JPH02258049A - 真空処理装置用シール装置 - Google Patents

真空処理装置用シール装置

Info

Publication number
JPH02258049A
JPH02258049A JP23163489A JP23163489A JPH02258049A JP H02258049 A JPH02258049 A JP H02258049A JP 23163489 A JP23163489 A JP 23163489A JP 23163489 A JP23163489 A JP 23163489A JP H02258049 A JPH02258049 A JP H02258049A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
roll
sealing
seal
rolls
vacuum
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP23163489A
Other languages
English (en)
Other versions
JPH0453577B2 (ja
Inventor
Kiyoshi Imada
今田 潔
Susumu Ueno
進 上野
Hideaki Kamata
鎌田 秀明
Masaya Tokai
東海 正家
Yoshitada Hata
畑 慶忠
Kenichi Kato
健一 加藤
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Shin Etsu Chemical Co Ltd
Hitachi Ltd
Original Assignee
Shin Etsu Chemical Co Ltd
Hitachi Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Shin Etsu Chemical Co Ltd, Hitachi Ltd filed Critical Shin Etsu Chemical Co Ltd
Priority to JP23163489A priority Critical patent/JPH02258049A/ja
Publication of JPH02258049A publication Critical patent/JPH02258049A/ja
Publication of JPH0453577B2 publication Critical patent/JPH0453577B2/ja
Granted legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Treatments Of Macromolecular Shaped Articles (AREA)
  • Physical Vapour Deposition (AREA)
  • Delivering By Means Of Belts And Rollers (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明はシール装置に係り、特にフィルム状被処理物を
処理する真空処理室の両方側又は一方側に配置される真
空室のシールに使用されるシール装置に関する6 〔従来の技術〕 従来真空処理室の両方側又は一方側に配置される予備真
空室のシール機構に関しては例えば特開昭50−161
475号公報、特開昭53−.85741号公報に記載
のものがある。
〔発明が解決しようとする課題〕
特開昭50−161475号記載のものでは、真空処理
室の隔壁の端と柔軟なプラスチックのフィルム面との間
でシールしなければならないので常に上下に振動してい
る走行するフィルムを完全なシール効果は期待できない
。また、シール機構をフィルム面に近づけると、フィル
ム面が傷付きやすく、さらにフィルムの円滑な走行の保
持という点においても配慮されていない。
一方、特開昭53−85741号公報のものは相隣る予
備真空室を隔てる隔壁の端にロールを設けたものである
から、この構造においてシールをしようとすると、ロー
ルと隔壁の端面との間という極めて限られた場所で行な
わなければならないため。
シール機構として限られた構造のものしか利用できない
。この構造のものでは任意の構造の信頼性の高いシール
機構を採用することに制約がある。
本発明は上記の点に鑑み、真空室のシールを良好に行い
うるシール装置を提供することを目的とする。
