JPH04369A - 蒸着フィルム - Google Patents
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Landscapes
- Laminated Bodies (AREA)
- Physical Vapour Deposition (AREA)
- Chemical Vapour Deposition (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
(産業上の利用分野)
本発明は高分子フィルム上に重合膜と金属酸化物の混合
膜を形成した蒸着フィルムに関し、特に高分子フィルム
と該混合膜の密着性に優れた、耐屈曲性のある蒸着フィ
ルムに関する。
膜を形成した蒸着フィルムに関し、特に高分子フィルム
と該混合膜の密着性に優れた、耐屈曲性のある蒸着フィ
ルムに関する。
(従来の技術)
高分子フィルム等の基材に各種金属及び金属酸化物の蒸
着膜を真空蒸着法、スパッタリング法、イオンブレーテ
ィング法などで形成した蒸着フィルムは、機能性フィル
ムとして医薬品包装、建装材、精密電子分野に利用され
ている。
着膜を真空蒸着法、スパッタリング法、イオンブレーテ
ィング法などで形成した蒸着フィルムは、機能性フィル
ムとして医薬品包装、建装材、精密電子分野に利用され
ている。
特に、最近は各種金属酸化物蒸着膜を高分子フィルム等
の基材に設けたものが包装分野はじめ各分野に利用され
つつある。
の基材に設けたものが包装分野はじめ各分野に利用され
つつある。
しかしながら、常法の真空蒸着などで蒸着膜形成したフ
ィルムは高分子フィルムと該蒸着膜との間の密着力が不
十分であったり、蒸着膜形成時に生じたフィルムと該蒸
着膜間の残否により、外部よりストレスが加わるとクラ
ンク等が生し、本来持つ機能が損なわれ、実用上、問題
点を残していた。
ィルムは高分子フィルムと該蒸着膜との間の密着力が不
十分であったり、蒸着膜形成時に生じたフィルムと該蒸
着膜間の残否により、外部よりストレスが加わるとクラ
ンク等が生し、本来持つ機能が損なわれ、実用上、問題
点を残していた。
(発明が解決しようとする課題)
本発明の目的は高分子フィルム上に密着性の十分ある金
属酸化物蒸着フィルムを提供することである。
属酸化物蒸着フィルムを提供することである。
(課題を解決するための手段)
この課題を解決するために、本発明は高分子フィルム基
材上にプラズマ重合性のある有機モノマーから得られる
重合体と、金属酸化物の混合物から成る蒸着膜を形成し
て成ることを特徴とする特明蒸着フィルムを提供する。
材上にプラズマ重合性のある有機モノマーから得られる
重合体と、金属酸化物の混合物から成る蒸着膜を形成し
て成ることを特徴とする特明蒸着フィルムを提供する。
(発明の詳細な説明)
本発明で用いる高分子フィルム基材は蒸着膜の支持体で
あって、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリブテン等
のポリオレフィン;ポリスチレン;ポリエチレンテレフ
タレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリエチレン
−2,6−ナフタレートなどのポリエステル;ナイロン
6、ナイロン12などのポリアミド;ポリカーボネート
;ポリ塩化ビニル;ポリ塩化ビニリデン;芳香族ポリア
ミド、ポリイミドなど単体;もしくはこれらのモノマー
の共重合体のいずれでもよい。
あって、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリブテン等
のポリオレフィン;ポリスチレン;ポリエチレンテレフ
タレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリエチレン
−2,6−ナフタレートなどのポリエステル;ナイロン
6、ナイロン12などのポリアミド;ポリカーボネート
;ポリ塩化ビニル;ポリ塩化ビニリデン;芳香族ポリア
ミド、ポリイミドなど単体;もしくはこれらのモノマー
の共重合体のいずれでもよい。
また、必要に応じて公知の添加剤、例えば帯電防止剤、
紫外線吸収剤、可塑剤、滑剤、着色剤などを含んでいて
もかまわない。
