JP2821451B2 - 真空処理装置 - Google Patents

真空処理装置

Info

Publication number
JP2821451B2
JP2821451B2 JP9003602A JP360297A JP2821451B2 JP 2821451 B2 JP2821451 B2 JP 2821451B2 JP 9003602 A JP9003602 A JP 9003602A JP 360297 A JP360297 A JP 360297A JP 2821451 B2 JP2821451 B2 JP 2821451B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
seal roll
seal
vacuum
roll
vacuum processing
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired - Lifetime
Application number
JP9003602A
Other languages
English (en)
Other versions
JPH09324270A (ja
Inventor
潔 今田
進 上野
秀明 鎌田
正家 東海
慶忠 畑
健一 加藤
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Shin Etsu Chemical Co Ltd
Hitachi Ltd
Original Assignee
Shin Etsu Chemical Co Ltd
Hitachi Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Shin Etsu Chemical Co Ltd, Hitachi Ltd filed Critical Shin Etsu Chemical Co Ltd
Priority to JP9003602A priority Critical patent/JP2821451B2/ja
Publication of JPH09324270A publication Critical patent/JPH09324270A/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP2821451B2 publication Critical patent/JP2821451B2/ja
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Lifetime legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Physical Or Chemical Processes And Apparatus (AREA)
  • Physical Vapour Deposition (AREA)
  • Chemical Vapour Deposition (AREA)
  • Treatments Of Macromolecular Shaped Articles (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】 【0001】 【発明の属する技術分野】本発明はフイルム状の被処理
物を表面処理をする真空処理装置に関する。 【0002】 【従来の技術】従来、米国特許第3,158,507号
公報に記載されるように支持軸の径より大きな径の穴に
支持され穴内で上下、左右に移動可能であって回転自在
に支持された第1のシ−ルロ−ルと、位置が移動せず回
転自在に支持された第2,第3のシ−ルロ−ルとを備
え、第2のシ−ルロ−ルと第1のシ−ルロ−ルとの間及
び第3のシ−ルロ−ルと第1のシ−ルロ−ルとの間に真
空処理される被処理物を挾んで往復方向に搬送し、第2
のシ−ルロ−ルと第1のシ−ルロ−ルとの間及び第3の
シ−ルロ−ルと第1のシ−ルロ−ルとの間隔は前記被処
理物の厚さの変化に応じて、第1のシ−ルロ−ルが前記
穴内で移動するシ−ル構造の真空処理技術が開示されて
いる。 【0003】 【発明が解決しようとする課題】上記技術では、第1の
シ−ルロ−ルが浮遊支持されているため、予備真空室を
形成するためには予備真空室を真空引きして第1のシ−
ルロ−ルを第2,第3のシ−ルロ−ルに接触させる必要
があるが、第1のシ−ルロ−ル前後の圧力差をうまくと
らないと、これは困難になり、予備真空室を形成できな
