JPH02258049A - 真空処理装置用シール装置 - Google Patents
真空処理装置用シール装置Info
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- JPH02258049A JPH02258049A JP23163489A JP23163489A JPH02258049A JP H02258049 A JPH02258049 A JP H02258049A JP 23163489 A JP23163489 A JP 23163489A JP 23163489 A JP23163489 A JP 23163489A JP H02258049 A JPH02258049 A JP H02258049A
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Landscapes
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- Physical Vapour Deposition (AREA)
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明はシール装置に係り、特にフィルム状被処理物を
処理する真空処理室の両方側又は一方側に配置される真
空室のシールに使用されるシール装置に関する6 〔従来の技術〕 従来真空処理室の両方側又は一方側に配置される予備真
空室のシール機構に関しては例えば特開昭50−161
475号公報、特開昭53−.85741号公報に記載
のものがある。
処理する真空処理室の両方側又は一方側に配置される真
空室のシールに使用されるシール装置に関する6 〔従来の技術〕 従来真空処理室の両方側又は一方側に配置される予備真
空室のシール機構に関しては例えば特開昭50−161
475号公報、特開昭53−.85741号公報に記載
のものがある。
特開昭50−161475号記載のものでは、真空処理
室の隔壁の端と柔軟なプラスチックのフィルム面との間
でシールしなければならないので常に上下に振動してい
る走行するフィルムを完全なシール効果は期待できない
。また、シール機構をフィルム面に近づけると、フィル
ム面が傷付きやすく、さらにフィルムの円滑な走行の保
持という点においても配慮されていない。
室の隔壁の端と柔軟なプラスチックのフィルム面との間
でシールしなければならないので常に上下に振動してい
る走行するフィルムを完全なシール効果は期待できない
。また、シール機構をフィルム面に近づけると、フィル
ム面が傷付きやすく、さらにフィルムの円滑な走行の保
持という点においても配慮されていない。
一方、特開昭53−85741号公報のものは相隣る予
備真空室を隔てる隔壁の端にロールを設けたものである
から、この構造においてシールをしようとすると、ロー
ルと隔壁の端面との間という極めて限られた場所で行な
わなければならないため。
備真空室を隔てる隔壁の端にロールを設けたものである
から、この構造においてシールをしようとすると、ロー
ルと隔壁の端面との間という極めて限られた場所で行な
わなければならないため。
シール機構として限られた構造のものしか利用できない
。この構造のものでは任意の構造の信頼性の高いシール
機構を採用することに制約がある。
。この構造のものでは任意の構造の信頼性の高いシール
機構を採用することに制約がある。
本発明は上記の点に鑑み、真空室のシールを良好に行い
うるシール装置を提供することを目的とする。
うるシール装置を提供することを目的とする。
本発明は上記目的を達成するために、対接するロール間
に被処理物をはさみ、一方の側から他方の側へ被処理物
を搬送するシールロールと、このシールロールを囲むケ
ースとを備えるシール装置において、前記対接する各々
のシールロールの軸方向に沿ってシールロールに対接す
るシール部材をシールロールとケースとの間に配設した
ものである。
に被処理物をはさみ、一方の側から他方の側へ被処理物
を搬送するシールロールと、このシールロールを囲むケ
ースとを備えるシール装置において、前記対接する各々
のシールロールの軸方向に沿ってシールロールに対接す
るシール部材をシールロールとケースとの間に配設した
ものである。
又、本発明は上記目的を達成するために対接する各々の
シールロールの軸方向に沿ってシールロールに対接する
シール部材をシールロールとケースとの間に配設し、前
記シールロールを偏心軸受によって支持したものである
。
シールロールの軸方向に沿ってシールロールに対接する
シール部材をシールロールとケースとの間に配設し、前
記シールロールを偏心軸受によって支持したものである
。
シールロールと、これを囲むケースとの間にシールロー
ルの軸方向に沿ってシールロールと対接するシール手段
を配設したことによって、シール手段の配設に制約がな
く、良好なシールを得ている。
ルの軸方向に沿ってシールロールと対接するシール手段
を配設したことによって、シール手段の配設に制約がな
く、良好なシールを得ている。
以下本発明の一実施例をプラズマ真空処理に適用した場
合を、図面にしたがって説明する。
