JPH0358374B2 - - Google Patents
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- Publication number
- JPH0358374B2 JPH0358374B2 JP10787483A JP10787483A JPH0358374B2 JP H0358374 B2 JPH0358374 B2 JP H0358374B2 JP 10787483 A JP10787483 A JP 10787483A JP 10787483 A JP10787483 A JP 10787483A JP H0358374 B2 JPH0358374 B2 JP H0358374B2
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- vacuum
- chamber
- preliminary
- processing chamber
- preliminary vacuum
- Prior art date
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- Expired
Links
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Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/22—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
- C23C14/56—Apparatus specially adapted for continuous coating; Arrangements for maintaining the vacuum, e.g. vacuum locks
- C23C14/562—Apparatus specially adapted for continuous coating; Arrangements for maintaining the vacuum, e.g. vacuum locks for coating elongated substrates
-
- F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
- F16—ENGINEERING ELEMENTS AND UNITS; GENERAL MEASURES FOR PRODUCING AND MAINTAINING EFFECTIVE FUNCTIONING OF MACHINES OR INSTALLATIONS; THERMAL INSULATION IN GENERAL
- F16J—PISTONS; CYLINDERS; SEALINGS
- F16J15/00—Sealings
- F16J15/16—Sealings between relatively-moving surfaces
- F16J15/168—Sealings between relatively-moving surfaces which permits material to be continuously conveyed
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
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- Treatments Of Macromolecular Shaped Articles (AREA)
- Physical Or Chemical Processes And Apparatus (AREA)
- Physical Vapour Deposition (AREA)
Description
〔発明の利用分野〕
本発明は可撓性の被処理物、例えば、プラスチ
ツク成形品を真空処理室内で連続的にプラズマ処
理する真空連続処理装置に関するものであり、プ
ラスチツク成形品とは、プラスチツクフイルム、
プラスチツクシートあるいはプラスチツク被覆電
線などを指す。 〔発明の背景〕 真空連続処理装置は、特許はプラスチツク成形
品など可撓性の被処理物を真空処理室内で連続的
に処理するものである。そしてこの真空処理室の
前後側には予備真空室が段階的に真空度を下げる
ために設けられており、この予備真空室は、被処
理物の搬送方向に並置する一対のシールロール
と、このシールロールの一部に軸方向ら沿つて連
続的に対接するリツプ部材と、シールロールの両
端面に対接するサイドピースなどを備えている。
ところで、前記予備真空室を構成する一対のシー
ルロールは、被処理物を正常に搬送するためにた
わみ量を規定値以下（例えば50ｍμ）に押える必
要がある。しかもシールロールに加わる圧力差
は、最大気側の予備真空室が真空処理室側の予備
真空室に比較して非常に大きいため、最大気側の
予備真空室のシールロール径を大きくする必要が
あり、従来の予備真空室においては、真空処理室
の予備真空室のシールロール径を最大気側の径と
同じにしていた。 このため、シールロールの両端面のサイドシー
ルからの洩れもシールロール径に応じて大きくな
り、しかも真空ポンプの容量も必然的に大きくす
る必要があつた。 また、シールロールを駆動する動力系も大きく
なるなどの問題点があつた。 〔発明の目的〕 本発明の目的は、予備真空室の小形化および動
力、真空排気量などの省エネルギーを図るように
した真空連続処理装置を提供することにある。 〔発明の概要〕 本発明の特徴は、真空処理室側の予備真空室を
最大気側の予備真空室より小さくしたものであ
る。 〔発明の実施例〕 以下本発明の一実施例を図面により説明する。 第１図および第２図において、１はプラスチツ
クフイルム例えば塩化ビニール系樹脂フイルムの
ように可撓性の被処理物Ｆを真空状態で連続的に
