JP2594995B2 - 連続式真空蒸着装置 - Google Patents
連続式真空蒸着装置Info
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- JP2594995B2 JP2594995B2 JP62313011A JP31301187A JP2594995B2 JP 2594995 B2 JP2594995 B2 JP 2594995B2 JP 62313011 A JP62313011 A JP 62313011A JP 31301187 A JP31301187 A JP 31301187A JP 2594995 B2 JP2594995 B2 JP 2594995B2
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- chamber
- coil
- strip
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Description
【発明の詳細な説明】 ［産業上の利用分野］ この発明は、金属板やプラスチックフィルム等のスト
リップに連続的に能率良く真空蒸着処理を施す技術に関
するものである。
リップに連続的に能率良く真空蒸着処理を施す技術に関
するものである。
［従来技術］ 真空蒸着法はイオンプレーティング法等ドライプロセ
スによる表面処理が近年発達し、かつてはバッチ方式で
行われていた処理も、プラスチックフィルムや金属薄板
等では連続して処理されるようになり、処理製品の品質
を安定させたり生産性を高めたりする技術が重要となっ
てきた。
スによる表面処理が近年発達し、かつてはバッチ方式で
行われていた処理も、プラスチックフィルムや金属薄板
等では連続して処理されるようになり、処理製品の品質
を安定させたり生産性を高めたりする技術が重要となっ
てきた。
これらのストリップの連続処理技術として最初に用い
られたのは、入側コイルから蒸着処理を経てコイラーま
での一連の工程を、一つの真空容器に入れて処理する方
法であった。即ち、コイルを巻き戻しながら、ストリッ
プに処理を施し、処理後再びコイルに巻き取るまでの操
作の全てを真空容器内で行ってしまう方式である。この
場合、コイルを容器外に取り出す時或は容器内に持ち込
むとき、その都度真空を破らなければならず、製品の大
型化量産化に伴ない不便さが増してきた。
られたのは、入側コイルから蒸着処理を経てコイラーま
での一連の工程を、一つの真空容器に入れて処理する方
法であった。即ち、コイルを巻き戻しながら、ストリッ
プに処理を施し、処理後再びコイルに巻き取るまでの操
作の全てを真空容器内で行ってしまう方式である。この
場合、コイルを容器外に取り出す時或は容器内に持ち込
むとき、その都度真空を破らなければならず、製品の大
型化量産化に伴ない不便さが増してきた。
その後、真空シール技術の進歩と共に用いられたのが
コイル外置方式であり、コイルを真空容器の外に置き、
ストリップは一連の真空容器を通って高真空の蒸着室に
達するものである（例えば、三菱重工技報Vol.24,No.1,
P.37,1987）。
コイル外置方式であり、コイルを真空容器の外に置き、
ストリップは一連の真空容器を通って高真空の蒸着室に
達するものである（例えば、三菱重工技報Vol.24,No.1,
P.37,1987）。
この従来の技術を第５図を用いて説明する。コイル１
は大気中に置かれ、これから巻き戻されたストリップ３
は、シールロール５を通って減圧室６へはいる。減圧室
６は数室が各々シールロール５及び真空ポンプ11を備え
て、真空蒸着室７まで連結しており（この図では６
室）、入り口近くの減圧室６の減圧度は真空ポンプ11の
作動にもかかわらず低く、蒸着室７に近づくにつれて逐
次減圧度を上げ（いわゆる差動排気方式）、蒸着室７直
前では10-2Torr程度の真空度になる。真空蒸着室７から
出ていくときは、これとは反対に、ストリップは、逐次
減圧度の下げられた減圧室６を通って大気中に出て、コ
イラー８に巻き取られる。
は大気中に置かれ、これから巻き戻されたストリップ３
は、シールロール５を通って減圧室６へはいる。減圧室
６は数室が各々シールロール５及び真空ポンプ11を備え
て、真空蒸着室７まで連結しており（この図では６
