B01J3/004, B01J3/006, B01J3/02 - B01J3/08; Measures taken in conjunction with the process to be carried out, e.g. safety measures
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01J—CHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
- B01J3/00—Processes of utilising sub-atmospheric or super-atmospheric pressure to effect chemical or physical change of matter; Apparatus therefor
- B01J3/03—Pressure vessels, or vacuum vessels, having closure members or seals specially adapted therefor
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B29—WORKING OF PLASTICS; WORKING OF SUBSTANCES IN A PLASTIC STATE IN GENERAL
- B29C—SHAPING OR JOINING OF PLASTICS; SHAPING OF MATERIAL IN A PLASTIC STATE, NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; AFTER-TREATMENT OF THE SHAPED PRODUCTS, e.g. REPAIRING
- B29C59/00—Surface shaping of articles, e.g. embossing; Apparatus therefor
- B29C59/14—Surface shaping of articles, e.g. embossing; Apparatus therefor by plasma treatment
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明はプラスチック成形品たとえばＰＥＴフィルム、
天然あるいは合成繊維、また塗装鋼板などの被処理物を
連続的に真空状態で処理、たとえばプラズマ処理、蒸着
等の処理を行なう装置に関するものである。
天然あるいは合成繊維、また塗装鋼板などの被処理物を
連続的に真空状態で処理、たとえばプラズマ処理、蒸着
等の処理を行なう装置に関するものである。
この種の真空連続処理装置には、特開昭５７−１９５７
３９号に記載のようにロールタイプのシール装置が一般
的になっており、被゛処理物を一対のロールで圧着して
シールを行なっている。また、米国特許第３，０５７，
７９２号のようにスリット状のシール装置を有するもの
もある。
３９号に記載のようにロールタイプのシール装置が一般
的になっており、被゛処理物を一対のロールで圧着して
シールを行なっている。また、米国特許第３，０５７，
７９２号のようにスリット状のシール装置を有するもの
もある。
上記従来技術は、被処理物を一対のロールにて圧着しな
がらシールしているため、被処理物を結果的に圧着し、
処理後の被処理物の特性に悪影響を与えている。また、
回転するロールとケース間のシールとして、ロール軸方
向にそったリップル部材を使用しているが、被処理物に
悪影響を与えないため、油等の潤滑剤が使用できず、し
たがってリップル部剤あるいはロールの摩耗粉が発生し
、それが被処理物に付着するという問題があった。
がらシールしているため、被処理物を結果的に圧着し、
処理後の被処理物の特性に悪影響を与えている。また、
回転するロールとケース間のシールとして、ロール軸方
向にそったリップル部材を使用しているが、被処理物に
悪影響を与えないため、油等の潤滑剤が使用できず、し
たがってリップル部剤あるいはロールの摩耗粉が発生し
、それが被処理物に付着するという問題があった。
また、単にスリット状のシール装置でシールするものに
おいては被処理物がシール部分に接触して被処理物が損
傷するという問題があった。それゆえ、透明導電膜等の
高級被処理物には不適当であった。
おいては被処理物がシール部分に接触して被処理物が損
傷するという問題があった。それゆえ、透明導電膜等の
高級被処理物には不適当であった。
本発明の目的は、被処理物を圧着せずに、また摩耗粉等
のゴミが被処理物に付着しないで真空連続処理を行なう
装置を提供することにある。
のゴミが被処理物に付着しないで真空連続処理を行なう
装置を提供することにある。
上記目的は、スリット状のシール部分を有し、また、こ
のシール部分の前後もしくは一方に被処理物を案内する
