JPS60944A - 真空連続処理装置 - Google Patents
真空連続処理装置Info
- Publication number
- JPS60944A JPS60944A JP10787383A JP10787383A JPS60944A JP S60944 A JPS60944 A JP S60944A JP 10787383 A JP10787383 A JP 10787383A JP 10787383 A JP10787383 A JP 10787383A JP S60944 A JPS60944 A JP S60944A
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- ripple
- case
- vacuum
- ripple component
- components
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- Treatments Of Macromolecular Shaped Articles (AREA)
- Physical Vapour Deposition (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
り発明の利用分野〕
本発明は可読性の被処理物、例えはプラスチック成形品
を真空処理室内で連続的にプラズマ処理する真空連続処
理装置に関するものであり、グラスチック成形品とは、
プラスチックフィルム、プラスチックシートあるいはフ
“ラスチック被々刈′山（、ｆｆ’ｉ’などを指す。
を真空処理室内で連続的にプラズマ処理する真空連続処
理装置に関するものであり、グラスチック成形品とは、
プラスチックフィルム、プラスチックシートあるいはフ
“ラスチック被々刈′山（、ｆｆ’ｉ’などを指す。
この種の真空連続処理装置は、本願出願人によりすでに
特許出願されている。この特許はグラスチック成形品な
ど可撓性の被処理物を真空処理室内で連続的にプラズマ
処理するものである。そしてこの真空処理室の前後側に
は少なくとも１１１・１の予備真空室が段階的に真窒度
を下げるために設けられておシ、この予備真空室は、上
下方向に対接し、被処理物の搬送方向に並置する一方の
シールロールと、このシールロールの一部に軸方向に宿
って連続的に対接するリップル部側と、シールロールの
両端面に対接するザイドピースなどを備えている。
特許出願されている。この特許はグラスチック成形品な
ど可撓性の被処理物を真空処理室内で連続的にプラズマ
処理するものである。そしてこの真空処理室の前後側に
は少なくとも１１１・１の予備真空室が段階的に真窒度
を下げるために設けられておシ、この予備真空室は、上
下方向に対接し、被処理物の搬送方向に並置する一方の
シールロールと、このシールロールの一部に軸方向に宿
って連続的に対接するリップル部側と、シールロールの
両端面に対接するザイドピースなどを備えている。
ところで、前記リップル部材としては、ケースに一体的
に取付けられたものがある。
に取付けられたものがある。
しかしながら、この種のリップル部材は、上下シールロ
ールとの押付量の調整を行なう場合には、その都度、ケ
ースを分解してシム調整を行なう必要があった。このた
め、作業能率が悪かった。また、リップル部材が摩耗し
て取換える必要が生じた場合にもト記と同様の問題点を
有していた。
ールとの押付量の調整を行なう場合には、その都度、ケ
ースを分解してシム調整を行なう必要があった。このた
め、作業能率が悪かった。また、リップル部材が摩耗し
て取換える必要が生じた場合にもト記と同様の問題点を
有していた。
本発明の目的は、リップル部材の交換が容易な真空連続
処理装置を提供することにある。
処理装置を提供することにある。
本発明の！徴は、リップル部材をケースに取外し可能に
支持したことにある。
支持したことにある。
（発明の実施例〕
以下本発明の一実施例を図面にょシ説明する。
第１図および第２図において、１はプラスチックフィル
ム例えば塩化ビニール系樹脂フィルムのように可撓性の
被処理物ＦＴｈ真空状態で連続的にプラズマ処理する真
空処理室、２は真空処理室１の１方７側に複数個配置さ
れる予備真空室、３は真空処理室１の後方側に複数個配
置される予（Ｍ＋真全全室、前記真空処理室１内はこれ
に接続する真空ポンプ４により１０−２ トール程度の
真空圧力に保持するように排気管５を介して真空排気さ
れる。
ム例えば塩化ビニール系樹脂フィルムのように可撓性の
被処理物ＦＴｈ真空状態で連続的にプラズマ処理する真
空処理室、２は真空処理室１の１方７側に複数個配置さ
れる予備真空室、３は真空処理室１の後方側に複数個配
置される予（Ｍ＋真全全室、前記真空処理室１内はこれ
に接続する真空ポンプ４により１０−２ トール程度の