い。このため、予備真空室が複数個ある場合、真空処理
室に近い予備真空室から順次真空引きをするなどの操作
が必要であり、この操作が複雑で時間がかかり、生産性
の向上は望めない。 【0004】また、第1のシ−ルロ−ルが浮遊支持され
る構造であるため、被処理物をシ−ルロ−ル間にセット
する際の作業もやりにくく、この点からも生産性向上は
困難である。 【0005】本発明の目的は、生産性の向上を図れる真
空処理装置を提供することにある。 【0006】 【課題を解決するための手段】上記目的は、真空処理室
の隣に予備真空室を少なくとも1個配置し、前記真空処
理室で被処理物を真空処理する真空処理装置において、
前記予備真空室は被処理物の搬送方向に、対向して配置
された第1,第2のシ−ルロ−ル群と、この第1,第2
のシ−ルロ−ル群を囲む手段と、前記第1,第2のシ−
ルロ−ル群と前記第1,第2のシ−ルロ−ル群を囲む手
段との間をシ−ルするシ−ル手段とを備え、前記第1,
第2のシ−ルロ−ル群はそれぞれ位置を固定して支持さ
れた第1のシ−ルロ−ルと、この第1のシ−ルロ−ル
隣に配置され前記被処理物の搬送時には前記第1のシー
ルロールに対して位置を固定して支持される第2,第3
のシ−ルロ−ルで形成する3本一組のシ−ルロ−ルから
るとともに、それぞれ第1のシ−ルロ−ルを基準に、
第2,第3のシ−ルロ−ル被処理物の搬送方向と交差
する方向に配置されており、さらに、前記第1のシール
ロールに対して第2、第3のシールロールを押し付ける
方向及び離す方向に移動させる手段を備え、前記第2ま
たは第3のシ−ルロ−ルと第1のシ−ルロ−ルとの間を
通して被処理物を搬送し、前記真空処理において被処理
物を真空処理する、ことによって達成される。 【0007】本発明によれば、第1のシ−ルロ−ルが固
定支持され、第2,第3のシ−ルロ−ルも被処理物の搬
送時には固定支持とすることができるので、順次真空引
きするなどの操作が不要となり、操作が簡単で短時間で
すみ、生産性の大幅な向上が図れる。 【0008】また、被処理物をシ−ルロ−ル間にセット
する際の作業も、シ−ルロ−ルは上記従来例のように浮
遊支持されているものでないから容易であり、この点か
らも生産性の向上が図れる。 【0009】 【発明の実施の形態】以下本発明の実施例を図面によっ
て説明する。 【0010】図1及び図2において、1はプラスチック
成形品など可撓性の被処理物Fを真空状態で連続的にプ
ラズマ処理する真空処理室で、この真空処理室1内はこ
れに接続する真空ポンプ4により10~2トール程度の真
空圧力に保持するように排気管5を介して真空排気され
る。また、この真空処理室1内には図示していないが、
真空状態でプラズマ処理を施すための陽極、陰極が内蔵
されている。2は真空処理室1の前方側に複数個配置さ
れる予備真空室、3は真空処理室1の後方側に配置され
る複数個の予備真空室で、これら予備真空室2、3内
は、これらに接続する真空ポンプ6により前記真空処理
室1内の真空圧力より若干高い程度の真空圧力に保持す
るように排気管7を介して真空排気される。 【0011】図3及び図4はシールロール部横断面を示
すもので、8、9は両端側がハウジング10にラジアル
軸受11および偏心軸受ハウジング12を介して回転自
在に、かつ上、下方向へ移動可能に支示されるシール用
の第2及び第3シールロールで、この第2及び第3のシ
ールロール8、9の表面には硬質ニッケルクロム層13
が施されている。14は前記第2及び第3のシールロー
ル8、9の隣りに配置され、かつ表面にゴム、フッソ樹
脂などの弾性材15を一体的に焼着した第1のシールロ
ールで、この第1のシールロール14は両端側が横ケー
ス10にラジアル軸受11及び固定軸受ハウジング16
を介して回転自在に支持されている。 【0012】17は上ケ−ス18に固定され、かつ第2
のシ−ルロ−ル8の外周面側に配設される上シ−ルロ−
ル支持受けで、この上シ−ルロ−ル支受け17の内周
面には第2のシ−ルロ−ル8のニッケルクロム層13に
接する低摩擦係数のフッソ樹脂膜19が焼着されてい
る。20は下ケ−ス21に固定され、かつ第3のシ−ル
ロ−ル9の外周面側に配設される下シ−ルロ−ル支持受
けで、この下シ−ルロ−ル支持受け20の内周面には第
3のシ−ルロ−ル9の表面に接する低摩擦係数のフッソ
樹脂膜22が焼着されている。 【0013】第1、第2及び第3のシールロールが形成
する3本一組のシールロールでシールロール群を構成
し、このシールロール群を被処理物Fの搬送方向と直角
に2列すなわち第1、第2のシールロール群を並べるこ