プラズマ処理する真空処理室、２，２′は真空処
理室１の前方側に複数個配置される予備真空室、
３，３′は真空処理室１の後方側に複数個配置さ
れる予備真空室で、前記真空処理室１内はこれに
接続する真空ポンプ４により10-2トール程度の真
空圧力に保持するように排気管５を介して真空排
気される。 前記予備真空室２，３内はこれに接続する真空
ポンプ６により前記真空処理室１内の真空圧力よ
り若干高く、かつ大気圧より段階的に減じる真空
圧力に保持するように排気管７を介して真空排気
される。 処理される被処理物Ｆは巻出装置８より前方側
の予備真空室２を経て真空処理室１へ送られ、そ
こでプラズマ処理された後、さらに後方側の予備
真空室３を経て巻取装置９で巻取られる。１０は
駆動用モータで、この駆動用モータ１０はライン
シヤフト１１および無段変速機１２，１３，１
４，１５を介して真空処理室１、予備真空室２，
３、巻取装置９へ駆動力を伝達し、真空処理室
１、予備真空室２，３および巻取装置９の各駆動
系の回転速度は前記無段変速機１２，１３，１
４，１５により適宜調整される。 第３図および第４図は前記予備真空室２，２′，
３，３′の主要部を示すもので、最大気側の予備
真空室２，３と真空処理室１側の予備真空室２′，
３′はその大きさが異なつている。すなわち、真
空処理室１側の予備真空室２′，３′は最大気側の
予備真空室２，３よりも小さくなつている。１
６，１７は予備真空室２，２′および３，３′を構
成する上下シールロールで、この上シールロール
１６は表面にゴムなどの弾性材１８が一体的に焼
着されており、下シールロール１７は表面に硬質
のクロムニツケル層などが施されている。この上
下シールロールの径は最大気側の予備真空室２，
３の場合、約250mmである。１９は上下ケース２
０，２１に固定され、かつ上下シールロール１
６，１７の外周面の一部と軸方向に沿つて連続的
に対接するリツプ部材、２２は上下シールロール
１６，１７の両端面に対接するサイドピースで、
このサイドピース２２のシールロール対接面には
フツソ樹脂膜２３が焼着されており、このサイド
ピース２２は軸受ハウジング２４を介して支持さ
れている。 また、予備真空室２′，３′の上下シールロール
１６，１７の径は約100mmであり、全体的に最大
気側の予備真空２，３より極端に小型化される。 表は前記予備真空室２，２′および３，３′にお
ける真空度と差圧力の関係を示したもので、表か
ら明らかのように最大気側の予備真空室２，３
（第１予備真空室に相当する）の差圧は真空処理
室１側の予備真空室２′，３′第２〜第３予備真空
室に相当する）より極端に大きくなる。 したがつて、差圧の大きい最大気側の予備真空
室２，３における被処理物のたわみ量を考慮すれ
ばよい。
ツク成形品を真空処理室内で連続的にプラズマ処
理する真空連続処理装置に関するものであり、プ
ラスチツク成形品とは、プラスチツクフイルム、
プラスチツクシートあるいはプラスチツク被覆電
線などを指す。 〔発明の背景〕 真空連続処理装置は、特許はプラスチツク成形
品など可撓性の被処理物を真空処理室内で連続的
に処理するものである。そしてこの真空処理室の
前後側には予備真空室が段階的に真空度を下げる
ために設けられており、この予備真空室は、被処
理物の搬送方向に並置する一対のシールロール
と、このシールロールの一部に軸方向ら沿つて連
続的に対接するリツプ部材と、シールロールの両
端面に対接するサイドピースなどを備えている。
ところで、前記予備真空室を構成する一対のシー
ルロールは、被処理物を正常に搬送するためにた
わみ量を規定値以下（例えば50ｍμ）に押える必
要がある。しかもシールロールに加わる圧力差
は、最大気側の予備真空室が真空処理室側の予備
真空室に比較して非常に大きいため、最大気側の
予備真空室のシールロール径を大きくする必要が
あり、従来の予備真空室においては、真空処理室
の予備真空室のシールロール径を最大気側の径と
同じにしていた。 このため、シールロールの両端面のサイドシー
ルからの洩れもシールロール径に応じて大きくな
り、しかも真空ポンプの容量も必然的に大きくす
る必要があつた。 また、シールロールを駆動する動力系も大きく
なるなどの問題点があつた。 〔発明の目的〕 本発明の目的は、予備真空室の小形化および動
力、真空排気量などの省エネルギーを図るように
した真空連続処理装置を提供することにある。 〔発明の概要〕 本発明の特徴は、真空処理室側の予備真空室を
最大気側の予備真空室より小さくしたものであ
る。 〔発明の実施例〕 以下本発明の一実施例を図面により説明する。 第１図および第２図において、１はプラスチツ
クフイルム例えば塩化ビニール系樹脂フイルムの
ように可撓性の被処理物Ｆを真空状態で連続的に
プラズマ処理する真空処理室、２，２′は真空処
理室１の前方側に複数個配置される予備真空室、
３，３′は真空処理室１の後方側に複数個配置さ
れる予備真空室で、前記真空処理室１内はこれに
接続する真空ポンプ４により10-2トール程度の真
空圧力に保持するように排気管５を介して真空排
気される。 前記予備真空室２，３内はこれに接続する真空
ポンプ６により前記真空処理室１内の真空圧力よ
り若干高く、かつ大気圧より段階的に減じる真空
圧力に保持するように排気管７を介して真空排気
される。 処理される被処理物Ｆは巻出装置８より前方側
の予備真空室２を経て真空処理室１へ送られ、そ
こでプラズマ処理された後、さらに後方側の予備
真空室３を経て巻取装置９で巻取られる。１０は
駆動用モータで、この駆動用モータ１０はライン
シヤフト１１および無段変速機１２，１３，１
４，１５を介して真空処理室１、予備真空室２，
３、巻取装置９へ駆動力を伝達し、真空処理室
１、予備真空室２，３および巻取装置９の各駆動
系の回転速度は前記無段変速機１２，１３，１
４，１５により適宜調整される。 第３図および第４図は前記予備真空室２，２′，
３，３′の主要部を示すもので、最大気側の予備