〔課題を解決するための手段〕
本発明は上記目的を達成するために、対接するロール間
に被処理物をはさみ、一方の側から他方の側へ被処理物
を搬送するシールロールと、このシールロールを囲むケ
ースとを備えるシール装置において、前記対接する各々
のシールロールの軸方向に沿ってシールロールに対接す
るシール部材をシールロールとケースとの間に配設した
ものである。
又、本発明は上記目的を達成するために対接する各々の
シールロールの軸方向に沿ってシールロールに対接する
シール部材をシールロールとケースとの間に配設し、前
記シールロールを偏心軸受によって支持したものである
〔作用〕
シールロールと、これを囲むケースとの間にシールロー
ルの軸方向に沿ってシールロールと対接するシール手段
を配設したことによって、シール手段の配設に制約がな
く、良好なシールを得ている。
〔実施例〕
以下本発明の一実施例をプラズマ真空処理に適用した場
合を、図面にしたがって説明する。
第1図および第2図において、1はプラスチック成形品
など可撓性の被処理物Fを真空状態で連続的にプラズマ
処理する真空処理室で、この真空処理室1内はこれに接
続する真空ポンプ4により10−2ト一ル程度の真空圧
力に保持するように排気管5を介して真空排気される。
また、この真空処理室1内には図示していないが、真空
状態でプラズマ処理を施すための陽極、陰極などが内蔵
されている。2は真空処理室1の前方側に複数個配置さ
れる予備真空室、3は真空処理室1の後方側に配置され
る複数個の予備真空室で、これら予備真空室2,3内は
、これに接続する真空ポンプ6により前記真空処理室1
内の真空圧力より若干高い程度の真空圧力に保持するよ
うに排気管7を介して真空排気される。
第3図および第4図は前記予備真空室2.3の詳細を示
すもので、8,9は両端側がハウジング10にラジアル
軸受11および偏心軸受ハウジング12を介して回転自
在に、かつ上、下方向へ移動可能に支持されるシール用
の上、下ロールで、この上、下ロール8,9の表面には
硬質のニッケルクロム層13が施されている。14は上
、下ロール8.9との間に対接するように配設され、か
つ表面にゴム、フッソ樹脂などの弾性材15を一体的に
焼着したシール用の中ロールで、この中ロール14は両
端側がハウジング10にラジアル軸受11および固定軸
受ハウジング16を介して回転自在に支持されている。
そして下ロール9と中ロール14との間には被処理物F
が挿入される。
17は上ケース18に固定され、かつ上ロール8の外周
面側に配設される上ロール支持受けで、この上ロール支
持受17の内周面には上ロール8のニッケルクロム層1
3に対接する低摩擦係数のフッソ樹脂膜19が焼着され
ている。20は下ケース21に固定され、かつ下ロール
9の外周側に配設される下ロール支持受けで、この下ロ
ール支持受け20の内周面は下ロール9の表面に対接す
る低摩擦係数のフッソ樹脂膜22が焼着されている。
第5図は上、下、中ロール8,9.14および上。
下ケース18.21の両端側とハウジング10゜偏心軸
受ハウジング12との間に介在されるサイドビース23
の取付状態を示したもので、サイドピース23の上、下
、中ロール8,9.14と対向する面には、低摩擦係数
のフッソ樹脂膜24が焼着されており、このサイドピー
ス23はボルト25を締付けることによりコイルバネ2
6を介してバウシング10に押付けられる。このとき、
前記上、下、中ロール8,9.10とサイドピース23
のフッソ樹脂膜24との間には20μm程度の隙間が形
成される。また、サイドピース23の押付は力はサイド
ピース23とボルト25との隙間Hによって規制される
第6図は上、下、中ロール8,9を偏心軸受ハウジング
12により上、下方向へ移動させるための説明図である
。第6図において、偏心軸受ハウジング12の中心位1
1Aは、上、下ロール8,9の中心位置Bに対し偏心(
偏心量C)して設けられており、この偏心軸受ハウジン
グ12は中心位[Aを回動中心に図示しない油圧シリン
ダ装置により図示矢印方向へ回動する。このとき、上、
下ロール8,9は上方向または下方向へ、すなわち、中
ロール14に対して押付ける方向または中ロール14か
ら離れる方向へ移動する。したがって、偏心軸受ハウジ
ング12の回動角を調整することにより、上ロール8と
中ロール14または下ロール9と中ロール14との押圧
力を任意に変えることができると共に下ロール9と中ロ
ール14の隙間への被処理物Fの挿入が容易になる。
第1図および第2図に戻って、27は被処理物Fを予備