室）、入り口近くの減圧室６の減圧度は真空ポンプ11の
作動にもかかわらず低く、蒸着室７に近づくにつれて逐
次減圧度を上げ（いわゆる差動排気方式）、蒸着室７直
前では10-2Torr程度の真空度になる。真空蒸着室７から
出ていくときは、これとは反対に、ストリップは、逐次
減圧度の下げられた減圧室６を通って大気中に出て、コ
イラー８に巻き取られる。
［発明が解決しようとする問題点］ しかしながら前述したコイル外置方式では、生産性が
向上し、安定した品質の製品も得られるようになったが
設備に関して次のような問題が残されていた。
向上し、安定した品質の製品も得られるようになったが
設備に関して次のような問題が残されていた。
一般に金属の蒸着処理では10-4Torr以下の真空度を要
求されるが、コイル外置方式では、コイルの入り口は外
気に開かれており、ここからコイルと共に真空系内に
は、僅かではあるが、絶えず外気が持ち込まれる。この
気体を排気し続けながら、蒸着室を所定の真空度に保つ
ために何段もの段階を設けて、少しづつ真空度を高めて
行かなければならない。このため、多段の減圧室と真空
ポンプとが必要になり、設備が膨大になるとともに真空
ポンプの電気動力が莫大になってしまっていた。
求されるが、コイル外置方式では、コイルの入り口は外
気に開かれており、ここからコイルと共に真空系内に
は、僅かではあるが、絶えず外気が持ち込まれる。この
気体を排気し続けながら、蒸着室を所定の真空度に保つ
ために何段もの段階を設けて、少しづつ真空度を高めて
行かなければならない。このため、多段の減圧室と真空
ポンプとが必要になり、設備が膨大になるとともに真空
ポンプの電気動力が莫大になってしまっていた。
この発明はこのような問題点を解消するために行われ
たもので、膨大な設備や電気動力を使わずに、生産性良
く品質の安定した蒸着処理製品を作る技術を提供するも
のである。
たもので、膨大な設備や電気動力を使わずに、生産性良
く品質の安定した蒸着処理製品を作る技術を提供するも
のである。
［問題点を解決するための手段］ この発明は、真空蒸着室と真空系通路で接続されたコ
イル室を入り側及び出側に設け、この真空系通路とこれ
らコイル室との間に、ストリップが存在する状態で、各
々が独立した真空度を得るための、ストリップに当接す
る側に弾性体のシール部材を多段に配設してなる真空仕
切弁を設けた連続式真空蒸着装置である。
イル室を入り側及び出側に設け、この真空系通路とこれ
らコイル室との間に、ストリップが存在する状態で、各
々が独立した真空度を得るための、ストリップに当接す
る側に弾性体のシール部材を多段に配設してなる真空仕
切弁を設けた連続式真空蒸着装置である。
［作用］ この発明では、真空蒸着室と真空系通路で接続された
コイル室を入側及び出側に設け、この真空系通路とこれ
らコイル室との間に真空仕切弁を設けて、ストリップが
存在する状態で、各々が独立した真空度を得るようにし
ている。そのためコイルをコイル室に出入させて、この
コイル室を蒸着室と独立して圧力調整が出来る。
コイル室を入側及び出側に設け、この真空系通路とこれ
らコイル室との間に真空仕切弁を設けて、ストリップが
存在する状態で、各々が独立した真空度を得るようにし
ている。そのためコイルをコイル室に出入させて、この
コイル室を蒸着室と独立して圧力調整が出来る。
［発明の実施例］ 以下に本発明の実施例について説明する。第１図は本
発明の一実施例を示す装置の模式図である。真空蒸着装
置には、コイル１を収納するコイル室２があり、ここか
ら巻き戻されたストリップ３が供給される。コイル室２
の出口には真空仕切弁４が接続しており、これは又減圧
室６を介して蒸着室７に接続している。この真空仕切弁
４を閉じるとコイル室２と減圧室６との間の気圧が遮断
される。コイル室２は完全に外部から遮断することが出
来、且つ専用の真空ポンプ11を備え、シールロール５と
真空ポンプ12とを備えた減圧室は一段である。以上蒸着
室７の入り側について説明したが、出側はこれと対称で
ある。即ち、減圧室６が一段、真空仕切弁４、コイル室
９とつながる。
発明の一実施例を示す装置の模式図である。真空蒸着装
置には、コイル１を収納するコイル室２があり、ここか
ら巻き戻されたストリップ３が供給される。コイル室２
