JPS62222078A - 帯板連続複合コ−テイング設備 - Google Patents
帯板連続複合コ−テイング設備Info
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- JPS62222078A JPS62222078A JP6478186A JP6478186A JPS62222078A JP S62222078 A JPS62222078 A JP S62222078A JP 6478186 A JP6478186 A JP 6478186A JP 6478186 A JP6478186 A JP 6478186A JP S62222078 A JPS62222078 A JP S62222078A
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- Pending
Links
- 238000000576 coating method Methods 0.000 title claims abstract description 17
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 title claims abstract description 12
- 239000002131 composite material Substances 0.000 title claims 2
- 238000004804 winding Methods 0.000 claims abstract description 15
- 238000007733 ion plating Methods 0.000 claims abstract description 11
- 238000007789 sealing Methods 0.000 claims abstract description 11
- 238000005268 plasma chemical vapour deposition Methods 0.000 claims abstract description 9
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 abstract description 3
- 230000005684 electric field Effects 0.000 abstract description 2
- 239000011247 coating layer Substances 0.000 description 13
- 238000005260 corrosion Methods 0.000 description 6
- 230000007797 corrosion Effects 0.000 description 6
- 238000000034 method Methods 0.000 description 5
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 4
- 239000000463 material Substances 0.000 description 4
- 229910001220 stainless steel Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000010935 stainless steel Substances 0.000 description 4
- ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N Tin Chemical compound [Sn] ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 3
- 239000002356 single layer Substances 0.000 description 3
- 238000005299 abrasion Methods 0.000 description 2
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 2
- 230000008020 evaporation Effects 0.000 description 2
- 238000001704 evaporation Methods 0.000 description 2
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 2
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 2
- 239000012495 reaction gas Substances 0.000 description 2
- 238000007740 vapor deposition Methods 0.000 description 2
- 238000010894 electron beam technology Methods 0.000 description 1
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 1
- 239000012528 membrane Substances 0.000 description 1
- 239000012778 molding material Substances 0.000 description 1
