CN217869071U - 真空过渡装置及连续式真空镀膜设备 - Google Patents

Abstract

本申请公开了一种真空过渡装置及连续式真空镀膜设备，属于真空镀膜设备技术领域。一种真空过渡装置，其包括壳体，该壳体内设置有用于将壳体内部分隔成多个过渡单元腔室的多个连接隔板；各个过渡单元腔室分别与抽真空装置连接；每个过渡单元腔室内均设置有用于传送带材的至少一对密封压辊，每对密封压辊均包括竖直方向上间隔设置的两个密封压辊，两个密封压辊之间的间隙与带材的厚度相适应；相邻两个连接隔板之间设置至少一个分隔板，以在两个相邻的过渡单元腔室之间形成漏气处理腔室，该漏气处理腔室与抽真空装置连接。本申请可以在原料带材进入真空镀膜装置之前对带材进行预处理，保证带材表面不受大气污染影响，可以提升生产效率。

Description

真空过渡装置及连续式真空镀膜设备

技术领域

本申请属于真空镀膜设备技术领域，具体涉及一种真空过渡装置及连续式真空镀膜设备。

背景技术

真空镀膜是一种生成薄膜材料的技术，在真空室内镀膜材料的原子或分子从表面离析出来打到被镀物体的表面上。真空镀膜一般是指用物理气相沉积的方法沉积薄膜，主要包括蒸发镀膜、离子镀和溅射镀膜等，也就是，在真空中通过物理方法(电子枪、磁控溅射、真空蒸发等)将靶材转化为气态原子或分子，在行进的待镀件如带材或者线材表面上连续沉积生长成一层具有某种特殊功能的固相薄膜的一种高新技术，真空镀膜在新材料、新能源产业、钢铁工业等众多领域中被广泛应用。

相关技术中，真空物理气相沉积镀膜技术主要分为两种类型：一种是大气与真空完全分离型，该种方式中，整条生产线完全置于一个的密闭真空容器中，抽到一定真空度后进行镀膜操作；也即是，材料在镀膜时通常一次完成一批镀膜工艺后需要进行破真空，然后将完成镀膜工艺的材料取出，再送入材料，抽真空。这种方式设备结构简单，但需要破真空更换原料带材，不能实现材料的连续式镀膜加工，停顿之间长，导致生产效率低下。另一种是带材真空连续型，该种方式中，带材经由连续带材真空密封装置进入镀膜室进行镀膜，再通过连续带材真空密封装置逐级增压回到大气的连续式生产技术。这种连续型设备提高了生产效率，容易达到规模产量，可以实现从原料带卷到镀膜金属带材或者线材成品的连续生产。但现有的连续型镀膜设备的真空镀膜室空间较小，通常只有镀膜烘干和镀膜两个工艺能够被容纳，薄膜的预处理等工艺必须采用其他设备另外处理或者不进行预处理，然而未经工艺预处理的原料带材很容易受到污染，可能会污染镀膜工艺腔体，并且无法保证成品的质量，甚至可能产生不可知的隐患。

实用新型内容

鉴于存在的上述问题，本实用新型旨在至少在一定程度上解决相关技术中的技术问题之一。为此，本实用新型提供一种真空过渡装置、以及包含该真空过渡装置的连续式真空镀膜设备，可以实现对连续式真空镀膜设备所需的真空要求，可以对带材进行预处理，减少或避免带材进入真空镀膜腔室前的大气污染，可以提升生产效率，能克服现有技术中的不足。

为了解决上述技术问题，本申请是这样实现的：

根据本申请的一个方面，本申请实施例提供了一种真空过渡装置，用于连续式真空镀膜设备，所述真空过渡装置包括壳体，所述壳体内设置有用于将所述壳体内部分隔成多个过渡单元腔室的多个连接隔板；

各个所述过渡单元腔室分别与抽真空装置连接；

每个所述过渡单元腔室内均设置有用于传送带材的至少一对密封压辊，每对所述密封压辊均包括竖直方向上间隔设置的两个所述密封压辊，两个所述密封压辊之间的间隙与带材的厚度相适应；

相邻两个所述连接隔板之间设置至少一个分隔板，从而在两个相邻的所述过渡单元腔室之间形成漏气处理腔室，所述漏气处理腔室与抽真空装置连接；

所述连接隔板和所述分隔板均开设有允许带材通过的通孔。

在其中的一些实施方式中，所述密封压辊包括压辊本体和设置于压辊本体外表面的辊套；

所述辊套的材质包括柔性材质，所述辊套的外表面用于与带材贴合。

在其中的一些实施方式中，所述分隔板与其中一个所述连接隔板之间的空间和/或两个相邻的分隔板之间的空间作为所述漏气处理腔室，所述分隔板与其中另一个所述连接隔板之间的空间作为所述过渡单元腔室。

