JP2647513B2 - 連続真空蒸着装置 - Google Patents
連続真空蒸着装置Info
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- JP2647513B2 JP2647513B2 JP1260159A JP26015989A JP2647513B2 JP 2647513 B2 JP2647513 B2 JP 2647513B2 JP 1260159 A JP1260159 A JP 1260159A JP 26015989 A JP26015989 A JP 26015989A JP 2647513 B2 JP2647513 B2 JP 2647513B2
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- rolls
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Description
【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明はプラスチックフィルム、紙及び金属箔等の薄
く、かつ傷つきやすい基板等の走行基板に連続的に真空
蒸着を施す装置に関する。
く、かつ傷つきやすい基板等の走行基板に連続的に真空
蒸着を施す装置に関する。
従来、プラスチックフィルム、紙及び金属箔等に対す
る真空蒸着は予めコイル状に巻いた基板を真空容器内に
装填し、真空容器を充分排気した後、該基板を走行、蒸
着する方法で、１コイル毎に真空引き、加熱、走行、蒸
着、大気解放を繰返すバッチ方式であった。このバッチ
方式は生産性か悪く連続化の要求が高まっている。
る真空蒸着は予めコイル状に巻いた基板を真空容器内に
装填し、真空容器を充分排気した後、該基板を走行、蒸
着する方法で、１コイル毎に真空引き、加熱、走行、蒸
着、大気解放を繰返すバッチ方式であった。このバッチ
方式は生産性か悪く連続化の要求が高まっている。
第４図は鋼板などの基板を大気中から連続して真空中
に供給するための差動排気システムを蒸着室前後に付加
した従来の真空蒸着装置の一態様を示す図である。第４
図において、蒸着室２はシールロール11a,11b,11c・・
・・で仕切られ、それぞれ排気ポンプユニット13と接続
されている圧力室12a,12b,12c・・・からなる入側シー
ル装置９と、同様な構成の出側シール装置10を前後に接
続され、大気側から蒸着室２までシールロール11a,11b,
11c・・・の抵抗による圧力勾配の発生によって所定の
真空度に保持される。基板１は大気中から入側シール装
置９を経て蒸着室２に搬送され、冷却ロール４で蒸着時
の温度上昇を減ずるよう冷却されながら蒸着装置５によ
り蒸着された後、出側シール装置10を経て大気中に搬出
されることになる。蒸着装置５は蒸着材６、これを収納
する収納容器７及び該容器７の加熱装置９から構成さ
れ、蒸着材６を走行基板１に向け蒸発させる。３はデフ
レクタロールである。
に供給するための差動排気システムを蒸着室前後に付加
した従来の真空蒸着装置の一態様を示す図である。第４
図において、蒸着室２はシールロール11a,11b,11c・・
・・で仕切られ、それぞれ排気ポンプユニット13と接続
されている圧力室12a,12b,12c・・・からなる入側シー
ル装置９と、同様な構成の出側シール装置10を前後に接
続され、大気側から蒸着室２までシールロール11a,11b,
11c・・・の抵抗による圧力勾配の発生によって所定の
真空度に保持される。基板１は大気中から入側シール装
置９を経て蒸着室２に搬送され、冷却ロール４で蒸着時
の温度上昇を減ずるよう冷却されながら蒸着装置５によ
り蒸着された後、出側シール装置10を経て大気中に搬出
されることになる。蒸着装置５は蒸着材６、これを収納
する収納容器７及び該容器７の加熱装置９から構成さ
れ、蒸着材６を走行基板１に向け蒸発させる。３はデフ
レクタロールである。
上述したような連続真空蒸着装置が、プラスチックフ
ィルム、紙及び金属箔などの薄く、かつ傷つきやすい基
板に対して実施されていない要因として下記の点があげ
られる。
ィルム、紙及び金属箔などの薄く、かつ傷つきやすい基
板に対して実施されていない要因として下記の点があげ
られる。
（１） 銅板を対象とした装置ではシールロールにより
走行基板をピンチし、各圧力空間のリーク面積を減少さ
せる方式を採りうるが、上記のような薄く、かつ傷つき
やすい基板ではピンチにより傷が発生し、製品品質上致
命的な欠陥となるため、このような手法が採用できず、
従って大気側から高真空側へ圧力勾配を発生させるため
の排気量が膨大となり排気ポンプ系が非常に大きくな
る。
走行基板をピンチし、各圧力空間のリーク面積を減少さ