とによって1個の予備真空室を構成する。したがって、
例えば3列にシールロール群を並べることによって2個
の相隣る予備真空室が構成される。 【0014】図5は第2、第3及び第1のシールロール
8、9、14および上、下ケース18、21の両端側と
横ケース10、偏心軸受ハウジング12との間に介在さ
れるサイドピース23の取付状態を示したもので、サイ
ドピース23の第2、第3及び第1のシールロール8、
9、14の端面と対向する面には、低摩擦係数のフッソ
樹脂膜24が焼着されており、このサイドピース23は
ボルト25を締付けることによりコイルバネ26を介し
て横ケース10に押付けられる。このとき、前記第2、
第3及び第1のシールロール8、9、14の端面と対向
する面には、低摩擦係数のフッソ樹脂膜24が焼着され
ており、このサイドピース23はボルト25を締付ける
ことによりコイルバネ26を介して横ケース10に押付
けられる。このとき、前記第2、第3及び第1のシール
ロール8、9、14とサイドピース23のフッソ樹脂膜
24との間には20μm程度の隙間が形成される。ま
た、サイドピース23の押付力はサイドピース23とボ
ルト25との隙間Hによって規制される。 【0015】図6は第2及び第3のシールロール8、9
を偏心軸受ハウジング12により上、下方向へ移動させ
るための説明図である。偏心軸受ハウジング12の中心
位置Aは、第2及び第3のシールロール8、9の中心位
置Bに対し偏心(偏心量C)して設けられており、この
偏心軸受ハウジング12は中心位置Aを回転中心に図示
しない油圧シリンダ装置により図示矢印方向へ回動す
る。このとき、第2及び第3のシールロール8、9は上
方向または下方向へ、すなわち、第1のシールロール1
4に対して押付ける方向または第1のシールロール14
から離れる方向へ移動する。したがって、偏心軸受ハウ
ジング12の回動角を調整することにより、第2のシー
ルロール8と第1のシールロール14または第3のシー
ルロール9と第1のシールロール14との押圧力を任意
に変えることができると共に第3のシールロール9と第
1のシールロール14の隙間への被処理物Fの挿入が容
易になる。 【0016】図1及び図2にもどって、27は被処理物
Fを予備真空室2を経て真空処理室へ移送する送り出し
装置、28は真空処理室1内でプラズマ処理された被処
理物Fを巻き取る巻き取り装置、29は駆動用モータ
で、この駆動用モータ29の駆動力により回転軸30お
よび動力分配機31を介して予備真空室2、3の第2、
第3及び第1のシールロール8、9、14を回転させ
る。 【0017】上記のように構成される予備真空室2、3
において、第2のシールロール8と第1のシールロール
14の間のシールは、第2のシールロール8を偏心軸受
ハウジング12により第1のシールロール14に対して
押しつけ、第1のシールロール14の弾性材15をたわ
ませることにより施される。同様に第3のシールロール
9と第1のシールロール14の間のシールは、第3のシ
ールロール9を第1のシールロール14に対して押しつ
け、中シールロール14の弾性材15をたわませること
により施される。また、第2のシールロール8と上シー
ルロール支持受けおよび第3のシールロール9と下シー
ルロール支持受け20の間のシールは、両者間の隙間を
非常に小さく、例えば20μm程度にすることにより可
能である。 【0018】次に上述する真空処理装置の動作を説明す
る。 【0019】先ず、真空ポンプ4、6を作動させること
により、真空処理室1内および予備真空室2、3内を真
空排気する。このとき、真空処理室1内の圧力は予備真
空室2、3内の圧力より低く保持される。また、真空処
理室1内には、プラズマ特性を良くするためのアルゴン
ガス、窒素ガスなどを通気する。次に予備真空室2、3
の第2、第3及び第1のシールロール8、9、14を駆
動用モータ29の駆動力により回転させると共に真空処
理室1のプラズマ装置を操作する。この状態で被処理物
Fは送り出し装置27から予備真空室2の第3のシール
ロール9と第1のシールロール14との間を経て真空処
理室1へ連続的に導入される。真空処理室1内では、陽
極と陰極間で発生するプラズマ放電により被処理物Fの
表面にプラズマ処理が施される。真空処理室1内のプラ
ズマ表面処理された被処理物Fは、直ちに予備真空室3
の第3のシールロール9と第1のシールロール14との
間を経て巻きとり装置28により巻き取られる。このよ
うに被処理物Fは予備真空室で良好なシール効果が得ら
れると共に真空処理室1内で短時間にプラズマ処理され
