JP2821451B2 - 真空処理装置 - Google Patents
真空処理装置Info
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- JP2821451B2 JP2821451B2 JP9003602A JP360297A JP2821451B2 JP 2821451 B2 JP2821451 B2 JP 2821451B2 JP 9003602 A JP9003602 A JP 9003602A JP 360297 A JP360297 A JP 360297A JP 2821451 B2 JP2821451 B2 JP 2821451B2
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Description
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明はフイルム状の被処理
物を表面処理をする真空処理装置に関する。 【０００２】 【従来の技術】従来、米国特許第３，１５８，５０７号
公報に記載されるように支持軸の径より大きな径の穴に
支持され穴内で上下、左右に移動可能であって回転自在
に支持された第１のシ−ルロ−ルと、位置が移動せず回
転自在に支持された第２，第３のシ−ルロ−ルとを備
え、第２のシ−ルロ−ルと第１のシ−ルロ−ルとの間及
び第３のシ−ルロ−ルと第１のシ−ルロ−ルとの間に真
空処理される被処理物を挾んで往復方向に搬送し、第２
のシ−ルロ−ルと第１のシ−ルロ−ルとの間及び第３の
シ−ルロ−ルと第１のシ−ルロ−ルとの間隔は前記被処
理物の厚さの変化に応じて、第１のシ−ルロ−ルが前記
穴内で移動するシ−ル構造の真空処理技術が開示されて
いる。 【０００３】 【発明が解決しようとする課題】上記技術では、第１の
シ−ルロ−ルが浮遊支持されているため、予備真空室を
形成するためには予備真空室を真空引きして第１のシ−
ルロ−ルを第２，第３のシ−ルロ−ルに接触させる必要
があるが、第１のシ−ルロ−ル前後の圧力差をうまくと
らないと、これは困難になり、予備真空室を形成できな
い。このため、予備真空室が複数個ある場合、真空処理
室に近い予備真空室から順次真空引きをするなどの操作
が必要であり、この操作が複雑で時間がかかり、生産性
の向上は望めない。 【０００４】また、第１のシ−ルロ−ルが浮遊支持され
る構造であるため、被処理物をシ−ルロ−ル間にセット
する際の作業もやりにくく、この点からも生産性向上は
困難である。 【０００５】本発明の目的は、生産性の向上を図れる真
空処理装置を提供することにある。 【０００６】 【課題を解決するための手段】上記目的は、真空処理室
の隣に予備真空室を少なくとも１個配置し、前記真空処
理室で被処理物を真空処理する真空処理装置において、
前記予備真空室は被処理物の搬送方向に、対向して配置
された第１，第２のシ−ルロ−ル群と、この第１，第２
のシ−ルロ−ル群を囲む手段と、前記第１，第２のシ−
ルロ−ル群と前記第１，第２のシ−ルロ−ル群を囲む手
段との間をシ−ルするシ−ル手段とを備え、前記第１，
第２のシ−ルロ−ル群はそれぞれ位置を固定して支持さ
れた第１のシ−ルロ−ルと、この第１のシ−ルロ−ルの
隣に配置され前記被処理物の搬送時には前記第１のシー
ルロールに対して位置を固定して支持される第２，第３
のシ−ルロ−ルで形成する３本一組のシ−ルロ−ルから
なるとともに、それぞれ第１のシ−ルロ−ルを基準に、
第２，第３のシ−ルロ−ルが被処理物の搬送方向と交差
する方向に配置されており、さらに、前記第１のシール
ロールに対して第２、第３のシールロールを押し付ける
方向及び離す方向に移動させる手段を備え、前記第２ま
たは第３のシ−ルロ−ルと第１のシ−ルロ−ルとの間を
通して被処理物を搬送し、前記真空処理において被処理
物を真空処理する、ことによって達成される。 【０００７】本発明によれば、第１のシ−ルロ−ルが固
定支持され、第２，第３のシ−ルロ−ルも被処理物の搬
送時には固定支持とすることができるので、順次真空引
きするなどの操作が不要となり、操作が簡単で短時間で
すみ、生産性の大幅な向上が図れる。 【０００８】また、被処理物をシ−ルロ−ル間にセット
する際の作業も、シ−ルロ−ルは上記従来例のように浮