ガイドロールを設け、該ガイドロール間にて他の手段に
より被処理物に張力を与えながら、被処理物を搬送する
ことにより達成される。
のシール部分の前後もしくは一方に被処理物を案内する
ガイドロールを設け、該ガイドロール間にて他の手段に
より被処理物に張力を与えながら、被処理物を搬送する
ことにより達成される。
被処理物をスリット状のシール部分に接触しないように
前後もしくは一方にガイドロールを配設し、被処理物の
厚さに応じてシール間隔を調整できる構造とする。それ
によって、被処理物に他の手段で張力を与えることによ
り、被処理物をシール部分に接触することなく搬送する
ことができる。
前後もしくは一方にガイドロールを配設し、被処理物の
厚さに応じてシール間隔を調整できる構造とする。それ
によって、被処理物に他の手段で張力を与えることによ
り、被処理物をシール部分に接触することなく搬送する
ことができる。
また、シール部分では互いに摺動する部分がないため、
＊耗粉が発生して被処理物が付着するようなことはない
。
＊耗粉が発生して被処理物が付着するようなことはない
。
［実施例］
以下、本発明の一実施例を図面により説明する６第１図
及び第２図において、１はプラスチックフィルム例えば
ＰＥＴフィルムのような可撓性の被処理物Ｆを真空状態
で連続的にプラズマ処理する真空処理室、２は真空処理
室１の前方側に配置される予備真空室、３は真空処理室
１の後方側に配置される予備真空室で、前記真空処理室
内はこれに接続する真空ポンプ４により１０−ａトール
程度の真空圧力に保持するように排気導管５を介して真
空排気される。
及び第２図において、１はプラスチックフィルム例えば
ＰＥＴフィルムのような可撓性の被処理物Ｆを真空状態
で連続的にプラズマ処理する真空処理室、２は真空処理
室１の前方側に配置される予備真空室、３は真空処理室
１の後方側に配置される予備真空室で、前記真空処理室
内はこれに接続する真空ポンプ４により１０−ａトール
程度の真空圧力に保持するように排気導管５を介して真
空排気される。
前記予備真空室２，３は、これに接続する真空ポンプ６
により、前記真空処理室１内の真空圧力より若干高く、
かつ大気圧より段階的に減じる真空を保持するように排
気導管７を介して真空排気される。
により、前記真空処理室１内の真空圧力より若干高く、
かつ大気圧より段階的に減じる真空を保持するように排
気導管７を介して真空排気される。
処理される被処理物Ｆは巻出軸８より送り出され、前方
側の予備真空室内の被処理物Ｆの張力を制御するガイド
ロール９を介して前方側の予備真空室２を経て真空処理
室１へ送られ、そこでプラズマ処理される。その後、後
方側の予備真空室３を経て、後方側予備真空室内の張力
を制御するガイドロール１０を経て、巻取軸１１にて巻
き取られる。１２ａ、１２ｂは被処理物Ｆを搬送するた
めの駆動用ＤＣモータであり、前記ガイドロール９およ
び１０の張力検出により、被処理物Ｆをしわなく搬送し
、かつ搬送速度を適宜調整する。
側の予備真空室内の被処理物Ｆの張力を制御するガイド
ロール９を介して前方側の予備真空室２を経て真空処理
室１へ送られ、そこでプラズマ処理される。その後、後
方側の予備真空室３を経て、後方側予備真空室内の張力
を制御するガイドロール１０を経て、巻取軸１１にて巻
き取られる。１２ａ、１２ｂは被処理物Ｆを搬送するた
めの駆動用ＤＣモータであり、前記ガイドロール９およ
び１０の張力検出により、被処理物Ｆをしわなく搬送し
、かつ搬送速度を適宜調整する。
第３図、第４図及び第５図は前記予備真空室２及び３を
構成するシール装置の主要部を示すものであり、第４図
は第３図のＡ−Ａ断面図であり、第５図は第３図のＢ−
Ｂ断面図である。１３は上ケース、１４は下ケース、１
５は上ケース１３に案内支持されるシールブロックであ
り、被処理物Ｆは下ケース１４とシールブロック１５で
形成されるスリットの間を接触しないで搬送される。
構成するシール装置の主要部を示すものであり、第４図
は第３図のＡ−Ａ断面図であり、第５図は第３図のＢ−
Ｂ断面図である。１３は上ケース、１４は下ケース、１
５は上ケース１３に案内支持されるシールブロックであ
り、被処理物Ｆは下ケース１４とシールブロック１５で
形成されるスリットの間を接触しないで搬送される。
１６はハンドルであり、これを回転させることにより減
速機１７．歯車１８．ボールネジ１９及びナツト２０を
介してシールブロック１５と一体的に形成されるコラム
２１及びシールブロック１５を被処理物Ｆの厚さに応じ
て上下方向に動かす。
速機１７．歯車１８．ボールネジ１９及びナツト２０を
介してシールブロック１５と一体的に形成されるコラム
２１及びシールブロック１５を被処理物Ｆの厚さに応じ
て上下方向に動かす。
２２はＬＭガイドであり、シールブロック１５の上下方
向の動きを案内する。２３は０リングであり、上ケース
１３とシールブロック１５の間のシールをする。０リン
グ２３はシールブロック１５が上ド方向の移動（最大２