紫外線吸収剤、可塑剤、滑剤、着色剤などを含んでいて
もかまわない。
高分子フィルム基材は、強度、寸法安定性、耐熱性の点
から延伸したものが好ましいが、未延伸のものでもかま
わない。
から延伸したものが好ましいが、未延伸のものでもかま
わない。
高分子フィルム基材の厚さしては、特に制限はないが、
強度等から3〜400μの範囲である。
強度等から3〜400μの範囲である。
6〜200μのフィルムが望ましい。
高分子フィルム基材の形状としては、連続帯状のものが
好ましいが、三次元状のトレー、容器、ボトルの形状の
ものでも可能である。
好ましいが、三次元状のトレー、容器、ボトルの形状の
ものでも可能である。
本発明で用いるプラズマ重合性のある有機モノマーとし
ては、主としてシリコーン系有機化合物が使用できる0
例えば、シロキサン;テトラメチルシラン、トリメチル
エチルシラン、ジメチルジエチルシラン等のテトラアル
キルシラン系;ジエチルアミノトリメチルシラン等のジ
アルキルアミノトリアルキルシラン系;ヘキサメチルジ
シラン、ヘキサエチルジシラン等のヘキサアルキルジシ
ラン系等のいずれでも使用可能であり、特に作業性の点
からヘキサメチルジシランが好ましい。
ては、主としてシリコーン系有機化合物が使用できる0
例えば、シロキサン;テトラメチルシラン、トリメチル
エチルシラン、ジメチルジエチルシラン等のテトラアル
キルシラン系;ジエチルアミノトリメチルシラン等のジ
アルキルアミノトリアルキルシラン系;ヘキサメチルジ
シラン、ヘキサエチルジシラン等のヘキサアルキルジシ
ラン系等のいずれでも使用可能であり、特に作業性の点
からヘキサメチルジシランが好ましい。
本発明でいう金属酸化物としては酸化マグネシウム、酸
化アルミニウム、酸化錫、酸化チタン、酸化クロム、酸
化ケイ素等であってこれらの混合物であってもかまわな
い。
化アルミニウム、酸化錫、酸化チタン、酸化クロム、酸
化ケイ素等であってこれらの混合物であってもかまわな
い。
本発明でいうプラズマ重合膜と金属酸化物の混合物から
成る蒸着膜とは、上記シリコーン系有機化合物のモノマ
ーガスから形成するアモルファス状のプラズマ重合体と
、上記金属酸化物の両者から構成される薄膜であって、
厳密な意味で混合している必要はない0例えば、高分子
フィルム基材から順に、プラズマ重合膜、金属酸化物膜
、プラズマ重合膜のような三層構成であって良い。ある
いはプラズマ重合膜内部に金属酸化物がとり込まれた状
態のものであってもかまわない。
成る蒸着膜とは、上記シリコーン系有機化合物のモノマ
ーガスから形成するアモルファス状のプラズマ重合体と
、上記金属酸化物の両者から構成される薄膜であって、
厳密な意味で混合している必要はない0例えば、高分子
フィルム基材から順に、プラズマ重合膜、金属酸化物膜
、プラズマ重合膜のような三層構成であって良い。ある
いはプラズマ重合膜内部に金属酸化物がとり込まれた状
態のものであってもかまわない。
該蒸着膜の厚みとしては、総厚500〜5000人であ
って1000〜2000人が好ましい。
って1000〜2000人が好ましい。
上記三層構成の場合はプラズマ重合膜は極薄で良く50
〜1000人十分効果が有る。
〜1000人十分効果が有る。
本発明の蒸着膜は上記シリコーン系有機金属化合物より
得られたアモルファス状プラズマ重合体を形成している
Siと上記金属酸化物膜を形成している金属(M)成分
の比M / S iが99.9〜0.1重量(%)であ
り、金属酸化物の種類により最適値は異なる。
得られたアモルファス状プラズマ重合体を形成している
Siと上記金属酸化物膜を形成している金属(M)成分
の比M / S iが99.9〜0.1重量(%)であ
り、金属酸化物の種類により最適値は異なる。
蒸着膜の形成前に、高分子フィルム基材とにコロナ処理
、火災処理、放電処理、などの表面処理を施しておいて
もかまわない、また、公知の樹脂アンカー剤を施してお
しても良い。
、火災処理、放電処理、などの表面処理を施しておいて
もかまわない、また、公知の樹脂アンカー剤を施してお
しても良い。
本発明の蒸着膜は、真空蒸着;スパッタリング;イオン
ブレーティング等の公知のPVD法;プラズマCVD法
等の公知の形成方法を組み合わせた複合化手段で形成す