真空圧力に保持するように排気管５を介して真空排気さ
れる。
前記予備真空室２，３内はこれに接続する戸、空ポンプ
６により前記真空処理室１円の真空圧力」ニジ若干高く
、かつ大気圧より段階的に減じる具紫圧力に保持するよ
うに排気管７を介してＡ空排気される。
６により前記真空処理室１円の真空圧力」ニジ若干高く
、かつ大気圧より段階的に減じる具紫圧力に保持するよ
うに排気管７を介してＡ空排気される。
処理される被処理物ＦＵ巻出装置８より前方側の予備真
空室２を経て真空処理室１へ送られ、そこでプラズマ処
理された後、さらに後方側の予備真空室３を経て巻取装
置９で巻取られる。１０は駆動用モータで、この駆動用
モータ１（ｌラインシャフト１１および無段変速機１２
，１３，１４゜１５を介して真空処理室１、予備真空室
２，３、巻取装置９へ小動力を伝達し、真空処理室１、
予備真空室２．３および巻取装置９の各駆動系の回転速
度は前記無段変速機１２．１３，１４．１５によシ適宜
調整される。
空室２を経て真空処理室１へ送られ、そこでプラズマ処
理された後、さらに後方側の予備真空室３を経て巻取装
置９で巻取られる。１０は駆動用モータで、この駆動用
モータ１（ｌラインシャフト１１および無段変速機１２
，１３，１４゜１５を介して真空処理室１、予備真空室
２，３、巻取装置９へ小動力を伝達し、真空処理室１、
予備真空室２．３および巻取装置９の各駆動系の回転速
度は前記無段変速機１２．１３，１４．１５によシ適宜
調整される。
第３図および第４図は前記予備真壁室２，３の主要部を
示すもので、上シールロール１６は表面にゴムなどの弾
性材１８が一体的に焼着されておす、下シールロール１
７は底面に硬質のンロムニッケル層が施されている。１
９．２０はケース２１にボルトなどによシ支持部材２２
．２３’ｉ介して増外し可能に支持され、かつ上下シー
ルロール１６．１７の上下方向の外周面の一部と軸方向
に？２って連続的に対接するリップル部材、２４゜２５
は上下シールロール１６，１７の両端側に対接するサイ
ドピースで、このサイドピース２４゜２５のシールロー
ル対接側にはフッソ樹脂膜２７が飾光されており、この
サイドピース２４．２５は軸受ハウジング２８を介して
支持されている。
示すもので、上シールロール１６は表面にゴムなどの弾
性材１８が一体的に焼着されておす、下シールロール１
７は底面に硬質のンロムニッケル層が施されている。１
９．２０はケース２１にボルトなどによシ支持部材２２
．２３’ｉ介して増外し可能に支持され、かつ上下シー
ルロール１６．１７の上下方向の外周面の一部と軸方向
に？２って連続的に対接するリップル部材、２４゜２５
は上下シールロール１６，１７の両端側に対接するサイ
ドピースで、このサイドピース２４゜２５のシールロー
ル対接側にはフッソ樹脂膜２７が飾光されており、この
サイドピース２４．２５は軸受ハウジング２８を介して
支持されている。
このようにリップル部材１９．２０をケース２１で支持
することによシ、例えはリップル部材１９．２０が摩耗
した場合には、支持部材２２゜２３をケース２１から上
下方向へ移動することによってリップル部材１９．２０
’＆容易にケース２１から取外すことができる。
することによシ、例えはリップル部材１９．２０が摩耗
した場合には、支持部材２２゜２３をケース２１から上
下方向へ移動することによってリップル部材１９．２０
’＆容易にケース２１から取外すことができる。
第５図は本発明の他の実施例を示すもので、上りツプル
部材１９を上シールロール１６の横力間に配設したもの
である、 仁のようにリンゲル部側を配設することＶこより、リッ
プル部材の取付、取外しが容易になる。
部材１９を上シールロール１６の横力間に配設したもの
である、 仁のようにリンゲル部側を配設することＶこより、リッ
プル部材の取付、取外しが容易になる。
また、被処理物Ｆが厚くなり、上シールロール１６金上
方向へ移動した場合でもリップル郡月１９はシールロー
ル１６に接触する恐れかない／（め、リップル部材１９
の破損や上下シールロールとケースとの軸方向のシール
性の低下を防止う“ることがで、きる。
方向へ移動した場合でもリップル郡月１９はシールロー
ル１６に接触する恐れかない／（め、リップル部材１９
の破損や上下シールロールとケースとの軸方向のシール
性の低下を防止う“ることがで、きる。
本発明によれば、リップル部材の交換が容易にできるの
で、シールロールへの押付調整作業やメンテナンスが簡
単にしかも短時間でＤ」能となぁ。
で、シールロールへの押付調整作業やメンテナンスが簡
単にしかも短時間でＤ」能となぁ。
第１図および第２図は不発明の兵空連続処即装置の一実
施例を示すもので、第１図は正面図、第２図は第１図の
平面図、Ｍ３図は本発明装置における予備真空室の要部
を示す拡大図、第４図は第３図の４−４線矢視図、第５