遊支持されているものでないから容易であり、この点か
らも生産性の向上が図れる。 【０００９】 【発明の実施の形態】以下本発明の実施例を図面によっ
て説明する。 【００１０】図１及び図２において、１はプラスチック
成形品など可撓性の被処理物Ｆを真空状態で連続的にプ
ラズマ処理する真空処理室で、この真空処理室１内はこ
れに接続する真空ポンプ４により１０~2トール程度の真
空圧力に保持するように排気管５を介して真空排気され
る。また、この真空処理室１内には図示していないが、
真空状態でプラズマ処理を施すための陽極、陰極が内蔵
されている。２は真空処理室１の前方側に複数個配置さ
れる予備真空室、３は真空処理室１の後方側に配置され
る複数個の予備真空室で、これら予備真空室２、３内
は、これらに接続する真空ポンプ６により前記真空処理
室１内の真空圧力より若干高い程度の真空圧力に保持す
るように排気管７を介して真空排気される。 【００１１】図３及び図４はシールロール部横断面を示
すもので、８、９は両端側がハウジング１０にラジアル
軸受１１および偏心軸受ハウジング１２を介して回転自
在に、かつ上、下方向へ移動可能に支示されるシール用
の第２及び第３シールロールで、この第２及び第３のシ
ールロール８、９の表面には硬質ニッケルクロム層１３
が施されている。１４は前記第２及び第３のシールロー
ル８、９の隣りに配置され、かつ表面にゴム、フッソ樹
脂などの弾性材１５を一体的に焼着した第１のシールロ
ールで、この第１のシールロール１４は両端側が横ケー
ス１０にラジアル軸受１１及び固定軸受ハウジング１６
を介して回転自在に支持されている。 【００１２】１７は上ケ−ス１８に固定され、かつ第２
のシ−ルロ−ル８の外周面側に配設される上シ−ルロ−
ル支持受けで、この上シ−ルロ−ル支持受け１７の内周
面には第２のシ−ルロ−ル８のニッケルクロム層１３に
接する低摩擦係数のフッソ樹脂膜１９が焼着されてい
る。２０は下ケ−ス２１に固定され、かつ第３のシ−ル
ロ−ル９の外周面側に配設される下シ−ルロ−ル支持受
けで、この下シ−ルロ−ル支持受け２０の内周面には第
３のシ−ルロ−ル９の表面に接する低摩擦係数のフッソ
樹脂膜２２が焼着されている。 【００１３】第１、第２及び第３のシールロールが形成
する３本一組のシールロールでシールロール群を構成
し、このシールロール群を被処理物Ｆの搬送方向と直角
に２列すなわち第１、第２のシールロール群を並べるこ
とによって１個の予備真空室を構成する。したがって、
例えば３列にシールロール群を並べることによって２個
の相隣る予備真空室が構成される。 【００１４】図５は第２、第３及び第１のシールロール
８、９、１４および上、下ケース１８、２１の両端側と
横ケース１０、偏心軸受ハウジング１２との間に介在さ
れるサイドピース２３の取付状態を示したもので、サイ
ドピース２３の第２、第３及び第１のシールロール８、
９、１４の端面と対向する面には、低摩擦係数のフッソ
樹脂膜２４が焼着されており、このサイドピース２３は
ボルト２５を締付けることによりコイルバネ２６を介し
て横ケース１０に押付けられる。このとき、前記第２、
第３及び第１のシールロール８、９、１４の端面と対向
する面には、低摩擦係数のフッソ樹脂膜２４が焼着され
ており、このサイドピース２３はボルト２５を締付ける
ことによりコイルバネ２６を介して横ケース１０に押付
けられる。このとき、前記第２、第３及び第１のシール
ロール８、９、１４とサイドピース２３のフッソ樹脂膜
２４との間には２０μｍ程度の隙間が形成される。ま
た、サイドピース２３の押付力はサイドピース２３とボ
ルト２５との隙間Ｈによって規制される。 【００１５】図６は第２及び第３のシールロール８、９
を偏心軸受ハウジング１２により上、下方向へ移動させ
るための説明図である。偏心軸受ハウジング１２の中心
位置Ａは、第２及び第３のシールロール８、９の中心位
置Ｂに対し偏心（偏心量Ｃ）して設けられており、この
偏心軸受ハウジング１２は中心位置Ａを回転中心に図示
しない油圧シリンダ装置により図示矢印方向へ回動す
る。このとき、第２及び第３のシールロール８、９は上
方向または下方向へ、すなわち、第１のシールロール１
４に対して押付ける方向または第１のシールロール１４
