JPH09256158A - 連続真空処理装置 - Google Patents
連続真空処理装置Info
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- JPH09256158A JPH09256158A JP8061021A JP6102196A JPH09256158A JP H09256158 A JPH09256158 A JP H09256158A JP 8061021 A JP8061021 A JP 8061021A JP 6102196 A JP6102196 A JP 6102196A JP H09256158 A JPH09256158 A JP H09256158A
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- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/22—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
- C23C14/24—Vacuum evaporation
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/22—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
- C23C14/56—Apparatus specially adapted for continuous coating; Arrangements for maintaining the vacuum, e.g. vacuum locks
- C23C14/562—Apparatus specially adapted for continuous coating; Arrangements for maintaining the vacuum, e.g. vacuum locks for coating elongated substrates
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
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- C23C14/54—Controlling or regulating the coating process
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- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J2237/00—Discharge tubes exposing object to beam, e.g. for analysis treatment, etching, imaging
- H01J2237/18—Vacuum control means
- H01J2237/184—Vacuum locks
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- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
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- Materials Engineering (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Metallurgy (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Physical Vapour Deposition (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 被処理物がテーピングされた走行フィルムを
連続真空処理できかつコンパクトで簡単な構成の連続真
空処理装置を提供する。 【解決手段】 走行フィルム１を挟持してシールする帯
状部分に弾性体を有して真空シールを行なうゲートバル
ブ２０とフィルム送り手段３０と真空排気手段とを備え
た減圧室６〜９を、真空処理室１１、１２の前後にそれ
ぞれ２室以上配設して成り、各減圧室６〜９において帯
状のゲートバルブ構造により真空洩れ量を極めて小さく
し、それを真空処理室１１、１２の前後に２室以上配設
することにより真空処理に必要な真空圧を確保し、走行
フィルム１の送り時には前段と後段のゲートバルブ２０
を必ず交互に真空排気後に開閉するようにした。
連続真空処理できかつコンパクトで簡単な構成の連続真
空処理装置を提供する。 【解決手段】 走行フィルム１を挟持してシールする帯
状部分に弾性体を有して真空シールを行なうゲートバル
ブ２０とフィルム送り手段３０と真空排気手段とを備え
た減圧室６〜９を、真空処理室１１、１２の前後にそれ
ぞれ２室以上配設して成り、各減圧室６〜９において帯
状のゲートバルブ構造により真空洩れ量を極めて小さく
し、それを真空処理室１１、１２の前後に２室以上配設
することにより真空処理に必要な真空圧を確保し、走行
フィルム１の送り時には前段と後段のゲートバルブ２０
を必ず交互に真空排気後に開閉するようにした。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、例えばセラミック
発振素子などの被処理物を連続成膜生産するための連続
真空処理装置に関するものである。
発振素子などの被処理物を連続成膜生産するための連続
真空処理装置に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】従来、セラミック発振素子などの被処理
物はバッジ式の電極成膜方式によって生産されていた
が、量産性が低く、生産性が悪いという問題があった。
物はバッジ式の電極成膜方式によって生産されていた
が、量産性が低く、生産性が悪いという問題があった。
【０００３】一方、フィルム状のものに対して連続的に
真空処理を行なう方法は生産性が良く、数多く提案され
ている。例えば、特開平６−８８２３５号公報に開示さ
れているように、主に長尺薄鋼板を多数のシールローラ
で押え込み、多段の真空差圧装置によって連続真空処理
を行なっている。
真空処理を行なう方法は生産性が良く、数多く提案され
ている。例えば、特開平６−８８２３５号公報に開示さ
