JPH044032A - 真空連続処理装置のシール装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、シート状薄膜に真空蒸着、スパッタ。

イオンブレーティングなどを施す真空連続処理装置のシ
ール機構に関する。

〔従来の技術〕

従来の、狭い間隙を通して薄膜状のシート材を高圧側か
ら低圧側へ、又は、低圧側から高圧側へ連続的に搬入、
搬出する薄膜搬送用のシール装置に関しては、特開昭４
９−２８５８３号、特開昭５８−１３１４７０号公報な
どに開示されている。

〔発明が解決しようとする課題〕

すなわち、特開昭４９−２８５８３号公報では、第５図
に示すような薄膜搬出入口にノズルを設けるシール装置
が、第６図に示すようにロールを用いた間隙シールが、
それぞれ、開示されている。

これらのシール方法は、まず、第５図における開示例で
は、シート３は狭い間隙部６の間を通り。

ロール２により搬送される。この場合、真空シールは、
狭い間隙により空気の流入を防ぐことにより行なわれ、
さらに、空気の流入を防ぎシール性を高めるために、間
隙部前にノズル１１を設け、ノズルから強制的に真空ポ
ンプ１０で吸引、排気をすることにより行なわれる。

また、第６図では、シート３の搬送は、狭い間隙部６を
構成するロール２′に巻つけて、ロールを回転すること
により行なう。この場合、真空シ−ルは、ロールの対向
面に円筒壁１２を設けて狭い間隙を形成し、空気の流入
を防ぐことにより行なわれ、さらに空気の流入を防ぎシ
ール性を高めるために、円筒壁１２に排気口９を設け、
間隙内に流入した空気を強制的に排気することにより行
なわれる。

ところで、プラズマ照射、スパッタ、イオンブレーティ
ングなどの真空処理は、まず、処理前に処理室１を高真
空に真空排気して、できるだけ残留ガスを少なくし、そ
の後の処理を行なう際に、アルゴンや窒素などの処理ガ
スを処理室１に導入して処理する内容により、数Ｔｏｒ
ｒ〜１０−’Ｔｏｒｒ程度の圧力に保たれて、処理が行
なわれる。この場合、処理前の真空排気による処理前圧
力が、低い圧力であればあるほど、処理時に処理ガス以
外の不純ガスが少なくなり、質の高い処理が行なえる。

この種の真空連続処理装置は、シート材を装着した状態
で真空シールを行なうため、上述のシール機構では、シ
ート材を通すための間隙からの空気の流入が必ずあり、
避けることができず、処理前に高真空を得るためには以
下のような問題がある。

（１）シート材を通すための間隙に配置される真空ポン
プや、予備室に配置される真空ポンプは、処理前に高真
空を得るために、処理時の圧力を維持するために必要と
される真空ポンプの容量よりも、大容量のものを使用し
なければならない。

（２）大容量の真空ポンプを使用しても、なお、必要と
される処理前の高真空が不十分な場合には、第４図に示
すように、複数個のシール機構により多段の予備室を構
成するか、あるいは、第５図に示すように、シール機構
の間隙部に複数個の真空ポンプを設けなければならない
。

（３）さらに、以上の事を行なっても、処理室へ流入す
る空気を完全に遮断することは不可能であるから、処理
室の真空ポンプは、処理時の圧力を維持するために必要
とされる真空ポンプの容量よりも、大容量のものを使用
しなければならない。

すなわち、装置全体が大がかりとなり、装置にかかるコ
ストが大きくなること、また、大容量の真空ポンプが多
数必要となること、またそれの運転などのために、さら
にコストが増大することなどの欠点があった。

本発明の目的は、高真空が必要な処理前の排気時のみ、
すなわち、残留ガスを排除するときのみ、処理室への空
気の流入を完全に防止できるようにしたものである。

〔課題を解決するための手段〕

本発明は、上記目的を達成するために、真空連続処理装
置において、処理前の初期排気時のみ、シール手段であ
る狭い間隙を構成する部材を、シート材を装着した状態
でシート材をはさみ込み、シート材が破断しない面圧で
互いに押し付けてシールを行ない、空気の流入部を仕切
ることにより達成される。

〔作用〕

本発明のシール装置は、処理前の初期排気時に、真空シ
ール手段である狭い間隙を構成する部材を、シート材を
装着した状態でシート材をはさみ込み。

シート材を破断しない面圧で互いに押し付けてシールを
行ない、処理室への空気の流入部を仕切るために、処理
室は密封状態となるため、処理室は小容量の真空ポンプ
で高真空が得られ、品質の高い処理が行なえる。