合を、図面にしたがって説明する。
第1図および第2図において、1はプラスチック成形品
など可撓性の被処理物Fを真空状態で連続的にプラズマ
処理する真空処理室で、この真空処理室1内はこれに接
続する真空ポンプ4により10−2ト一ル程度の真空圧
力に保持するように排気管5を介して真空排気される。
など可撓性の被処理物Fを真空状態で連続的にプラズマ
処理する真空処理室で、この真空処理室1内はこれに接
続する真空ポンプ4により10−2ト一ル程度の真空圧
力に保持するように排気管5を介して真空排気される。
また、この真空処理室1内には図示していないが、真空
状態でプラズマ処理を施すための陽極、陰極などが内蔵
されている。2は真空処理室1の前方側に複数個配置さ
れる予備真空室、3は真空処理室1の後方側に配置され
る複数個の予備真空室で、これら予備真空室2,3内は
、これに接続する真空ポンプ6により前記真空処理室1
内の真空圧力より若干高い程度の真空圧力に保持するよ
うに排気管7を介して真空排気される。
状態でプラズマ処理を施すための陽極、陰極などが内蔵
されている。2は真空処理室1の前方側に複数個配置さ
れる予備真空室、3は真空処理室1の後方側に配置され
る複数個の予備真空室で、これら予備真空室2,3内は
、これに接続する真空ポンプ6により前記真空処理室1
内の真空圧力より若干高い程度の真空圧力に保持するよ
うに排気管7を介して真空排気される。
第3図および第4図は前記予備真空室2.3の詳細を示
すもので、8,9は両端側がハウジング10にラジアル
軸受11および偏心軸受ハウジング12を介して回転自
在に、かつ上、下方向へ移動可能に支持されるシール用
の上、下ロールで、この上、下ロール8,9の表面には
硬質のニッケルクロム層13が施されている。14は上
、下ロール8.9との間に対接するように配設され、か
つ表面にゴム、フッソ樹脂などの弾性材15を一体的に
焼着したシール用の中ロールで、この中ロール14は両
端側がハウジング10にラジアル軸受11および固定軸
受ハウジング16を介して回転自在に支持されている。
すもので、8,9は両端側がハウジング10にラジアル
軸受11および偏心軸受ハウジング12を介して回転自
在に、かつ上、下方向へ移動可能に支持されるシール用
の上、下ロールで、この上、下ロール8,9の表面には
硬質のニッケルクロム層13が施されている。14は上
、下ロール8.9との間に対接するように配設され、か
つ表面にゴム、フッソ樹脂などの弾性材15を一体的に
焼着したシール用の中ロールで、この中ロール14は両
端側がハウジング10にラジアル軸受11および固定軸
受ハウジング16を介して回転自在に支持されている。
そして下ロール9と中ロール14との間には被処理物F
が挿入される。
が挿入される。
17は上ケース18に固定され、かつ上ロール8の外周
面側に配設される上ロール支持受けで、この上ロール支
持受17の内周面には上ロール8のニッケルクロム層1
3に対接する低摩擦係数のフッソ樹脂膜19が焼着され
ている。20は下ケース21に固定され、かつ下ロール
9の外周側に配設される下ロール支持受けで、この下ロ
ール支持受け20の内周面は下ロール9の表面に対接す
る低摩擦係数のフッソ樹脂膜22が焼着されている。
面側に配設される上ロール支持受けで、この上ロール支
持受17の内周面には上ロール8のニッケルクロム層1
3に対接する低摩擦係数のフッソ樹脂膜19が焼着され
ている。20は下ケース21に固定され、かつ下ロール
9の外周側に配設される下ロール支持受けで、この下ロ
ール支持受け20の内周面は下ロール9の表面に対接す
る低摩擦係数のフッソ樹脂膜22が焼着されている。
第5図は上、下、中ロール8,9.14および上。
下ケース18.21の両端側とハウジング10゜偏心軸
受ハウジング12との間に介在されるサイドビース23
の取付状態を示したもので、サイドピース23の上、下
、中ロール8,9.14と対向する面には、低摩擦係数
のフッソ樹脂膜24が焼着されており、このサイドピー
ス23はボルト25を締付けることによりコイルバネ2
6を介してバウシング10に押付けられる。このとき、
前記上、下、中ロール8,9.10とサイドピース23
のフッソ樹脂膜24との間には20μm程度の隙間が形
成される。また、サイドピース23の押付は力はサイド
ピース23とボルト25との隙間Hによって規制される
。
受ハウジング12との間に介在されるサイドビース23
の取付状態を示したもので、サイドピース23の上、下
、中ロール8,9.14と対向する面には、低摩擦係数
のフッソ樹脂膜24が焼着されており、このサイドピー
ス23はボルト25を締付けることによりコイルバネ2
6を介してバウシング10に押付けられる。このとき、
前記上、下、中ロール8,9.10とサイドピース23
のフッソ樹脂膜24との間には20μm程度の隙間が形
成される。また、サイドピース23の押付は力はサイド
ピース23とボルト25との隙間Hによって規制される
。
第6図は上、下、中ロール8,9を偏心軸受ハウジング
12により上、下方向へ移動させるための説明図である
。第6図において、偏心軸受ハウジング12の中心位1
1Aは、上、下ロール8,9の中心位置Bに対し偏心(
