JPS61157535A - 真空連続処理装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔発明の利用分野〕 本発明は合成繊維やプラスチック成形品、たとえば、塩
化ビニール系樹脂フィルムの被処理物を真空状態で連続
的にプラズマなどの表面処理を施す真空連続処理に関す
ものである。

〔発明の背景〕

この種の装置は、本願出願人によりすでに特開昭５７−
３０７３３号公報などにより出願されている。

この装置はプラスチック成形品など可撓性の被処理物を
真空処理室内でＷ連続的にプラズマ処理するものである
。そしてこの真空処理室の前後側には複数の予備真空室
が設けられており、この予備真空室は上下方向に対接し
、被処理物の搬送方向に並置する一対のシールロールと
、このシールロールの一部に軸方向に沿って連続的に対
接するリップル部材とシールロールの両端面に対接する
サイドピースなどを備えている。

ところでこの装置においては、例えば予備真空室内の各
シールロール間の速度調整ミスにより、前方予備真空室
と真空処理の間、真空処理室と後方予備真空室との間お
よび台ホ麟後方予備真空室と巻取装置の間などで搬送中
の被処理物にたるみが発生した場合、被処理物がシール
ロール間やシールロールとリップル部材の間に巻込まれ
ることがあった。このため、被処理物を傷めるだけでな
く、一対のシールロールのうち、ゴムシールロールやリ
ップル部材を破損するなどの問題点を有している。また
、シールロールなどを備える予備真空室は密封構造にな
っているため、シールロール間に巻込まれた被処理物の
取り出しに多大な時間を要する。

〔発明の目的〕

本発明の目的は、搬送中に発生する被処理物のたるみに
よって被処理物がシールロールなどに巻込まれることに
よりシールロールやリップル部材が破損するのを防止す
るようにした真空連続処理装置を提供することにある。

〔発明の概要〕

本発明は上記の目的を達成するために、予備真空室の後
方に、被処理物が搬送中に発生するたるみを防止する少
なくとも一方が弾性体の一対のロールを設けたことを特
徴とする。

〔発明の実施例〕

以下本発明の一実施例を図面により説明する。

第１図および第２図において、１はプラスチックフィル
ム例えば塩化ビニール系樹脂フィルムのように可撓性の
被処理物Ｆを真空状態で連続的にプラズマ処゛理する真
空処理室、２は真空処理室１の前方側に複数個配置され
る予備真空室、３は真空処理室１の後方側に複数個配置
される予備真空室で、前記真空処理室１内はこれに接続
する真空ポンプ４により１Ｏ−２）−−ル程度の真空圧
力に保持するように排気管５を介して真空排気される。

前記予備真空室２，３内はこれに接続する真空ポンプ６
により前記真空処理室１内の真空圧力より若干高く、か
つ大気圧より段階的に減じる真空圧力に保持するように
排気管７を介して真空排気される。

処理される被処理物Ｆは巻出装置８より前方側の予備真
空室２を経て真空処理室１へ送られ、そこでプラズマ処
理された後、さらに後方側の予備真空室３を経て巻処装
Ｗ９で巻取られる。１０は駆動用モータで、この駆動用
モータ１０はラインシャフト１１および無段変速機１２
，１３，１４゜１５を介して真空処理室１、予備真空室
２，３゜巻取装置９へ駆動力を伝達し、真空処理室１、
予備真空室２，３および巻取装置９の各駆動系の回転速
度は前記無段変速機１２，１３，１４．１５により適宜
調整される。

１６．１７は予備真空室２，３の後方、すなわち、前方
予備真空室２と真空処理室１および後方予備真空室３と
巻取装置９の間に設けられる一対のロールで、このロー
ル１６．１７は、ばね、シリンダ（図示せず）の押圧力
によりある一定の圧力をフィルムに付与することによっ
て、フィルムが搬送中に発生するたるみを防止する。前
記一方のロール１６は表面にゴムなどの弾性体１６ａが
一体的に焼着されており、他方のロール１７は表面に硬
質のクロムニッケル層が施されている。