れているように、主に長尺薄鋼板を多数のシールローラ
で押え込み、多段の真空差圧装置によって連続真空処理
を行なっている。
【０００４】以下、図１１を参照して従来の連続真空処
理装置の一例について説明する。図１１において、７１
は走行フィルム、７２は払出リール、７３は巻取リー
ル、７４はガイドロールである。７５は真空シール装置
で、ケーシング７６、シールロール７７、及びシールバ
ー７８〜８３によって構成されている。そして、シール
ロール７７とシールバー７８〜８３によって第１段〜第
５段の減圧室８４〜８８に区切られるとともに、真空配
管８９によって真空排気ユニット９０に接続されて段階
的に減圧される。９１は蒸着室、９２は冷却ロール、９
３は蒸着装置である。
理装置の一例について説明する。図１１において、７１
は走行フィルム、７２は払出リール、７３は巻取リー
ル、７４はガイドロールである。７５は真空シール装置
で、ケーシング７６、シールロール７７、及びシールバ
ー７８〜８３によって構成されている。そして、シール
ロール７７とシールバー７８〜８３によって第１段〜第
５段の減圧室８４〜８８に区切られるとともに、真空配
管８９によって真空排気ユニット９０に接続されて段階
的に減圧される。９１は蒸着室、９２は冷却ロール、９
３は蒸着装置である。
【０００５】以上のように構成された連続真空処理装置
の動作について説明する。走行フィルム７１は払出リー
ル７２から払い出された後、ガイドロール７４、真空シ
ール装置７５を経て真空処理する蒸着室９１内に導入さ
れ、内部に設置された冷却ロール９２に巻付けられて走
行しながら蒸着装置９３で蒸着され、その後再び真空シ
ール装置７５を経て大気中へ搬出され、ガイドロール７
４を介して巻取リール７３によって巻き取られる。
の動作について説明する。走行フィルム７１は払出リー
ル７２から払い出された後、ガイドロール７４、真空シ
ール装置７５を経て真空処理する蒸着室９１内に導入さ
れ、内部に設置された冷却ロール９２に巻付けられて走
行しながら蒸着装置９３で蒸着され、その後再び真空シ
ール装置７５を経て大気中へ搬出され、ガイドロール７
４を介して巻取リール７３によって巻き取られる。
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】上記従来の装置では、
走行フィルムを高速搬送させることが可能で、生産性向
上に非常に有効であるが、本発明対象のように走行フィ
ルム上に個別片の被処理物がテーピングされているよう
な場合には、次のような問題点がある。
走行フィルムを高速搬送させることが可能で、生産性向
上に非常に有効であるが、本発明対象のように走行フィ
ルム上に個別片の被処理物がテーピングされているよう
な場合には、次のような問題点がある。
【０００７】（１）走行フィルムの厚みが被処理物の有
る所と無い所とで異なり、かつ被処理物自身の厚みも品
種により異なり、その場合真空シールする隙間が大きく
なって減圧が十分にできない。
る所と無い所とで異なり、かつ被処理物自身の厚みも品
種により異なり、その場合真空シールする隙間が大きく
なって減圧が十分にできない。
【０００８】（２）多数のローラによって構成されてい
るため、装置の構造、特にシール構造が複雑である。
るため、装置の構造、特にシール構造が複雑である。
【０００９】（３）従って、装置全体や真空排気ユニッ
トの容積が大きくなる。
トの容積が大きくなる。
【００１０】本発明は、上記従来装置の問題点に鑑み、
走行フィルム上に被処理物がテーピングされている場合
にも十分に減圧することができ、かつコンパクトで簡単
な構成の連続真空処理装置を提供することを目的とす
る。
走行フィルム上に被処理物がテーピングされている場合
にも十分に減圧することができ、かつコンパクトで簡単
な構成の連続真空処理装置を提供することを目的とす
る。
【００１１】
【課題を解決するための手段】本発明の連続真空処理装
置は、走行フィルムにテーピングされた被処理物に対
し、連続的に真空処理する連続真空処理装置において、
走行フィルムを挟持してシールする帯状部分に弾性体を
有して真空シールを行なうゲートバルブと走行フィルム
の送り手段と真空排気手段とを備えた減圧室を、真空処
理室の前後にそれぞれ２室以上配設して成り、各減圧室
において帯状のゲートバルブ構造により真空洩れ量を極
めて小さくし、それを真空処理室の前後に２室以上配設
することにより真空処理に必要な真空圧を確保し、走行
フィルムは減圧室の送り手段を用いて行なうとともにそ
の送り時には前段と後段のゲートバルブを必ず交互に真
空排気後に開閉することにより高い真空が維持されるよ
うにしている。
置は、走行フィルムにテーピングされた被処理物に対
し、連続的に真空処理する連続真空処理装置において、
走行フィルムを挟持してシールする帯状部分に弾性体を
有して真空シールを行なうゲートバルブと走行フィルム
の送り手段と真空排気手段とを備えた減圧室を、真空処
理室の前後にそれぞれ２室以上配設して成り、各減圧室
において帯状のゲートバルブ構造により真空洩れ量を極
めて小さくし、それを真空処理室の前後に２室以上配設
することにより真空処理に必要な真空圧を確保し、走行
フィルムは減圧室の送り手段を用いて行なうとともにそ
の送り時には前段と後段のゲートバルブを必ず交互に真
空排気後に開閉することにより高い真空が維持されるよ
うにしている。
【００１２】また、ゲートバルブを、加圧流体を導入可
能な加圧空間が内部に形成されたシール用の弾性体を走
行フィルムの走行通路に臨むように配設した構成とする
と、加圧流体の給排によって簡単に開閉することができ
る。
能な加圧空間が内部に形成されたシール用の弾性体を走
行フィルムの走行通路に臨むように配設した構成とする
と、加圧流体の給排によって簡単に開閉することができ
る。
【００１３】また、ゲートバルブを、走行フィルムの走
行通路が走行フィルムの入口側の一側部を貫通するとと
もに他側部ではその上面を通りかつ一側部と他側部との
間に傾斜突出部が形成された下部バルブ体と、下部バル
ブ体に対して上下駆動可能でかつその下面が下部バルブ
体の他側部と傾斜突出部の上面に対向する上部バルブ体
と、上部バルブ体の下面に配設された弾性体にて構成す
ると、上部バルブ体の上下動によって開閉することがで
き、かつ下部バルブ体の一側面をシールすることで上部
バルブ体と下部バルブ体の間のシールを確保することが
できる。
行通路が走行フィルムの入口側の一側部を貫通するとと