- 238000000465 moulding Methods 0.000 description 1
- 238000010422 painting Methods 0.000 description 1
- 238000007747 plating Methods 0.000 description 1
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 description 1
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 1
Landscapes
- Physical Vapour Deposition (AREA)
- Chemical Vapour Deposition (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
産業上の利用分野
本発明は金属やプラスチックなど各種帯板の表面に１層
、２層あるいは多層のコーティングを連続的に施すため
の装置に関するものである。
、２層あるいは多層のコーティングを連続的に施すため
の装置に関するものである。
従来の技術
材料に耐食性や装飾性などを付与するために、表面にコ
ーティングを施す手段として、塗装、メッキ、蒸着など
が古くから行われている。近年、イオンプレーティング
、スパッタリング、プラズマＣＶ Ｄ （ｃｈｅｍｉｃ
ａｌ ｖａｐｏｒ ｄｅｐｏｓｉｔｉｏｎ）などのいわ
ゆるドライコーティング法により、優れた耐食性、装飾
性、耐摩耗性を有する被覆層が得られることがわかり、
このような方法によってコーティングされた高付加価値
材料の要求が高まっている。
ーティングを施す手段として、塗装、メッキ、蒸着など
が古くから行われている。近年、イオンプレーティング
、スパッタリング、プラズマＣＶ Ｄ （ｃｈｅｍｉｃ
ａｌ ｖａｐｏｒ ｄｅｐｏｓｉｔｉｏｎ）などのいわ
ゆるドライコーティング法により、優れた耐食性、装飾
性、耐摩耗性を有する被覆層が得られることがわかり、
このような方法によってコーティングされた高付加価値
材料の要求が高まっている。
発明が解決しようとする問題点
従来のドライコーティング法は、切板などを真空容器に
入れてコーティングするバッチ処理によって行われてお
り、また、帯板に連続的にコーティングする方法も知ら
れているが、いずれも単一の処理である。各種ドライコ
ーティング法により施された皮膜は、それぞれ特有の特
性を有しているので、Ｉｔｉ−の処理手段では、限られ
た特性のものしか得られない。
入れてコーティングするバッチ処理によって行われてお
り、また、帯板に連続的にコーティングする方法も知ら
れているが、いずれも単一の処理である。各種ドライコ
ーティング法により施された皮膜は、それぞれ特有の特
性を有しているので、Ｉｔｉ−の処理手段では、限られ
た特性のものしか得られない。
本発明は、帯板に連続的に複数のドライコーティングを
施し、単層あるいは多層の被覆層を生成させ、耐食性、
装飾性、耐摩耗性など各種多様の特性を有するコイル製
品を比較的短時間で製造する設備を目的とする。
施し、単層あるいは多層の被覆層を生成させ、耐食性、
装飾性、耐摩耗性など各種多様の特性を有するコイル製
品を比較的短時間で製造する設備を目的とする。
問題点を解決するための手段
木発す１は、２基の巻出巻取装置の間にイオンプレーテ
ィング装置（以下ＩＰ装置という）と差圧シール装置と
プラズマＣＶＤ装置（以下ｐ−ｃｖＤ装置という）を順
に直列に設けたことを特徴とする。
ィング装置（以下ＩＰ装置という）と差圧シール装置と
プラズマＣＶＤ装置（以下ｐ−ｃｖＤ装置という）を順
に直列に設けたことを特徴とする。
ＩＰ装置と差圧シール装置とＰ−ＣＶＤ装置は連通した
真空容器内に設け１巻出巻取装置は該連通した真空容器
内に設けてもよく、また真空容器外に設けてもよい。
真空容器内に設け１巻出巻取装置は該連通した真空容器
内に設けてもよく、また真空容器外に設けてもよい。
以下に本発明設備を図面に示す例によって説明する。第
１図は２基の巻出巻取装置１．ｌの間にＩＰ装置２と差
圧シール装置３とＰ−ＣＶＤ装置４が２，３．４の順に
直列に設けられ、これら各装置が連通した真空容器５内
に収容されている例を示す。
１図は２基の巻出巻取装置１．ｌの間にＩＰ装置２と差
圧シール装置３とＰ−ＣＶＤ装置４が２，３．４の順に
直列に設けられ、これら各装置が連通した真空容器５内
に収容されている例を示す。
真空容器５は、巻出巻取装置１．１の間で一体的に構成
され、排気装置Ｐにより各部位が所定の真空度に保たれ
るよう排気される。
され、排気装置Ｐにより各部位が所定の真空度に保たれ
るよう排気される。
巻出巻取装置ｌ、１は、帯板Ｓのコイルを巻き出し、あ
るいは巻き出された帯板Ｓを巻取るものである。
るいは巻き出された帯板Ｓを巻取るものである。
ＩＰ９置装は、蒸発源となるターゲット６を加熱あるい
は電子ビーム照射等により蒸発させイオン化し、帯板Ｓ
の表面に被覆層を形成させるものである。
は電子ビーム照射等により蒸発させイオン化し、帯板Ｓ
の表面に被覆層を形成させるものである。
Ｐ−ＣＶＤ装２？４は、反応性ガスを電界中でプラズマ
化し化学反応を起させて、帯板Ｓの表面に化学反応によ
る生成物からなる被覆層を形成させるものである。
化し化学反応を起させて、帯板Ｓの表面に化学反応によ
る生成物からなる被覆層を形成させるものである。
差圧シール装置３は、斯学真空度の異なるＩＰ装置とＰ
−ＣＶＤ装置の間を段階的にシールするものであり、第
