JPH0545615B2 - - Google Patents
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- Publication number
- JPH0545615B2 JPH0545615B2 JP17587085A JP17587085A JPH0545615B2 JP H0545615 B2 JPH0545615 B2 JP H0545615B2 JP 17587085 A JP17587085 A JP 17587085A JP 17587085 A JP17587085 A JP 17587085A JP H0545615 B2 JPH0545615 B2 JP H0545615B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- vacuum
- seal roll
- seal
- chamber
- processing chamber
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Lifetime
Links
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- 239000011347 resin Substances 0.000 description 3
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 3
- 238000007789 sealing Methods 0.000 description 3
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Classifications
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01J—CHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
- B01J3/00—Processes of utilising sub-atmospheric or super-atmospheric pressure to effect chemical or physical change of matter; Apparatus therefor
- B01J3/02—Feed or outlet devices therefor
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Treatments Of Macromolecular Shaped Articles (AREA)
- Physical Vapour Deposition (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
〔発明の利用分野〕
本発明は合成繊維やプラスチツク成形品、たと
えば塩化ビニール系樹脂など可撓性の被処理物を
連続的に真空状態で処理する装置に関するもので
ある。
えば塩化ビニール系樹脂など可撓性の被処理物を
連続的に真空状態で処理する装置に関するもので
ある。
この種の真空連続処理装置は、本願出願人によ
りすでに特開昭57−195751号公報などで出願され
ている。この装置は、プラスチツク成形品など可
撓性の被処理物を真空処理室内で連続的にプラズ
マ処理するものである。そしてこの真空処理室の
前後側には少なくとも１個の予備真空室が段階的
に真空度を下げるために設けられており、この予
備真空室は、上下方向に接し、被処理物の搬送方
向に並置する一方のシールロールと、このシール
ロールの一部に軸方向に沿つて連続的な接するリ
ツプ部材とシールロールの両端面にサイドピース
などを備えている。
りすでに特開昭57−195751号公報などで出願され
ている。この装置は、プラスチツク成形品など可
撓性の被処理物を真空処理室内で連続的にプラズ
マ処理するものである。そしてこの真空処理室の
前後側には少なくとも１個の予備真空室が段階的
に真空度を下げるために設けられており、この予
備真空室は、上下方向に接し、被処理物の搬送方
向に並置する一方のシールロールと、このシール
ロールの一部に軸方向に沿つて連続的な接するリ
ツプ部材とシールロールの両端面にサイドピース
などを備えている。
しかしながら、従来の装置においては、シール
ロールの軸方向の位置決めをサイドピースで行な
つていたが、このサイドピースは、シールロール
の熱膨張を考慮して一方側の端面をバネ材によつ
