JPS60942A - 真空連続処理装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔発明の利用分野〕 本発明は可撓性の被処理物、例えばプラスチック成形品
を真空処理室内で連続的にプラズマ処理する真空連続処
理装置に関するものであり、プラスチック成形品とは、
プラスチックフィルム、プラスチックシートあるいはプ
ラスチック被１５１１７．芹’Ｊ１などを指す。

〔発明の背景〕

この種の真空連続処理装置は、本願ｄ肩ρ１人によりす
でに特許出願さ扛ている。この特許はプラスチック成形
品など可撓性の被処理物全真空処理室内で連続的にプラ
ズマ処理するものである。そしてこの真空処理室の前後
側には少なくとも１個の予備真空室が段階的に真空度を
下げるために設けらｎており、この予備真空室は、上下
方向に対接し、被処理物の搬送方向に並置する一方のシ
ールロールと、このシールロールの一部に軸方向に清っ
て連続的に対接するリップル部材とシールロールの両端
面に対接するザイドピースなどを備えている。

しかしながら、この１重のザイドシールＣｉ、コ軍中１
七によりシールロールに発生する摺動熱などによる軸方
向への変位を調節できる機＋１４になっている１、この
サイドシールとケースとのシールは、円周方向用０１Ｊ
ング（連転用０リング）で行なっており、真空シールと
しては好ましくないため、軸方向の変位により真空シー
ルが損われる場合がある。こヒ゛−７ の場合、大気状態に、ある空気がザイド≠−弁とケース
との間から漏扛込むだめ、予備真空室の真空度が悪化す
るなどの間租点がある。

〔発明の目的〕

本発明の目的は、予備真空室内の高真空度を保持するよ
うにした真空連続処理装置を提供することにある。

〔発明の概要〕

本発明の特徴は、サイドピースを軸受ハウジングにより
覆うように配設したことにある。

〔発明の実施例〕

以下本発明の一実施例全図面により説明する。

第１図および第２図において、１はプラスチックフィル
ム例えば塩化ビニール系樹脂フィルムのように可撓性の
被処理物Ｆ’を真空状態で連続的にプラズマ処理する真
空処理室、２は真空処理室１の前方側に複数個配置され
る予備真空室、３は真空処理室１の後方側に複数個配置
される予備真空類で、前記真空処理室１内はこれに接続
する真空ポンプ４により１Ｏ−２）−ル程度の真空圧力
に保持するように排気管５を介して真空排気される。

前記予備真空室２，３内はこ扛に接続する７ｑ、空ポン
プ６により前記真空処理室１内の真空圧力より若干高く
、かつ大気圧より段階的に減じる真空圧力に保持するよ
うに排気前７を介して真空排気される。

処理さ扛る被処理物Ｆは巻出装置８より前方側の予備真
空室２を経て真空処理室１へ送られ、そこでプラズマ処
理された後、さらに後方側の予（＋＋ｌ°ｉ真空室３を
経て巻取装置９で巻取られる。１０ｕ、駆動用モータで
、この駆動用モータ１０はラインシャフト１１および無
段変速機１２，１３，１４゜１５を介して真空処理室１
、予備真空室２．３、巻取装置９へ駆動力を伝達し、真
空処理室１、予備真空室２，３および巻取装置９の各駆
動系の回転速度は前記無段変速機１２．１３．１４．１
５により適宜調整される。

第３図は前記予備真空室２，３の主要部を示すもので、
上シールロール１６は表面にゴムなどの弾性材１８が一
体的に焼着されており、下シールロール１７は表面に硬
質のクロムニッケル層が施されている。１９はケース２
０に固定され、かつ上下シールロール１６．１７の外周
面の一部と軸方向に沿って連続的に対接するリップル部
材で、このリップル部材１９はシールロール１６．１７
とケース２０との間のシールを施す。２１．２２はシー
ルロール１６．１７の両端面側のシールを施すサイドピ
ースで、このサイドピースのシールロールと対接する側
にはフッソ樹脂膜２３が焼着されている。

第４図および第５Ｍは前記サイドピース２１゜２２の取
付状ｆＪ　ｆ示すもので、サイドピース２１゜２２はシ
ールロール１６．１７とケース２ｏとの両端面に接触す
るように設けられている。第３Ｍ〜第５１ｍに示すよう
に上下シールロール１６．１７の一端側（図示左側）を
シールするサイドピース２１は、コイルばね２４を介し
てシールロール１６．１７およびケース２０に刺１方向
に対して、（名動可能に押し付けられている。このサイ
ドピース２Ｊは軸受ハウジング２６により覆うように配
設さ７１゜ている。このため、サイドケース２１は運転
に、しるシールロール１６．１７の熱膨張によってシー
ルロール１６と共に軸方向へ移動しても軸受ハウジング
２６とサイドピース２１との間からのもｆ’ｌ−は極端
に減少する。したがって、予備真空室の高真空度が保持
さ扛る。

また、上下シールロール１６．１７の他端側（図示右側
）をシールするサイドピース２２はケース２０にボルト
２５により軸方向に対して移ｉ１１ノ不能に支持されて
いる。このサイドピース２２Ｕ」前記サイドピース２１
と同様に軸受ハシフジング２６によって覆うように配設
されている。

〔発明の効果〕

本発明によれば、シールロールの両端面に対１シ；、す
るサイドピースを軸受ハウジングにより覆うように配設
したので、予備真空室内全高Ａ空度に保持することがで
きる。

【図面の簡単な説明】

第１図および第２図は本発明の真空連続処理装置の一実
施例金示すもので、第１図は正面図、第２図は第１図の
平面図、第３図は本発明装置に粋ける予備真空室の要部
を示す拡大図、第４図および第５図は本発明装置におけ
るザイドシールの取付状純金説明するための図である。 １・・・真空処理室、２，３・・・予備真壁室、２１゜
２２・・・サイドピース 第１頁の続き ０発　明　者　平石信行 土浦市神立町６０３番地株式会社 日立製作所土浦工場内 ０出　願　人　信越化学工業株式会社 東京都千代田区大手町二丁目６ 番１号

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １、真空処理室の前後方側にそれぞれ少なくとも１個配
   置される予備真空室を有し、この予備真空室が、上下方
   向に対接し、がっ可撓性の被処理物の搬送方向に並置さ
   れた一対のシールロールと、このシールロールの一部に
   軸方向に沿って連続的に対接する複数個のリップル部材
   と、前記シールドピースを、軸受ハウジングにより覆う
   ように配設したことを特徴とする真空連続処理装置。 ２、前記リップル部材の少なくとも一方を弾性的に支持
   するように構成したことを特徴とする特許請求の範囲第
   １項記載の真空連続処理装置。