もに他側部ではその上面を通りかつ一側部と他側部との
間に傾斜突出部が形成された下部バルブ体と、下部バル
ブ体に対して上下駆動可能でかつその下面が下部バルブ
体の他側部と傾斜突出部の上面に対向する上部バルブ体
と、上部バルブ体の下面に配設された弾性体にて構成す
ると、上部バルブ体の上下動によって開閉することがで
き、かつ下部バルブ体の一側面をシールすることで上部
バルブ体と下部バルブ体の間のシールを確保することが
できる。
【００１４】また、弾性体の走行通路に臨む面に、走行
フィルムにテーピングされた被処理物間の間隔よりも幅
の狭い凸部を突設すると、凸部を被処理物間に嵌入させ
てシールすることができ、被処理物に加圧力を作用させ
ずにシールできる。
フィルムにテーピングされた被処理物間の間隔よりも幅
の狭い凸部を突設すると、凸部を被処理物間に嵌入させ
てシールすることができ、被処理物に加圧力を作用させ
ずにシールできる。
【００１５】また、真空処理室を複数備えると、走行フ
ィルムに貼付けられた被処理物の表裏を順次真空処理す
ることができ、さらに真空処理室に複数のスパッタ処理
装置を備えると、複数層の処理を一度に行なうことがで
きる。
ィルムに貼付けられた被処理物の表裏を順次真空処理す
ることができ、さらに真空処理室に複数のスパッタ処理
装置を備えると、複数層の処理を一度に行なうことがで
きる。
【００１６】
【発明の実施の形態】以下、本発明の連続真空処理装置
の一実施形態について図１〜図７を参照して説明する。
の一実施形態について図１〜図７を参照して説明する。
【００１７】図１において、１は走行フィルムであり、
図２〜図４にその具体構成の詳細を示す。走行フィルム
１には、図２に示すように、その両側に送り用の穴１ａ
が一定ピッチＰ毎に設けられ、中央部に被処理物２が嵌
まる穴１ｂが設けられている。そして、図３、図４に示
すように、被処理物２はマスキングテープ３により走行
フィルム１にテーピングされている。
図２〜図４にその具体構成の詳細を示す。走行フィルム
１には、図２に示すように、その両側に送り用の穴１ａ
が一定ピッチＰ毎に設けられ、中央部に被処理物２が嵌
まる穴１ｂが設けられている。そして、図３、図４に示
すように、被処理物２はマスキングテープ３により走行
フィルム１にテーピングされている。
【００１８】図１に戻って、走行フィルム１は払出しリ
ール（図示せず）からガイドロール４を介して連続真空
処理装置５に導かれる。連続真空処理装置５は、入口側
の第１と第２の減圧室６、７と、出口側の第１と第２の
減圧室８、９と、第１と第２の真空処理室１１、１２に
て構成されている。連続真空処理装置５から出た走行フ
ィルム１は送りロール１０を介して巻取りリール（図示
せず）に巻き取られ、後工程に送られる。
ール（図示せず）からガイドロール４を介して連続真空
処理装置５に導かれる。連続真空処理装置５は、入口側
の第１と第２の減圧室６、７と、出口側の第１と第２の
減圧室８、９と、第１と第２の真空処理室１１、１２に
て構成されている。連続真空処理装置５から出た走行フ
ィルム１は送りロール１０を介して巻取りリール（図示
せず）に巻き取られ、後工程に送られる。
【００１９】各減圧室６〜９は実質的に同一構成で、ゲ
ートバルブ２０とフィルム送り手段３０を備え、かつ後
述の真空排気ユニットが接続されている。ゲートバルブ
２０は、図５、図６に示すように、バルブケース２１に
平面形状が細長い長方形状で上面開放のバルブ室２２が
形成されるとともにその上面が蓋体２３にて密閉され、
かつバルブ室２２の底面部に走行フィルム１を走行させ
る走行通路２４がバルブケース２１を貫通するように形
成されており、バルブ室２２には内部に加圧空間２６を
形成した軟質ゴムから成るシール用弾性体２５が配設さ
れ、圧縮空気を加圧空間２６に導入することにより走行
通路２４に走行フィルム１が貫通している状態でシール
用弾性体２５にてシールするように構成されている。２
７は圧縮空気導入管、２８は加圧空間２６における走行
通路２５とは反対側面に配設した背面板である。２９は
シール用弾性体２５の上部を蓋体２３に固定する押さえ
部材である。
ートバルブ２０とフィルム送り手段３０を備え、かつ後
述の真空排気ユニットが接続されている。ゲートバルブ
２０は、図５、図６に示すように、バルブケース２１に
平面形状が細長い長方形状で上面開放のバルブ室２２が
形成されるとともにその上面が蓋体２３にて密閉され、
かつバルブ室２２の底面部に走行フィルム１を走行させ
る走行通路２４がバルブケース２１を貫通するように形
成されており、バルブ室２２には内部に加圧空間２６を
形成した軟質ゴムから成るシール用弾性体２５が配設さ
れ、圧縮空気を加圧空間２６に導入することにより走行
通路２４に走行フィルム１が貫通している状態でシール
用弾性体２５にてシールするように構成されている。２
７は圧縮空気導入管、２８は加圧空間２６における走行
通路２５とは反対側面に配設した背面板である。２９は
シール用弾性体２５の上部を蓋体２３に固定する押さえ
部材である。
【００２０】フィルム送り手段３０は、フィルム送りロ
ール３１とガイドロール３２とそれらの間の間欠送り用
の送り吸収空間３３とを備えている。フィルム送りロー
ラ３１にはフィルム送り穴１ａに係合するピン（図示せ
ず）が設けられ、送り駆動装置（図示せず）に連結され
ている。
ール３１とガイドロール３２とそれらの間の間欠送り用
の送り吸収空間３３とを備えている。フィルム送りロー
ラ３１にはフィルム送り穴１ａに係合するピン（図示せ
ず）が設けられ、送り駆動装置（図示せず）に連結され
ている。
【００２１】第１と第２の真空処理室１１、１２は同一
構成で、全体架台４０上に設置されている。４１はケー
シング、４２は冷却ロール、４３はスパッタ室である。
スパッタ室４３はケーシング４１に固定されていて、Ｏ
リング（図示せず）にてシールされている。スパッタ室
４３には走行フィルム１の裏面又は表面に異種材料を２
層スパッタできるようにスパッタ装置４４、４５が設け
られている。４６はケーシング４１の入口部及び出口部
に配設されたガイドロールで、走行フィルム１を冷却ロ
ール４２又は出口側の第１の減圧室８に案内する。
構成で、全体架台４０上に設置されている。４１はケー
シング、４２は冷却ロール、４３はスパッタ室である。
スパッタ室４３はケーシング４１に固定されていて、Ｏ
リング（図示せず）にてシールされている。スパッタ室
４３には走行フィルム１の裏面又は表面に異種材料を２