から離れる方向へ移動する。したがって、偏心軸受ハウ
ジング１２の回動角を調整することにより、第２のシー
ルロール８と第１のシールロール１４または第３のシー
ルロール９と第１のシールロール１４との押圧力を任意
に変えることができると共に第３のシールロール９と第
１のシールロール１４の隙間への被処理物Ｆの挿入が容
易になる。 【００１６】図１及び図２にもどって、２７は被処理物
Ｆを予備真空室２を経て真空処理室へ移送する送り出し
装置、２８は真空処理室１内でプラズマ処理された被処
理物Ｆを巻き取る巻き取り装置、２９は駆動用モータ
で、この駆動用モータ２９の駆動力により回転軸３０お
よび動力分配機３１を介して予備真空室２、３の第２、
第３及び第１のシールロール８、９、１４を回転させ
る。 【００１７】上記のように構成される予備真空室２、３
において、第２のシールロール８と第１のシールロール
１４の間のシールは、第２のシールロール８を偏心軸受
ハウジング１２により第１のシールロール１４に対して
押しつけ、第１のシールロール１４の弾性材１５をたわ
ませることにより施される。同様に第３のシールロール
９と第１のシールロール１４の間のシールは、第３のシ
ールロール９を第１のシールロール１４に対して押しつ
け、中シールロール１４の弾性材１５をたわませること
により施される。また、第２のシールロール８と上シー
ルロール支持受けおよび第３のシールロール９と下シー
ルロール支持受け２０の間のシールは、両者間の隙間を
非常に小さく、例えば２０μｍ程度にすることにより可
能である。 【００１８】次に上述する真空処理装置の動作を説明す
る。 【００１９】先ず、真空ポンプ４、６を作動させること
により、真空処理室１内および予備真空室２、３内を真
空排気する。このとき、真空処理室１内の圧力は予備真
空室２、３内の圧力より低く保持される。また、真空処
理室１内には、プラズマ特性を良くするためのアルゴン
ガス、窒素ガスなどを通気する。次に予備真空室２、３
の第２、第３及び第１のシールロール８、９、１４を駆
動用モータ２９の駆動力により回転させると共に真空処
理室１のプラズマ装置を操作する。この状態で被処理物
Ｆは送り出し装置２７から予備真空室２の第３のシール
ロール９と第１のシールロール１４との間を経て真空処
理室１へ連続的に導入される。真空処理室１内では、陽
極と陰極間で発生するプラズマ放電により被処理物Ｆの
表面にプラズマ処理が施される。真空処理室１内のプラ
ズマ表面処理された被処理物Ｆは、直ちに予備真空室３
の第３のシールロール９と第１のシールロール１４との
間を経て巻きとり装置２８により巻き取られる。このよ
うに被処理物Ｆは予備真空室で良好なシール効果が得ら
れると共に真空処理室１内で短時間にプラズマ処理され
るため、プラスチック成形品などに含有している可塑剤
などの内部添加剤の揮発、逸散が制御されると共に、連
続的に被処理物Ｆが真空装置内に導入されるため空気等
の混入も少なく、目的とするガス、目的とする圧力で定
常的に処理可能であり、良好な改室特性を付与すること
が可能にする。 【００２０】また、表面がニッケルクロム層１３の第２
及び第３のシールロール８、９と表面が弾性材１５の第
１シールロール１４および前記第２及び第３のシールロ
ール８、９と表面がフッソ樹脂膜１９、２２の上、下シ
ールロール支持受け１７、２０は金属層と非金属層の摺
動でもあるため、摩擦力も小さく、長時間の運転にも十
分耐えられる。 【００２１】尚、上記実施例では第１のシールロールを
基準に、第２及び第３のシールロールを被処理物の搬送
方向と交差する方向に上、下に隣接して配置するもので
あるが、第１のシールロールを基準に第２及び第３のシ
ールロールを被処理物の搬送方向と交差する方向に水平
に隣接して配置しても同様の効果が得られる。 【００２２】図７は本発明における予備真空室のロール
とケースおよびロール間の軸方向シール手段の他の実施
例を示すものである。 【００２３】第７図において、第３図及び第４図と同一
符号のものは同一部分を示す。 【００２４】３２、３３は前記第２のシ−ルロ−ル８と
第３のシ−ルロ−ル９の一部と軸方向に沿って連続的に
隣接し、且つ上、下ケ−ス１８、２１に取外し可能に支
持されるウレタンゴムなどのリップ材で、このリップ材