１図に示すようなロールを用いるほか、各種の手段をと
ることができる。
−ＣＶＤ装置の間を段階的にシールするものであり、第
１図に示すようなロールを用いるほか、各種の手段をと
ることができる。
第１図中の７は予熱ヒータ、８はガス導入口。
９はＩＰ！Ａ置ヒ装タ、１０はＰ−ＣＶＤ装置ヒータ、
１１はスリー２トである。差圧シール装置３およびスリ
ット１１は、ＩＰ装置、Ｐ−ＣＶＤ装置内を所定の真空
度に保つためのものであり、公知の各種手段を用いても
よい。
１１はスリー２トである。差圧シール装置３およびスリ
ット１１は、ＩＰ装置、Ｐ−ＣＶＤ装置内を所定の真空
度に保つためのものであり、公知の各種手段を用いても
よい。
第２図は、２基の巻出巻取装置を真空容器外に設けた例
を示し１巻出巻取装置１．１と真空容器５との間には差
圧シール装置１２．１２が設けられている。差圧シール
装置１２は、大気と真空の間を段階的にシールするもの
であり、差圧シール装Ｎ３と同様のものあるいは別タイ
プのものを用いることもできる。
を示し１巻出巻取装置１．１と真空容器５との間には差
圧シール装置１２．１２が設けられている。差圧シール
装置１２は、大気と真空の間を段階的にシールするもの
であり、差圧シール装Ｎ３と同様のものあるいは別タイ
プのものを用いることもできる。
作用
巻出巻取装置ｌ、１のいずれか一方に帯板Ｓのコイルを
装着し、帯板Ｓの一端を他方にヰ装着して、真空容器５
内を排気する。つぎにＩＰ装置２、Ｐ−ＣＶＤ装置４の
所望の装置に所望の反応ガスを導入し、各ポンプＰによ
り、各装置内を所定の真空度に維持する。ついで、予熱
ヒータ７および所望の装置内のヒータ９．１０により帯
板Ｓを所定温度に加熱しつつ通板させ、コーティングを
行う。
装着し、帯板Ｓの一端を他方にヰ装着して、真空容器５
内を排気する。つぎにＩＰ装置２、Ｐ−ＣＶＤ装置４の
所望の装置に所望の反応ガスを導入し、各ポンプＰによ
り、各装置内を所定の真空度に維持する。ついで、予熱
ヒータ７および所望の装置内のヒータ９．１０により帯
板Ｓを所定温度に加熱しつつ通板させ、コーティングを
行う。
ＩＰ装２１２、Ｐ−ＣＶＤ装置４を第１図ノヨウに配設
し、帯板Ｓを第１図の右から左に通板すると、イオンプ
レーティング被覆層とプラズマＣＶＤ被覆層の２層コー
ティングが施される。また第１図の配置で、イオンプレ
ーティング被覆層、プラズマＣＶＤ被覆層、゛イオンプ
レーティング被覆層を順に形成した３層コーティングを
施す場合は、マス、ＩＰ装置２およびＰ−ＣＶＤ装７１
１４を作動して図の右から左に通板し、再びＩＰ装置２
を作動して図の左から右に通板すればよい。
し、帯板Ｓを第１図の右から左に通板すると、イオンプ
レーティング被覆層とプラズマＣＶＤ被覆層の２層コー
ティングが施される。また第１図の配置で、イオンプレ
ーティング被覆層、プラズマＣＶＤ被覆層、゛イオンプ
レーティング被覆層を順に形成した３層コーティングを
施す場合は、マス、ＩＰ装置２およびＰ−ＣＶＤ装７１
１４を作動して図の右から左に通板し、再びＩＰ装置２
を作動して図の左から右に通板すればよい。
このようにして、イオンプレーティング被覆層、プラズ
マＣＶＤ被覆層のうちから選択した任意の被覆層を有す
る単層あるいは多層コーティングを施すことができる。
マＣＶＤ被覆層のうちから選択した任意の被覆層を有す
る単層あるいは多層コーティングを施すことができる。
複数の帯板を連続的にコーティングする場合は、帯板を
巻出した側の巻出巻取装置に次に処理する帯板のコイル
を装着し、前に処理した帯板の後端に接続して通板する
。このとき、第１図の例では、巻出巻取装ａｔと予熱ヒ
ータ７との間をしゃ断して巻出巻取装置ｌの部分のみを
リークし。
巻出した側の巻出巻取装置に次に処理する帯板のコイル
を装着し、前に処理した帯板の後端に接続して通板する
。このとき、第１図の例では、巻出巻取装ａｔと予熱ヒ
ータ７との間をしゃ断して巻出巻取装置ｌの部分のみを
リークし。
コイルを脱着し排気して行うなどの手段により、設備全
体をリークせずに連続して処理することができる。第２
図の例では、巻出巻取装Ｗ！１ｉが真空容器外にあるの
で、コイルの脱着が容易である。
体をリークせずに連続して処理することができる。第２
図の例では、巻出巻取装Ｗ！１ｉが真空容器外にあるの
で、コイルの脱着が容易である。
実施例
ステンレスｔｌｌＨｆＦ表面にＴｉＮとアモルファスＳ
ｉｎ。
ｉｎ。
（以下α−９ｉ０７という）の２層コーティングを施し
、装飾性と１耐食性の優れた自動車モール用ステンレス
コイルを製造した例を示す。
、装飾性と１耐食性の優れた自動車モール用ステンレス
コイルを製造した例を示す。
厚さ０．５ｍｍ 、幅３００ａ＋ｍの３０４系ステンレ
ス鋼帯をラインスピード０．１ ｍ／分で通板しながら
、まずＩＰ装置により蒸発源としてＴｉを、反応ガスと
してＮ２を使用し、真空度１Ｏ−３Ｔｏｒｒに維持して
ＴｉＮをコーティングした後、ＳｉＨ＊と隅と０２の混
合ガスを約ＩＴｏｒｒの真空度でプラズマ化したＰ−Ｃ
ＶＤ装置で、ＴｉＮ？！！膜とにα−５ｉ０２をコーテ
ィングした。その結果、金色で装飾性と耐食性ともに優
れたモール材用ステンレスコイルが得られた。
ス鋼帯をラインスピード０．１ ｍ／分で通板しながら
、まずＩＰ装置により蒸発源としてＴｉを、反応ガスと
してＮ２を使用し、真空度１Ｏ−３Ｔｏｒｒに維持して
ＴｉＮをコーティングした後、ＳｉＨ＊と隅と０２の混
合ガスを約ＩＴｏｒｒの真空度でプラズマ化したＰ−Ｃ
ＶＤ装置で、ＴｉＮ？！！膜とにα−５ｉ０２をコーテ
ィングした。その結果、金色で装飾性と耐食性ともに優