■）にもかかわらず上ケース１３とシールブロック１５
間のシールを施すため、十分な弾性体のものを使用して
いる。上ケース１３とシールブロック１５のサイドの間
隙２４はシールブロック１５が滑らかに上下し、かつ空
気の漏れ量が小さくなるように、可能な範囲で小さく
（例えば３０ミクロン）している、２５は被処理物Ｆを
案内するガイドロールであり、下ケース１４のシール面
と被処理物１７が接触しないよう、ガイドロール２５の
外周面の高さを下ケース１４より高くしている８通常の
使用では、被処理物Ｆとシールブロック１５の間隔及び
被処理物Ｆとｆケース１４の間隔がいずれも０．１ ■
となるようにガイドロール２５とシールブロック１５の
位置を決定している。２６は、被処理物Ｆガイドロール
２５に対する巻き付は角度を大きくするとともに被処理
物Ｆに張力を付与する張力付与用ロールで、シール部分
で被処理物Ｆが振動し、シール部分の壁面に接触するの
を防止している。予備真空室２あるいは３は互いに相対
するシール装置で構成されており、排気導管７を介して
真空ポンプ６で排気される。
向の動きを案内する。２３は０リングであり、上ケース
１３とシールブロック１５の間のシールをする。０リン
グ２３はシールブロック１５が上ド方向の移動（最大２
■）にもかかわらず上ケース１３とシールブロック１５
間のシールを施すため、十分な弾性体のものを使用して
いる。上ケース１３とシールブロック１５のサイドの間
隙２４はシールブロック１５が滑らかに上下し、かつ空
気の漏れ量が小さくなるように、可能な範囲で小さく
（例えば３０ミクロン）している、２５は被処理物Ｆを
案内するガイドロールであり、下ケース１４のシール面
と被処理物１７が接触しないよう、ガイドロール２５の
外周面の高さを下ケース１４より高くしている８通常の
使用では、被処理物Ｆとシールブロック１５の間隔及び
被処理物Ｆとｆケース１４の間隔がいずれも０．１ ■
となるようにガイドロール２５とシールブロック１５の
位置を決定している。２６は、被処理物Ｆガイドロール
２５に対する巻き付は角度を大きくするとともに被処理
物Ｆに張力を付与する張力付与用ロールで、シール部分
で被処理物Ｆが振動し、シール部分の壁面に接触するの
を防止している。予備真空室２あるいは３は互いに相対
するシール装置で構成されており、排気導管７を介して
真空ポンプ６で排気される。
上記実施例によれば、被処理物をシール装置に接触する
ことなく搬送できる。したがって被処理物の処理後の特
性（例えば、スパッタリング処理では膜質）に悪影響を
与えず、また、摩耗粉が被処理物に付着するというよう
なこともない。
ことなく搬送できる。したがって被処理物の処理後の特
性（例えば、スパッタリング処理では膜質）に悪影響を
与えず、また、摩耗粉が被処理物に付着するというよう
なこともない。
第６図は他の実施例で、ガイドロールに代えて円弧状の
案内面をもつ案内板２７を設けたものであり、被処理物
Ｆが薄い場合に、搬送開始時に被処理物Ｆにかかる負担
が少なく、このため対処理物Ｆの切断、損傷を防止でき
る効果がある。
案内面をもつ案内板２７を設けたものであり、被処理物
Ｆが薄い場合に、搬送開始時に被処理物Ｆにかかる負担
が少なく、このため対処理物Ｆの切断、損傷を防止でき
る効果がある。
第７図は、更に他の実施例で、ガイドロールに代えて円
形断面ζもつ案内棒２８を設けたものであり、第６図の
実施例と同様、被処理物Ｆが薄い場合に被処理物Ｆの切
断、損傷を防止できる効果がある。
形断面ζもつ案内棒２８を設けたものであり、第６図の
実施例と同様、被処理物Ｆが薄い場合に被処理物Ｆの切
断、損傷を防止できる効果がある。
第８図、第９図及び第１０’図は更に他の実施例で、張
力付与用ロールの位置を上下に移動可能にしたもので、
第８図は断面図、第９図は第８図の一部側面図、第１０
図は張力付与用ロールの詳細図である。
力付与用ロールの位置を上下に移動可能にしたもので、
第８図は断面図、第９図は第８図の一部側面図、第１０
図は張力付与用ロールの詳細図である。
図において、２９はエアシリンダ、３０はエアピストン
３１はアームシャフト回転用アーム、３２はアームシャ
フト用オイルシール、３３゜３４はベアリングハウジン
グ、３５はアームシャフト、３６はアームシャフト３５
に取り付けである張力付与用ロール２６の移動用アーム
である。
３１はアームシャフト回転用アーム、３２はアームシャ
フト用オイルシール、３３゜３４はベアリングハウジン
グ、３５はアームシャフト、３６はアームシャフト３５
に取り付けである張力付与用ロール２６の移動用アーム
である。
その作用を説明すると、エアによりエアシリンダ２９に
付随したピストン３０を運動させ、これによりアーム３
１が移動する。このアーム３１の動きは、アームシャフ
ト３５に伝達し、アームシャフト３５は、アームシャフ
ト３５の半径方向の中心を軸に回転する。尚、アームシ
ャフト３５は、ベアリングを介してベアリングハウジン