図は本発明装置における他の実施例を示し、第４図に相
当する図である０ １・・・真空処理室、２，３・・・予備真空室、１９゜
２０・・・リップル部材。 第１頁の続き ０発 明 者 平石信行 土浦市神立町６０３番地株式会社 日立製作所土浦工場内 ■出 願 人 信越化学工業株式会社 東京都千代田区大手町二丁目６ 番１号
施例を示すもので、第１図は正面図、第２図は第１図の
平面図、Ｍ３図は本発明装置における予備真空室の要部
を示す拡大図、第４図は第３図の４−４線矢視図、第５
図は本発明装置における他の実施例を示し、第４図に相
当する図である０ １・・・真空処理室、２，３・・・予備真空室、１９゜
２０・・・リップル部材。 第１頁の続き ０発 明 者 平石信行 土浦市神立町６０３番地株式会社 日立製作所土浦工場内 ■出 願 人 信越化学工業株式会社 東京都千代田区大手町二丁目６ 番１号
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １、真空処理室の前後方側にそれぞれ少なくとも１個配
置される予備真空室を有し、この予備真壁室が、上下方
向に対接し、かつ可撓性の被処理物の搬送方向に並置さ
れた一対のシールロールと、このシールロールの一部に
軸方向に涜って連続的に対接する複数個のリップル部材
と、前記シールプル部材をケースに取外し可能に支持し
たことを特徴とする真壁連続処理装置１′１゜ ２、前記リップル部材を、上下方向に配設し／こことを
特徴とする特許請求の範囲第１項記載の真空連続処理装
置。 ３、前記リップル部材を、横方向に配設したことを特徴
とする特許請求の範囲第１項記載の真空連続処理装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10787383A JPS60944A (ja) | 1983-06-17 | 1983-06-17 | 真空連続処理装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10787383A JPS60944A (ja) | 1983-06-17 | 1983-06-17 | 真空連続処理装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS60944A true JPS60944A (ja) | 1985-01-07 |
| JPH0455214B2 JPH0455214B2 (ja) | 1992-09-02 |
Family
ID=14470249
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP10787383A Granted JPS60944A (ja) | 1983-06-17 | 1983-06-17 | 真空連続処理装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS60944A (ja) |
Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5773025A (en) * | 1980-10-27 | 1982-05-07 | Shin Etsu Chem Co Ltd | Apparatus for continuous vacuum treatment |
| JPS57195745A (en) * | 1981-05-29 | 1982-12-01 | Shin Etsu Chem Co Ltd | Sealing device in continuous vacuum treatment apparatus |
-
1983
- 1983-06-17 JP JP10787383A patent/JPS60944A/ja active Granted
Patent Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5773025A (en) * | 1980-10-27 | 1982-05-07 | Shin Etsu Chem Co Ltd | Apparatus for continuous vacuum treatment |
| JPS57195745A (en) * | 1981-05-29 | 1982-12-01 | Shin Etsu Chem Co Ltd | Sealing device in continuous vacuum treatment apparatus |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0455214B2 (ja) | 1992-09-02 |
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