るため、プラスチック成形品などに含有している可塑剤
などの内部添加剤の揮発、逸散が制御されると共に、連
続的に被処理物Fが真空装置内に導入されるため空気等
の混入も少なく、目的とするガス、目的とする圧力で定
常的に処理可能であり、良好な改室特性を付与すること
が可能にする。 【0020】また、表面がニッケルクロム層13の第2
及び第3のシールロール8、9と表面が弾性材15の第
1シールロール14および前記第2及び第3のシールロ
ール8、9と表面がフッソ樹脂膜19、22の上、下シ
ールロール支持受け17、20は金属層と非金属層の摺
動でもあるため、摩擦力も小さく、長時間の運転にも十
分耐えられる。 【0021】尚、上記実施例では第1のシールロールを
基準に、第2及び第3のシールロールを被処理物の搬送
方向と交差する方向に上、下に隣接して配置するもので
あるが、第1のシールロールを基準に第2及び第3のシ
ールロールを被処理物の搬送方向と交差する方向に水平
に隣接して配置しても同様の効果が得られる。 【0022】図7は本発明における予備真空室のロール
とケースおよびロール間の軸方向シール手段の他の実施
例を示すものである。 【0023】第7図において、第3図及び第4図と同一
符号のものは同一部分を示す。 【0024】32、33は前記第2のシ−ルロ−ル8と
第3のシ−ルロ−ル9の一部と軸方向に沿って連続的に
隣接し、且つ上、下ケ−ス18、21に取外し可能に支
持されるウレタンゴムなどのリップ材で、このリップ材
32、33はリップシ−ル34、37とリップ取付台3
6、35から成っている。 【0025】このように第2のシールロール8、第3の
シールロール9の一部と接するようにリップ部材32、
33を配設することにより、ロールとケースおよびロー
ル間に軸方向の良好なシール効果を得ることはもちろ
ん、耐久性が向上する。 【0026】また、リップ部材32、33を上、下ケー
スに取外し可能に支持させるため、たとえリップ部材が
摩擦力により使用不能になった場合でも容易に交換が可
能となる。 【0027】尚、本発明の一実施例においては、真空処
理室1の前後方側にそれぞれ予備真空室2を配置した場
合について説明したが、第8図に示す如く真空処理室1
の前方側に予備真空室2を配置し、被処理物Fを真空処
理室1内に予備真空室2の第1のシールロールと第3の
シールロールとの間から送り込み、第2のシールロール
と第1のシールロールとの間から送り出すことも可能で
ある。 【0028】このように予備真空室2を真空処理室1の
前方側に配置することにより、予備真空室2を構成する
シールロールの個数が半分にできるため、真空のもれ個
所が低減されると共に設置面積が少なくてすむ。 【0029】 【発明の効果】本発明によれば、第1のシ−ルロ−ルが
固定支持され、第2,第3のシ−ルロ−ルも被処理物の
搬送時には固定支持とすることができるので、順次真空
引きするなどの操作が不要となり、操作が簡単で短時間
ですみ、生産性の大幅な向上が図れる。 【0030】また、被処理物をシ−ルロ−ル間にセット
する際の作業も、シ−ルロ−ルは上記従来例のように浮
遊支持されているものでないから容易であり、この点か
らも生産性の向上が図れる。
【図面の簡単な説明】 【図1】本発明の一実施例の側面図である。 【図2】図1の実施例の平面図である。 【図3】図1の実施例のシールロール部横断面図であ
る。 【図4】図3のA−A線矢視図である。 【図5】図3のシールロールの端面詳細図である。 【図6】図3のシールロールの偏心軸受詳細図である。 【図7】シールロールの他の実施例の横断面図である。 【図8】本発明の他の実施例の側面図である。 【符号の説明】 1…真空処理室、2、3…予備真空室、8…第2のシー
ルロール、9…第3のシールロール、14…第1のシー
ルロール、F…被処理物。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 東海 正家 茨城県土浦市神立町603番地 株式会社 日立製作所 土浦工場内 (72)発明者 畑 慶忠 茨城県土浦市神立町603番地 株式会社 日立製作所 土浦工場内 (72)発明者 加藤 健一 東京都千代田区大手町二丁目6番2号 株式会社 日立製作所内 (56)参考文献 特許2635304(JP,B2) 特公 平2−19138(JP,B2) 特公 平6−86541(JP,B2) (58)調査した分野(Int.Cl.6,DB名) C23C 14/56 C08J 7/00 306 C23C 16/44