グ３３゜３４により支持し、大気と真空のシールは、オ
イルシール３２で行なう。
付随したピストン３０を運動させ、これによりアーム３
１が移動する。このアーム３１の動きは、アームシャフ
ト３５に伝達し、アームシャフト３５は、アームシャフ
ト３５の半径方向の中心を軸に回転する。尚、アームシ
ャフト３５は、ベアリングを介してベアリングハウジン
グ３３゜３４により支持し、大気と真空のシールは、オ
イルシール３２で行なう。
次に、アームシャフト３５の回転によりアーム３６がア
ームシャフト３５の半径方向の中心を軸として回転する
。これによりアーム３６の端部に支持しているガイドロ
ール２６は、このアーム３６の回転に従って移動する。
ームシャフト３５の半径方向の中心を軸として回転する
。これによりアーム３６の端部に支持しているガイドロ
ール２６は、このアーム３６の回転に従って移動する。
このガイドロール２６は、初期被処理物搬送時には、第
３図において、シールブロック１５の下面より高く位置
しており被処理物搬送の防げとはならない、このため。
３図において、シールブロック１５の下面より高く位置
しており被処理物搬送の防げとはならない、このため。
初期搬送は容易となる。又、被処理物搬送時には。
張力付与用ロール２６の最下部は、下ケース１４のスリ
ット部上面より低く位置し、被処理物Ｆに適切な張力を
かける。これによりシール装置スリット部との接触によ
る被処理物の損傷はない。
ット部上面より低く位置し、被処理物Ｆに適切な張力を
かける。これによりシール装置スリット部との接触によ
る被処理物の損傷はない。
上記実施例によれば、被処理物を初期搬送時シール装置
に容易に搬送することができる。又、適切な張力を被処
理物にかけることにより、シール部と被処理物との接触
による損傷を防ぐことが可能となる。
に容易に搬送することができる。又、適切な張力を被処
理物にかけることにより、シール部と被処理物との接触
による損傷を防ぐことが可能となる。
つぎに張力検出手段を設けて被処理物に最適の張力を付
与する実施例について説明する。
与する実施例について説明する。
１まず張力検出手段を、予備真空室２、及び予備真空室
３の外部に備える場合について述べると、張力検出手段
は前方側ガイドロール９．及び後方側ガイドロール１０
に設ける。前方側の被処理物の張力は、ガイドロール７
を介して検出手段により検出され、検出手段からの信号
により１巻出軸８は被処理物Ｆの張力が最適となるよう
に制御を受ける。また後方側の被処理物Ｆの張力は、ガ
イドロール１０を介して検出手段により検出され、検出
手段からの信号により、巻取軸１１は被処理物Ｆの張力
が最適となるように制御を受ける。この前方側検出手段
、制御手段、及び後方側検出手段、制御手段により被処
理物Ｆは最適な張力を保つため、たるんだり、あるいは
しわが発生したりすることがないため、下ケース１４、
及びシールブロック１５に接触することなく搬送するこ
とが可能となり、被処理物Ｆの損傷は防ぐことができる
。
３の外部に備える場合について述べると、張力検出手段
は前方側ガイドロール９．及び後方側ガイドロール１０
に設ける。前方側の被処理物の張力は、ガイドロール７
を介して検出手段により検出され、検出手段からの信号
により１巻出軸８は被処理物Ｆの張力が最適となるよう
に制御を受ける。また後方側の被処理物Ｆの張力は、ガ
イドロール１０を介して検出手段により検出され、検出
手段からの信号により、巻取軸１１は被処理物Ｆの張力
が最適となるように制御を受ける。この前方側検出手段
、制御手段、及び後方側検出手段、制御手段により被処
理物Ｆは最適な張力を保つため、たるんだり、あるいは
しわが発生したりすることがないため、下ケース１４、
及びシールブロック１５に接触することなく搬送するこ
とが可能となり、被処理物Ｆの損傷は防ぐことができる
。
張力検出手段を予備真空室２．及び予備真空室３の内部
に備える場合、張力検出手段は予備真室室２，３を構成
するシール装置内のガイドロール２６の一つに備えられ
る。前方側被処理物Ｆの張力は前方側シール装置内のガ
イドロール２６を介して検出され、検出手段からの信号
により、巻出軸８は被処理物Ｆの張力が最適となるよう
に制御を受ける。また後方側の被処理物Ｆの張力は、後
方側シール装置内のガイドロール２６を介して検出され
、検出手段からの信号により、巻取軸１１は被処理物の
張力が最適となるように制御を受ける。この前方側検出
手段、制御手段、及び後方側検出手段、制御手段により
被処理物Ｆは最適な張力を保ち、下ケース１４．及びシ
ールブロック１５に接触することなく搬送することが可
能となり、被処理物の損傷は防ぐことができる。
に備える場合、張力検出手段は予備真室室２，３を構成
するシール装置内のガイドロール２６の一つに備えられ
る。前方側被処理物Ｆの張力は前方側シール装置内のガ
イドロール２６を介して検出され、検出手段からの信号
により、巻出軸８は被処理物Ｆの張力が最適となるよう
に制御を受ける。また後方側の被処理物Ｆの張力は、後