在其中的一些实施方式中，所述漏气处理腔室的宽度为50mm-500mm；

和/或，所述过渡单元腔室的宽度大于等于所述漏气处理腔室的宽度。

在其中的一些实施方式中，至少一个所述连接隔板和/或所述分隔板的至少一侧设置有滑动密封垫。

在其中的一些实施方式中，至少一个所述过渡单元腔室内设置有除尘件，所述除尘件包括与一对所述密封压辊中的一个密封压辊外周面密封接触配合的上弧形面、及与一对所述密封压辊中的另一个密封压辊外周面密封接触配合的下弧形面；

所述除尘件与所述滑动密封垫相连。

在其中的一些实施方式中，所述带材从大气压环境进入所述真空过渡装置依次通过各个所述过渡单元腔室，各个所述过渡单元腔室的真空度递增；

所述带材从连续式真空镀膜设备中的真空镀膜装置进入所述真空过渡装置依次通过各个所述过渡单元腔室，各个所述过渡单元腔室的真空度递减。

根据本申请的另一个方面，本申请实施例提供了一种连续式真空镀膜设备，该连续式真空镀膜设备包括真空镀膜装置及如前所述的真空过渡装置；

所述真空镀膜装置设有带材的进料侧和出料侧，在所述进料侧和所述出料侧均连接有所述真空过渡装置。

在其中的一些实施方式中，所述连续式真空镀膜设备包括依次相连的放卷室、所述真空过渡装置、所述真空镀膜装置、所述真空过渡装置和收卷室；

所述放卷室和所述收卷室均与大气连通，所述真空过渡装置和所述真空镀膜装置均与抽真空装置相连。

在其中的一些实施方式中，所述放卷室内设有放卷辊，所述放卷辊与所述真空过渡装置之间设有用于传送带材的辊轮组；

和/或，所述收卷室内设有收卷辊。

实施本实用新型的技术方案，至少具有以下有益效果：

在本申请实施例中，所提供的真空过渡装置可以应用在连续式真空镀膜设备中，如在连续式真空镀膜设备中的真空镀膜装置的进料侧、出料侧均可以设置该真空过渡装置，该真空过渡装置通过多个过渡单元腔室的设置，可以使原料带材在进入真空镀膜装置之前从大气环境逐级的进行抽真空处理，不仅可以抽掉带材在大气环境中表面所吸附的空气、水汽等杂气或其他污染，实现对带材的预处理，还可以满足真空镀膜装置所需的真空要求，从而可以提升成品的质量，提升生产效率。并且，本申请在过渡单元腔室内设置成对的密封压辊，可以实现对带材的密封传送；在相邻两个过渡单元腔室之间设置漏气处理腔室，可以用于抽取残余杂气，进一步去除带材表面的大气污染，并保证所需的真空要求。

本申请的连续式真空镀膜设备包括上述真空过渡装置，因而至少具有真空过渡装置所具有的所有特征及优势，在此不再赘述。本申请的附加方面和优点将在下面的描述中部分给出，部分将从下面的描述中变得明显，或通过本申请的实践了解到。

附图说明

图1为本申请示例性的一些实施方式提供的真空过渡装置的结构示意图；

图2为本申请示例性的一些实施方式提供的连续式真空镀膜设备的结构示意图。

附图标记：

10-真空过渡装置；

100-过渡单元腔室；101-一级过渡单元腔室；102-二级过渡单元腔室；103-三级过渡单元腔室；104-四级过渡单元腔室；

110-壳体；111-连接隔板；112-分隔板；

120-漏气处理腔室；130-密封压辊；131-压辊本体；132-辊套；

140-抽真空装置；150-滑动密封垫；160-除尘件；

20-带材；30-放卷辊；40-辊轮组；50-真空镀膜装置。

具体实施方式

下面将结合本申请实施例中的附图，对本申请实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例是本申请一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本申请中的实施例，本领域普通技术人员在没有作出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本申请保护的范围。

请参阅图1至图2所示，本申请的一些实施例中，提供一种真空过渡装置10，该真空过渡装置10可以应用于真空镀膜领域，如应用在连续式真空镀膜设备中，用于实现对带材20的预处理；除此之外，还可以用于其他设备中，本申请实施例对于真空过渡装置10的具体使用场景和工况不作具体限制。

具体的，如图1至图2所示，在一些实施例中，该真空过渡装置10包括壳体110，壳体110内设置有用于将壳体110内部分隔成多个过渡单元腔室100的多个连接隔板111。