偏心量C)して設けられており、この偏心軸受ハウジン
グ12は中心位[Aを回動中心に図示しない油圧シリン
ダ装置により図示矢印方向へ回動する。このとき、上、
下ロール8,9は上方向または下方向へ、すなわち、中
ロール14に対して押付ける方向または中ロール14か
ら離れる方向へ移動する。したがって、偏心軸受ハウジ
ング12の回動角を調整することにより、上ロール8と
中ロール14または下ロール9と中ロール14との押圧
力を任意に変えることができると共に下ロール9と中ロ
ール14の隙間への被処理物Fの挿入が容易になる。
12により上、下方向へ移動させるための説明図である
。第6図において、偏心軸受ハウジング12の中心位1
1Aは、上、下ロール8,9の中心位置Bに対し偏心(
偏心量C)して設けられており、この偏心軸受ハウジン
グ12は中心位[Aを回動中心に図示しない油圧シリン
ダ装置により図示矢印方向へ回動する。このとき、上、
下ロール8,9は上方向または下方向へ、すなわち、中
ロール14に対して押付ける方向または中ロール14か
ら離れる方向へ移動する。したがって、偏心軸受ハウジ
ング12の回動角を調整することにより、上ロール8と
中ロール14または下ロール9と中ロール14との押圧
力を任意に変えることができると共に下ロール9と中ロ
ール14の隙間への被処理物Fの挿入が容易になる。
第1図および第2図に戻って、27は被処理物Fを予備
真空室2を経て真空処理室内へ移送する送り出し装置、
28は真空処理室1内でプラズマ処理された被処理物F
を巻き取る巻き取り装置。
真空室2を経て真空処理室内へ移送する送り出し装置、
28は真空処理室1内でプラズマ処理された被処理物F
を巻き取る巻き取り装置。
29は駆動用モータで、この駆動用モータ29の駆動力
により回転軸30および動力分配機31を介して予備真
空室2,3の上、下、中ロール8゜9.14を回動させ
る。
により回転軸30および動力分配機31を介して予備真
空室2,3の上、下、中ロール8゜9.14を回動させ
る。
上記のように構成される予備真空室2,3において、上
ロール8と中ロール14の間のシールは、上ロール8を
偏心軸受ハイジング12により中ロール14に対して押
しつけ、中ロール14の弾性材15をたわませることに
より施される。同様に下ロール9と中ロール14の間の
シールは、下ロール9を中ロール14に対して押しつけ
、中ロール14の弾性材15をたわませることにより施
される・また、上ロール8と下ロール支持受けおよび下
ロール9と下ロール支持受け20の間のシールは、両者
間の隙間を非常に小さく、例えば20μm程度にするこ
とにより可能である。
ロール8と中ロール14の間のシールは、上ロール8を
偏心軸受ハイジング12により中ロール14に対して押
しつけ、中ロール14の弾性材15をたわませることに
より施される。同様に下ロール9と中ロール14の間の
シールは、下ロール9を中ロール14に対して押しつけ
、中ロール14の弾性材15をたわませることにより施
される・また、上ロール8と下ロール支持受けおよび下
ロール9と下ロール支持受け20の間のシールは、両者
間の隙間を非常に小さく、例えば20μm程度にするこ
とにより可能である。
次に作動を説明する。
先ず、真空ポンプ4,6を作動させることにより、真空
処理室1内および予備真空室2,3内を真空排気する。
処理室1内および予備真空室2,3内を真空排気する。
このとき、真空処理室1内の圧力は予備真空室2,3内
の圧力より低く保持される。
の圧力より低く保持される。
また、真空処理室1内には、プラズマ特性を良くするた
めのアルゴンガス、窒素ガスなどを通気する。次に予備
真空室2,3の上、下、中ロール8.9.14を駆動用
モータ29の駆動力により回転させると共に真空処理室
1のプラズマ装置を操作する。この状態で被処理物Fは
送り出し装置27から予備真空室2の下ロール9と中ロ
ール14との間を経て真空処理室1へ連続的に導入され
る。真空処理室1内では、陽極と陰極間で発生するプラ
ズマ放電により被処理物Fの表面にプラズマ処理が施さ
れる。真空処理室1内でプラズマ表面処理された被処理
物Fは、直ちに予備真空室3の下ロール9と中ロール1
4との間を経て巻き取り装置28により巻き取られる。
めのアルゴンガス、窒素ガスなどを通気する。次に予備
真空室2,3の上、下、中ロール8.9.14を駆動用
モータ29の駆動力により回転させると共に真空処理室
1のプラズマ装置を操作する。この状態で被処理物Fは
送り出し装置27から予備真空室2の下ロール9と中ロ
ール14との間を経て真空処理室1へ連続的に導入され
る。真空処理室1内では、陽極と陰極間で発生するプラ
ズマ放電により被処理物Fの表面にプラズマ処理が施さ
れる。真空処理室1内でプラズマ表面処理された被処理
物Fは、直ちに予備真空室3の下ロール9と中ロール1
4との間を経て巻き取り装置28により巻き取られる。
このように被処理物Fは予備真空室で良好なシール効果
が得らると共に真空処理室1内で短時間にプラズマ処理
されるため、プラスチック成形品などに含有している可
塑剤などの内部添加剤の揮発、逸散が制御されると共に
、連続的に被処理物Fが真空装置内に導入されるため、