方側シール装置内のガイドロール２６を介して検出され
、検出手段からの信号により、巻取軸１１は被処理物の
張力が最適となるように制御を受ける。この前方側検出
手段、制御手段、及び後方側検出手段、制御手段により
被処理物Ｆは最適な張力を保ち、下ケース１４．及びシ
ールブロック１５に接触することなく搬送することが可
能となり、被処理物の損傷は防ぐことができる。
つぎに第１１８及び第１２図に被処理物の張力を検出す
る手段の一例を示す、第１１図は、検出手段を予備真空
室２，３の外部に備えたものを示し、第１２図は検出手
段を予備真空室２，３の内部に備えた場合を示している
。張力検出器３７は第１１図の場合、被処理物Ｆに対す
るガイドロール９ （１０） 、第１２図の場合、ガイ
ドローラ２６と、このガイドロール９（１０）、または
２６の両端を支持する軸受ユニット３８と、この軸受ユ
ニット３８に連結する差動トランス３９およびスプリン
グ４０から成っており、この張力検出器３７は、第１１
図の場合２つのガイドロール４１ａ、４１ｂ、第１２図
の場合、２つのガイドロール２５．２５の間に設けられ
ている。この張力検出器３７は１例えば、被処理物Ｆの
張力が増加すると、ガイドロール９（１０）又は２６は
スプリング４０に抗して移動し、張力が減少すると、ガ
イドロール９（１０）又は、２６は、スプリング４０の
伸びる力によって、移動する。また差動トランス３９は
ガイドロール９ （１０）、２６の移動量に応じて出力
電圧を発生するようになっている。
る手段の一例を示す、第１１図は、検出手段を予備真空
室２，３の外部に備えたものを示し、第１２図は検出手
段を予備真空室２，３の内部に備えた場合を示している
。張力検出器３７は第１１図の場合、被処理物Ｆに対す
るガイドロール９ （１０） 、第１２図の場合、ガイ
ドローラ２６と、このガイドロール９（１０）、または
２６の両端を支持する軸受ユニット３８と、この軸受ユ
ニット３８に連結する差動トランス３９およびスプリン
グ４０から成っており、この張力検出器３７は、第１１
図の場合２つのガイドロール４１ａ、４１ｂ、第１２図
の場合、２つのガイドロール２５．２５の間に設けられ
ている。この張力検出器３７は１例えば、被処理物Ｆの
張力が増加すると、ガイドロール９（１０）又は２６は
スプリング４０に抗して移動し、張力が減少すると、ガ
イドロール９（１０）又は、２６は、スプリング４０の
伸びる力によって、移動する。また差動トランス３９は
ガイドロール９ （１０）、２６の移動量に応じて出力
電圧を発生するようになっている。
第１３図は張力検出手段の制御系をブロック図により示
すものである。
すものである。
第１３図において、４２は比較器で、この比較器４２は
被処理物Ｆの最適な張力即ち設定張力に相当する設定信
号Ａと張力検出器３７により検出された実際の張力に相
当する検出信号Ｂを比較し１両信号Ａ、Ｂの偏差信号Ｃ
を巻出軸の駆動用ＤＣモータ１２ａあるいは巻取軸の駆
動用ＤＣモータ１２ｂに供給する。前記張力設定信号Ａ
は被処理物の材質、厚さになどによって予め設定される
。
被処理物Ｆの最適な張力即ち設定張力に相当する設定信
号Ａと張力検出器３７により検出された実際の張力に相
当する検出信号Ｂを比較し１両信号Ａ、Ｂの偏差信号Ｃ
を巻出軸の駆動用ＤＣモータ１２ａあるいは巻取軸の駆
動用ＤＣモータ１２ｂに供給する。前記張力設定信号Ａ
は被処理物の材質、厚さになどによって予め設定される
。
上記の構成において被処理物Ｆの張力が増加した場合、
張力検出器３７のガイドロール９（１０）または、２６
は、スプリング３９に抗して移動すると共に、このガイ
ドロール９（１０）または２６の移動量は差動トランス
３９によって電圧に変換される。比較器４２は前記検出
信号Ｂと設定信号Ａを比較し、偏差信号Ｃを巻き山軸８
９巻取軸１１に供給する。これにより張力が設定張力に
なるように制御される。また被処理物Ｆの張力が減少し
た場合にも前記と同様の検出、制御により被処理物Ｆの
張力を設定張力にすることが可能となる。
張力検出器３７のガイドロール９（１０）または、２６
は、スプリング３９に抗して移動すると共に、このガイ
ドロール９（１０）または２６の移動量は差動トランス
３９によって電圧に変換される。比較器４２は前記検出
信号Ｂと設定信号Ａを比較し、偏差信号Ｃを巻き山軸８
９巻取軸１１に供給する。これにより張力が設定張力に
なるように制御される。また被処理物Ｆの張力が減少し
た場合にも前記と同様の検出、制御により被処理物Ｆの
張力を設定張力にすることが可能となる。
このように、搬送中の被処理物の張力を検出してこの検
出信号により被処理物の張力を最適に制御することによ
って、被処理物はたるみ、あるいは、しわが発生せず下
ケース、及びシールブロックに接触することなく、搬送
することが可能となり、被処理物の損傷は防ぐことがで
きる。
出信号により被処理物の張力を最適に制御することによ
って、被処理物はたるみ、あるいは、しわが発生せず下