该壳体110可以是由四周的壁板围设成两端分别具有带材20的进料口和出料口的壳体结构。可选的，壳体110大体上可以呈方形结构，如长方体或正方体；当然，壳体110还可以采用其他形状结构，本实施例对于壳体110的形状结构不作限定。示例性的，壳体110可以由上顶板、下底板和位于上顶板和下底板之间的前后左右壁板密封连接形成，可以在左壁板设置允许带材20进入壳体110内部的进料口，在右壁板设置允许带材20输出的出料口；并且该壳体110为真空密封壳体，也就是，该壳体110的内部需要抽真空，壳体110的密封性需要良好，因此，该进料口和出料口可以与带材20的厚度相适应，进料口和出料口可以设置为仅允许带材20通过，而壳体110的其余部分均是密封连接的。

该壳体110的内部设置多个连接隔板111，利用多个连接隔板111将壳体110内部隔离形成多个过渡单元腔室100，通过多个过渡单元腔室100的设置可以实现对带材20的逐级抽真空。例如，真空过渡装置10由连接隔板111均分为一级过渡单元腔室101、二级过渡单元腔室102、三级过渡单元腔室103、四级过渡单元腔室104或四级以上过渡单元腔室等等。各个过渡单元腔室100之间是相互连通的，以使带材20从一级过渡单元腔室101依次向后续的二级过渡单元腔室102、三级过渡单元腔室103等逐渐传送，实现逐级的抽真空处理或逐级的预处理，可以提高预处理效果，并确保在真空镀膜装置50内部形成的真空环境。

可选的，过渡单元腔室100的数量可以为2-12个，进一步可以为2-10个，进一步可以为3-6个等；连接隔板111的数量可以比过渡单元腔室100的数量少一个。过渡单元腔室100的数量或连接隔板111的数量可以根据实际需求选择设定，本申请实施例对此不作限定。

本实施例中，各个过渡单元腔室100分别与抽真空装置140连接。

可选的，抽真空装置140可以包括真空泵组，真空泵组可以包括一个或多个真空泵。各个过渡单元腔室100可以分别通过真空管与各个真空泵组连接，利用真空泵组进行抽真空。

上述多个过渡单元腔室100的真空度可以相同或不同，较佳的，多个过渡单元腔室100的真空度略有不同。通过使各个过渡单元腔室100分别与各个抽真空装置140连接，可以实现对各个过渡单元腔室100的真空度的单独控制，方便分别进行调控每个过渡单元腔室100的真空度，利于实现对带材的逐级抽真空处理，方便操作。

本实施例中，每个过渡单元腔室100内均设置有用于传送带材20的至少一对密封压辊130，每对密封压辊130均包括竖直方向上间隔设置的两个密封压辊130，两个密封压辊130之间的间隙与带材20的厚度相适应。

上述每个过渡单元腔室100内可以设置一对或多对密封压辊130，可以起到对带材20传送的作用，每一对密封压辊130均包括竖直方向上间隔设置的两个密封压辊130，以形成供带材20水平通过的过件通道，也即是，两个密封压辊130可以分别为上密封压辊和下密封压辊，上密封压辊和下密封压辊呈镜像对称地设置在带材20输送轨迹的两侧，上密封压辊和下密封压辊被配置成使带材20从上密封压辊和下密封压辊之间穿过。上密封压辊和下密封压辊之间的间隙需要与带材20的厚度相适应，上密封压辊和下密封压辊的外周滚动面能够分别与带材20的上侧面和下侧面密封接触配合。

本实施例中，相邻的两个连接隔板111之间设置至少一个分隔板112，该分隔板112与其中一个连接隔板111之间的空间可以作为漏气处理腔室120，分隔板112与其中另一个连接隔板111之间的空间可以作为过渡单元腔室100，进而在相邻两个过渡单元腔室100之间形成有漏气处理腔室120，漏气处理腔室120与抽真空装置140连接。

该壳体110内部配置为形成多个过渡单元腔室100和多个漏气处理腔室120，各个过渡单元腔室100可以分别与各个抽真空装置140连接，且各个漏气处理腔室120也可以分别与各个抽真空装置140连接，以方便分别对各个过渡单元腔室100和各个漏气处理腔室120进行抽真空处理。漏气处理腔室120位于相邻两个过渡单元腔室100之间，在过渡单元腔室100内设置密封压辊130，在漏气处理腔室120内可以不设置密封压辊；例如，该壳体110内部可以依次形成过渡单元腔室100、漏气处理腔室120、过渡单元腔室100、漏气处理腔室120、过渡单元腔室100、漏气处理腔室120、过渡单元腔室100等等。