３２、３３はリップシ−ル３４、３７とリップ取付台３
６、３５から成っている。 【００２５】このように第２のシールロール８、第３の
シールロール９の一部と接するようにリップ部材３２、
３３を配設することにより、ロールとケースおよびロー
ル間に軸方向の良好なシール効果を得ることはもちろ
ん、耐久性が向上する。 【００２６】また、リップ部材３２、３３を上、下ケー
スに取外し可能に支持させるため、たとえリップ部材が
摩擦力により使用不能になった場合でも容易に交換が可
能となる。 【００２７】尚、本発明の一実施例においては、真空処
理室１の前後方側にそれぞれ予備真空室２を配置した場
合について説明したが、第８図に示す如く真空処理室１
の前方側に予備真空室２を配置し、被処理物Ｆを真空処
理室１内に予備真空室２の第１のシールロールと第３の
シールロールとの間から送り込み、第２のシールロール
と第１のシールロールとの間から送り出すことも可能で
ある。 【００２８】このように予備真空室２を真空処理室１の
前方側に配置することにより、予備真空室２を構成する
シールロールの個数が半分にできるため、真空のもれ個
所が低減されると共に設置面積が少なくてすむ。 【００２９】 【発明の効果】本発明によれば、第１のシ−ルロ−ルが
固定支持され、第２，第３のシ−ルロ−ルも被処理物の
搬送時には固定支持とすることができるので、順次真空
引きするなどの操作が不要となり、操作が簡単で短時間
ですみ、生産性の大幅な向上が図れる。 【００３０】また、被処理物をシ−ルロ−ル間にセット
する際の作業も、シ−ルロ−ルは上記従来例のように浮
遊支持されているものでないから容易であり、この点か
らも生産性の向上が図れる。
物を表面処理をする真空処理装置に関する。 【０００２】 【従来の技術】従来、米国特許第３，１５８，５０７号
公報に記載されるように支持軸の径より大きな径の穴に
支持され穴内で上下、左右に移動可能であって回転自在
に支持された第１のシ−ルロ−ルと、位置が移動せず回
転自在に支持された第２，第３のシ−ルロ−ルとを備
え、第２のシ−ルロ−ルと第１のシ−ルロ−ルとの間及
び第３のシ−ルロ−ルと第１のシ−ルロ−ルとの間に真
空処理される被処理物を挾んで往復方向に搬送し、第２
のシ−ルロ−ルと第１のシ−ルロ−ルとの間及び第３の
シ−ルロ−ルと第１のシ−ルロ−ルとの間隔は前記被処
理物の厚さの変化に応じて、第１のシ−ルロ−ルが前記
穴内で移動するシ−ル構造の真空処理技術が開示されて
いる。 【０００３】 【発明が解決しようとする課題】上記技術では、第１の
シ−ルロ−ルが浮遊支持されているため、予備真空室を
形成するためには予備真空室を真空引きして第１のシ−
ルロ−ルを第２，第３のシ−ルロ−ルに接触させる必要
があるが、第１のシ−ルロ−ル前後の圧力差をうまくと
らないと、これは困難になり、予備真空室を形成できな
い。このため、予備真空室が複数個ある場合、真空処理
室に近い予備真空室から順次真空引きをするなどの操作
が必要であり、この操作が複雑で時間がかかり、生産性
の向上は望めない。 【０００４】また、第１のシ−ルロ−ルが浮遊支持され
る構造であるため、被処理物をシ−ルロ−ル間にセット
する際の作業もやりにくく、この点からも生産性向上は
困難である。 【０００５】本発明の目的は、生産性の向上を図れる真
空処理装置を提供することにある。 【０００６】 【課題を解決するための手段】上記目的は、真空処理室
の隣に予備真空室を少なくとも１個配置し、前記真空処
理室で被処理物を真空処理する真空処理装置において、
前記予備真空室は被処理物の搬送方向に、対向して配置
された第１，第２のシ−ルロ−ル群と、この第１，第２
のシ−ルロ−ル群を囲む手段と、前記第１，第２のシ−
ルロ−ル群と前記第１，第２のシ−ルロ−ル群を囲む手
段との間をシ−ルするシ−ル手段とを備え、前記第１，
第２のシ−ルロ−ル群はそれぞれ位置を固定して支持さ
れた第１のシ−ルロ−ルと、この第１のシ−ルロ−ルの
隣に配置され前記被処理物の搬送時には前記第１のシー
ルロールに対して位置を固定して支持される第２，第３
のシ−ルロ−ルで形成する３本一組のシ−ルロ−ルから
なるとともに、それぞれ第１のシ−ルロ−ルを基準に、
第２，第３のシ−ルロ−ルが被処理物の搬送方向と交差
する方向に配置されており、さらに、前記第１のシール
