JPH0453577B2 - - Google Patents

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は真空蒸着装置、プラズマ真空処理装置
等に好適な真空処理装置用シール装置に関する。

〔従来の技術〕

特開昭53−85741号公報に記載のように２本の
シールロールでシールロール群を構成している。

〔発明が解決しようとする課題〕

上記従来技術は、２本のシールロールによつて
シールロール群を構成する構造のものであるか
ら、往路及び複路の被処理物を１個のシール装置
で搬送することができず、このため、このシール
装置を例えば、真空蒸着装置に適用した場合に往
路用及び複路用にそれぞれ２個のシール装置が必
要となり、これを用いた装置全体が大形になる。

本発明の目的は、往路及び複路の被処理物を１
個のシール装置で搬送することが可能な真空処理
装置用シール装置を提供することにある。

〔課題を解決するための手段〕

被処理物をはさんで搬送するシールロールと、
このシールロールを囲むケースと、このケースと
前記シールロール間をシールするシール手段とを
備える真空処理装置用シール装置において、前記
被処理物の搬送方向に対向して配置した第１、第
２のシールロール群と、この第１、第２のシール
ロールを囲むケースと、前記第１、第２シールロ
ール群とこのケース間をそれぞれシールするシー
ル手段とにより構成され、前記第１、第２のシー
ルロール群はそれぞれ第１のシールロールと、こ
の第１のシールロールに隣接する第２、第３のシ
ールロールで形成され、前記第１のシールロール
に対して第２、第３のシールロールを押付ける方
向及び離す方向へ移動させる手段を前記第２、第
３のシールロールに設ける。

〔作用〕

第１、第２のシールロール群と、この第１、第
２のシールロール群を囲むケースと、前記第１、
第２のシールロール群とこのケース間をそれぞれ
シールするシール手段とによつて構成し、前記第
１、第２のシールロール群はそれぞれ第１のシー
ルロールと、この第１のシールロールに隣接する
第２、第３のシールロールで形成したので、この
ため例えば前記第１のシールロールと第２のシー
ルロール間に往路の被処理物をはさみ、又第３の
シールロールと第１のシールロール間に複路の被
処理物をはさんで搬送することができるので、１
個のシール装置で往路と複路の被処理物を搬送す
ることができる。

〔実施例〕

以下本発明の実施例を図面によつて説明する。

第１図は真空処理装置用シール装置の縦断面図
であり、第２、第３、第１のシールロール２，
３，１でそれぞれ第１、第２のシールロール群を
構成し（左側列と右側列でそれぞれ第１、第２の
シールロール群を構成する）、これら第１、第２
のシールロール群の第２、第３のシールロール
２，３と上、下ケース４，５との間にはシール
６，７が介在している。これら第１、第２のシー
ルロール群と上、下ケース４，５とシール６，７
とによつて室が形成される。シール６，７は前記
第２のシールロール２と第３のシールロール３の
一部と軸方向に沿つて接し、且つ上、下ケース
４，５に取外し可能に支持されるウレタンゴムな
どのリツプシール８，９、リツプシール取付台１
０，１１から成つている。１２は第２、第３のシ
ールロール２，３の表面に施されている硬質のニ
ツケルクロム層、１３は第１のシールロール１の
表面に焼着した弾性材（例えばゴム、フツソ樹
脂）である。

第２のシールロール２、第３のシールロール３
と接するようにリツプシール８，９を配設してい
るので、ロールとケースおよびロール間の軸方向
に良好なシールを施している。

また、リツプ取付台１０，１１を上、下ケース
４，５に取外し可能に支持するため、例えばリツ
プシール８，９が摩擦により使用不可能になつた
場合でも交換が可能となる。

第２図は本発明の他の実施例をプラズマ真空処
理装置に適用した場合の説明図である。

２０はプラスチツク成形品など可撓性の被処理
物Ｆを真空状態で連続的にプラズマ処理する真空
処理室で、この真空処理室２０内はこれに接続す
る真空ポンプ（図示せず）により10^-2トール程度
の真空圧力に保持するように真空排気される。ま
た、この真空処理室２０内には図示していない
が、真空状態でプラズマ処理を施すための陽極、
陰極などが内蔵されている。２１は真空処理室２
０の側方に複数個配置される予備真空室で、これ
らに接続する真空ポンプにより前記真空処理室２
０内の真空圧力より若干低い程度の真空圧力に保
持するように真空排気される。

第３図および第４図は前記予備真空室２１の詳
細を示すもので、２，３は両端側がハウジング３
０にラジアル軸受３１および偏心軸受ハウジング
３２を介して回転自在に、かつ上、下方向へ移動
可能に支持される前記第２、第３のシールロール
でである。

第１のシールロール１との間には被処理物Ｆが
挿入される。３４は上ケース４に固定され、かつ
第２のシールロール２の外周面側に配設されるロ
ール支持受けで、このロール支持受３４の内周面
には低摩擦係数のフツソ樹脂膜３５が焼着されて
いる。３６は下ケース５に固定され、かつ第３の
シールロール３の外周側に配設されるロール支持
受けで低摩擦係数のフツソ樹脂膜３７が焼着され
ている。第５図は第２、第３、第１のシールロー
ル２，３，１および上、下ケース４，５の両端側
とハウジング３０、偏心軸受ハウジング３２との
間に介在するサイドピース４０の取付状態を示し
たもので、サイドピース４０の第２、第３、第１
のシールロール２，３，１と対向する面には、低
摩擦係数のフツソ樹脂膜４１が焼着されており、
このサイドピース４０はボルト４２を締付けるこ
とによりコイルバネ４３を介してハウジング３０
に押付けられる。このとき、前記第２、第３、第
１のシールロール２，３，１とサイドピース４０
のフツソ樹脂膜４１との間には20μｍ程度の間隙
が形成される。また、サイドピース４０の押付け
力はサイドピース４０とボルト４２との間隙Ｈに
よつて規制される。