通过漏气处理腔室120的设置，可以用于抽取残余杂气，进一步去除带材表面的大气污染，并保证所需的真空要求。

可选的，带材20可以为金属带材或非金属带材。对于带材20的具体材质可以根据实际需求进行选择设定，本实施例对此不作限定。

将该真空过渡装置10应用在连续式真空镀膜设备中时，可以在连续式真空镀膜设备中的真空镀膜装置50(也可以称真空镀膜腔室)的进料侧和/或出料侧均可以设置该真空过渡装置10。以在真空镀膜装置50的进料侧密封连接该真空过渡装置10为例，该真空过渡装置10在使用过程中，相应的带材20从壳体110的进料口进入，先进入一级过渡单元腔室101，对带材20进行初步的真空处理，抽掉带材在大气环境中表面所吸附的空气与水汽等杂气；通过成对设置的上密封压辊和下密封压辊分别与带材20的上侧面和下侧面密封接触配合，对带材20进行传送；带材20从一级过渡单元腔室101经过漏气处理腔室120后进入二级过渡单元腔室102，利用漏气处理腔室120可以抽取残余杂气，在二级过渡单元腔室102可以进一步的对带材20进行抽真空处理，如此，依次的实现对带材20的逐级预处理，而后带材20可以从壳体110的出料口输出，进入真空镀膜腔室进行真空镀膜处理。其中，最后一级过渡单元腔室，也就是更靠近真空镀膜腔室的过渡单元腔室的真空度需要与真空镀膜腔室的真空度相适应，可以有效地确保在真空镀膜腔室内部形成的真空环境。

由此，基于以上设置，根据本实用新型实施例提供的技术方案，可以实现快速更换真空连续型镀膜系统的原料带材、原料带材进入真空镀膜腔室前的大气污染，该大气污染包括但不仅限于空气、水汽或其他对原料带材表面产生影响的污染问题，不仅可以提升生产效率，还可以对传统卷绕镀膜工艺进行完善和帮助。本实施例的真空过渡装置不仅可以缓解现有的分离型(间歇式)真空镀膜技术存在的更换原料带材所带来的效率低问题，而且可以缓解现有的连续型真空镀膜技术存在的大气环境中带材表面可能被污染(包括但不仅限于空气、水汽或其他对带材表面产生影响的污染)的问题。

本实施例提供的真空过渡装置10可以适用于多种类型的真空镀膜设备，如可适应多种卷对卷镀膜设备、热感应蒸发镀膜、电子束蒸发镀膜、电阻蒸发镀膜、磁控溅射镀膜等各种镀膜设备。

如图1所示，在一些实施例中，密封压辊130包括压辊本体131和设置于压辊本体131外表面的辊套132；辊套132的材质包括柔性材质，辊套132的外表面用于与带材20贴合。

根据本实施例，在各过渡单元腔室100内设置成对的密封压辊130，为了使每一对密封压辊130中的两个密封压辊130分别与带材20的上侧面和下侧面密封接触配合，两个密封压辊130需要与带材20的表面之间具有一定的接触压力，从而可以将密封压辊130设置成在压辊本体131的外周设置由柔性材质制成的辊套132的方式，利用柔性材质制成的辊套132与带材20接触，可以实现与带材20的紧密贴合防止大气进入，或者在两个密封压辊130与带材20接触过程中可以产生一定的变形，能提升密封效果。

可选的，辊套132可以由耐磨硅胶或橡胶等材质制作而成，当然还可以采用类似的其他柔性材质，本实施例对于辊套132的具体材质类型不作限定。通过耐磨硅胶或橡胶等材质制作而成的辊套132的设置，可以使带材20与密封压辊130紧密贴合，可以确保密封效果。

由于本实施例中的带材20需要连续输送移动，因此上述密封压辊130可以采用滚动的方式进行安装，如密封压辊130可以与驱动机构连接，通过驱动机构带动密封压辊130进行转动，该驱动机构可以包括电机等，本实施例对此不作限定。这样，在输送带材20的过程中可通过成对的密封压辊130的滚动实现与带材20的输送同步，可以避免密封压辊130与带材20的接触面之间产生相对滑动摩擦情况。可选的，密封压辊130可以为圆柱形，其外周滚动面可用于与带材20上相应的表面接触。

如此，通过在各过渡单元腔室100内设置上述成对的密封压辊130，可以实现将带材20压实进行水平传送，既保证了密封效果，又实现了带材的可靠性的传送。

在一些实施例中，壳体110内设置有多个分隔板112，分隔板112与其中一个连接隔板111之间的空间，和/或相邻的分隔板112之间的空间作为漏气处理腔室120，分隔板112与其中另一个连接隔板111之间的空间作为过渡单元腔室100。例如，该壳体110内设置有多个间隔设置的连接隔板111和多个间隔设置的分隔板112，分隔板112被配置为设置在两个连接隔板111之间，分隔板112与前一个连接隔板111之间的形成的空间可以作为漏气处理腔室120，分隔板112与后一个连接隔板111之间的形成的空间可以作为过渡单元腔室100。