層スパッタできるようにスパッタ装置４４、４５が設け
られている。４６はケーシング４１の入口部及び出口部
に配設されたガイドロールで、走行フィルム１を冷却ロ
ール４２又は出口側の第１の減圧室８に案内する。
【００２２】これら真空処理室１１、１２において連続
真空処理のために、冷却ロール４２と出口側の第１の減
圧室８のフィルム送りロール３１は、一定の周速で同期
して連続回転するように駆動装置（図示せず）に連結さ
れている。一方、走行フィルム１を各減圧室６、７、９
に送り込むフィルム送りロール３１及び減圧室９から送
り出すための送りロール１０は、減圧室８の送りロール
３１よりも速い速度で間欠駆動制御されている。
真空処理のために、冷却ロール４２と出口側の第１の減
圧室８のフィルム送りロール３１は、一定の周速で同期
して連続回転するように駆動装置（図示せず）に連結さ
れている。一方、走行フィルム１を各減圧室６、７、９
に送り込むフィルム送りロール３１及び減圧室９から送
り出すための送りロール１０は、減圧室８の送りロール
３１よりも速い速度で間欠駆動制御されている。
【００２３】図７に示す空圧排気回路について説明する
と、５１は圧縮空気ユニット、５２、５３は真空排気ユ
ニット、５４はスパッタガスボンベ、５５は制御バル
ブ、５６〜５９はそれぞれ配管を示す。真空排気ユニッ
ト５２から真空排気ユニット５３を区分したのはスパッ
タ処理用に質の高い真空を得る意味を表したものであ
る。ゲートバルブ２０への配管は制御バルブ５５を介し
て圧縮空気ユニット５１と真空排気ユニット５２に接続
され、シール用弾性体２５が確実に膨張・収縮するよう
に構成されている。
と、５１は圧縮空気ユニット、５２、５３は真空排気ユ
ニット、５４はスパッタガスボンベ、５５は制御バル
ブ、５６〜５９はそれぞれ配管を示す。真空排気ユニッ
ト５２から真空排気ユニット５３を区分したのはスパッ
タ処理用に質の高い真空を得る意味を表したものであ
る。ゲートバルブ２０への配管は制御バルブ５５を介し
て圧縮空気ユニット５１と真空排気ユニット５２に接続
され、シール用弾性体２５が確実に膨張・収縮するよう
に構成されている。
【００２４】以上の構成において、走行フィルム１はま
ず入口側の第１の減圧室６のフィルム送りロール３１に
て一定量送り込まれる。その際、この減圧室６のゲート
バルブ２０は、図５に示すように、その走行通路２４を
開放している。一方、第２の減圧室７のゲートバルブ２
０においては、図６に示すように、シール用弾性体２５
にて走行フィルム１を押さえ込んでその走行通路２４を
閉じている。第１の減圧室６への走行フィルム１の一定
量の送り込みが完了すると、図６に示すように、第１の
減圧室６のゲートバルブ２０のシール用弾性体２５にて
走行フィルム１を押さえ込んでその走行通路２４を閉
じ、第１の減圧室６を真空排気する。
ず入口側の第１の減圧室６のフィルム送りロール３１に
て一定量送り込まれる。その際、この減圧室６のゲート
バルブ２０は、図５に示すように、その走行通路２４を
開放している。一方、第２の減圧室７のゲートバルブ２
０においては、図６に示すように、シール用弾性体２５
にて走行フィルム１を押さえ込んでその走行通路２４を
閉じている。第１の減圧室６への走行フィルム１の一定
量の送り込みが完了すると、図６に示すように、第１の
減圧室６のゲートバルブ２０のシール用弾性体２５にて
走行フィルム１を押さえ込んでその走行通路２４を閉
じ、第１の減圧室６を真空排気する。
【００２５】次に、入口側の第２の減圧室７のゲートバ
ルブ２０が開かれてそのフィルム送りロール３１にて第
２の減圧室７に走行フィルム１が一定量送り込まれ、送
り込み完了後、そのゲートバルブ２０が閉じられて、入
口側の一連の送り込みサイクルは完了する。その後次の
サイクルに入り、第１の減圧室６はリークバルブ（図示
せず）により大気圧に戻され、この第１の減圧室６のケ
ートバルブ２０が開かれて次の一定量の走行フィルム１
が送り込まれる。
ルブ２０が開かれてそのフィルム送りロール３１にて第
２の減圧室７に走行フィルム１が一定量送り込まれ、送
り込み完了後、そのゲートバルブ２０が閉じられて、入
口側の一連の送り込みサイクルは完了する。その後次の
サイクルに入り、第１の減圧室６はリークバルブ（図示
せず）により大気圧に戻され、この第１の減圧室６のケ
ートバルブ２０が開かれて次の一定量の走行フィルム１
が送り込まれる。
【００２６】次に、第１、第２の真空処理室１１、１２
における動作を説明すると、走行フィルム１はガイドロ
ール４６を介して冷却ロール４２に巻回されて走行し、
その間に第１の真空処理室１１のスパッタ室４３では、
スパッタ装置４４、４５にて走行フィルム１の裏面に異
種材料が２層スパッタされ、第２の真空処理室１２では
同様に走行フィルム１の表面に異種材料が２層スパッタ
され、ガイドロール４６を介して出口側の第１の減圧室
８のフィルム送りロール３１にて一定速度でその減圧室
８に送り出される。なお、第１、第２の真空処理室１
１、１２は真空排気ユニット５３に接続されており、冷
却ロール４２とケーシング４１との隙間を走行フィルム
１が通るのに差し支えない程度にできるだけ小さい隙間
とすることで、コンダクタンス効果により減圧室７、８
よりも質の高い真空状態が得られるように配慮されてい
る。
における動作を説明すると、走行フィルム１はガイドロ
ール４６を介して冷却ロール４２に巻回されて走行し、
その間に第１の真空処理室１１のスパッタ室４３では、
スパッタ装置４４、４５にて走行フィルム１の裏面に異
種材料が２層スパッタされ、第２の真空処理室１２では
同様に走行フィルム１の表面に異種材料が２層スパッタ
され、ガイドロール４６を介して出口側の第１の減圧室
８のフィルム送りロール３１にて一定速度でその減圧室
８に送り出される。なお、第１、第２の真空処理室１
１、１２は真空排気ユニット５３に接続されており、冷
却ロール４２とケーシング４１との隙間を走行フィルム
１が通るのに差し支えない程度にできるだけ小さい隙間
とすることで、コンダクタンス効果により減圧室７、８
よりも質の高い真空状態が得られるように配慮されてい
る。
【００２７】出口側の第１の減圧室８へ一定量送られた
走行フィルム１は、入口側と同様にこの減圧室８のゲー
トバルブ２０が開かれて出口側の第２の減圧室９に送り
込まれ、送り込み完了後減圧室８のゲートバルブ２０が
閉じられ、次いで第２の減圧室９を大気に戻した後その
ゲートバルブ２０を開いて送りロール１０にて後工程
（図示せず）へ搬出される。搬出後、減圧室９のゲート