第３図および第４図は前記予備真空室２，３の主要部を
示すもので、上シールロール１８は表面ゴムなどの弾性
体１９が一体的に焼着されており、下シールロール２０
は表面に硬質のクロムニッケル層が施されている。２１
はケース２２に固定され、かつ、上下シールロール１８
．２０の外周面の一部と軸方向に沿って連続的に対接す
るリップル部材で、このリップル部材２１はシールロー
ル１８．２０とケース２２との間のシールを施す。

２３．２４はシールロール１８．２０の両端面側のシー
ルを施すサイドピースで、このサイドピースのシールロ
ールと対接する側にはフッソ樹脂膜２５が焼着されてい
る。

次に本発明装置の作動を説明する。

先ず、真空ポンプ４．６を作動させることにより、真空
処理室１内および予備処理室２，３内を真空排気する。

このとき、真空処理室１内の圧力は予備真空室２，３内
の圧力より低く保持される。

また、真空処理室１内には、プラズマ特性を良好にする
ためのアルゴンガス、窒素ガスなどを供給する。

次に予備真空室２，３に備えられる一対の上シールロー
ル１８、下シールロール２０を駆動モータ１０の駆動力
により回転させると共に真空処理室１の両電極間に高周
波電力を供給する。この状態で被処理物Ｆは巻出装置８
から予備真空室２の上、下シールロールを経て真空処理
室１内へ導入される。真空処理室１内では１両電極間で
プラズマ放電を発生させる。このとき、両電極間に挿入
されている被処理物Ｆのフィルム表面にはプラズマ処理
が施される。

真空処理室１内でプラズマ処理された被処理物Ｆは、直
ちに予備真空室３の上、下シールロールとの間を経て巻
取装置９により巻き取られる。

このように巻出装置８から巻取袋Ｍ９まで搬送される被
処理物Ｆは、例えばシールロール間１巻取装置などの速
度調整ミスにより前、後予備真空室２，３を通過した地
点（図示、Ａ、Ｂ）でたるみが発生しやすくなる。

本発明においては、被処理物Ｆのたるみやすい位置に一
対のロール１６．１７を配置し、この口　゛−ル１６，
１７により被処理物Ｆに一定の押圧力を付与するように
して被処理物Ｆのたわみの発生を防止する。万一、被処
理物にたわみが発生した場合にはこのロール１６．１７
に被処理物Ｆを巻込むことが可能である。

このため、従来のようにシールロール１８゜２０間やシ
ールロールとリップル部材２１の間に被処理物が巻込ま
れる心配もなく、シールロール、リップル部材の破損も
防止できる。

また、万一被処理物にたるみが発生してロール１６．１
７に巻込まれたとしても、ロール１６゜１７は予備真空
室を形成するケースに内蔵されていないため、被処理物
を容易に取り除くことが可能である。

〔発明の効果〕

本発明によれば、駆動ロールの速度調整ミスなどにより
発生する被処理物のたるみを防止することができるため
、シールロールやリップル部材の破損を防止できる。

【図面の簡単な説明】

第１図および第２図は本発明の真空連続処理装置の一実
施例を示すもので、第１図は正面図、第２図は第・１図
の平面図、第３図は本発明装置における予備真空室の要
部を示す断面図、第４図は第３図のＩＶ−ＩＶ断面およ
び本発明装置のロールを説明するための図である。 １・・・真空処理室、２，３・・・予備真空室、１６゜
１７・・・たるみ防止用ロール、１８．２０・・・シー
ルロール、２１・・・リップル部材、２３．２４・・・
サイドピース。 竿　１■ 箒　２　図

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. 真空処理室の前後方側にそれぞれ少なくとも１個配設さ
   れる予備真空室を有し、この予備真空室は、上下方向に
   対接し、かつ可撓性の被処理物の搬送方向に並置された
   一対のシールロールと、このシールロールの一部に軸方
   向に沿つて連続的に対接するリップル部材と、前記シー
   ルロールの両端面に対接するサイドピースなどから成る
   真空連続処理装置において、前記予備真空室の後方に、
   被処理物が搬送中に発生するたるみを防止する少なくと
   も一方が弾性体の一対のロールを備えたことを特徴とす
   る真空連続処理装置。