ロールに対して第２、第３のシールロールを押し付ける
方向及び離す方向に移動させる手段を備え、前記第２ま
たは第３のシ−ルロ−ルと第１のシ−ルロ−ルとの間を
通して被処理物を搬送し、前記真空処理において被処理
物を真空処理する、ことによって達成される。 【０００７】本発明によれば、第１のシ−ルロ−ルが固
定支持され、第２，第３のシ−ルロ−ルも被処理物の搬
送時には固定支持とすることができるので、順次真空引
きするなどの操作が不要となり、操作が簡単で短時間で
すみ、生産性の大幅な向上が図れる。 【０００８】また、被処理物をシ−ルロ−ル間にセット
する際の作業も、シ−ルロ−ルは上記従来例のように浮
遊支持されているものでないから容易であり、この点か
らも生産性の向上が図れる。 【０００９】 【発明の実施の形態】以下本発明の実施例を図面によっ
て説明する。 【００１０】図１及び図２において、１はプラスチック
成形品など可撓性の被処理物Ｆを真空状態で連続的にプ
ラズマ処理する真空処理室で、この真空処理室１内はこ
れに接続する真空ポンプ４により１０~2トール程度の真
空圧力に保持するように排気管５を介して真空排気され
る。また、この真空処理室１内には図示していないが、
真空状態でプラズマ処理を施すための陽極、陰極が内蔵
されている。２は真空処理室１の前方側に複数個配置さ
れる予備真空室、３は真空処理室１の後方側に配置され
る複数個の予備真空室で、これら予備真空室２、３内
は、これらに接続する真空ポンプ６により前記真空処理
室１内の真空圧力より若干高い程度の真空圧力に保持す
るように排気管７を介して真空排気される。 【００１１】図３及び図４はシールロール部横断面を示
すもので、８、９は両端側がハウジング１０にラジアル
軸受１１および偏心軸受ハウジング１２を介して回転自
在に、かつ上、下方向へ移動可能に支示されるシール用
の第２及び第３シールロールで、この第２及び第３のシ
ールロール８、９の表面には硬質ニッケルクロム層１３
が施されている。１４は前記第２及び第３のシールロー
ル８、９の隣りに配置され、かつ表面にゴム、フッソ樹
脂などの弾性材１５を一体的に焼着した第１のシールロ
ールで、この第１のシールロール１４は両端側が横ケー
ス１０にラジアル軸受１１及び固定軸受ハウジング１６
を介して回転自在に支持されている。 【００１２】１７は上ケ−ス１８に固定され、かつ第２
のシ−ルロ−ル８の外周面側に配設される上シ−ルロ−
ル支持受けで、この上シ−ルロ−ル支持受け１７の内周
面には第２のシ−ルロ−ル８のニッケルクロム層１３に
接する低摩擦係数のフッソ樹脂膜１９が焼着されてい
る。２０は下ケ−ス２１に固定され、かつ第３のシ−ル
ロ−ル９の外周面側に配設される下シ−ルロ−ル支持受
けで、この下シ−ルロ−ル支持受け２０の内周面には第
３のシ−ルロ−ル９の表面に接する低摩擦係数のフッソ
樹脂膜２２が焼着されている。 【００１３】第１、第２及び第３のシールロールが形成
する３本一組のシールロールでシールロール群を構成
し、このシールロール群を被処理物Ｆの搬送方向と直角
に２列すなわち第１、第２のシールロール群を並べるこ
とによって１個の予備真空室を構成する。したがって、
例えば３列にシールロール群を並べることによって２個
の相隣る予備真空室が構成される。 【００１４】図５は第２、第３及び第１のシールロール
８、９、１４および上、下ケース１８、２１の両端側と
横ケース１０、偏心軸受ハウジング１２との間に介在さ
れるサイドピース２３の取付状態を示したもので、サイ
ドピース２３の第２、第３及び第１のシールロール８、
９、１４の端面と対向する面には、低摩擦係数のフッソ
樹脂膜２４が焼着されており、このサイドピース２３は
ボルト２５を締付けることによりコイルバネ２６を介し
て横ケース１０に押付けられる。このとき、前記第２、
第３及び第１のシールロール８、９、１４の端面と対向
する面には、低摩擦係数のフッソ樹脂膜２４が焼着され
ており、このサイドピース２３はボルト２５を締付ける
ことによりコイルバネ２６を介して横ケース１０に押付
けられる。このとき、前記第２、第３及び第１のシール
ロール８、９、１４とサイドピース２３のフッソ樹脂膜
２４との間には２０μｍ程度の隙間が形成される。ま
た、サイドピース２３の押付力はサイドピース２３とボ