ケース、及びシールブロックに接触することなく、搬送
することが可能となり、被処理物の損傷は防ぐことがで
きる。
上記実施例によれば、被処理物をシール装置に接触させ
ることなく、搬送ができる。これにより被処理物の損傷
を防ぐととが可能となる。
ることなく、搬送ができる。これにより被処理物の損傷
を防ぐととが可能となる。
第１４図、第１５図、及び第１６図は更に他の実施例の
断面図でガイドロールの位置を上下に可動なように構成
したものであり、第１４図は第３図のＤ−Ｄ断面、第１
５図は第１４図のＧ部詳細図、第１６図は第１４図のＨ
−Ｈ断面図である。
断面図でガイドロールの位置を上下に可動なように構成
したものであり、第１４図は第３図のＤ−Ｄ断面、第１
５図は第１４図のＧ部詳細図、第１６図は第１４図のＨ
−Ｈ断面図である。
ガイドロール２５は、ガイドロール２５の軸４３の端部
をベアリングを介して、偏心軸受カートリッジ４４によ
り支持される。この偏心軸受４４は手動、または自動に
より回転可能となっており、中心が距ｊｌＬだけ偏心し
ているガイドロールの軸４３は、偏心軸受カートリッジ
４４の回転に応じて、偏心軸受カートリッジ４４の回転
軸を中心に回転し移動する。これによりガイドロール２
５は第１６図の一点鎖線で示すように回転移動を行ない
、ガイドロール２５の最上部は、ガイドロール２５の回
転移動前と後では、任意の変位工だけ移動する。このガ
イドロール２５の最上部の移動機構により、このガイド
ロール２５により案内される被処理物は、下ケース１４
とシールブロック間の最適な搬送位置に設定することが
可能となる。
をベアリングを介して、偏心軸受カートリッジ４４によ
り支持される。この偏心軸受４４は手動、または自動に
より回転可能となっており、中心が距ｊｌＬだけ偏心し
ているガイドロールの軸４３は、偏心軸受カートリッジ
４４の回転に応じて、偏心軸受カートリッジ４４の回転
軸を中心に回転し移動する。これによりガイドロール２
５は第１６図の一点鎖線で示すように回転移動を行ない
、ガイドロール２５の最上部は、ガイドロール２５の回
転移動前と後では、任意の変位工だけ移動する。このガ
イドロール２５の最上部の移動機構により、このガイド
ロール２５により案内される被処理物は、下ケース１４
とシールブロック間の最適な搬送位置に設定することが
可能となる。
つまり、被処理物に、被処理物と下ケース１４との接触
による損傷を与えることない、さらに、被処理物の種類
に応じて、被処理物の位置を変えることにより、それに
応じたシールブロックの位置の変化が可能となりしたが
って被処理物とシールブロックとの接触もなく、また必
要最小限度の下ケース１４とシールブロック１５の間隔
を設定することができる。これより最適なシール状態を
保つことができる。
による損傷を与えることない、さらに、被処理物の種類
に応じて、被処理物の位置を変えることにより、それに
応じたシールブロックの位置の変化が可能となりしたが
って被処理物とシールブロックとの接触もなく、また必
要最小限度の下ケース１４とシールブロック１５の間隔
を設定することができる。これより最適なシール状態を
保つことができる。
上記実施例によれば、被処理物の位置を最適な位置に設
定することができるので、被処理物とスリット状シール
部分との接触を防ぐことにより被処理物の損傷がなく、
かつ、Ｒ適なスリットの間隙を設定できる。
定することができるので、被処理物とスリット状シール
部分との接触を防ぐことにより被処理物の損傷がなく、
かつ、Ｒ適なスリットの間隙を設定できる。
本発明によれば、被処理物をシール装置に接触すること
なく搬送できる。したがって被処理物の処理後の特性（
例えば、スパッタリング処理では膜質）に悪影響を与え
ず、また、摩耗粉が被処理物に付着するというようなこ
ともない。
なく搬送できる。したがって被処理物の処理後の特性（
例えば、スパッタリング処理では膜質）に悪影響を与え
ず、また、摩耗粉が被処理物に付着するというようなこ
ともない。
図面は本発明に係る真空連続処理装置の実施例の説明図
で、第１図は真空連続処理装置の概略縦断面図、第２図
は第１図の概略平面図、第３図はシール装置の継断面図
、第４図は第３図のＡ−Ａ断面図、第５図は第３図のＢ
−Ｂ断面図、第６図は他の実施例の断面図、第７図は更
に他の実施例の断面図、第８図は更に他の実施例の説明
図で、第８図は断面図、第９図は第８図の一部側面図。 第１０図は張力付与用ロールの詳細図、第１１図は被処
理物の張力検出手段の説明図、第１２図は張力検出手段
の他の実施例の説明図、第１３図は張力検出手段の制御
系のブロック図、第１４図。 第１５図及び第１６図は更に他の実施例の説明図で、第
１４図は第３図のＤ−Ｄ断面図、第１５図は第１４図の
Ｇ部拡大図、第１６図は偏心の説明図である。 １・・・真空処理室、２，３・・・予備真空室、４，６
・・・真空ポンプ、５，７・・・排気導管、８・・・巻