或者，该壳体110内设置有多个间隔设置的连接隔板111和多个间隔设置的分隔板112，分隔板112包括第一分隔板和第二分隔板，并被配置为设置在两个连接隔板111之间，第一分隔板与前一个连接隔板111之间形成的空间可以作为第一漏气处理腔室，第一分隔板和第二分隔板之间的形成的空间可以作为第二漏气处理腔室120，第二分隔板与后一个连接隔板111之间的形成的空间可以作为过渡单元腔室100。

示例性的，该真空过渡装置10的壳体110内部由连接隔板111均分为一级过渡单元腔室101、二级过渡单元腔室102、三级过渡单元腔室103、四级过渡单元腔室104，各级过渡单元腔室内均设置有一对密封压辊130。并且，在二级过渡单元腔室102的入口处后方的一定距离处设置分隔板112，以利用该分隔板112隔离出一个漏气处理腔室120；类似的，可以在三级过渡单元腔室103的入口处后方的一定距离处设置分隔板112，以利用该分隔板112隔离出一个漏气处理腔室120；可以在四级过渡单元腔室104的入口处后方的一定距离处设置分隔板112，以利用该分隔板112隔离出一个漏气处理腔室120。从而，该真空过渡装置10通过上述多个连接隔板111和分隔板112的设置，使壳体110内部被隔离形成一级过渡单元腔室101、漏气处理腔室120、二级过渡单元腔室102、漏气处理腔室120、三级过渡单元腔室103、漏气处理腔室120和四级过渡单元腔室104。

在一些实施例中，连接隔板111和分隔板112均开设有允许带材20通过的通孔。该连接隔板111和分隔板112上的通孔可以与壳体110的进料口和出料口相对应的设置，该通孔可以与带材20的厚度相适应，通孔被配置为仅允许带材20通过。也即是，连接隔板111和分隔板112上开设的通孔可以为较小的狭缝，仅允许带材20能够通孔即可，以最大限度的保持各腔室之间的隔气良好，确保密封效果。

可选的，连接隔板111可以具有一定的厚度，分隔板112可以采用厚度较薄的薄板；连接隔板111的厚度可以大于分隔板112的厚度。

在一些实施例中，漏气处理腔室120的宽度可以为50mm-500mm；进一步，漏气处理腔室120的宽度为80mm-300mm；漏气处理腔室120的宽度为100mm-200mm。例如，可以在二级或三级等过渡单元腔室的入口处后方的150mm左右的距离处设置分隔板112，以利用该分隔板112隔离出漏气处理腔室120。

本实施例中，过渡单元腔室100的宽度大于或等于漏气处理腔室120的宽度。由于在过渡单元腔室100内设置密封压辊130，而在漏气处理腔室120内可以不设置密封压辊，因此，该漏气处理腔室120的宽度可以较小，方便用于抽取残余杂气即可，以在保证预处理效果的前提下，尽可能的减少占用空间，节约成本。

在一些实施例中，在至少一个连接隔板111和/或分隔板112的至少一侧设置有滑动密封垫150。在本实施例中，滑动密封垫150可以位于过渡单元腔室100的出口侧。例如，该真空过渡装置10的壳体110内部形成有一级过渡单元腔室101、二级过渡单元腔室102、三级过渡单元腔室103等多级过渡单元腔室，可以在二级及二级以上的过渡单元腔室内设置滑动密封垫150，且滑动密封垫150可以位于过渡单元腔室100的出口侧；也就是，过渡单元腔室100包括进口侧的连接隔板111和出口侧的连接隔板111，该滑动密封垫150可以设置于过渡单元腔室100出口侧的连接隔板111处。例如，可以使滑动密封垫150与过渡单元腔室100出口侧的连接隔板111滑动密封接触配合连接。

此外，在其他实施方式中，也可以在每个分隔板112的至少一侧也设置滑动密封垫150。

通过滑动密封垫150的设置，可以保证各个真空过渡单元腔室100和漏气处理腔室120的密封效果，进而保证各个真空过渡单元腔室达到所需求的真空度，结构简单，方便拆装，密封效果好，成本较低。

在一些实施例中，至少一个过渡单元腔室100内设置有除尘件160，除尘件160包括与一对密封压辊130中的一个密封压辊130外周面密封接触配合的上弧形面、及与一对密封压辊130中的另一个密封压辊130外周面密封接触配合的下弧形面；例如，除尘件160包括与上密封压辊外周面密封接触配合的上弧形面和与下密封压辊外周面密封接触配合的下弧形面。这样，通过具有上弧形面和下弧形面的除尘件160的设置，可以实现除尘件160与圆柱形的密封压辊130的密封接触配合。