バルブ２０が閉じられて再び真空排気され、待機状態と
なる。
走行フィルム１は、入口側と同様にこの減圧室８のゲー
トバルブ２０が開かれて出口側の第２の減圧室９に送り
込まれ、送り込み完了後減圧室８のゲートバルブ２０が
閉じられ、次いで第２の減圧室９を大気に戻した後その
ゲートバルブ２０を開いて送りロール１０にて後工程
（図示せず）へ搬出される。搬出後、減圧室９のゲート
バルブ２０が閉じられて再び真空排気され、待機状態と
なる。
【００２８】以上の実施形態によれば、ゲートバルブ２
０に軟質ゴムなどから成る帯状のシール用弾性体２５を
用いることにより、高い真空シール性が得られ、減圧室
を最低２室づつを入口側と出口側に設ければよいので、
装置のシンプル化、小型化が可能であり、フィルム送り
手段３０も簡単な構成が可能である。また、走行フィル
ム１の表裏に対応してそれぞれ真空処理室１１、１２を
設けることにより、被処理物２の両面に真空処理が可能
となり、応用としてセラミック素子の両面電極の形成な
どが可能となる。更に、各真空処理室１１、１２にそれ
ぞれスパッタ装置４４、４５などの複数の真空処理装置
を配設すると複数層の処理ができ、例えばセラミック素
子の電極成膜を下地を例えばクロム層とし、２層目を銀
層とすることでセラミック母材との接合強度を向上する
ことが可能となる。
０に軟質ゴムなどから成る帯状のシール用弾性体２５を
用いることにより、高い真空シール性が得られ、減圧室
を最低２室づつを入口側と出口側に設ければよいので、
装置のシンプル化、小型化が可能であり、フィルム送り
手段３０も簡単な構成が可能である。また、走行フィル
ム１の表裏に対応してそれぞれ真空処理室１１、１２を
設けることにより、被処理物２の両面に真空処理が可能
となり、応用としてセラミック素子の両面電極の形成な
どが可能となる。更に、各真空処理室１１、１２にそれ
ぞれスパッタ装置４４、４５などの複数の真空処理装置
を配設すると複数層の処理ができ、例えばセラミック素
子の電極成膜を下地を例えばクロム層とし、２層目を銀
層とすることでセラミック母材との接合強度を向上する
ことが可能となる。
【００２９】次に、別の実施形態におけるゲートバルブ
６０の構成を、図８〜図１０を参照して説明する。６１
は上面開放のバルブケース、６２はその上面を密閉する
蓋体である。６３はバルブケース６２内にその一側の内
側面にシール状態で当接させて配設された断面形状略Ｌ
字状の下部バルブ体で、そのコーナー部に傾斜突出部７
０が形成されている。６４は下部バルブ体６３の側壁に
上下移動自在に接して配設された上部バルブ体であり、
その下面は下部バルブ体６３の上面及び傾斜突出部７０
の上面に沿う形状に形成されている。６５は上部バルブ
体６４の下面に固着又は一体成形された軟質ゴムなどか
ら成るシール用弾性体である。６６は上部バルブ体６４
を上下動するシャフトで、その上端はエアシリンダ（図
示せず）に接続され、下端が上部バルブ体６４に固定さ
れている。６７は下部バルブ体６３及び上部バルブ体６
４の他側面とバルブケース６１の他側の内側面の間に介
装されたスペーサである。６８は走行フィルム１の走行
通路であり、バルブケース６１の一側壁、下部バルブ体
６３の側壁及び傾斜突出部７０を貫通し、下部バルブ体
６３の上面を通り、さらにスペーサ６７とバルブケース
６１の他側壁を貫通して形成されている。シール用弾性
体６５の下面の周囲には環状に凸部６９が形成され、こ
の凸部６９にて下部バルブ体６３の上面及び傾斜突出部
７０の上面と平行な閉鎖空間を作ることにより下部バル
ブ体６３と上部バルブ体６４のシール性を確保するよう
に構成されている。この凸部６９の幅は走行フィルム１
の被処理物２の間の幅よりも小さい寸法に形成されてい
る。また、この凸部６９は図示例では１列であるが、２
列以上あればよりシール性が向上する。
６０の構成を、図８〜図１０を参照して説明する。６１
は上面開放のバルブケース、６２はその上面を密閉する
蓋体である。６３はバルブケース６２内にその一側の内
側面にシール状態で当接させて配設された断面形状略Ｌ
字状の下部バルブ体で、そのコーナー部に傾斜突出部７
０が形成されている。６４は下部バルブ体６３の側壁に
上下移動自在に接して配設された上部バルブ体であり、
その下面は下部バルブ体６３の上面及び傾斜突出部７０
の上面に沿う形状に形成されている。６５は上部バルブ
体６４の下面に固着又は一体成形された軟質ゴムなどか
ら成るシール用弾性体である。６６は上部バルブ体６４
を上下動するシャフトで、その上端はエアシリンダ（図
示せず）に接続され、下端が上部バルブ体６４に固定さ
れている。６７は下部バルブ体６３及び上部バルブ体６
４の他側面とバルブケース６１の他側の内側面の間に介
装されたスペーサである。６８は走行フィルム１の走行
通路であり、バルブケース６１の一側壁、下部バルブ体
６３の側壁及び傾斜突出部７０を貫通し、下部バルブ体
６３の上面を通り、さらにスペーサ６７とバルブケース
６１の他側壁を貫通して形成されている。シール用弾性
体６５の下面の周囲には環状に凸部６９が形成され、こ
の凸部６９にて下部バルブ体６３の上面及び傾斜突出部
７０の上面と平行な閉鎖空間を作ることにより下部バル
ブ体６３と上部バルブ体６４のシール性を確保するよう
に構成されている。この凸部６９の幅は走行フィルム１
の被処理物２の間の幅よりも小さい寸法に形成されてい
る。また、この凸部６９は図示例では１列であるが、２
列以上あればよりシール性が向上する。
【００３０】動作について説明すると、走行フィルム１
が図１で説明した上記実施形態と同様に一定量送られた
時、一定ピッチに配された被処理物２、２の間が一定位
置の凸部６９の位置に合うように制御されていて、図１
０（ａ）のように被処理物２に接することなく、走行フ
ィルム１のみを挟持し、図５、図６のゲートバルブ２０
と同様の動作と働きを行なう。図５、図６と異なる点
は、弾性体である軟質ゴムが走行フィルム１を押さえる
部分のみに使われていて、ゲートバルブ２０のように圧
縮空気を直接駆動源とせず、別の押圧駆動源を有する点
である。しかし、この構成の良い点は、加工により凸部
６９を作り易く、被処理物２に非接触で真空シールでき
ることである。ただし、前述のゲートバルブ２０にも本
実施形態のような凸部を形成することで、被処理物と非
接触で真空シールしてもよい。
が図１で説明した上記実施形態と同様に一定量送られた
時、一定ピッチに配された被処理物２、２の間が一定位