ることができ、いずれの方法でも良い、特に膜質、機能
再現性、生産性の点でDC法、RF法、ホロカソード法
によるイオンブレーティング法が好しい。
ブレーティング等の公知のPVD法;プラズマCVD法
等の公知の形成方法を組み合わせた複合化手段で形成す
ることができ、いずれの方法でも良い、特に膜質、機能
再現性、生産性の点でDC法、RF法、ホロカソード法
によるイオンブレーティング法が好しい。
また、必要に応して、該蒸着膜上に公知の保護ニス層、
印刷層を形成したり、ポリエチレン、ポリプロピレン、
エチレン−酢酸ビニル等の熱シール性のある樹脂を5〜
100μ程度常法のラミネート方法で積層して熱シール
性を得たぜでも良い。
印刷層を形成したり、ポリエチレン、ポリプロピレン、
エチレン−酢酸ビニル等の熱シール性のある樹脂を5〜
100μ程度常法のラミネート方法で積層して熱シール
性を得たぜでも良い。
第1図は本発明の蒸着フィルムを得る一例の説明図で、
装置の内部全体が10−5〜10−’Torr、以下の
真空系(A)に保たれている。上記シリコーン系有機化
合物をガス状態で、その導入源(5)からマスフロコン
トロー−7−(MFC)(6)を通じて10−’〜10
−’T o r r 、になるように真空系(A)内に
導入し、次いでたとえば高周波電源(71)に接続した
高周波コイル(7)によりプラズマ状態をつくる。(7
2)はマツチングボックスである。このようなプラズマ
状態下で常法の蒸発源(4)を加熱源(41)により加
熱して金属酸化物(2)を蒸発させ、連続的に走行して
いる高分子フィルム基材(1)上に連続的に版着形成す
る。なお、高分子フィルム基材(1)は、巻き出しロー
ル(11)から、ダンサ−ロール(32)、制御ロール
(31)、エキスパンダーロール(33)を通って冷却
ロール(34)上で蒸着される。蒸着膜の形成された高
分子フィルムi[(1)は、再度エキスパンダーロール
(33)、ダンサ−ロール(32)を経て巻取りロール
(12)に巻き取られる。
装置の内部全体が10−5〜10−’Torr、以下の
真空系(A)に保たれている。上記シリコーン系有機化
合物をガス状態で、その導入源(5)からマスフロコン
トロー−7−(MFC)(6)を通じて10−’〜10
−’T o r r 、になるように真空系(A)内に
導入し、次いでたとえば高周波電源(71)に接続した
高周波コイル(7)によりプラズマ状態をつくる。(7
2)はマツチングボックスである。このようなプラズマ
状態下で常法の蒸発源(4)を加熱源(41)により加
熱して金属酸化物(2)を蒸発させ、連続的に走行して
いる高分子フィルム基材(1)上に連続的に版着形成す
る。なお、高分子フィルム基材(1)は、巻き出しロー
ル(11)から、ダンサ−ロール(32)、制御ロール
(31)、エキスパンダーロール(33)を通って冷却
ロール(34)上で蒸着される。蒸着膜の形成された高
分子フィルムi[(1)は、再度エキスパンダーロール
(33)、ダンサ−ロール(32)を経て巻取りロール
(12)に巻き取られる。
(実施例1)
第2図に示した装置を用い、巻出しロールに厚さ12μ
のポリエチレンテレフタレートフィルムをセットし、蒸
着材料としてMgOを入れ、真空系内を9X10−’T
orrまで排気した。
のポリエチレンテレフタレートフィルムをセットし、蒸
着材料としてMgOを入れ、真空系内を9X10−’T
orrまで排気した。
次に、ヘキサメチルジシランを、ガス導入し、MFCで
2X10−’Torrになるように調製し、13.56
MH2の高周波(RF)電源よりマツチングを行ないな
がら発振し、プラズマを安定放電させた。
2X10−’Torrになるように調製し、13.56
MH2の高周波(RF)電源よりマツチングを行ないな
がら発振し、プラズマを安定放電させた。
次いで電子ビーム加熱によりMgOの蒸発を開始し、フ
ィルム上に膜厚が1000人になるように連続的に成膜
した。
ィルム上に膜厚が1000人になるように連続的に成膜
した。
得られた蒸着フィルムは無色透明であった。このフィル
ムの膜組成分析したところ炭素、酸素、マグネシウム、
ケイ素が検出され、マグネシウムとケイ素の比(Mg/
Si)は重量比で76゜2:23.8であった。更にこ