真空室2を経て真空処理室内へ移送する送り出し装置、
28は真空処理室1内でプラズマ処理された被処理物F
を巻き取る巻き取り装置。
29は駆動用モータで、この駆動用モータ29の駆動力
により回転軸30および動力分配機31を介して予備真
空室2,3の上、下、中ロール8゜9.14を回動させ
る。
上記のように構成される予備真空室2,3において、上
ロール8と中ロール14の間のシールは、上ロール8を
偏心軸受ハイジング12により中ロール14に対して押
しつけ、中ロール14の弾性材15をたわませることに
より施される。同様に下ロール9と中ロール14の間の
シールは、下ロール9を中ロール14に対して押しつけ
、中ロール14の弾性材15をたわませることにより施
される・また、上ロール8と下ロール支持受けおよび下
ロール9と下ロール支持受け20の間のシールは、両者
間の隙間を非常に小さく、例えば20μm程度にするこ
とにより可能である。
次に作動を説明する。
先ず、真空ポンプ4,6を作動させることにより、真空
処理室1内および予備真空室2,3内を真空排気する。
このとき、真空処理室1内の圧力は予備真空室2,3内
の圧力より低く保持される。
また、真空処理室1内には、プラズマ特性を良くするた
めのアルゴンガス、窒素ガスなどを通気する。次に予備
真空室2,3の上、下、中ロール8.9.14を駆動用
モータ29の駆動力により回転させると共に真空処理室
1のプラズマ装置を操作する。この状態で被処理物Fは
送り出し装置27から予備真空室2の下ロール9と中ロ
ール14との間を経て真空処理室1へ連続的に導入され
る。真空処理室1内では、陽極と陰極間で発生するプラ
ズマ放電により被処理物Fの表面にプラズマ処理が施さ
れる。真空処理室1内でプラズマ表面処理された被処理
物Fは、直ちに予備真空室3の下ロール9と中ロール1
4との間を経て巻き取り装置28により巻き取られる。
このように被処理物Fは予備真空室で良好なシール効果
が得らると共に真空処理室1内で短時間にプラズマ処理
されるため、プラスチック成形品などに含有している可
塑剤などの内部添加剤の揮発、逸散が制御されると共に
、連続的に被処理物Fが真空装置内に導入されるため、
空気等の混入も少なく、目的とするガス、目的とする圧
力で定常的に処理可能であり、良好な改質特性を賦与す
ることを可能にする。また、表面がニッケルクロム層1
3の上。
下ロール8,9と表面が弾性材15の中ロール14およ
び前記上、下ロール8,9と表面がフッソ樹脂膜19.
22の上、下ロール支持受け17゜20は金属層と非金
IA層の摺動であるため、摩擦力も小さく、長時間の運
転にも充分耐えられる。
第7図は本発明における予備真空室のロールとケースお
よびロール間の軸方向シール手段の他の実施例を示すも
のである。
第7図において、第3図および第4図と同一符号のもの
は同一部分を示す。
32.33は前記上ロール8と下ロール9の一部と軸方
向に沿って連続的に対接し、且つ上、下ケース18.2
1に取外し可能に支持されるウレタンゴムなどのリップ
部材で、このリップ部材32.33はりツブシール34
.35とリップ取付台36.37から成っている。
このように上ロール8.下ロール9の一部と対接するよ
うにリップ部材32.33を配設することにより、ロー
ルとケースおよびロール間の軸方向の良好なシール効果
を得ることは勿論、耐久性が向上する。
また、リップ部材32.33を上、下ケースに取外し可
能に支持させるため、たとえリップ部材が摩擦力により
使用不能になった場合でも容易に交換が可能となる。
〔発明の効果〕
本発明によれば、シールロールとこれを囲むケースとの
間にシール手段を配設したので、シール手段に制約がな
く、良好なシールを得ている。
【図面の簡単な説明】 第1図は本発明装置の一実施例を示す正面図、第2図は
第1図の平面図、第3図および第4図は本発明装置にお
ける予備真空室のシールロールとケースおよびロール間
のシール手段を説明するための要部拡大図で、第3図は
側面図、第4図は第3図のIV−mV線矢視図、第5図
は本発明の装置におけるシールロール端面間のシール手
段を説明するための要部拡大図、第6図は本発明装置に
おける上、下ロールを偏心軸受により上下方向へ移動さ
せるための説明図、第7図は本発明装置の他の実施例を
示す図である。 1・・・真空処理室、2,3・・・予備真空室、8・・
・上ロール、9・・・下ロール、14・・・中ロール、
F・・・彼処第 図 第 4 図 第2 図 冨 5 図 苓 す 図 藁 図