置の凸部６９の位置に合うように制御されていて、図１
０（ａ）のように被処理物２に接することなく、走行フ
ィルム１のみを挟持し、図５、図６のゲートバルブ２０
と同様の動作と働きを行なう。図５、図６と異なる点
は、弾性体である軟質ゴムが走行フィルム１を押さえる
部分のみに使われていて、ゲートバルブ２０のように圧
縮空気を直接駆動源とせず、別の押圧駆動源を有する点
である。しかし、この構成の良い点は、加工により凸部
６９を作り易く、被処理物２に非接触で真空シールでき
ることである。ただし、前述のゲートバルブ２０にも本
実施形態のような凸部を形成することで、被処理物と非
接触で真空シールしてもよい。
【００３１】なお、本発明は上記実施形態に限られるも
のではなく、具体的な形状、構造、配置等は任意に応用
・変更して実施することができる。
のではなく、具体的な形状、構造、配置等は任意に応用
・変更して実施することができる。
【００３２】
【発明の効果】本発明の連続真空処理装置によれば、以
上の説明から明らかなように、走行フィルムを挟持して
シールする帯状部分に弾性体を有して真空シールを行な
うゲートバルブと走行フィルムの送り手段と真空排気手
段とを備えた減圧室を、真空処理室の前後にそれぞれ２
室以上配設して成るので、各減圧室において帯状のゲー
トバルブ構造により真空洩れ量を極めて小さくし、それ
を真空処理室の前後に２室以上配設することにより真空
処理に必要な真空圧を確保でき、走行フィルムは減圧室
の送り手段を用いて行なうとともにその送り時に前段と
後段のゲートバルブを必ず交互に真空排気後に開閉する
ことにより高い真空を維持することができ、被処理物が
別個にテーピングされている走行フィルムを連続的に処
理することができる。また、ゲートバルブの構造も簡単
で、減圧室の数も少なくて済むので装置全体も小型化で
き、排気容量も小さくて済み、従って製作費を低減し、
設置スペースを小さくできるという効果を発揮する。
上の説明から明らかなように、走行フィルムを挟持して
シールする帯状部分に弾性体を有して真空シールを行な
うゲートバルブと走行フィルムの送り手段と真空排気手
段とを備えた減圧室を、真空処理室の前後にそれぞれ２
室以上配設して成るので、各減圧室において帯状のゲー
トバルブ構造により真空洩れ量を極めて小さくし、それ
を真空処理室の前後に２室以上配設することにより真空
処理に必要な真空圧を確保でき、走行フィルムは減圧室
の送り手段を用いて行なうとともにその送り時に前段と
後段のゲートバルブを必ず交互に真空排気後に開閉する
ことにより高い真空を維持することができ、被処理物が
別個にテーピングされている走行フィルムを連続的に処
理することができる。また、ゲートバルブの構造も簡単
で、減圧室の数も少なくて済むので装置全体も小型化で
き、排気容量も小さくて済み、従って製作費を低減し、
設置スペースを小さくできるという効果を発揮する。
【００３３】また、ゲートバルブを、加圧流体を導入可
能な加圧空間が内部に形成されたシール用の弾性体を走
行フィルムの走行通路に臨むように配設した構成とする
と、加圧流体の給排によって簡単に開閉することができ
る。
能な加圧空間が内部に形成されたシール用の弾性体を走
行フィルムの走行通路に臨むように配設した構成とする
と、加圧流体の給排によって簡単に開閉することができ
る。
【００３４】また、ゲートバルブを、走行フィルムの走
行通路が走行フィルムの入口側の一側部を貫通するとと
もに他側部ではその上面を通りかつ一側部と他側部との
間に傾斜突出部が形成された下部バルブ体と、下部バル
ブ体に対して上下駆動可能でかつ下面が他側部と傾斜突
出部の上面に対向する上部バルブ体と、上部バルブ体の
下面に配設された弾性体にて構成すると、上部バルブ体
の上下動によって開閉することができるとともに、下部
バルブ体の一側面をシールすることで上部バルブ体と下
部バルブ体の間のシールを確保することができる。
行通路が走行フィルムの入口側の一側部を貫通するとと
もに他側部ではその上面を通りかつ一側部と他側部との
間に傾斜突出部が形成された下部バルブ体と、下部バル
ブ体に対して上下駆動可能でかつ下面が他側部と傾斜突
出部の上面に対向する上部バルブ体と、上部バルブ体の
下面に配設された弾性体にて構成すると、上部バルブ体
の上下動によって開閉することができるとともに、下部
バルブ体の一側面をシールすることで上部バルブ体と下
部バルブ体の間のシールを確保することができる。
【００３５】また、弾性体の走行通路に臨む面に、走行
フィルムにテーピングされた被処理物間の間隔よりも幅
の狭い凸部を突設すると、凸部を被処理物間に嵌入させ
てシールすることができ、被処理物に加圧力を作用させ
ずにシールできる。
フィルムにテーピングされた被処理物間の間隔よりも幅
の狭い凸部を突設すると、凸部を被処理物間に嵌入させ
てシールすることができ、被処理物に加圧力を作用させ
ずにシールできる。
【００３６】また、真空処理室を複数備えると、走行フ
ィルムに貼付けられた被処理物の表裏を順次真空処理す
ることができ、さらに真空処理室に複数のスパッタ処理
装置を備えると、複数層の処理を一度に行なうことがで
きる。
ィルムに貼付けられた被処理物の表裏を順次真空処理す
ることができ、さらに真空処理室に複数のスパッタ処理
装置を備えると、複数層の処理を一度に行なうことがで
きる。
【図１】本発明の一実施形態における連続真空処理装置
の全体縦断面図である。
の全体縦断面図である。
【図２】同実施形態における走行フィルムの基材の平面
図である。
図である。
【図３】同実施形態における走行フィルムの平面図であ
る。
る。
【図４】同実施形態における走行フィルムの拡大縦断側
面図である。
面図である。
【図５】同実施形態におけるゲートバルブを示し、
（ａ）は縦断側面図、（ｂ）は縦断正面図である。
（ａ）は縦断側面図、（ｂ）は縦断正面図である。
【図６】同実施形態におけるゲートバルブの動作状態を
示し、（ａ）は縦断側面図、（ｂ）は縦断正面図であ
る。
示し、（ａ）は縦断側面図、（ｂ）は縦断正面図であ
る。
【図７】同実施形態における空圧・排気回路の概念図で
ある。
ある。
【図８】本発明の他の実施形態における連続真空処理装
置のゲートバルブの縦断正面図である。
置のゲートバルブの縦断正面図である。
【図９】図８のＡ−Ａ断面側面図である。
【図１０】同実施形態におけるゲートバルブの動作状態
を示す、（ａ）は閉じた状態の縦断正面図、（ｂ）は開
いた状態の縦断正面図である。