また、すでに述べたように処理時に必要とされる圧力は
、処理前の初期排気時に必要とされる圧力よりも高い圧
力で良いため、予備室や、真空シール機構に配置される
真空ポンプも、処理前の高真空を達成するために必要と
される大容量のものでなく、処理時の圧力に見合った容
量のものでよい。

〔実施例〕

以下、本発明の実施例を図面にしたがって説明する。第
１図、第２図、第３図、および、第４図は、各々真空シ
ール機構の、処理前の初期排気時の動作、および処理時
の動作を示す説明図である。

第１図、および第２図において、１は処理室、２は搬送
用ロール、３はシート材、４は予備室。

５はシール機構である。このシール機構の動作を説明す
る。これらの図において、６は相対する部材７，８によ
り形成される真空シールのための間隙である。

本シール装置のシール方法は、まず、処理前の初期排気
時には、第２図に示されるように、間隙６を構成する部
材７，８の少なくともどちらか一方が上、下移動し、シ
ート材３が破断しない程度の面圧で相手部材に押し付け
る。これにより、予備室４と処理室１の間の空気の流入
を防ぐことができ、処理室が良好な気密状態となる。

次に、第３図、および第４図のように、真空シールのた
めの間隙を搬送用ロール２′と、円筒状部材１２により
形成した場合も、第１図、および第２図に示した実施例
と同様に間隙を構成する部材２′　　１２の内、１２の
円筒状部材を、相手部材２′にシート材３が破断しない
程度の面圧で、押し付けることにより、同様の効果が得
られる。

この際、シート材がはさみ込まれるため、はさみ込まれ
た部分は傷などがつく可能性があるが、この部分は、連
続処理を行なうシート材の始めのごく一部分であるため
その部分は処理後切り捨てればよい。

次に、処理を行なうときは、処理のためのガス、例えば
、アルゴン、窒素などを注入し、その後で間隙を構成す
る部材７，８、あるいは、１２を上。

下移動し、シート材が搬出入できるように間隙を開けて
、連続処理を行う。その際、処理室に隣接する予備室４
、あるいは、間隙６の圧力は、ガス導入後の処理室圧力
と同等、あるいは、若干低い程度に設定すれば、予備室
から処理室への空気の流入が防げ、処理装置運転中、常
に、処理室内のガス状態を純粋に保つことができ、高品
質の真空処理が連続的に行なえる。

このように、処理室を密閉状態にすることが可能であり
、空気の流入を防げるために、処理前の初期排気は、大
容量の真空ポンプで強制的に流入する空気を排気する必
要はなく、小容量の真空ポンプで高真空を得ることがで
きる。また、予備室４、あるいは、間隙６に設置する真
空ポンプも、初期排気時の高真空を得るための、大容量
のものである必要はなく、処理時の処理室圧力、すなわ
ち、ガス導入後の処理室圧力を保つための容量があれば
よい。

さらに、上記実施例のうち、間隙を構成する部材７，８
あるいは２’、１２のうち、少なくとも一つの、シート
材と接し、かつ、相手部材と互いに押し付けられる部分
を、可どう性の材料とすれば、さらにシール性を増すこ
とができ、またシート材の厚みが厚くても、その厚みを
吸収することができ、良好なシートを行なうことができ
る。

〔発明の効果〕

本発明によれば、処理室への空気の流入部を仕切るため
に、処理室は密封状態となるため、処理室は小容量の真
空ポンプで高真空が得られ、品質の高い処理が行なえる
。

また、処理時に必要とされる圧力は、処理前の初期排気
時に必要とされる圧力よりも高い圧力で良いため、予備
室や、真空シール機構に配置される真空ポンプも、処理
前の高真空を達成するために必要とされる大容量のもの
でなく、処理時の圧力に見合った容量のものでよい。

【図面の簡単な説明】

第１図および第２図は、本発明の真空シール機構の動作
の説明図、第３図及び第４図は、他の応用例の説明図、
第５図、第６図は、それぞれ従来の真空処理装置の構成
を示す説明図である。 １・・・処理室、２，２′・・搬送用ロール、３・・シ
ート材、４・・・予備室、５・・・真空シール機構、６
・・・間隙、９・・・排気口、１０・・・真空ポンプ、
１１・・・ノズル、１２・・・円筒状部材。 泉 図

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １、狭い間隙を通して、薄膜のシート材を高圧側から低
   圧側へ、又は低圧側から高圧側へ連続的に搬出、搬入す
   るシール装置を備えた真空連続処理装置において、 シール手段である狭い間隙を構成する部材を、前記シー
   ト材を装着した状態で前記シート材をはさみ込み、前記
   シート材が破断しない面圧で押し付けてシールを行なう
   機構を設けたことを特徴とする真空連続処理装置のシー
   ル装置。