该除尘件160的一端可以通过上弧形面和下弧形面分别与上密封压辊和下密封压辊密封接触配合，除尘件160的另一端可以与滑动密封垫150相连。例如，该真空过渡装置10的壳体110内部形成有一级过渡单元腔室101、二级过渡单元腔室102、三级过渡单元腔室103等多级过渡单元腔室，可以在三级及三级以上的过渡单元腔室内设置除尘件160，且除尘件160也可以位于过渡单元腔室100的出口侧。此外，在其他实施方式中，也可以在每个过渡单元腔室100内均设置除尘件160。

通过除尘件160的设置，可以用于去除带材表面的灰尘或其他杂质，进一步提升预处理效果。

可选的，该除尘件可以为柔性材质的除尘垫。这样，可以使带材与除尘垫紧密贴合，可以确保密封效果。

本实施例中，可以在二级及二级以上的过渡单元腔室内设置滑动密封垫150，可以在三级及三级以上的过渡单元腔室内设置除尘件160，并以三级过渡单元腔室103为标准，也就是以设置有滑动密封垫150和除尘件160的过渡单元腔室100为标准，再设置多个过渡单元腔室100。这样，可以充分的去除带材表面的大气污染、灰尘或其他杂质等，达到所需求的真空环境，提升预处理效果。

在一些实施例中，带材20从大气压环境进入真空过渡装置10依次通过各个过渡单元腔室100，各个过渡单元腔室100的真空度递增。将该真空过渡装置10设置于连续式真空镀膜设备中的真空镀膜装置50的进口侧时，需要使带材20从壳体110的进料口进入并依次经过各个(各级)过渡单元腔室100，先通过第一个过渡单元腔室100进行初步的抽真空处理，而后各个过渡单元腔室100的真空度逐渐增加，逐步的对带材20进行分级处理；最后一个过渡单元腔室100，也就是更靠近真空镀膜腔室的过渡单元腔室100的真空度需要与真空镀膜腔室的真空度相适应，可以有效地确保在真空镀膜腔室内部形成的真空环境。

在一些实施例中，带材20从连续式真空镀膜设备中的真空镀膜装置50进入真空过渡装置10依次通过各个过渡单元腔室100，各个过渡单元腔室100的真空度递减。将该真空过渡装置10设置于连续式真空镀膜设备中的真空镀膜装置50的出口侧时，需要使镀膜后的带材20从真空镀膜装置50输出并从壳体110的进料口进入依次经过各个过渡单元腔室100，各个过渡单元腔室100的真空度逐渐减小，即逐渐进行真空释放接近大气压，最终至收卷室的收卷辊。

如图1至图2所示，在一些实施例中，还提供了一种连续式真空镀膜设备，该连续式真空镀膜设备包括真空镀膜装置50及真空过渡装置10；真空镀膜装置50设有带材20的进料侧和出料侧，可以在进料侧和/或出料侧均可以连接有真空过渡装置10。

在一些实施例中，连续式真空镀膜设备包括依次相连的放卷室、真空过渡装置10、真空镀膜装置50、真空过渡装置10和收卷室；

放卷室和收卷室均与大气连通，真空过渡装置10和真空镀膜装置50均与抽真空装置140相连。

本实施例的连续式真空镀膜设备包括上述真空过渡装置10，因而至少具有该真空过渡装置10所具有的所有特征及优势，在此不再赘述。应理解，以上示例性的给出连续式真空镀膜设备的结构，然而，在其他实施方式中，连续式真空镀膜设备的结构并不限于此。此外，连续式真空镀膜设备中的其余部分腔室的设置如放卷室、收卷室或真空镀膜装置50等的具体结构或连接方式或工作原理可参考现有技术，本实施例对此不作限定，在此不再赘述。

上述真空镀膜装置50的一侧为带材20的进料侧，真空镀膜装置50的另一侧为带材20的出料侧。在真空镀膜装置50的进料侧与真空镀膜装置50密封连接地设置本实施例的真空过渡装置10，在真空镀膜装置50的出料侧与真空镀膜装置50密封连接地设置本实施例的真空过渡装置10。运行时，带材20由放卷室依次从位于真空镀膜装置50进料侧的真空过渡装置10、真空镀膜装置50、位于真空镀膜装置50出料侧的真空过渡装置10通过，并最终达到收卷室。其中，真空镀膜装置50指的是对带材进行相应的真空镀膜的设备安装所对应的区域或腔室。