の出口には真空仕切弁４が接続しており、これは又減圧
室６を介して蒸着室７に接続している。この真空仕切弁
４を閉じるとコイル室２と減圧室６との間の気圧が遮断
される。コイル室２は完全に外部から遮断することが出
来、且つ専用の真空ポンプ11を備え、シールロール５と
真空ポンプ12とを備えた減圧室は一段である。以上蒸着
室７の入り側について説明したが、出側はこれと対称で
ある。即ち、減圧室６が一段、真空仕切弁４、コイル室
９とつながる。
次に、上記装置の操作について説明する。蒸着処理が
行われている最中は、真空仕切弁４は開いており、コイ
ル室２、減圧室６、蒸着室７の真空度は各々10-1，1
0-2，10-4等の所定の真空度に保たれ、コイル１は巻き
戻されつつストリップ３が送られて行く。出側では蒸着
処理を施されたコイルがコイル室９内で巻き取られて行
く。入側コイルが終りに近づくと、その終端をコイル室
２内に残した状態でストリップの走行を停止し、真空仕
切弁４を閉じ、真空ポンプ11の作動を停止する。コイル
室２の真空を破り、次のコイルの先端を先のコイルの終
端に繋ぎコイル室２を密閉する。この間真空ポンプ12,1
3は作動させたままで、減圧室６及び蒸着室７は真空に
保たれている。コイル室２を密閉後再び真空ポンプ11を
作動させてコイル室２内を減圧し、所定の真空度に達し
た後真空仕切弁４を開いて、ストリップを走行させ、蒸
着処理を再開する。出側コイル室から蒸着処理コイルを
取り出す時も同様に、真空仕切弁を閉じてコイル室のみ
を大気圧に戻し、取り出し作業を行う。入側コイルも出
側コイルも真空に保たれたコイル室に収まり、全体が完
全に外気から遮断されている構造なので、蒸着室の真空
度の安定性がよいる。即ち、コイル外置方式のように、
外気を持ち込むことが無いので、排気しなければならな
い気体の量は有限であり、真空度は非常に安定しやす
い。同時に、排気量はずっと少なくなるので、減圧室の
数も少なくて良く、真空系内の空間容量が減じ、これも
真空度のコントロールをしやすくする。又、真空仕切弁
４は真空系内をコイル室側と蒸着室側とに分かつので、
コイル室を大気に曝す場合、蒸着室側はその影響を全く
受けず高真空に調整された状態を常に維持することが出
来る。更に、コイル補充や蒸着コイルの取り出しの際に
も、破られた真空度を再び取り戻さなけれさならないの
はコイル室だけであり、系内で最も減圧度が低く排気の
容易な室のみを排気すればよい。
行われている最中は、真空仕切弁４は開いており、コイ
ル室２、減圧室６、蒸着室７の真空度は各々10-1，1
0-2，10-4等の所定の真空度に保たれ、コイル１は巻き
戻されつつストリップ３が送られて行く。出側では蒸着
処理を施されたコイルがコイル室９内で巻き取られて行
く。入側コイルが終りに近づくと、その終端をコイル室
２内に残した状態でストリップの走行を停止し、真空仕
切弁４を閉じ、真空ポンプ11の作動を停止する。コイル
室２の真空を破り、次のコイルの先端を先のコイルの終
端に繋ぎコイル室２を密閉する。この間真空ポンプ12,1
3は作動させたままで、減圧室６及び蒸着室７は真空に
保たれている。コイル室２を密閉後再び真空ポンプ11を
作動させてコイル室２内を減圧し、所定の真空度に達し
た後真空仕切弁４を開いて、ストリップを走行させ、蒸
着処理を再開する。出側コイル室から蒸着処理コイルを
取り出す時も同様に、真空仕切弁を閉じてコイル室のみ
を大気圧に戻し、取り出し作業を行う。入側コイルも出
側コイルも真空に保たれたコイル室に収まり、全体が完
全に外気から遮断されている構造なので、蒸着室の真空
度の安定性がよいる。即ち、コイル外置方式のように、
外気を持ち込むことが無いので、排気しなければならな
い気体の量は有限であり、真空度は非常に安定しやす
い。同時に、排気量はずっと少なくなるので、減圧室の
数も少なくて良く、真空系内の空間容量が減じ、これも
真空度のコントロールをしやすくする。又、真空仕切弁
４は真空系内をコイル室側と蒸着室側とに分かつので、
コイル室を大気に曝す場合、蒸着室側はその影響を全く
受けず高真空に調整された状態を常に維持することが出
来る。更に、コイル補充や蒸着コイルの取り出しの際に
も、破られた真空度を再び取り戻さなけれさならないの
はコイル室だけであり、系内で最も減圧度が低く排気の