せる方式を採りうるが、上記のような薄く、かつ傷つき
やすい基板ではピンチにより傷が発生し、製品品質上致
命的な欠陥となるため、このような手法が採用できず、
従って大気側から高真空側へ圧力勾配を発生させるため
の排気量が膨大となり排気ポンプ系が非常に大きくな
る。
（２） 圧力室を走行基板が通過する時、圧力室間の隙
間から流れ込む気流により基板がバタツキ、傷、破損の
要因となる。
間から流れ込む気流により基板がバタツキ、傷、破損の
要因となる。
本発明は上記技術水準に鑑み、プラスチックフィル
ム、紙び及金属箔等のような薄く、かつ傷つきやすい基
板に、上述した不具合を生じることのなく連続的に真空
蒸着を行うことができる装置を提供しようとするもので
ある。
ム、紙び及金属箔等のような薄く、かつ傷つきやすい基
板に、上述した不具合を生じることのなく連続的に真空
蒸着を行うことができる装置を提供しようとするもので
ある。
本発明は、プラスチックフィルム等の薄膜基板を連続
的に大気中から減圧室を通して蒸着室内部の冷却ロール
に巻きつけ、該蒸着室内下部の蒸着材収納容器から上昇
する蒸気により真空蒸着を施し、該減圧室を再び通って
大気中に連続的に蒸着基板を搬出する連続真空蒸着装置
において、上記減圧室はシール装置によって多数の差圧
室に区切られ、上記蒸着室が該差圧室を介して大気中に
接続され、該各シール装置は同一直線上に並列する入側
ロール、出側ロール及び補助ロールの３本一組のシール
ロール及びその両側に若干の間隙をあけて上記直線上に
設けた１対のシールバーによって構成され、該シールロ
ールの各ロール間には隙間を設け、上記入側基板及び出
側蒸着基板は該シールロールの前後に設けたガイドロー
ルによって入側ロール及び出側ロールに10度以上の巻き
つけ角度で巻きつけて走行するように該シールロール及
び該ガイドロールを配置し、かつ出側蒸着基板の蒸着面
と接するガイドロールをテンデンシーロールとしたこと
を特徴とする連続真空蒸着装置である。
的に大気中から減圧室を通して蒸着室内部の冷却ロール
に巻きつけ、該蒸着室内下部の蒸着材収納容器から上昇
する蒸気により真空蒸着を施し、該減圧室を再び通って
大気中に連続的に蒸着基板を搬出する連続真空蒸着装置
において、上記減圧室はシール装置によって多数の差圧
室に区切られ、上記蒸着室が該差圧室を介して大気中に
接続され、該各シール装置は同一直線上に並列する入側
ロール、出側ロール及び補助ロールの３本一組のシール
ロール及びその両側に若干の間隙をあけて上記直線上に
設けた１対のシールバーによって構成され、該シールロ
ールの各ロール間には隙間を設け、上記入側基板及び出
側蒸着基板は該シールロールの前後に設けたガイドロー
ルによって入側ロール及び出側ロールに10度以上の巻き
つけ角度で巻きつけて走行するように該シールロール及
び該ガイドロールを配置し、かつ出側蒸着基板の蒸着面
と接するガイドロールをテンデンシーロールとしたこと
を特徴とする連続真空蒸着装置である。
（１） 同一直線上に並列する入側ロールと出側ロール
と補助ロールの３本一組のシールロールを、上記直線上
に設けた１対のシールバーの間に配置し、該シールロー
ルの前後に設けたガイドロールにより、入側基板及び出
側蒸着基板をガイドロールによって入側ロール及び出側
ロールに対して一定角度以上の角度で巻きつけた状態で
走行させることにより、シールロール間隙を流れる気流
で走行基板がバタツクことを防止できる。
と補助ロールの３本一組のシールロールを、上記直線上
に設けた１対のシールバーの間に配置し、該シールロー
ルの前後に設けたガイドロールにより、入側基板及び出
側蒸着基板をガイドロールによって入側ロール及び出側
ロールに対して一定角度以上の角度で巻きつけた状態で
走行させることにより、シールロール間隙を流れる気流
で走行基板がバタツクことを防止できる。
（２） ガイドロールは基板にスリップによる傷が発生
しないようモータ等で駆動され、その回転数が制御され
るが、何らかの外乱による瞬間的微妙な基板速度変化
や、加速、減速時における微妙な速度のずれは避けられ
ず、これに対応して回転数を制御することは極めて困難
であり、蒸着前のプラスチックフィルム、紙及び金属箔
等の非蒸着面に生ずる傷は、ある程度許容されるもの
の、蒸着面についてはわずかの傷の発生によっても製品
品質上致命的な欠陥となるので、蒸着を施された後の基
板に対しては、その蒸着面側に配設したガイドロールを
テンデンシーロールとし、前記微妙な基板速度変化や、
速度のずれにモータの回転数を制御することなく追従す
るようにして蒸着面に傷を生じさせない。
しないようモータ等で駆動され、その回転数が制御され
るが、何らかの外乱による瞬間的微妙な基板速度変化
や、加速、減速時における微妙な速度のずれは避けられ