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1、対接するロール間に被処理物をはさみ、一方の側か
    ら他方の側へ被処理物を搬送するシールロールと、この
    シールロールを囲むケースとを備えるシール装置におい
    て、前記対接する各々のシールロールの軸方向に沿つて
    シールロールに対接するシール部材をシールロールとケ
    ースとの間に配設し、シールロールの一方の側から他方
    の側をシールすることを特徴とするシール装置。 2、シール部材は、弾性材であることを特徴とする特許
    請求の範囲第1項記載のシール装置。 3、対接するロール間に被処理物をはさみ、一方の側か
    ら他方の側へ被処理物を搬送するシールロールと、この
    シールロールを囲むケースとを備えるシール装置におい
    て、前記対接する各々のシールロールの軸方向に沿つて
    シールロールに対接するシール部材をシールロールとケ
    ースとの間に配設し、前記シールロールを偏心軸受によ
    つて支持し、シールロールの一方の側から他方の側をシ
    ールすることを特徴とするシール装置。
JP23163489A 1989-09-08 1989-09-08 真空処理装置用シール装置 Granted JPH02258049A (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP23163489A JPH02258049A (ja) 1989-09-08 1989-09-08 真空処理装置用シール装置

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP23163489A JPH02258049A (ja) 1989-09-08 1989-09-08 真空処理装置用シール装置

Related Parent Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP14946280A Division JPS5773026A (en) 1980-10-27 1980-10-27 Apparatus for continuous plasma treatment

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPH02258049A true JPH02258049A (ja) 1990-10-18
JPH0453577B2 JPH0453577B2 (ja) 1992-08-27

Family

ID=16926582

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP23163489A Granted JPH02258049A (ja) 1989-09-08 1989-09-08 真空処理装置用シール装置

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPH02258049A (ja)

Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS51127205A (en) * 1975-04-09 1976-11-05 Valmet Oy Method and apparatus for treating web dried until moisture absorbing range
JPS5233715A (en) * 1975-09-10 1977-03-15 Canon Inc Magnetic head
JPS538829A (en) * 1976-07-14 1978-01-26 Sukegawa Elec Method of heating liquid
JPS5443272A (en) * 1977-09-12 1979-04-05 Tokuyama Soda Co Ltd Method of treating film
JPS55113875A (en) * 1979-02-21 1980-09-02 Mitsubishi Heavy Ind Ltd Vacuum-sealing device and equipment

Patent Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS51127205A (en) * 1975-04-09 1976-11-05 Valmet Oy Method and apparatus for treating web dried until moisture absorbing range
JPS5233715A (en) * 1975-09-10 1977-03-15 Canon Inc Magnetic head
JPS538829A (en) * 1976-07-14 1978-01-26 Sukegawa Elec Method of heating liquid
JPS5443272A (en) * 1977-09-12 1979-04-05 Tokuyama Soda Co Ltd Method of treating film
JPS55113875A (en) * 1979-02-21 1980-09-02 Mitsubishi Heavy Ind Ltd Vacuum-sealing device and equipment

Also Published As

Publication number Publication date
JPH0453577B2 (ja) 1992-08-27

Similar Documents

Publication Publication Date Title
KR100895913B1 (ko) 적어도 하나의 기판에 표면을 처리하는 방법 및 장치
US6450868B1 (en) Carrier head with multi-part flexible membrane
KR100736376B1 (ko) 곡선의 슬릿 밸브 도어
US6241593B1 (en) Carrier head with pressurizable bladder
US6361419B1 (en) Carrier head with controllable edge pressure
JP3199162B2 (ja) 連続真空処理装置
CN110900436A (zh) 抛光头和具有抛光头的抛光载体装置
KR20220048025A (ko) 화학적 기계적 연마를 위한 이중 멤브레인 캐리어 헤드
JPH02258049A (ja) 真空処理装置用シール装置
GB2084264A (en) Continuous vacuum treating apparatus
JP2006078149A (ja) ロータリーキルンのシール構造
JP2635304B2 (ja) 真空処理方法
JPS6153377B2 (ja)
JPH04211436A (ja) 真空処理装置
JP2003042298A (ja) シール装置
US4241698A (en) Vacuum evaporation system for the deposition of a thin evaporated layer having a high degree of uniformity
US4249846A (en) Rotary vacuum seal for a wafer transport system
JPH0219138B2 (ja)
JP2821451B2 (ja) 真空処理装置
JPH05179428A (ja) 薄膜形成装置
JPS6236430A (ja) 真空連続処理装置
JPH0153293B2 (ja)
JPS61157535A (ja) 真空連続処理装置
JP2021501699A (ja) 基板処理システムのための平坦化膜および方法
JPH05315261A (ja) 半導体製造装置