ルト２５との隙間Ｈによって規制される。 【００１５】図６は第２及び第３のシールロール８、９
を偏心軸受ハウジング１２により上、下方向へ移動させ
るための説明図である。偏心軸受ハウジング１２の中心
位置Ａは、第２及び第３のシールロール８、９の中心位
置Ｂに対し偏心（偏心量Ｃ）して設けられており、この
偏心軸受ハウジング１２は中心位置Ａを回転中心に図示
しない油圧シリンダ装置により図示矢印方向へ回動す
る。このとき、第２及び第３のシールロール８、９は上
方向または下方向へ、すなわち、第１のシールロール１
４に対して押付ける方向または第１のシールロール１４
から離れる方向へ移動する。したがって、偏心軸受ハウ
ジング１２の回動角を調整することにより、第２のシー
ルロール８と第１のシールロール１４または第３のシー
ルロール９と第１のシールロール１４との押圧力を任意
に変えることができると共に第３のシールロール９と第
１のシールロール１４の隙間への被処理物Ｆの挿入が容
易になる。 【００１６】図１及び図２にもどって、２７は被処理物
Ｆを予備真空室２を経て真空処理室へ移送する送り出し
装置、２８は真空処理室１内でプラズマ処理された被処
理物Ｆを巻き取る巻き取り装置、２９は駆動用モータ
で、この駆動用モータ２９の駆動力により回転軸３０お
よび動力分配機３１を介して予備真空室２、３の第２、
第３及び第１のシールロール８、９、１４を回転させ
る。 【００１７】上記のように構成される予備真空室２、３
において、第２のシールロール８と第１のシールロール
１４の間のシールは、第２のシールロール８を偏心軸受
ハウジング１２により第１のシールロール１４に対して
押しつけ、第１のシールロール１４の弾性材１５をたわ
ませることにより施される。同様に第３のシールロール
９と第１のシールロール１４の間のシールは、第３のシ
ールロール９を第１のシールロール１４に対して押しつ
け、中シールロール１４の弾性材１５をたわませること
により施される。また、第２のシールロール８と上シー
ルロール支持受けおよび第３のシールロール９と下シー
ルロール支持受け２０の間のシールは、両者間の隙間を
非常に小さく、例えば２０μｍ程度にすることにより可
能である。 【００１８】次に上述する真空処理装置の動作を説明す
る。 【００１９】先ず、真空ポンプ４、６を作動させること
により、真空処理室１内および予備真空室２、３内を真
空排気する。このとき、真空処理室１内の圧力は予備真
空室２、３内の圧力より低く保持される。また、真空処
理室１内には、プラズマ特性を良くするためのアルゴン
ガス、窒素ガスなどを通気する。次に予備真空室２、３
の第２、第３及び第１のシールロール８、９、１４を駆
動用モータ２９の駆動力により回転させると共に真空処
理室１のプラズマ装置を操作する。この状態で被処理物
Ｆは送り出し装置２７から予備真空室２の第３のシール
ロール９と第１のシールロール１４との間を経て真空処
理室１へ連続的に導入される。真空処理室１内では、陽
極と陰極間で発生するプラズマ放電により被処理物Ｆの
表面にプラズマ処理が施される。真空処理室１内のプラ
ズマ表面処理された被処理物Ｆは、直ちに予備真空室３
の第３のシールロール９と第１のシールロール１４との
間を経て巻きとり装置２８により巻き取られる。このよ
うに被処理物Ｆは予備真空室で良好なシール効果が得ら
れると共に真空処理室１内で短時間にプラズマ処理され
るため、プラスチック成形品などに含有している可塑剤
などの内部添加剤の揮発、逸散が制御されると共に、連
続的に被処理物Ｆが真空装置内に導入されるため空気等
の混入も少なく、目的とするガス、目的とする圧力で定
常的に処理可能であり、良好な改室特性を付与すること
が可能にする。 【００２０】また、表面がニッケルクロム層１３の第２
及び第３のシールロール８、９と表面が弾性材１５の第
１シールロール１４および前記第２及び第３のシールロ
ール８、９と表面がフッソ樹脂膜１９、２２の上、下シ
ールロール支持受け１７、２０は金属層と非金属層の摺
動でもあるため、摩擦力も小さく、長時間の運転にも十
分耐えられる。 【００２１】尚、上記実施例では第１のシールロールを
基準に、第２及び第３のシールロールを被処理物の搬送
方向と交差する方向に上、下に隣接して配置するもので