てケースとシールロールに対して押付ける構造と
なつている。このため、処理する被処理物（例え
ばフイルム）の厚みの不均一性などにより、シー
ルロールの軸方向に力が加わると、シールロール
がサイドピースを押しながら軸方向に移動するた
め、サイドピースとケース間に隙間が生じ、空気
の漏れが大きくなるという問題点を有していた。
ロールの軸方向の位置決めをサイドピースで行な
つていたが、このサイドピースは、シールロール
の熱膨張を考慮して一方側の端面をバネ材によつ
てケースとシールロールに対して押付ける構造と
なつている。このため、処理する被処理物（例え
ばフイルム）の厚みの不均一性などにより、シー
ルロールの軸方向に力が加わると、シールロール
がサイドピースを押しながら軸方向に移動するた
め、サイドピースとケース間に隙間が生じ、空気
の漏れが大きくなるという問題点を有していた。
本発明の目的は、サイドピースとケース間から
漏れを低減してシール性の向上を図るようにした
真空連続処理装置を提供することにある。
漏れを低減してシール性の向上を図るようにした
真空連続処理装置を提供することにある。
本発明は上記目的を達成するために、シールロ
ールの軸方向の位置を、シールロールを支持する
軸受により決定し、サイドピースとシールロール
の相対する位置を一定になるようにしたものであ
る。
ールの軸方向の位置を、シールロールを支持する
軸受により決定し、サイドピースとシールロール
の相対する位置を一定になるようにしたものであ
る。
以下本発明の一実施例を図面により説明する。
第１図および第２図において、１はプラスチツ
クフイルム例えば塩化ビニル系樹脂フイルムのよ
うに可撓性の被処理物Ｆを真空状態で連続的にプ
ラズマ処理する真空処理室、２は真空処理室１の
前方側に複数個配置される予備真空室、３は真空
処理室１の後方側に複数個配置される予備真空室
で、前記真空処理室１内はこれに接続する真空ポ
ンプ４により10-2トール程度の真空圧力に保持す
るように排気管５を介して真空排気される。前記
予備真空室２，３内はこれに接続する真空ポンプ
６により前記真空処理室１内の真空圧力により若
干高く、かつ大気圧より段階的に減じる真空圧力
に保持するように排気管７を介して真空排気され
る。
クフイルム例えば塩化ビニル系樹脂フイルムのよ
うに可撓性の被処理物Ｆを真空状態で連続的にプ
ラズマ処理する真空処理室、２は真空処理室１の
前方側に複数個配置される予備真空室、３は真空
処理室１の後方側に複数個配置される予備真空室
で、前記真空処理室１内はこれに接続する真空ポ
ンプ４により10-2トール程度の真空圧力に保持す
るように排気管５を介して真空排気される。前記
予備真空室２，３内はこれに接続する真空ポンプ
６により前記真空処理室１内の真空圧力により若
干高く、かつ大気圧より段階的に減じる真空圧力
に保持するように排気管７を介して真空排気され
る。
処理される被処理物Ｆは巻出装置８より前方側
の予備真空室２を経て真空処理室１へ送られ、そ
こでプラズマ処理された後、さらに後方側の予備
真空室３を経て巻取装置９で巻取られる。１０は
駆動用モータで、この駆動用モータ１０はライン
シヤフト１１および無段変速機１２，１３，１
４，１５を介して真空処理室１、予備真空室２，
３、巻取装置９へ駆動力を伝達し、予備処理室
１、予備真空室２，３および巻取装置９の各駆動
系の回転速度は前記無段変速機１２，１３，１
４，１５により適宜調整される。
の予備真空室２を経て真空処理室１へ送られ、そ
こでプラズマ処理された後、さらに後方側の予備
真空室３を経て巻取装置９で巻取られる。１０は
駆動用モータで、この駆動用モータ１０はライン
シヤフト１１および無段変速機１２，１３，１
４，１５を介して真空処理室１、予備真空室２，
３、巻取装置９へ駆動力を伝達し、予備処理室
１、予備真空室２，３および巻取装置９の各駆動
系の回転速度は前記無段変速機１２，１３，１
４，１５により適宜調整される。
第３図〜第６図は前記予備真空室２および３の
主要部を示すもので、上シールロール１６は表面
にゴムなどの弾性体１８が一体的に焼着されてお
り、下シールロール１７は表面に硬質のクロムニ
ツケル層が施されている。１９，２０は上下シー
ルロール１６，１７の外周面の１部に軸方向に沿
つて連続的に接するリツプ部材で、リツプル部材
はケース２１ににプレート２３，２４を介してボ
ルト２２により押付けられている。２５，２６は
上下シールロール１６，１７の両端側に接するサ
イドピースで、このサイドピース２５，２６のシ
ールロールの接する側にはフツソ樹脂膜２７が焼