出軸、９゜１０ 、２５ 、４１ ａ 、 ４ ｌ ｂ
−ガイドロール、１１・・・巻取軸、１３・・・上ケー
ス、１４・・・下ケース、１５・・・シールブロック、
１７・・・減速機、１８・・・歯車、１９・・・ボール
ネジ、２６・・・張力付与用ロール。
で、第１図は真空連続処理装置の概略縦断面図、第２図
は第１図の概略平面図、第３図はシール装置の継断面図
、第４図は第３図のＡ−Ａ断面図、第５図は第３図のＢ
−Ｂ断面図、第６図は他の実施例の断面図、第７図は更
に他の実施例の断面図、第８図は更に他の実施例の説明
図で、第８図は断面図、第９図は第８図の一部側面図。 第１０図は張力付与用ロールの詳細図、第１１図は被処
理物の張力検出手段の説明図、第１２図は張力検出手段
の他の実施例の説明図、第１３図は張力検出手段の制御
系のブロック図、第１４図。 第１５図及び第１６図は更に他の実施例の説明図で、第
１４図は第３図のＤ−Ｄ断面図、第１５図は第１４図の
Ｇ部拡大図、第１６図は偏心の説明図である。 １・・・真空処理室、２，３・・・予備真空室、４，６
・・・真空ポンプ、５，７・・・排気導管、８・・・巻
出軸、９゜１０ 、２５ 、４１ ａ 、 ４ ｌ ｂ
−ガイドロール、１１・・・巻取軸、１３・・・上ケー
ス、１４・・・下ケース、１５・・・シールブロック、
１７・・・減速機、１８・・・歯車、１９・・・ボール
ネジ、２６・・・張力付与用ロール。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １、真空処理室の前後方側にそれぞれ少なくとも１個の
予備真空室を配置してなる真空連続処理装置において、
前記予備真空室は被処理物を搬送すると共に真空処理室
を処理室外からシールするスリット状のシール装置を有
し、当該シール装置の前後もしくは一方に被処理物を案
内する案内部材を設けたことを特徴とする真空連続処理
装置。 ２、案内部材がローラであることを特徴とする特許請求
の範囲第１項記載の真空連続処理装置。 ３、ローラを回転自在に設けたことを特徴とする特許請
求の範囲第２項記載の真空連続処理装置。 ４、案内部材が円弧状の案内面をもつ案内板であること
を特徴とする特許請求の範囲第１項記載の真空連続処理
装置。 ５、真空処理室の前後方側にそれぞれ少なくとも１個の
予備真空室を配置してなる真空連続処理装置において、
前記予備真空室は、被処理物を通過させると共に真空処
理室を処理室外からシールするスリット状のシール装置
を有し、当該シール装置の前後もしくは一方に被処理物
を案内する案内部材を設け、前記シール装置はスリット
を形成する部材を被処理物の搬送方向と垂直方向に移動
可能に設け、間隙を調節できるように構成したことを特
徴とする真空連結処理装置。 ６、シール装置は平板状の一方の部材と、当該一方の部
材と対向する対向面を凹状に形した他方の部材と、当該
他方の部材の凹部に収納されて前記一方の部材と対向す
る面に被処理物が通過するスリットを形成する平板部材
と、平板部材を被処理物の搬送方向と、垂直な方向に移
動させる手段とから構成したことを特徴とする特許請求
の範囲第５項記載の真空連続処理装置。 ７、案内部材を被処理物の搬送方向と垂直な方向に移動
可能に設けたことを特徴とする特許請求の範囲第５項記
載の真空連結処理装置。 ８、真空処理室の前後方側にそれぞれ少なくとも１個の
予備真空室を配置してなる真空連結処理装置において、
前記予備真空室は被処理物を通過させると共に真空処理
室を処理室外からシールするスリット状のシール装置を
有し、当該シール装置の前後もしくは一方に被処理物を
案内する案内部材を設け、当該案内部材を張力検出手段
が検出する被処理物の張力に応じて被処理物の搬送方向
と垂直な方向に移動可能に設け、前記シール装置はスリ
ットを形成する部材を被処理物の搬送方向と垂直方向に
移動可能に設けたことを特徴とする真空連結処理装置。
Priority Applications (5)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP62139751A JPS63304034A (ja) | 1987-06-05 | 1987-06-05 | 真空連続処理装置 |
| KR1019880005390A KR910005158B1 (ko) | 1987-06-05 | 1988-05-10 | 진공연속 처리장치 |
| US07/201,758 US5016561A (en) | 1987-06-05 | 1988-06-03 | Continuous vacuum processing apparatus |
| DE8888108938T DE3865532D1 (de) | 1987-06-05 | 1988-06-03 | Vorrichtung zum kontinuierlichen behandeln unter vakuum. |