あるが、第１のシールロールを基準に第２及び第３のシ
ールロールを被処理物の搬送方向と交差する方向に水平
に隣接して配置しても同様の効果が得られる。 【００２２】図７は本発明における予備真空室のロール
とケースおよびロール間の軸方向シール手段の他の実施
例を示すものである。 【００２３】第７図において、第３図及び第４図と同一
符号のものは同一部分を示す。 【００２４】３２、３３は前記第２のシ−ルロ−ル８と
第３のシ−ルロ−ル９の一部と軸方向に沿って連続的に
隣接し、且つ上、下ケ−ス１８、２１に取外し可能に支
持されるウレタンゴムなどのリップ材で、このリップ材
３２、３３はリップシ−ル３４、３７とリップ取付台３
６、３５から成っている。 【００２５】このように第２のシールロール８、第３の
シールロール９の一部と接するようにリップ部材３２、
３３を配設することにより、ロールとケースおよびロー
ル間に軸方向の良好なシール効果を得ることはもちろ
ん、耐久性が向上する。 【００２６】また、リップ部材３２、３３を上、下ケー
スに取外し可能に支持させるため、たとえリップ部材が
摩擦力により使用不能になった場合でも容易に交換が可
能となる。 【００２７】尚、本発明の一実施例においては、真空処
理室１の前後方側にそれぞれ予備真空室２を配置した場
合について説明したが、第８図に示す如く真空処理室１
の前方側に予備真空室２を配置し、被処理物Ｆを真空処
理室１内に予備真空室２の第１のシールロールと第３の
シールロールとの間から送り込み、第２のシールロール
と第１のシールロールとの間から送り出すことも可能で
ある。 【００２８】このように予備真空室２を真空処理室１の
前方側に配置することにより、予備真空室２を構成する
シールロールの個数が半分にできるため、真空のもれ個
所が低減されると共に設置面積が少なくてすむ。 【００２９】 【発明の効果】本発明によれば、第１のシ−ルロ−ルが
固定支持され、第２，第３のシ−ルロ−ルも被処理物の
搬送時には固定支持とすることができるので、順次真空
引きするなどの操作が不要となり、操作が簡単で短時間
ですみ、生産性の大幅な向上が図れる。 【００３０】また、被処理物をシ−ルロ−ル間にセット
する際の作業も、シ−ルロ−ルは上記従来例のように浮
遊支持されているものでないから容易であり、この点か
らも生産性の向上が図れる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の一実施例の側面図である。
【図２】図１の実施例の平面図である。
【図３】図１の実施例のシールロール部横断面図であ
る。 【図４】図３のＡ−Ａ線矢視図である。 【図５】図３のシールロールの端面詳細図である。 【図６】図３のシールロールの偏心軸受詳細図である。 【図７】シールロールの他の実施例の横断面図である。 【図８】本発明の他の実施例の側面図である。 【符号の説明】 １…真空処理室、２、３…予備真空室、８…第２のシー
ルロール、９…第３のシールロール、１４…第１のシー
ルロール、Ｆ…被処理物。
る。 【図４】図３のＡ−Ａ線矢視図である。 【図５】図３のシールロールの端面詳細図である。 【図６】図３のシールロールの偏心軸受詳細図である。 【図７】シールロールの他の実施例の横断面図である。 【図８】本発明の他の実施例の側面図である。 【符号の説明】 １…真空処理室、２、３…予備真空室、８…第２のシー
ルロール、９…第３のシールロール、１４…第１のシー
ルロール、Ｆ…被処理物。
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フロントページの続き
(72)発明者 東海 正家
茨城県土浦市神立町603番地 株式会社
日立製作所 土浦工場内
(72)発明者 畑 慶忠
茨城県土浦市神立町603番地 株式会社
日立製作所 土浦工場内
(72)発明者 加藤 健一
東京都千代田区大手町二丁目６番２号
株式会社 日立製作所内
(56)参考文献 特許2635304（ＪＰ，Ｂ２)
特公 平２−19138（ＪＰ，Ｂ２)
特公 平６−86541（ＪＰ，Ｂ２)
(58)調査した分野(Int.Cl.6，ＤＢ名)
C23C 14/56
C08J 7/00 306
C23C 16/44
Claims (1)