Claims (1)

  1. (57)【特許請求の範囲】 1.真空処理室の隣に予備真空室を少なくとも1個配置
    し、前記真空処理室で被処理物を真空処理する真空処理
    装置において、前記予備真空室は被処理物の搬送方向
    に、対向して配置された第1,第2のシ−ルロ−ル群
    と、この第1,第2のシ−ルロ−ル群を囲む手段と、前
    記第1,第2のシ−ルロ−ル群と前記第1,第2のシ−
    ルロ−ル群を囲む手段との間をシ−ルするシ−ル手段
    を備え、前記第1,第2のシ−ルロ−ル群はそれぞれ位
    置を固定して支持された第1のシ−ルロ−ルと、この第
    1のシ−ルロ−ルの隣に配置され前記被処理物の搬送時
    には前記第1のシールロールに対して位置を固定して支
    持される第2,第3のシ−ルロ−ルで形成する3本一組
    のシ−ルロ−ルからなるとともに、それぞれ第1のシ−
    ルロ−ルを基準に、第2,第3のシ−ルロ−ル被処理
    物の搬送方向と交差する方向に配置されており、さら
    に、前記第1のシールロールに対して第2、第3のシー
    ルロールを押し付ける方向及び離す方向に移動させる手
    段を備え、前記第2または第3のシ−ルロ−ルと第1の
    シ−ルロ−ルとの間を通して被処理物を搬送し、前記真
    空処理において被処理物を真空処理することを特徴とす
    る真空処理装置。
JP9003602A 1997-01-13 1997-01-13 真空処理装置 Expired - Lifetime JP2821451B2 (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP9003602A JP2821451B2 (ja) 1997-01-13 1997-01-13 真空処理装置

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP9003602A JP2821451B2 (ja) 1997-01-13 1997-01-13 真空処理装置

Related Parent Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP26121795A Division JP2635304B2 (ja) 1995-10-09 1995-10-09 真空処理方法

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPH09324270A JPH09324270A (ja) 1997-12-16
JP2821451B2 true JP2821451B2 (ja) 1998-11-05

Family

ID=11562048

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP9003602A Expired - Lifetime JP2821451B2 (ja) 1997-01-13 1997-01-13 真空処理装置

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP2821451B2 (ja)

Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2635304B2 (ja) 1995-10-09 1997-07-30 信越化学工業株式会社 真空処理方法

Family Cites Families (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0366017A (ja) * 1989-08-04 1991-03-20 Pioneer Electron Corp ディジタル磁気記録・再生装置

Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2635304B2 (ja) 1995-10-09 1997-07-30 信越化学工業株式会社 真空処理方法

Also Published As

Publication number Publication date
JPH09324270A (ja) 1997-12-16

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US4551310A (en) Continuous vacuum treating apparatus
US4501428A (en) Roll seal boxes for continuous vacuum treating apparatus
JP2016519213A5 (ja)
US4812101A (en) Method and apparatus for continuous throughput in a vacuum environment
JP2821451B2 (ja) 真空処理装置
JPH09256158A (ja) 連続真空処理装置
JP2635304B2 (ja) 真空処理方法
GB2084264A (en) Continuous vacuum treating apparatus
JPH0686541B2 (ja) 真空処理装置
JPS6153377B2 (ja)
JPH0453577B2 (ja)
JPH0219138B2 (ja)
US4249846A (en) Rotary vacuum seal for a wafer transport system
JPS6236430A (ja) 真空連続処理装置
JPS61157535A (ja) 真空連続処理装置
JPH0153293B2 (ja)
JPH0358374B2 (ja)
JPS60944A (ja) 真空連続処理装置
JP3659308B2 (ja) 静圧流体軸受
JP2003042298A (ja) シール装置
JPS60942A (ja) 真空連続処理装置
JPS6365093B2 (ja)
JPH02301563A (ja) シーリングロール装置
JP2003053466A (ja) 輪体のローリング成形装置
JPS63210274A (ja) ロ−ル端面における真空シ−ル装置