れたモール材用ステンレスコイルが得られた。
発明の効果
本発明により、金属やプラスチックなど各種帯板の表面
に各種被覆層からなる単層あるいは多層のコーティング
が連続処理でｍ蒔間に形成され、装飾性、耐食性、＃摩
耗性等の各種特性を有する帯板コイル製品が製造できる
。
に各種被覆層からなる単層あるいは多層のコーティング
が連続処理でｍ蒔間に形成され、装飾性、耐食性、＃摩
耗性等の各種特性を有する帯板コイル製品が製造できる
。
第１図及び第２図は本発明設備の一例を示す概略図であ
る。 ｌ・・・巻出巻取装置、２・・・イオンプレーティング
装置、３Φ・・差圧シール装置、４・・・プラズマＣＶ
Ｄ装置、５・・・真空容器、６・・−ターゲット、７・
・拳予熱ヒータ、８・・・ガス導入口、９・・−ＩＦ！
ｅｇ１ヒータ、１ｏ・・・Ｐ−ＣＶＤ装置ヒータ、１１
Ｉ＋・・スリット、 １２拳・・差圧シール装置、Ｐ
・・・排気装置、Ｓ・・−帯板。
る。 ｌ・・・巻出巻取装置、２・・・イオンプレーティング
装置、３Φ・・差圧シール装置、４・・・プラズマＣＶ
Ｄ装置、５・・・真空容器、６・・−ターゲット、７・
・拳予熱ヒータ、８・・・ガス導入口、９・・−ＩＦ！
ｅｇ１ヒータ、１ｏ・・・Ｐ−ＣＶＤ装置ヒータ、１１
Ｉ＋・・スリット、 １２拳・・差圧シール装置、Ｐ
・・・排気装置、Ｓ・・−帯板。
Claims (1)
- ２基の巻出巻取装置の間にイオンプレーティング装置と
差圧シール装置とプラズマＣＶＤ装置を順に直列に設け
たことを特徴とする帯板連続複合コーティング設備。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP6478186A JPS62222078A (ja) | 1986-03-25 | 1986-03-25 | 帯板連続複合コ−テイング設備 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP6478186A JPS62222078A (ja) | 1986-03-25 | 1986-03-25 | 帯板連続複合コ−テイング設備 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS62222078A true JPS62222078A (ja) | 1987-09-30 |
Family
ID=13268100
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP6478186A Pending JPS62222078A (ja) | 1986-03-25 | 1986-03-25 | 帯板連続複合コ−テイング設備 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS62222078A (ja) |
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH01152273A (ja) * | 1987-12-10 | 1989-06-14 | Nkk Corp | 連続式真空蒸着方法及び装置 |
| US5474611A (en) * | 1992-05-20 | 1995-12-12 | Yoichi Murayama, Shincron Co., Ltd. | Plasma vapor deposition apparatus |
| WO2004089046A1 (ja) * | 1991-11-05 | 2004-10-14 | Nobumasa Suzuki | 無端環状導波管を有するマイクロ波導入装置及び該装置を備えたプラズマ処理装置 |
| KR100880352B1 (ko) | 2007-06-01 | 2009-01-23 | (주) 에이알티 | 가스 유입 방지가 가능한 플렉시블필름의 금속증착처리장치 |
| JP2015129329A (ja) * | 2014-01-08 | 2015-07-16 | 東レエンジニアリング株式会社 | 差動排気システム |
-
1986
- 1986-03-25 JP JP6478186A patent/JPS62222078A/ja active Pending
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH01152273A (ja) * | 1987-12-10 | 1989-06-14 | Nkk Corp | 連続式真空蒸着方法及び装置 |
| WO2004089046A1 (ja) * | 1991-11-05 | 2004-10-14 | Nobumasa Suzuki | 無端環状導波管を有するマイクロ波導入装置及び該装置を備えたプラズマ処理装置 |
| US5474611A (en) * | 1992-05-20 | 1995-12-12 | Yoichi Murayama, Shincron Co., Ltd. | Plasma vapor deposition apparatus |
| KR100880352B1 (ko) | 2007-06-01 | 2009-01-23 | (주) 에이알티 | 가스 유입 방지가 가능한 플렉시블필름의 금속증착처리장치 |
| JP2015129329A (ja) * | 2014-01-08 | 2015-07-16 | 東レエンジニアリング株式会社 | 差動排気システム |
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