容易な室のみを排気すればよい。
次に本発明の他の実施例について説明する。第２図に
おいて１はこれから処理するコイル、２はコイル室、３
はストリップ、４が真空仕切弁、15は前処理室、７は蒸
着室、18は後処理室、８はコイラーである。真空仕切弁
４が４箇所に使われているが、これは、コイル室２を隔
絶させるだけでなく、前処理室或は後処理室だけを隔絶
して作業を行うことも考慮したものである。即ち、蒸着
室７の高真空状態を出来るだけ破らずに済むようにとの
配慮である。蒸着室はストリップの片面づつ両面を処理
するために、二室設けてある。
おいて１はこれから処理するコイル、２はコイル室、３
はストリップ、４が真空仕切弁、15は前処理室、７は蒸
着室、18は後処理室、８はコイラーである。真空仕切弁
４が４箇所に使われているが、これは、コイル室２を隔
絶させるだけでなく、前処理室或は後処理室だけを隔絶
して作業を行うことも考慮したものである。即ち、蒸着
室７の高真空状態を出来るだけ破らずに済むようにとの
配慮である。蒸着室はストリップの片面づつ両面を処理
するために、二室設けてある。
各室の圧力は、コイル室２が10-1Torr、前処理室15内
で一段の減圧室を経て10-1Torrから10-4Torrまで下げ、
蒸着室７では10-4Torrとし、出側では、後処理18内で同
じく一段の減圧室を経て10-4Torrから10-1Torrまで上
げ、コイル室２では 10-1Torrとした。
で一段の減圧室を経て10-1Torrから10-4Torrまで下げ、
蒸着室７では10-4Torrとし、出側では、後処理18内で同
じく一段の減圧室を経て10-4Torrから10-1Torrまで上
げ、コイル室２では 10-1Torrとした。
コイル室２は、第３図に示す構造とした。
（ａ）は一つの例で、１はコイル、３はストリップであ
る。コイル室２はフランジ22によって二つの箱を合わせ
た構造になっており、コイルの出し入れや溶接・切断の
際には、（ｂ）に示すように、箱2aと箱2bとに分かれ
る。（ｃ）は別の例で、コイル室２に密閉用の蓋25を付
けたものである。
る。コイル室２はフランジ22によって二つの箱を合わせ
た構造になっており、コイルの出し入れや溶接・切断の
際には、（ｂ）に示すように、箱2aと箱2bとに分かれ
る。（ｃ）は別の例で、コイル室２に密閉用の蓋25を付
けたものである。
真空仕切弁４は、重要な役割を果たすが、第４図
（ａ）に示されるようにこのシール部の構造は、ストリ
ップ３の両面を弾性体27a,27bで押さえ、（ｂ）に示す
ように、この押さえを数段構えにしたものである。なお
これについては現在出願中（実願昭62−109962号，実願
昭109963号，実願昭109964号）である。
（ａ）に示されるようにこのシール部の構造は、ストリ
ップ３の両面を弾性体27a,27bで押さえ、（ｂ）に示す
ように、この押さえを数段構えにしたものである。なお
これについては現在出願中（実願昭62−109962号，実願
昭109963号，実願昭109964号）である。
この装置を用いて鋼ストリップの両面に蒸着処理を施
したところ、蒸着室内の真空度が非常に安定していたの
で、品質の均一な処理製品が得られたと同時に、真空排
気系動力はコイル外置方式の52％に減じ、その費用が半
減した。
したところ、蒸着室内の真空度が非常に安定していたの
で、品質の均一な処理製品が得られたと同時に、真空排
気系動力はコイル外置方式の52％に減じ、その費用が半
減した。
［発明の効果］ この発明では、真空蒸着室と真空系通路で接続された
コイル室を入り側及び出側に設け、この真空系通路とこ
れらコイル室との間に真空仕切弁を設けているので、コ
イルをコイル室に出入させて、このコイル室を蒸着室と
独立して減圧調整が出来る。操業中に外気を持ち込むこ
とがなく、そのため減圧室が少なくて済み、設備全体が
小さくなるとともに、真空用動力が大幅に削減出来た。
これに加えて、蒸着室の真空度が安定し蒸着製品の品質
が安定する。
コイル室を入り側及び出側に設け、この真空系通路とこ
れらコイル室との間に真空仕切弁を設けているので、コ
イルをコイル室に出入させて、このコイル室を蒸着室と
独立して減圧調整が出来る。操業中に外気を持ち込むこ
とがなく、そのため減圧室が少なくて済み、設備全体が