着されており、このサイドピースは軸受ハウジン
グ２８，２９により支持さている。前記上下シー
ルロール１６，１７の軸方向の位置はアンギユラ
コンタクト軸受３１により決められている。
主要部を示すもので、上シールロール１６は表面
にゴムなどの弾性体１８が一体的に焼着されてお
り、下シールロール１７は表面に硬質のクロムニ
ツケル層が施されている。１９，２０は上下シー
ルロール１６，１７の外周面の１部に軸方向に沿
つて連続的に接するリツプ部材で、リツプル部材
はケース２１ににプレート２３，２４を介してボ
ルト２２により押付けられている。２５，２６は
上下シールロール１６，１７の両端側に接するサ
イドピースで、このサイドピース２５，２６のシ
ールロールの接する側にはフツソ樹脂膜２７が焼
着されており、このサイドピースは軸受ハウジン
グ２８，２９により支持さている。前記上下シー
ルロール１６，１７の軸方向の位置はアンギユラ
コンタクト軸受３１により決められている。
シールロール１６，１７はブツシユ３２を回転
させることにより、ブツシユ３２に形成したねじ
３２ａの作用で左右方向に移動するが、シールロ
ール１６，１７の両端側に接するサイドピース２
５，２６からの総合の漏れが最も小さくなる位
置、すなわち、シールロールの端面とケース２１
の端面が一致する位置にブツシユ３２で調整し、
ナツト３２ｂで固定する。このようにシールロー
ル１６，１７の端面とケース２１の端面を一致す
る位置に固定することにより、被処理物Ｆの厚さ
の不均一などによりシールロールが軸方向の力を
受けた場合でも軸方向には移動しない。
させることにより、ブツシユ３２に形成したねじ
３２ａの作用で左右方向に移動するが、シールロ
ール１６，１７の両端側に接するサイドピース２
５，２６からの総合の漏れが最も小さくなる位
置、すなわち、シールロールの端面とケース２１
の端面が一致する位置にブツシユ３２で調整し、
ナツト３２ｂで固定する。このようにシールロー
ル１６，１７の端面とケース２１の端面を一致す
る位置に固定することにより、被処理物Ｆの厚さ
の不均一などによりシールロールが軸方向の力を
受けた場合でも軸方向には移動しない。
このため、シールロール１６，１７とサイドピ
ース２５，２６およびケース２１とシールロール
間の隙間は常に小さく、したがつて大気側から真
空室内への空気の洩れ量が少なくなる。
ース２５，２６およびケース２１とシールロール
間の隙間は常に小さく、したがつて大気側から真
空室内への空気の洩れ量が少なくなる。
なお、微少ではあるが、シールロールの熱膨張
により軸方向の伸びが発生する。この熱膨張によ
る影響は、サイドピースの片側をばねによりケー
スおよびシールロールに対して押付ける構造にな
つているため、シールロールには熱膨張による押
付力が作用しない。
により軸方向の伸びが発生する。この熱膨張によ
る影響は、サイドピースの片側をばねによりケー
スおよびシールロールに対して押付ける構造にな
つているため、シールロールには熱膨張による押
付力が作用しない。
次に本発明装置の作動を説明する。
先ず、真空ポンプ４，６を作動させることによ
り、真空処理室１内および予備真空室２，３内を
真空排気する。真空処理室１内の圧力は予備真空
室２，３内の圧力より低く保持される。また、真
空処理室１内には、プラズマ特性を良好にするた
めのアルゴンガス、窒素ガスなどを供給する。
り、真空処理室１内および予備真空室２，３内を
真空排気する。真空処理室１内の圧力は予備真空
室２，３内の圧力より低く保持される。また、真
空処理室１内には、プラズマ特性を良好にするた
めのアルゴンガス、窒素ガスなどを供給する。
次に予備真空室２，３に備えられる一対の上シ
ールロール１６，１７を駆動モータ１０の駆動力
により回転させると共に真空処理室１の両電極間
に高周波電力を供給する。この状態で被処理物Ｆ
は巻出装置８から予備真空室２の上、下シールロ
ール１６，１７を経て真空処理室１内へ導入され
る。真空処理室１内では、両電極間でプラズマ放
電を発生させるため、両電極間に挿入されている
被処理物Ｆのフイルム面にはプラズマ処理が施さ
れる。このとき、予備真空室を構成するシールロ
ール１６，１７とサイドピース２５，２６および
ケース２１とシールロール１６，１７間の隙間量
は、前記の構成により常に小さく維持されるた
め、隙間からの空気の洩れ量が少なくなり、予備
真空室内の高真空度が常に保持できる。そして、
真空処理室１内でプラズマ処理された被処理物Ｆ
は、直ちに予備真空室３の上下シールロールとの
間を経て巻取装置９により巻取られる。