を示す、（ａ）は閉じた状態の縦断正面図、（ｂ）は開
いた状態の縦断正面図である。
【図１１】従来例の連続真空処理装置の全体構成を示す
概念図である。
概念図である。
１ 走行フイルム ２ 被処理物 ５ 連続真空処理装置 ６ 入口側の第１の減圧室 ７ 入口側の第２の減圧室 ８ 出口側の第１の減圧室 ９ 出口側の第２の減圧室 １１ 第１の真空処理室 １２ 第２の真空処理室 ２０ ゲートバルブ ２４ 走行通路 ２５ シール用弾性体 ２６ 加圧空間 ３０ フィルム送り手段 ４４ スパッタ装置 ４５ スパッタ装置 ６０ ゲートバルブ ６３ 下部バルブ体 ６４ 上部バルブ体 ６５ シール用弾性体 ６８ 走行通路 ６９ 凸部 ７０ 傾斜突出部
フロントページの続き (72)発明者 北 勝之 大阪府門真市大字門真1006番地 松下電器 産業株式会社内 (72)発明者 奥田 晃 大阪府門真市大字門真1006番地 松下電器 産業株式会社内
Claims (6)
- 【請求項１】 走行フィルムにテーピングされた被処理
物に対し、連続的に真空処理する連続真空処理装置にお
いて、走行フィルムを挟持してシールする帯状部分に弾
性体を有して真空シールを行なうゲートバルブとフィル
ムの送り手段と真空排気手段とを備えた減圧室を、真空
処理室の前後にそれぞれ２室以上配設したことを特徴と
する連続真空処理装置。 - 【請求項２】 ゲートバルブは、加圧流体を導入可能な
加圧空間が内部に形成されたシール用の弾性体を走行フ
ィルムの走行通路に臨むように配設して構成されている
ことを特徴とする請求項１記載の連続真空処理装置。 - 【請求項３】 ゲートバルブは、走行フィルムの走行通
路が走行フィルムの入口側の一側部を貫通するとともに
他側部ではその上面を通りかつ一側部と他側部との間に
傾斜突出部が形成された下部バルブ体と、下部バルブ体
に対して上下駆動可能でかつその下面が下部バルブ体の
他側部と傾斜突出部の上面に対向する上部バルブ体と、
上部バルブ体の下面に配設された弾性体にて構成されて
いることを特徴とする請求項１記載の連続真空処理装
置。 - 【請求項４】 弾性体の走行通路に臨む面に、走行フィ
ルムにテーピングされた被処理物間の間隔よりも幅の狭
い凸部が突設されていることを特徴とする請求項１、２
又は３記載の連続真空処理装置。 - 【請求項５】 複数の真空処理室を備えたことを特徴と
する請求項１記載の連続真空処理装置。 - 【請求項６】 真空処理室に複数のスパッタ処理装置を
備えたことを特徴とする請求項１記載の連続真空処理装
置。
Priority Applications (5)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP06102196A JP3199162B2 (ja) | 1996-03-18 | 1996-03-18 | 連続真空処理装置 |
| SG1997000701A SG76507A1 (en) | 1996-03-18 | 1997-03-12 | Continuous vacuum processing apparatus |
| MYPI97001053A MY116869A (en) | 1996-03-18 | 1997-03-13 | Continuous vacuum processing apparatus |
| US08/816,861 US5951835A (en) | 1996-03-18 | 1997-03-13 | Continuous vacuum processing apparatus |
| KR1019970008587A KR100487010B1 (ko) | 1996-03-18 | 1997-03-14 | 연속진공처리장치 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP06102196A JP3199162B2 (ja) | 1996-03-18 | 1996-03-18 | 連続真空処理装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH09256158A true JPH09256158A (ja) | 1997-09-30 |
| JP3199162B2 JP3199162B2 (ja) | 2001-08-13 |
Family
ID=13159251
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP06102196A Expired - Fee Related JP3199162B2 (ja) | 1996-03-18 | 1996-03-18 | 連続真空処理装置 |
Country Status (5)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US5951835A (ja) |
| JP (1) | JP3199162B2 (ja) |
| KR (1) | KR100487010B1 (ja) |
| MY (1) | MY116869A (ja) |
| SG (1) | SG76507A1 (ja) |
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|---|---|---|---|---|
| JP2013524017A (ja) * | 2010-04-07 | 2013-06-17 | アプライド マテリアルズ インコーポレイテッド | フレキシブル基板に対するチャンバ入り口またはチャンバ出口を密封するためのデバイス、基板処理装置、およびそのようなデバイスを組み立てる方法 |
| JP2014162952A (ja) * | 2013-02-25 | 2014-09-08 | Choshu Industry Co Ltd | ゲートバルブ及びこれを有する真空処理装置 |
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| JP2942239B2 (ja) * | 1997-05-23 | 1999-08-30 | キヤノン株式会社 | 排気方法及び排気装置、それを用いたプラズマ処理方法及びプラズマ処理装置 |
| JP3352418B2 (ja) | 1999-01-28 | 2002-12-03 | キヤノン株式会社 | 減圧処理方法及び減圧処理装置 |
| JP4268303B2 (ja) * | 2000-02-01 | 2009-05-27 | キヤノンアネルバ株式会社 | インライン型基板処理装置 |