- (57)【特許請求の範囲】 １．真空処理室の隣に予備真空室を少なくとも１個配置
し、前記真空処理室で被処理物を真空処理する真空処理
装置において、前記予備真空室は被処理物の搬送方向
に、対向して配置された第１，第２のシ−ルロ−ル群
と、この第１，第２のシ−ルロ−ル群を囲む手段と、前
記第１，第２のシ−ルロ−ル群と前記第１，第２のシ−
ルロ−ル群を囲む手段との間をシ−ルするシ−ル手段と
を備え、前記第１，第２のシ−ルロ−ル群はそれぞれ位
置を固定して支持された第１のシ−ルロ−ルと、この第
１のシ−ルロ−ルの隣に配置され前記被処理物の搬送時
には前記第１のシールロールに対して位置を固定して支
持される第２，第３のシ−ルロ−ルで形成する３本一組
のシ−ルロ−ルからなるとともに、それぞれ第１のシ−
ルロ−ルを基準に、第２，第３のシ−ルロ−ルが被処理
物の搬送方向と交差する方向に配置されており、さら
に、前記第１のシールロールに対して第２、第３のシー
ルロールを押し付ける方向及び離す方向に移動させる手
段を備え、前記第２または第３のシ−ルロ−ルと第１の
シ−ルロ−ルとの間を通して被処理物を搬送し、前記真
空処理において被処理物を真空処理することを特徴とす
る真空処理装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9003602A JP2821451B2 (ja) | 1997-01-13 | 1997-01-13 | 真空処理装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9003602A JP2821451B2 (ja) | 1997-01-13 | 1997-01-13 | 真空処理装置 |
Related Parent Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP26121795A Division JP2635304B2 (ja) | 1995-10-09 | 1995-10-09 | 真空処理方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH09324270A JPH09324270A (ja) | 1997-12-16 |
| JP2821451B2 true JP2821451B2 (ja) | 1998-11-05 |
Family
ID=11562048
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP9003602A Expired - Lifetime JP2821451B2 (ja) | 1997-01-13 | 1997-01-13 | 真空処理装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2821451B2 (ja) |
Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2635304B2 (ja) | 1995-10-09 | 1997-07-30 | 信越化学工業株式会社 | 真空処理方法 |
Family Cites Families (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0366017A (ja) * | 1989-08-04 | 1991-03-20 | Pioneer Electron Corp | ディジタル磁気記録・再生装置 |
-
1997
- 1997-01-13 JP JP9003602A patent/JP2821451B2/ja not_active Expired - Lifetime
Patent Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2635304B2 (ja) | 1995-10-09 | 1997-07-30 | 信越化学工業株式会社 | 真空処理方法 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH09324270A (ja) | 1997-12-16 |
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