在一些实施例中，放卷室内设有放卷辊30，放卷辊30与真空过渡装置10之间设有用于传送带材20的辊轮组40；和/或，收卷室内设有收卷辊。

本实施例提供的连续式真空镀膜设备的工作原理如下所示：

将原料带材20置于放卷室的放卷辊30，经过辊轮组40送入真空镀膜装置50进料侧的真空过渡装置10。

原料带材20从真空过渡装置10的壳体110进料口进入壳体110内部，壳体110的内部设置多个连接隔板111，利用多个连接隔板111将壳体110内部隔离形成多个过渡单元腔室100，在各个过渡单元腔室100设置成对的密封压辊130，每对密封压辊130均包括竖直方向上间隔设置的两个密封压辊130，原料带材20从两个密封压辊130之间通过；各个密封压辊130均包括压辊本体131和设置于压辊本体131外表面的辊套132，通过耐磨硅胶或橡胶等材质制作而成的辊套132，可以使带材20与密封压辊130紧密贴合防止大气进入；通过在各过渡单元腔室100内设置上述成对的密封压辊130，可以将带材20压实进行水平传送。

壳体110内设置有多个分隔板112，分隔板112位于两个连接隔板111之间，分隔板112与其中一个连接隔板111之间的空间作为漏气处理腔室120，分隔板112与其中另一个连接隔板111之间的空间作为过渡单元腔室100；连接隔板111和分隔板112均开设有允许带材20通过的通孔，该通孔可以为较小的狭缝，仅允许带材20能够通孔即可，以最大限度的保持各腔室之间的隔气良好，确保密封效果。

带材20进入一级过渡单元腔室101后，开启抽真空装置140对带材20进行初步的真空处理，抽掉带材20在大气环境中表面所吸附的空气与水汽等杂气，经过成对的密封压辊130通过连接隔板111后进入漏气处理腔室120，而后再通过分隔板112后进入二级过渡单元腔室102。其中，开启与漏气处理腔室120连接的抽真空装置140，以抽取残余杂气；开启与二级过渡单元腔室102连接的抽真空装置140，进行进一步的抽真空处理，在二级过渡单元腔室102的出口侧可以设置滑动密封垫150，以增强密封效果。

带材20经过二级过渡单元腔室102的成对的密封压辊130通过连接隔板111后进入漏气处理腔室120，而后再通过分隔板112后进入三级过渡单元腔室103，进行进一步的抽真空处理。在三级过渡单元腔室103的出口侧可以设置滑动密封垫150和除尘件160，以进一步去除带材20表面的灰尘或其他杂质等。

以三级过渡单元腔室103为标准，在后面设置若干个过渡单元腔室，经过后续的过渡单元腔室处理后进入真空镀膜装置50，开始镀膜。

完成镀膜后，经过真空镀膜装置50出料侧的真空过渡装置逐级真空释放，最终到达收卷室的收卷辊。

综上，根据本实施例所提供的真空过渡装置及连续式真空镀膜设备，可以使原料带材在进入真空镀膜装置之前从大气环境逐级的进行抽真空处理，不仅可以抽掉带材在大气环境中表面所吸附的空气、水汽等杂气或其他污染，实现对带材的预处理，还可以满足真空镀膜装置所需的真空要求，从而可以提升成品的质量，提升生产效率。相比于现有的连续型真空镀膜设备，本申请增加了真空过渡装置，提供了改进的连续型带材真空镀膜设备，在原料带材进入真空镀膜腔室之前进行预处理，可以保证带材表面尽可能的不受大气污染影响，可以去除带材表面的杂气、粉尘或其他杂质等，可以避免因带材表面污染的现象而导致整体工艺效率下降的问题，能够有效地提升生产效率。相比于现有的分离型真空镀膜设备，将原料带材置于大气中，使用完毕后即时更换，无需开腔破真空，可以实现不间断的连续生产，降低设备复杂度，能够满足连续镀膜生产的目的。

本实用新型说明书中未详细说明部分为本领域技术人员公知技术。

在本实用新型的描述中，需要理解的是，术语“中心”、“纵向”、“横向”、“长度”、“宽度”、“厚度”、“上”、“下”、“前”、“后”、“左”、“右”、“竖直”、“水平”、“顶”、“底”“内”、“外”、“顺时针”、“逆时针”、“轴向”、“径向”、“周向”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，仅是为了便于描述本实用新型和简化描述，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本实用新型的限制。

在本实用新型中，除非另有明确的规定和限定，术语“安装”、“相连”、“连接”、“固定”等术语应做广义理解，例如，可以是固定连接，也可以是可拆卸连接，或成一体；可以是机械连接，也可以是电连接或彼此可通讯；可以是直接相连，也可以通过中间媒介间接相连，可以是两个元件内部的连通或两个元件的相互作用关系，除非另有明确的限定。对于本领域的普通技术人员而言，可以根据具体情况理解上述术语在本实用新型中的具体含义。