ールロール１６，１７を駆動モータ１０の駆動力
により回転させると共に真空処理室１の両電極間
に高周波電力を供給する。この状態で被処理物Ｆ
は巻出装置８から予備真空室２の上、下シールロ
ール１６，１７を経て真空処理室１内へ導入され
る。真空処理室１内では、両電極間でプラズマ放
電を発生させるため、両電極間に挿入されている
被処理物Ｆのフイルム面にはプラズマ処理が施さ
れる。このとき、予備真空室を構成するシールロ
ール１６，１７とサイドピース２５，２６および
ケース２１とシールロール１６，１７間の隙間量
は、前記の構成により常に小さく維持されるた
め、隙間からの空気の洩れ量が少なくなり、予備
真空室内の高真空度が常に保持できる。そして、
真空処理室１内でプラズマ処理された被処理物Ｆ
は、直ちに予備真空室３の上下シールロールとの
間を経て巻取装置９により巻取られる。
本発明装置によれば、予備真空室を構成するサ
イドピースおよびケースとシールロール間の漏れ
が大幅に減少させることができるので、シール性
の向上が図れる。
イドピースおよびケースとシールロール間の漏れ
が大幅に減少させることができるので、シール性
の向上が図れる。
第１図および第２図は本発明の真空連続処理装
置の一実施例を示すもので、第１図は正面図、第
２図は第１図の平面図、第３図は本発明装置にお
ける予備真空室の要部を示す拡大図、第４図は第
３図の−線矢視断面図、第５図は本発明装置
におけるリツプル部材の取付状態を説明するため
の拡大図、第６図は第３図の−線矢視断面図
である。 １……真空処理室、２，３……予備真空室、１
６，１７……シールロール、１９，２０……リツ
プ部材、２５，２６……サイドピース、３１……
軸受。
置の一実施例を示すもので、第１図は正面図、第
２図は第１図の平面図、第３図は本発明装置にお
ける予備真空室の要部を示す拡大図、第４図は第
３図の−線矢視断面図、第５図は本発明装置
におけるリツプル部材の取付状態を説明するため
の拡大図、第６図は第３図の−線矢視断面図
である。 １……真空処理室、２，３……予備真空室、１
６，１７……シールロール、１９，２０……リツ
プ部材、２５，２６……サイドピース、３１……
軸受。
Claims (1)
- １ 真空処理室の前後方側にそれぞれ少なくとも
１個配設される予備真空室を有し、この予備真空
室が、上下方向に対接し、かつ可撓性の被処理物
の搬送方向に並置された一対のシールロールと、
このシールロールの一部に軸方向に沿つて連続的
に接するリツプ部材と、前記シールロールの両端
面に接するサイドピースから成る真空連続処理装
置において、前記シールロールの軸方向に位置
を、シールロールを支持する軸受により決定し、
サイドピースとシールロールの相対する位置を一
定になるようにしたことを特徴とする真空連続処
理装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP17587085A JPS6236430A (ja) | 1985-08-12 | 1985-08-12 | 真空連続処理装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP17587085A JPS6236430A (ja) | 1985-08-12 | 1985-08-12 | 真空連続処理装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6236430A JPS6236430A (ja) | 1987-02-17 |
| JPH0545615B2 true JPH0545615B2 (ja) | 1993-07-09 |
Family
ID=16003645
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP17587085A Granted JPS6236430A (ja) | 1985-08-12 | 1985-08-12 | 真空連続処理装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6236430A (ja) |
-
1985
- 1985-08-12 JP JP17587085A patent/JPS6236430A/ja active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS6236430A (ja) | 1987-02-17 |
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