のフィルムをウレタン系接着剤を介して厚さ60μmの
未延伸ポリプロピレン(CPP)を積層して酸素透過率
を測定したところ1.2 cc/m”/atm/da
y、(MOCON 0XTRAN 100 使用
、同圧法)であり、良好な結果を示した。
ムの膜組成分析したところ炭素、酸素、マグネシウム、
ケイ素が検出され、マグネシウムとケイ素の比(Mg/
Si)は重量比で76゜2:23.8であった。更にこ
のフィルムをウレタン系接着剤を介して厚さ60μmの
未延伸ポリプロピレン(CPP)を積層して酸素透過率
を測定したところ1.2 cc/m”/atm/da
y、(MOCON 0XTRAN 100 使用
、同圧法)であり、良好な結果を示した。
蒸着膜の密着性を評価するために、得られた積層フィル
ム剥離して、その剥離強度を測定しようとしたが、40
0g/15mm幅でポリエチレンテレフタレートフィル
ムが破断してしまい、剥離不能であった。
ム剥離して、その剥離強度を測定しようとしたが、40
0g/15mm幅でポリエチレンテレフタレートフィル
ムが破断してしまい、剥離不能であった。
更にこの蒸発フィルムをゲルボッレックスにかけ、スト
レスを与えた後、ガスバリアー性、密着性を評価したと
ころ、ストレスによる膜劣化はなく、良好な結果を推持
していた。
レスを与えた後、ガスバリアー性、密着性を評価したと
ころ、ストレスによる膜劣化はなく、良好な結果を推持
していた。
(比較例−1)
実施例−1と同様な条件で、ヘキサメチルジシランガス
を入れないで、MgOのみを蒸着し、蒸着フィルムを得
、評価したガスバリアー性は1゜3 c c/m” /
a t m/d a yとほぼ同程度であったが、密着
性については、ラミネート強度で100g/15mmと
不十分であった。更にゲルボッレックスによりストレス
をかけた後のガスバリアー性は5〜30 c c /
m 2/ a t m / d a yと大きく劣化し
、密着性も更に低下してしまった。
を入れないで、MgOのみを蒸着し、蒸着フィルムを得
、評価したガスバリアー性は1゜3 c c/m” /
a t m/d a yとほぼ同程度であったが、密着
性については、ラミネート強度で100g/15mmと
不十分であった。更にゲルボッレックスによりストレス
をかけた後のガスバリアー性は5〜30 c c /
m 2/ a t m / d a yと大きく劣化し
、密着性も更に低下してしまった。
(効果)
以上のように本発明によれば高分子フィルムに金属酸化
物とアモルファス状重合体の混合膜を形成した蒸着フィ
ルムは本来金属酸化物膜の機能を維持しつつ、高分子フ
ィルムに密着性が十分あり、かつ、耐屈曲性を有する実
用上問題ないものを提第1図は本発明の蒸着フィルムを
得る装置の一例を示す説明図。
物とアモルファス状重合体の混合膜を形成した蒸着フィ
ルムは本来金属酸化物膜の機能を維持しつつ、高分子フ
ィルムに密着性が十分あり、かつ、耐屈曲性を有する実
用上問題ないものを提第1図は本発明の蒸着フィルムを
得る装置の一例を示す説明図。
(1)高分子フィルム (11)巻き出しロール(12
)巻取りロール (2)金属酸化物(31)制御ロール
(32)ダンサ−ロール(33)エキスパンダーロー
ル (34)冷却ロール (4)蒸発源 (41)加熱源 (5)シリコーン系有機化合物(6)
MFC(7)高周波コイル (71)高周波電源 (72)マツチングボックス 特 許 出 願 人 凸版印刷株式会社 代表者 鈴木和夫
)巻取りロール (2)金属酸化物(31)制御ロール
(32)ダンサ−ロール(33)エキスパンダーロー
ル (34)冷却ロール (4)蒸発源 (41)加熱源 (5)シリコーン系有機化合物(6)
MFC(7)高周波コイル (71)高周波電源 (72)マツチングボックス 特 許 出 願 人 凸版印刷株式会社 代表者 鈴木和夫
Claims (1)
- (1)高分子フィルム基材上にプラズマ重合性のある有
機モノマーから得られる重合体と、金属酸化物の混合物
から成る蒸着膜を形成して成ることを特徴とする透明蒸