在本实用新型中，术语“一个实施例”、“一些实施例”、“示例”、“具体示例”或“一些示例”等意指结合该实施例或示例描述的具体特征、结构、材料或者特点包含于本实用新型的至少一个实施例或示例中。在本说明书中，对上述术语的示意性表述不必须针对的是相同的实施例或示例。而且，描述的具体特征、结构、材料或者特点可以在任一个或多个实施例或示例中以合适的方式结合。此外，在不相互矛盾的情况下，本领域的技术人员可以将本说明书中描述的不同实施例或示例以及不同实施例或示例的特征进行结合和组合。

最后应说明的是：以上实施例仅用以说明本实用新型的技术方案，而非对其限制；尽管参照前述实施例对本实用新型进行了详细的说明，本领域的普通技术人员应当理解：其依然可以对前述各实施例所记载的技术方案进行修改，或者对其中部分技术特征进行等同替换；而这些修改或者替换，并不使相应技术方案的本质脱离本实用新型各实施例技术方案的精神和范围。

Claims (10)

1.一种真空过渡装置，用于连续式真空镀膜设备，其特征在于，所述真空过渡装置包括壳体，所述壳体内设置有用于将所述壳体内部分隔成多个过渡单元腔室的多个连接隔板；

各个所述过渡单元腔室分别与抽真空装置连接；

每个所述过渡单元腔室内均设置有用于传送带材的至少一对密封压辊，每对所述密封压辊均包括竖直方向上间隔设置的两个所述密封压辊，两个所述密封压辊之间的间隙与带材的厚度相适应；

相邻两个所述连接隔板之间设置至少一个分隔板，从而在两个相邻的所述过渡单元腔室之间形成漏气处理腔室，所述漏气处理腔室与抽真空装置连接；

所述连接隔板和所述分隔板均开设有允许带材通过的通孔。

2.根据权利要求1所述的真空过渡装置，其特征在于，所述密封压辊包括压辊本体和设置于压辊本体外表面的辊套；

所述辊套的材质包括柔性材质，所述辊套的外表面用于与带材贴合。

3.根据权利要求1所述的真空过渡装置，其特征在于，所述分隔板与其中一个所述连接隔板之间的空间和/或两个相邻的分隔板之间的空间作为所述漏气处理腔室，所述分隔板与其中另一个所述连接隔板之间的空间作为所述过渡单元腔室。

4.根据权利要求1所述的真空过渡装置，其特征在于，所述漏气处理腔室的宽度为50mm-500mm；

和/或，所述过渡单元腔室的宽度大于等于所述漏气处理腔室的宽度。

5.根据权利要求1所述的真空过渡装置，其特征在于，至少一个所述连接隔板和/或所述分隔板的至少一侧设置有滑动密封垫。

6.根据权利要求5所述的真空过渡装置，其特征在于，至少一个所述过渡单元腔室内设置有除尘件，所述除尘件包括与一对所述密封压辊中的一个密封压辊外周面密封接触配合的上弧形面、及与一对所述密封压辊中的另一个密封压辊外周面密封接触配合的下弧形面；

所述除尘件与所述滑动密封垫相连。

7.根据权利要求1-6任一项所述的真空过渡装置，其特征在于，所述带材从大气压环境进入所述真空过渡装置依次通过各个所述过渡单元腔室，各个所述过渡单元腔室的真空度递增；

所述带材从连续式真空镀膜设备中的真空镀膜装置进入所述真空过渡装置依次通过各个所述过渡单元腔室，各个所述过渡单元腔室的真空度递减。

8.一种连续式真空镀膜设备，其特征在于，包括真空镀膜装置及如权利要求1-7任一项所述的真空过渡装置；

所述真空镀膜装置设有带材的进料侧和出料侧，在所述进料侧和所述出料侧均连接有所述真空过渡装置。

9.根据权利要求8所述的连续式真空镀膜设备，其特征在于，所述连续式真空镀膜设备包括依次相连的放卷室、所述真空过渡装置、所述真空镀膜装置、所述真空过渡装置和收卷室；

所述放卷室和所述收卷室均与大气连通，所述真空过渡装置和所述真空镀膜装置均与抽真空装置相连。

10.根据权利要求9所述的连续式真空镀膜设备，其特征在于，所述放卷室内设有放卷辊，所述放卷辊与所述真空过渡装置之间设有用于传送带材的辊轮组；

和/或，所述收卷室内设有收卷辊。

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