| KR20040046571A (ko) * | 2002-11-27 | 2004-06-05 | 주식회사 피앤아이 | 이온빔을 이용한 재료의 표면 처리 장치 |
| RU2332523C2 (ru) * | 2002-12-26 | 2008-08-27 | Топпан Принтинг Ко., Лтд. | Устройство вакуумного осаждения и способ получения пленки вакуумным осаждением |
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| ATE445720T1 (de) * | 2007-02-28 | 2009-10-15 | Applied Materials Inc | Zugangsversperrsystem, netzverarbeitungsanlage und anwendungsverfahren dafür |
| TW201005121A (en) * | 2007-07-31 | 2010-02-01 | United Solar Ovonic Llc | System and method for manufacturing thin film electrical devices |
| JP2011529532A (ja) * | 2008-07-30 | 2011-12-08 | ユナイテッド ソーラー オヴォニック エルエルシー | 薄膜電気デバイスを製造するシステム及び方法 |
| US20100252602A1 (en) * | 2009-04-03 | 2010-10-07 | United Solar Ovonic Llc | Continuous processing system with pinch valve |
| US8061686B2 (en) * | 2009-04-03 | 2011-11-22 | Uniter Solar Ovonic LLC | Pinch valve |
| JP2011144922A (ja) * | 2009-12-18 | 2011-07-28 | Canon Anelva Corp | ゲートバルブ、フィルム製造装置、及び、フィルム製造方法 |
| US9303316B1 (en) | 2010-01-15 | 2016-04-05 | Apollo Precision Kunming Yuanhong Limited | Continuous web apparatus and method using an air to vacuum seal and accumulator |
| KR101876454B1 (ko) * | 2011-09-14 | 2018-07-11 | 삼성디스플레이 주식회사 | 진공 롤투롤 장치 및 롤 타입 기판 제조 방법 |
| JP5894820B2 (ja) * | 2012-03-13 | 2016-03-30 | 日東電工株式会社 | 導電性フィルムロールの製造方法 |
| JP6637224B1 (ja) * | 2018-06-12 | 2020-01-29 | 株式会社アルバック | 仕切弁装置 |
| USD878697S1 (en) | 2019-02-19 | 2020-03-17 | Hamilton Beach Brands, Inc. | Iron |
| CN110042360A (zh) * | 2019-05-21 | 2019-07-23 | 应净球 | 智能连续镀膜设备 |
Family Cites Families (4)
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| US3294670A (en) * | 1963-10-07 | 1966-12-27 | Western Electric Co | Apparatus for processing materials in a controlled atmosphere |
| GB8408023D0 (en) * | 1984-03-28 | 1984-05-10 | Gen Eng Radcliffe Ltd | Vacuum coating apparatus |
| JP2691007B2 (ja) * | 1989-03-20 | 1997-12-17 | 株式会社日立製作所 | 真空連続処理装置 |
| JP3059000B2 (ja) * | 1992-09-07 | 2000-07-04 | 三菱重工業株式会社 | 連続真空シール装置 |
-
1996
- 1996-03-18 JP JP06102196A patent/JP3199162B2/ja not_active Expired - Fee Related
-
1997
- 1997-03-12 SG SG1997000701A patent/SG76507A1/en unknown
- 1997-03-13 US US08/816,861 patent/US5951835A/en not_active Expired - Fee Related
- 1997-03-13 MY MYPI97001053A patent/MY116869A/en unknown
- 1997-03-14 KR KR1019970008587A patent/KR100487010B1/ko not_active IP Right Cessation
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Also Published As
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|---|---|
| KR100487010B1 (ko) | 2005-09-02 |
| JP3199162B2 (ja) | 2001-08-13 |
| KR970065761A (ko) | 1997-10-13 |
| SG76507A1 (en) | 2000-11-21 |
| US5951835A (en) | 1999-09-14 |
| MY116869A (en) | 2004-04-30 |
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