小さくなるとともに、真空用動力が大幅に削減出来た。
これに加えて、蒸着室の真空度が安定し蒸着製品の品質
が安定する。
更に、コイルの供給や取り出しの操作時には、真空仕
切弁が設けれているので、コイル室のみを大気に曝すだ
けで済み、生産性も良好である以上のようにこの発明は
省資源，製品品質，生産性に優れ、その効果は極めて大
きい。
切弁が設けれているので、コイル室のみを大気に曝すだ
けで済み、生産性も良好である以上のようにこの発明は
省資源，製品品質，生産性に優れ、その効果は極めて大
きい。
第１図は本発明の一実施例の装置の模式図であり、第２
図は他の実施例の装置の概略図、第３図は第２図の実施
例のコイル室の概略図、第４図は第２図の実施例の真空
仕切弁シール部の断面図、第５図は従来の真空蒸着装置
の概略図である。 １……コイル、２……コイル室、３……ストリップ、４
……真空仕切弁、５……シールロール、６……減圧室、
７……蒸着室、11……真空ポンプ。
図は他の実施例の装置の概略図、第３図は第２図の実施
例のコイル室の概略図、第４図は第２図の実施例の真空
仕切弁シール部の断面図、第５図は従来の真空蒸着装置
の概略図である。 １……コイル、２……コイル室、３……ストリップ、４
……真空仕切弁、５……シールロール、６……減圧室、
７……蒸着室、11……真空ポンプ。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (56)参考文献 特開 昭62−222078（ＪＰ，Ａ) 特開 昭62−222080（ＪＰ，Ａ)
Claims (1)
- 【請求項１】真空蒸着室と真空系通路で接続されたコイ
ル室を入側及び出側に設け、この真空系通路とこれらの
コイル室との間に、それぞれ、ストリップに当接する側
に弾性体のシール部材を多段に配設してなる真空仕切弁
を設けたことを特徴とする連続式真空蒸着装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP62313011A JP2594995B2 (ja) | 1987-12-10 | 1987-12-10 | 連続式真空蒸着装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP62313011A JP2594995B2 (ja) | 1987-12-10 | 1987-12-10 | 連続式真空蒸着装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH01152273A JPH01152273A (ja) | 1989-06-14 |
| JP2594995B2 true JP2594995B2 (ja) | 1997-03-26 |
Family
ID=18036155
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP62313011A Expired - Lifetime JP2594995B2 (ja) | 1987-12-10 | 1987-12-10 | 連続式真空蒸着装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2594995B2 (ja) |
Family Cites Families (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS62222080A (ja) * | 1986-03-25 | 1987-09-30 | Nippon Steel Corp | 帯板連続複合コ−テイング設備 |
| JPS62222078A (ja) * | 1986-03-25 | 1987-09-30 | Nippon Steel Corp | 帯板連続複合コ−テイング設備 |
-
1987
- 1987-12-10 JP JP62313011A patent/JP2594995B2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH01152273A (ja) | 1989-06-14 |
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