真空室２，３と真空処理室１側の予備真空室２′，
３′はその大きさが異なつている。すなわち、真
空処理室１側の予備真空室２′，３′は最大気側の
予備真空室２，３よりも小さくなつている。１
６，１７は予備真空室２，２′および３，３′を構
成する上下シールロールで、この上シールロール
１６は表面にゴムなどの弾性材１８が一体的に焼
着されており、下シールロール１７は表面に硬質
のクロムニツケル層などが施されている。この上
下シールロールの径は最大気側の予備真空室２，
３の場合、約250mmである。１９は上下ケース２
０，２１に固定され、かつ上下シールロール１
６，１７の外周面の一部と軸方向に沿つて連続的
に対接するリツプ部材、２２は上下シールロール
１６，１７の両端面に対接するサイドピースで、
このサイドピース２２のシールロール対接面には
フツソ樹脂膜２３が焼着されており、このサイド
ピース２２は軸受ハウジング２４を介して支持さ
れている。 また、予備真空室２′，３′の上下シールロール
１６，１７の径は約100mmであり、全体的に最大
気側の予備真空２，３より極端に小型化される。 表は前記予備真空室２，２′および３，３′にお
ける真空度と差圧力の関係を示したもので、表か
ら明らかのように最大気側の予備真空室２，３
（第１予備真空室に相当する）の差圧は真空処理
室１側の予備真空室２′，３′第２〜第３予備真空
室に相当する）より極端に大きくなる。 したがつて、差圧の大きい最大気側の予備真空
室２，３における被処理物のたわみ量を考慮すれ
ばよい。
【表】
〔発明の効果〕
本発明によれば、真空処理室側の予備真空室を
大気側の予備真空室より小さくしたので、予備真
空室の小形化および動力、真空排気量などの省エ
ネルギーを図ることができる。
大気側の予備真空室より小さくしたので、予備真
空室の小形化および動力、真空排気量などの省エ
ネルギーを図ることができる。
第１図および第２図は本発明の真空連続処理装
置の一実施例を示すもので、第１図は正面図、第
２図は第１図の平面図、第３図は本発明装置にお
ける予備真空室の要部を示す拡大図、第４図は第
３図の４−４線矢線図である。 １……真空処理室、２，２′，３，３′……予備
真空室。
置の一実施例を示すもので、第１図は正面図、第
２図は第１図の平面図、第３図は本発明装置にお
ける予備真空室の要部を示す拡大図、第４図は第
３図の４−４線矢線図である。 １……真空処理室、２，２′，３，３′……予備
真空室。
Claims (1)
- １ 真空処理室と予備真空室とを具え、該予備真
空室を、シールロールを被処理物の搬送方向に配
置し、このシールロールの一部に軸方向に沿つて
リツプ部材を接続させることにより形成し、前記
真空処理室で被処理物を連続的に処理する真空連
続処理装置において、前記予備真空室のうち、真
空処理室側の予備真空室を最大気側の予備真空室
より小さくしたことを特徴とする真空連続処理装
置。
Priority Applications (4)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10787483A JPS60945A (ja) | 1983-06-17 | 1983-06-17 | 真空連続処理装置 |
| EP84106879A EP0130444B1 (en) | 1983-06-17 | 1984-06-15 | Continuous vacuum treating apparatus |
| DE8484106879T DE3466414D1 (en) | 1983-06-17 | 1984-06-15 | Continuous vacuum treating apparatus |
| US06/621,373 US4501428A (en) | 1983-06-17 | 1984-06-18 | Roll seal boxes for continuous vacuum treating apparatus |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10787483A JPS60945A (ja) | 1983-06-17 | 1983-06-17 | 真空連続処理装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS60945A JPS60945A (ja) | 1985-01-07 |
| JPH0358374B2 true JPH0358374B2 (ja) | 1991-09-05 |
Family
ID=14470274
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP10787483A Granted JPS60945A (ja) | 1983-06-17 | 1983-06-17 | 真空連続処理装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS60945A (ja) |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP1479789A1 (fr) * | 2003-05-23 | 2004-11-24 | Recherche Et Developpement Du Groupe Cockerill Sambre | Sas d'étanchéité pour ligne de dépôt sous vide sur produit plat |
-
1983
- 1983-06-17 JP JP10787483A patent/JPS60945A/ja active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS60945A (ja) | 1985-01-07 |
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