上記のように構成される予備真空室２１におい
て、第２のシールロール２と第１のシールロール
１の間のシールは、第２のシールロール２を偏心
軸受ハウジング３２により第１のシールロール１
に対して押付け、第１のシールロール１の弾性材
１３をたわませることにより施される。同様に第
３のシールロール３と第１のシールロール１の間
のシールは、第３のシールロール３を第１のシー
ルロール１に対して押付け、第１のシールロール
１４の弾性材１３をたわませることにより施され
る。また、第２のシールロール２とロール支持受
け３４および第３のシールロール３とロール支持
受け３６の間のシールは、両者間の間隙を非常に
小さく、例えば20μｍ程度にすることにより可能
である。

次に動作を説明する。

先ず、真空ポンプを作動させることにより、真
空処理室２０内および予備真空２１内を真空排気
する。このとき、真空処理室２０内の圧力は予備
真空室２１の圧力より低く保持される。

また、真空処理室２０内には、プラズマ特性を
良くするためのアルゴンガス、窒素ガスなどを通
気する。次に予備真空室２１の第２、第３、第１
のシールロール２，３，１を駆動用モータ（図示
せず）の駆動力により回転させると共に真空処理
室２０のプラズマ装置を操作する。この状態で被
処理物Ｆは送り出し装置２２から予備真空室２１
の第３シールロール３と、第１のシールロール１
との間を経て真空処理室２０へ連続的に導入され
る。真空処理室２０内では、陽極と陰極間で発生
するプラズマ放電により被処理物Ｆの表面にプラ
ズマ処理が施される。真空処理室２０内でプラズ
マ表面処理された被処理物Ｆは、直ちに予備真空
室２１の第３のシールロール３と第１のシールロ
ール１との間を経て巻き取り装置２３により巻き
取られる。このように被処理物Ｆは予備真空室で
良好なシール効果が得られると共に真空処理室２
０内で短時間にプラズマ処理されるため、プラス
チツク成形品などに含有している可塑剤などの内
部添加剤の揮発、逸散が制御されると共に、連続
的に被処理物Ｆが真空装置内に導入されるため、
空気等の混入も少なく、目的とするガス、目的と
する圧力で定常的に処理可能であり、良好な改質
特性を付与することを可能にする。また、表面が
ニツケルクロム層１２の第２、第３のシールロー
ル２，３と表面が弾性材１３の第１のシールロー
ル１および前記第２、第３のシールロール２，３
と表面がフツソ樹脂膜３５，３７のロール支持受
け３４，３６は金属層と非金属層の摺動であるた
め、摩擦力も小さく、長時間の運転にも充分耐え
られる。

第６図は第２、第３のシールロール３，３を偏
心軸受ハウジング３２により上、下方向へ移動さ
せるための詳細図である。偏心軸受ハウジング３
２の中心位置Ａは、第２、第３のシールロール
２，３の中心位置Ｂに対し偏心（偏心量Ｃ）して
設けられており、この偏心軸受ハウジング３２は
中心位置Ａを回動中心に図示しない油圧シリンダ
装置により図示矢印方向へ回動する。このとき、
第２、第３のシールロール２，３は上方向または
下方向へ、すなわち、第１のシールロール１に対
して押付ける方向または離れる方向へ移動する。
したがつて、偏心軸受ハウジング３２の回動角を
調整することにより、第２のシールロール２と第
１のシールロール１または第３のシールロール３
と第１のシールロール１との押圧を任意に変える
ことができると共に、第３のシールロール３と第
１のシールロール１の間隙、第２のシールロール
２と第１のシールロール１の間隙への被処理物Ｆ
の挿入が容易になる。

〔発明の効果〕

本発明によれば、往路及び複路の被処理物を１
個のシール装置で搬送することができ、また被処
理物をロール間へ挿入することが容易な真空処理
装置用シール装置が得られる。

【図面の簡単な説明】

第１図は本発明の真空処理装置用シール装置の
実施例の縦断面図、第２図は他の実施例の適用例
の説明図、第３図は第２図の適用例における真空
処理装置用シール装置の横断面図、第４図は第３
図の真空処理装置用シール装置の−線におけ
る縦断面図、第５図はシールロール端面の詳細
図、第６図は偏心軸受ハウジングの詳細図であ
る。 １……第１のシールロール、２……第２のシー
ルロール、３……第３のシールロール、４……上
ケース、５……下ケース、６，７……シール、
８，９……リツプシール、１０，１１……リツプ
シール取付台。

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １ 被処理物をはさんで搬送するシールロール
   と、このシールロールを囲むケースと、このケー
   スと前記シールロール間をシールするシール手段
   とを備える真空処理装置用シール装置において、
   前記被処理物の搬送方向に対向して配置された第
   １、第２のシールロール群と、この第１、第２の
   シールロール群を囲むケースと、前記第１、第２
   のシールロール群とこのケース間をそれぞれシー
   ルするシール手段とにより構成され、前記第１、
   第２のシールロール群はそれぞれ第１のシールロ
   ールと、この第１のシールロールに隣接する第
   ２、第３のシールロールで形成され、前記第１の
   シールロールに対して第２、第３のシールロール
   を押付ける方向及び離す方向へ移動させる手段を
   前記第２、第３のシールロールに設けることを特
   徴とする真空処理装置用シール装置。 ２ 第１のシールロールに対して、第２、第３の
   シールロールを押付ける方向及び離す方向へ移動
   させる手段として、前記第２、第３のシールロー
   ルを偏心軸受で支持することを特徴とする特許請
   求の範囲第１項記載の真空処理装置用シール装
   置。