空気等の混入も少なく、目的とするガス、目的とする圧
力で定常的に処理可能であり、良好な改質特性を賦与す
ることを可能にする。また、表面がニッケルクロム層1
3の上。
が得らると共に真空処理室1内で短時間にプラズマ処理
されるため、プラスチック成形品などに含有している可
塑剤などの内部添加剤の揮発、逸散が制御されると共に
、連続的に被処理物Fが真空装置内に導入されるため、
空気等の混入も少なく、目的とするガス、目的とする圧
力で定常的に処理可能であり、良好な改質特性を賦与す
ることを可能にする。また、表面がニッケルクロム層1
3の上。
下ロール8,9と表面が弾性材15の中ロール14およ
び前記上、下ロール8,9と表面がフッソ樹脂膜19.
22の上、下ロール支持受け17゜20は金属層と非金
IA層の摺動であるため、摩擦力も小さく、長時間の運
転にも充分耐えられる。
び前記上、下ロール8,9と表面がフッソ樹脂膜19.
22の上、下ロール支持受け17゜20は金属層と非金
IA層の摺動であるため、摩擦力も小さく、長時間の運
転にも充分耐えられる。
第7図は本発明における予備真空室のロールとケースお
よびロール間の軸方向シール手段の他の実施例を示すも
のである。
よびロール間の軸方向シール手段の他の実施例を示すも
のである。
第7図において、第3図および第4図と同一符号のもの
は同一部分を示す。
は同一部分を示す。
32.33は前記上ロール8と下ロール9の一部と軸方
向に沿って連続的に対接し、且つ上、下ケース18.2
1に取外し可能に支持されるウレタンゴムなどのリップ
部材で、このリップ部材32.33はりツブシール34
.35とリップ取付台36.37から成っている。
向に沿って連続的に対接し、且つ上、下ケース18.2
1に取外し可能に支持されるウレタンゴムなどのリップ
部材で、このリップ部材32.33はりツブシール34
.35とリップ取付台36.37から成っている。
このように上ロール8.下ロール9の一部と対接するよ
うにリップ部材32.33を配設することにより、ロー
ルとケースおよびロール間の軸方向の良好なシール効果
を得ることは勿論、耐久性が向上する。
うにリップ部材32.33を配設することにより、ロー
ルとケースおよびロール間の軸方向の良好なシール効果
を得ることは勿論、耐久性が向上する。
また、リップ部材32.33を上、下ケースに取外し可
能に支持させるため、たとえリップ部材が摩擦力により
使用不能になった場合でも容易に交換が可能となる。
能に支持させるため、たとえリップ部材が摩擦力により
使用不能になった場合でも容易に交換が可能となる。
本発明によれば、シールロールとこれを囲むケースとの
間にシール手段を配設したので、シール手段に制約がな
く、良好なシールを得ている。
間にシール手段を配設したので、シール手段に制約がな
く、良好なシールを得ている。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明装置の一実施例を示す正面図、第2図は
第1図の平面図、第3図および第4図は本発明装置にお
ける予備真空室のシールロールとケースおよびロール間
のシール手段を説明するための要部拡大図で、第3図は
側面図、第4図は第3図のIV−mV線矢視図、第5図
は本発明の装置におけるシールロール端面間のシール手
段を説明するための要部拡大図、第6図は本発明装置に
おける上、下ロールを偏心軸受により上下方向へ移動さ
せるための説明図、第7図は本発明装置の他の実施例を
示す図である。 1・・・真空処理室、2,3・・・予備真空室、8・・
・上ロール、9・・・下ロール、14・・・中ロール、
F・・・彼処第 図 第 4 図 第2 図 冨 5 図 苓 す 図 藁 図
第1図の平面図、第3図および第4図は本発明装置にお
ける予備真空室のシールロールとケースおよびロール間
のシール手段を説明するための要部拡大図で、第3図は
側面図、第4図は第3図のIV−mV線矢視図、第5図
は本発明の装置におけるシールロール端面間のシール手
段を説明するための要部拡大図、第6図は本発明装置に
おける上、下ロールを偏心軸受により上下方向へ移動さ
せるための説明図、第7図は本発明装置の他の実施例を
示す図である。 1・・・真空処理室、2,3・・・予備真空室、8・・
・上ロール、9・・・下ロール、14・・・中ロール、
F・・・彼処第 図 第 4 図 第2 図 冨 5 図 苓 す 図 藁 図
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1、対接するロール間に被処理物をはさみ、一方の側か
ら他方の側へ被処理物を搬送するシールロールと、この
シールロールを囲むケースとを備えるシール装置におい
て、前記対接する各々のシールロールの軸方向に沿つて
シールロールに対接するシール部材をシールロールとケ
ースとの間に配設し、シールロールの一方の側から他方
の側をシールすることを特徴とするシール装置。 2、シール部材は、弾性材であることを特徴とする特許
請求の範囲第1項記載のシール装置。 3、対接するロール間に被処理物をはさみ、一方の側か
ら他方の側へ被処理物を搬送するシールロールと、この
シールロールを囲むケースとを備えるシール装置におい