| EP88108938A EP0293929B1 (en) | 1987-06-05 | 1988-06-03 | Continuous vacuum processing apparatus |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP62139751A JPS63304034A (ja) | 1987-06-05 | 1987-06-05 | 真空連続処理装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS63304034A true JPS63304034A (ja) | 1988-12-12 |
| JPH0438774B2 JPH0438774B2 (ja) | 1992-06-25 |
Family
ID=15252541
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP62139751A Granted JPS63304034A (ja) | 1987-06-05 | 1987-06-05 | 真空連続処理装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS63304034A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH02247382A (ja) * | 1989-03-20 | 1990-10-03 | Hitachi Ltd | 真空連続処理装置 |
| CN113151785A (zh) * | 2020-01-22 | 2021-07-23 | 中国工程物理研究院激光聚变研究中心 | 一种薄膜制备组件、薄膜制备方法及其应用 |
Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US4346669A (en) * | 1979-10-12 | 1982-08-31 | General Engineering Radcliffe 1979 Limited | Vacuum chamber seals |
| US4354686A (en) * | 1979-07-06 | 1982-10-19 | Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. | Contact-free sealing member |
| JPS58182220A (ja) * | 1982-01-24 | 1983-10-25 | エナ−ジ−・コンバ−ション・デバイセス・インコ−ポレ−テッド | タンデムアモルファス光起電力セルを連続的に製造する為の方法及び装置 |
-
1987
- 1987-06-05 JP JP62139751A patent/JPS63304034A/ja active Granted
Patent Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US4354686A (en) * | 1979-07-06 | 1982-10-19 | Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. | Contact-free sealing member |
| US4346669A (en) * | 1979-10-12 | 1982-08-31 | General Engineering Radcliffe 1979 Limited | Vacuum chamber seals |
| JPS58182220A (ja) * | 1982-01-24 | 1983-10-25 | エナ−ジ−・コンバ−ション・デバイセス・インコ−ポレ−テッド | タンデムアモルファス光起電力セルを連続的に製造する為の方法及び装置 |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH02247382A (ja) * | 1989-03-20 | 1990-10-03 | Hitachi Ltd | 真空連続処理装置 |
| JP2691007B2 (ja) * | 1989-03-20 | 1997-12-17 | 株式会社日立製作所 | 真空連続処理装置 |
| CN113151785A (zh) * | 2020-01-22 | 2021-07-23 | 中国工程物理研究院激光聚变研究中心 | 一种薄膜制备组件、薄膜制备方法及其应用 |
| CN113151785B (zh) * | 2020-01-22 | 2022-02-08 | 中国工程物理研究院激光聚变研究中心 | 一种薄膜制备组件、薄膜制备方法及其应用 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0438774B2 (ja) | 1992-06-25 |
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