JP3260742B2 - 蒸着フィルム - Google Patents

蒸着フィルム

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【発明の詳細な説明】 (産業上の利用分野) 本発明は高分子フィルム上に重合膜と金属酸化物の混
合膜を形成した蒸着フィルムに関し、特に高分子フィル
ムと該混合膜の密着性に優れた、耐屈曲性のある蒸着フ
ィルムに関する。
(従来の技術) 高分子フィルム等の基材に各種金属及び金属酸化物の
蒸着膜を真空蒸着法、スパッタリング法、イオンプレー
ティング法などで形成した蒸着フィルムは、機能性フィ
ルムとして医薬品包装、建装材、精密電子分野に利用さ
れている。
特に、最近は各種金属酸化物蒸着膜を高分子フィルム
等の基材に設けたものが包装分野はじめ各分野に利用さ
れつつある。
しかしながら、常法の真空蒸着などで蒸着膜形成した
フィルムは高分子フィルムと該蒸着膜との間の密着力が
不十分であったり、蒸着膜形成時に生じたフィルムと該
蒸着膜間の残否により、外部よりストレスが加わるとク
ラック等が生じ、本来持つ機能が損なわれ、実用上、問
題点を残していた。
(発明が解決しようとする課題) 本発明の目的は高分子フィルム上に密着性の十分ある
金属酸化物蒸着フィルムを提供することである。
(課題を解決するための手段) この課題を解決するために、本発明は高分子フィルム
基材上にプラズマ重合性のある有機モノマーから得られ
る重合体と、金属酸化物の混合物から成る蒸着膜を形成
して成ることを特徴とする透明蒸着フィルムを提供す
る。
(発明の具体的な説明) 本発明で用いる高分子フィルム基材は蒸着膜の支持体
であって、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリブテン
等のポリオレフィン;ポリスチレン;ポリエチレンテレ
フタレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリエチレ
ン−2,6−ナフタレートなどのポリエステル;ナイロン
6、ナイロン12などのポリアミド;ポリカーボネート;
ポリ塩化ビニル;ポリ塩化ビニリデン;芳香族ポリアミ
ド、ポリイミドなど単体;もしくはこれらのモノマーの
共重合体のいずれでもよい。
また、必要に応じて公知の添加剤、例えば帯電防止
剤、紫外線吸収剤、可塑剤、滑剤、着色剤などを含んで
いてもかまわない。
高分子フィルム基材は、強度、寸法安定性、耐熱性の
点から延伸したものが好ましいが、未延伸のものでもか
まわない。
高分子フィルム基材の厚さしては、特に制限はない
が、強度等から3〜400μの範囲である。6〜200μのフ
ィルムが望ましい。
高分子フィルム基材の形状としては、連続帯状のもの
が好ましいが、三次元状のトレー、容器、ボトルの形状
のものでも可能である。
本発明で用いるプラズマ重合性のある有機モノマーと
して、特に作業性の点からヘキサメチルジシランを用い
る。
本発明でいう金属酸化物としては酸化マグネシウム、
酸化アルミニウム、酸化錫、酸化チタン、酸化クロム、
酸化ケイ素等であってこれらの混合物であってもかまわ
ない。
本発明でいうプラズマ重合膜と金属酸化物の混合物か
ら成る蒸着膜とは、上記シリコーン系有機化合物のモノ
マーガスから形成するアモルファス状のプラズマ重合体
と、上記金属酸化物の両者から構成される薄膜であっ
て、プラズマ重合膜内部に金属酸化物がとり込まれた状
態のものを示す。
該蒸着膜の厚みとしては、総厚500〜5000Åであって1
000〜2000Åが好ましい。
上記三層構成の場合はプラズマ重合膜は極薄で良く50
〜1000Å十分効果が有る。
本発明の蒸着膜は上記シリコーン系有機金属化合物よ
り得られたアモルファス状プラズマ重合体を形成してい
るSiと上記金属酸化物膜を形成している金属(M)成分
の比M/Siが99.9〜0.1重量(%)であり、金属酸化物の
種類により最適値は異なる。
蒸着膜の形成前に、高分子フィルム基材とにコロナ処
理、火災処理、放電処理、などの表面処理を施しておい
てもかまわない。また、公知の樹脂アンカー剤を施して
おしても良い。
本発明の蒸着膜は、真空蒸着;スパックリング;イオ
ンプレーティング等の公知のPVD法;プラズマCVD法等の
公知の形成方法を組み合わせた複合化手段で形成するこ
とができ、いずれの方法でも良い。特に膜質、機能再現
性、生産性の点でDC法、RF法、ホロカソード法によるイ
オンプレーティング法が好ましい。
また、必要に応じて、該蒸着膜上に公知の保護ニス
層、印刷層を形成したり、ポリエチレン、ポリプロピレ
ン、エチレン−酢酸ビニル等の熱シール性のある樹脂を
5〜100μ程度常法のラミネート方法で積層して熱シー