て、前記対接する各々のシールロールの軸方向に沿つて
シールロールに対接するシール部材をシールロールとケ
ースとの間に配設し、前記シールロールを偏心軸受によ
つて支持し、シールロールの一方の側から他方の側をシ
ールすることを特徴とするシール装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP23163489A JPH02258049A (ja) | 1989-09-08 | 1989-09-08 | 真空処理装置用シール装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP23163489A JPH02258049A (ja) | 1989-09-08 | 1989-09-08 | 真空処理装置用シール装置 |
Related Parent Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP14946280A Division JPS5773026A (en) | 1980-10-27 | 1980-10-27 | Apparatus for continuous plasma treatment |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH02258049A true JPH02258049A (ja) | 1990-10-18 |
JPH0453577B2 JPH0453577B2 (ja) | 1992-08-27 |
Family
ID=16926582
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP23163489A Granted JPH02258049A (ja) | 1989-09-08 | 1989-09-08 | 真空処理装置用シール装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH02258049A (ja) |
Citations (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS51127205A (en) * | 1975-04-09 | 1976-11-05 | Valmet Oy | Method and apparatus for treating web dried until moisture absorbing range |
JPS5233715A (en) * | 1975-09-10 | 1977-03-15 | Canon Inc | Magnetic head |
JPS538829A (en) * | 1976-07-14 | 1978-01-26 | Sukegawa Elec | Method of heating liquid |
JPS5443272A (en) * | 1977-09-12 | 1979-04-05 | Tokuyama Soda Co Ltd | Method of treating film |
JPS55113875A (en) * | 1979-02-21 | 1980-09-02 | Mitsubishi Heavy Ind Ltd | Vacuum-sealing device and equipment |
-
1989
- 1989-09-08 JP JP23163489A patent/JPH02258049A/ja active Granted
Patent Citations (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS51127205A (en) * | 1975-04-09 | 1976-11-05 | Valmet Oy | Method and apparatus for treating web dried until moisture absorbing range |
JPS5233715A (en) * | 1975-09-10 | 1977-03-15 | Canon Inc | Magnetic head |
JPS538829A (en) * | 1976-07-14 | 1978-01-26 | Sukegawa Elec | Method of heating liquid |
JPS5443272A (en) * | 1977-09-12 | 1979-04-05 | Tokuyama Soda Co Ltd | Method of treating film |
JPS55113875A (en) * | 1979-02-21 | 1980-09-02 | Mitsubishi Heavy Ind Ltd | Vacuum-sealing device and equipment |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPH0453577B2 (ja) | 1992-08-27 |
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