着フィルム。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP09993390A JP3260742B2 (ja) | 1990-04-16 | 1990-04-16 | 蒸着フィルム |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP09993390A JP3260742B2 (ja) | 1990-04-16 | 1990-04-16 | 蒸着フィルム |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH04369A true JPH04369A (ja) | 1992-01-06 |
JP3260742B2 JP3260742B2 (ja) | 2002-02-25 |
Family
ID=14260533
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP09993390A Expired - Fee Related JP3260742B2 (ja) | 1990-04-16 | 1990-04-16 | 蒸着フィルム |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP3260742B2 (ja) |
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US7186465B2 (en) | 1998-11-02 | 2007-03-06 | 3M Innovative Properties Company | Transparent conductive oxides for plastic flat panel displays |
WO2010150551A1 (ja) * | 2009-06-26 | 2010-12-29 | 積水化学工業株式会社 | フィルムの表面処理方法及び装置並びに偏光板の製造方法 |
JP4710137B2 (ja) * | 2001-01-11 | 2011-06-29 | 凸版印刷株式会社 | 積層体の製造方法及び積層体並びに真空成膜装置 |
US9822454B2 (en) | 2006-12-28 | 2017-11-21 | 3M Innovative Properties Company | Nucleation layer for thin film metal layer formation |
-
1990
- 1990-04-16 JP JP09993390A patent/JP3260742B2/ja not_active Expired - Fee Related
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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US7186465B2 (en) | 1998-11-02 | 2007-03-06 | 3M Innovative Properties Company | Transparent conductive oxides for plastic flat panel displays |
JP4710137B2 (ja) * | 2001-01-11 | 2011-06-29 | 凸版印刷株式会社 | 積層体の製造方法及び積層体並びに真空成膜装置 |
US9822454B2 (en) | 2006-12-28 | 2017-11-21 | 3M Innovative Properties Company | Nucleation layer for thin film metal layer formation |
WO2010150551A1 (ja) * | 2009-06-26 | 2010-12-29 | 積水化学工業株式会社 | フィルムの表面処理方法及び装置並びに偏光板の製造方法 |
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Publication number | Publication date |
---|---|
JP3260742B2 (ja) | 2002-02-25 |
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