ル性を得たせても良い。
第1図は本発明の蒸着フィルムを得る一例の説明図
で、装置の内部全体が10-5〜10-6Torr.以下の真空系
(A)に保たれている。上記シリコーン系有機化合物を
ガス状態で、その導入源(5)からマスフロコントロー
ラー(MFC)(6)を通じて10-3〜10-4Torr.になるよう
に真空系(A)内に導入し、次いでたとえば高周波電源
(71)に接続した高周波コイル(7)によりプラズマ状
態をつくる。(72)はマッチングボックスである。この
ようなプラズマ状態下で常法の蒸発源(4)を加熱源
(41)により加熱して金属酸化物(2)を蒸発させ、連
続的に走行している高分子フィルム基材(1)上に連続
的に蒸着形成する。なお、高分子フィルム基材(1)
は、巻き出しロール(11)から、ダンサーロール(3
2)、制御ロール(31)、エキスパンダーロール(33)
を通って冷却ロール(34)上で蒸着される。蒸着膜の形
成された高分子フィルム基材(1)は、再度エキスパン
ダーロール(33)、ダンサーロール(32)を経て巻取り
ロール(12)に巻き取られる。
(実施例1) 第2図に示した装置を用い、巻出しロールに厚さ12μ
のポリエチレンテレフタレートフィルムをセットし、蒸
着材料としてMgOを入れ、真空系内を9×10-6Torrまで
排気した。
次に、ヘキサメチルジシランを、ガス導入し、MFCで
2×10-4Torrになるように調製し、13.56MHzの高周波
(RF)電源よりマッチングを行ないながら発振し、プラ
ズマを安定放電させた。
次いで電子ビーム加熱によりMgOの蒸発を開始し、フ
ィルム上に膜厚が1000Åになるように連続的に成膜し
た。
得られた蒸着フィルムは無色透明であった。このフィ
ルムの膜組成分析したところ炭素、酸素、マグネシウ
ム、ケイ素が検出され、マグネシウムとケイ素の比(Mg
/Si)は重量比で76.2:23.8であった。更にこのフィルム
をウレタン系接着剤を介して厚さ60μmの未延伸ポリプ
ロピレン(CPP)を積層して酸素透過率を測定したとこ
ろ1.2cc/m2/atm/day、(MOCON OXTRAN 100使用、同圧
法)であり、良好な結果を示した。
蒸着膜の密着性を評価するために、得られた積層フィ
ルム剥離して、その剥離強度を測定しようとしたが、40
0g/15mm幅でポリエチレンテレフタレートフィルムが破
断してしまい、剥離不能であった。
更にこの蒸発フィルムをゲルボフレックスにかけ、ス
トレスを与えた後、ガスバリアー性、密着性を評価した
ところ、ストレスによる膜劣化はなく、良好な結果を推
持していた。
(比較例−1) 実施例−1と同様な条件で、ヘキサメチルジシランガ
スを入れないで、MgOのみを蒸着し、蒸着フィルムを
得、評価したガスバリアー性は1.3cc/m2/atm/dayとほぼ
同程度であったが、密着性については、ラミネート強度
で100g/15mmと不十分であった。更にゲルボフレックス
によりストレスをかけた後のガスバリアー性は5〜30cc
/m2/atm/dayと大きく劣化し、密着性も更に低下してし
まった。
(効果) 以上のように本発明によれば高分子フィルムに金属酸
化物とアモルファス状重合体の混合膜を形成した蒸着フ
ィルムは本来金属酸化物膜の機能を維持しつつ、高分子
フィルムに密着性が十分あり、かつ、耐屈曲性を有する
実用上問題ないものを提供できる。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明の蒸着フィルムを得る装置の一例を示す
説明図。 (1)高分子フィルム、(11)巻き出しロール (12)巻取りロール、(2)金属酸化物 (31)制御ロール、(32)ダンサーロール (33)エキスパンダーロール (34)冷却ロール、(4)蒸発源 (41)加熱源、(5)シリコーン系有機化合物 (6)MFC、(7)高周波コイル (71)高周波電源 (72)マッチングボックス
フロントページの続き (56)参考文献 特開 平1−36758(JP,A) 特開 昭56−147829(JP,A) 特開 昭56−147830(JP,A) 堂山昌男 外1名「材料テクノロジー 9 材料のプロセス技術[1]」(昭62 −11−30)東京大学出版会 p.151− 152

Claims (1)

    (57)【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】高分子フィルム基材上にプラズマ重合性の
    あるヘキサメチルジシランから得られる重合体と、金属
    酸化物の混合物から成る蒸着膜を形成して成ることを特
    徴とする透明蒸着フィルム。
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