ず、これに対応して回転数を制御することは極めて困難
であり、蒸着前のプラスチックフィルム、紙及び金属箔
等の非蒸着面に生ずる傷は、ある程度許容されるもの
の、蒸着面についてはわずかの傷の発生によっても製品
品質上致命的な欠陥となるので、蒸着を施された後の基
板に対しては、その蒸着面側に配設したガイドロールを
テンデンシーロールとし、前記微妙な基板速度変化や、
速度のずれにモータの回転数を制御することなく追従す
るようにして蒸着面に傷を生じさせない。
以下、本発明の一実施例を第１図によって詳述する。
第１図中、第４図と同一符号は第４図と同一部を示す。
第１図中、第４図と同一符号は第４図と同一部を示す。
第１図の連続真空蒸着装置は、図示省略の巻き出しリ
ールから送り出されたプラスチックフィルム等の薄膜基
板１を大気中から減圧室14を通して蒸着室２に送り、真
空蒸着を施した後、減圧室14を再び通って大気中に連続
的に搬出する装置である。
ールから送り出されたプラスチックフィルム等の薄膜基
板１を大気中から減圧室14を通して蒸着室２に送り、真
空蒸着を施した後、減圧室14を再び通って大気中に連続
的に搬出する装置である。
この減圧室14はシール装置によって多数の差圧室17a,
17b,17c・・・に仕切られている。シール装置は同一直
線上に並列する入側ロールと出側ロールと補助ロールの
３本一組のシールロール15a,15b,15c・・・、及びその
両側に若干の間隙をあけて上記直線上に配置された一対
のシールバー16a,16b,16c・・・で構成されている。そ
して、差圧室17a,17b,17c・・・は排気ポンプユニット
により減圧され、蒸着室２に所定の真空度を保つように
大気側から蒸着室２に向けて圧力勾配が形成される。
17b,17c・・・に仕切られている。シール装置は同一直
線上に並列する入側ロールと出側ロールと補助ロールの
３本一組のシールロール15a,15b,15c・・・、及びその
両側に若干の間隙をあけて上記直線上に配置された一対
のシールバー16a,16b,16c・・・で構成されている。そ
して、差圧室17a,17b,17c・・・は排気ポンプユニット
により減圧され、蒸着室２に所定の真空度を保つように
大気側から蒸着室２に向けて圧力勾配が形成される。
巻き出しリールから送り出された薄膜基板１は、シー
ルロール15a,15b,15c・・・の前後に配置されたガイド
ロール18a,18b,18c・・・により、シールロール15a,15
b,15c・・・の入側ロールに対して一定の角度で巻きつ
けられてシールロールを通過して次の差圧室に送られ、
所定の真空度を有する蒸着室２内の冷却ロール４の上で
蒸着材６の被膜が形成される。
ルロール15a,15b,15c・・・の前後に配置されたガイド
ロール18a,18b,18c・・・により、シールロール15a,15
b,15c・・・の入側ロールに対して一定の角度で巻きつ
けられてシールロールを通過して次の差圧室に送られ、
所定の真空度を有する蒸着室２内の冷却ロール４の上で
蒸着材６の被膜が形成される。
蒸着室２の冷却ロール４の下方には、蒸着材６を収容
する容器７とその周囲に配置されたヒータ８とからなる
蒸着装置５が配置され、蒸着材６を蒸発するようになっ
ている。
する容器７とその周囲に配置されたヒータ８とからなる
蒸着装置５が配置され、蒸着材６を蒸発するようになっ
ている。
その後、蒸着基板１は、シールロール15a,15b,15c・
・・の前後に配置されたテンデンシーロール19a,19b,19
c・・・により、シールロール15a,15b,15c・・・の出側
ロールに対して一定の巻きつけ角度で巻きつけるように
してシールロールを通過して減圧室から大気中に連続的
に搬出される。その際に基板１の蒸着面は全てテンデン
シーロール19a,19b,19c・・・と接するように配置す
る。
・・の前後に配置されたテンデンシーロール19a,19b,19
c・・・により、シールロール15a,15b,15c・・・の出側
ロールに対して一定の巻きつけ角度で巻きつけるように
してシールロールを通過して減圧室から大気中に連続的
に搬出される。その際に基板１の蒸着面は全てテンデン
シーロール19a,19b,19c・・・と接するように配置す
る。
テンデンシーロール19a,19b,19c・・・の構造の一例
を第２図に示す。第２図のテンデンシーロールは、ベア
リング22で支持され、モータ23で駆動される小径ロール
20と、その外周にベアリング23を介して保持される中空
ロール21からなる。そして、基板の蒸着面は中空ロール
の表面で受けるように配置される。
を第２図に示す。第２図のテンデンシーロールは、ベア
リング22で支持され、モータ23で駆動される小径ロール
20と、その外周にベアリング23を介して保持される中空
ロール21からなる。そして、基板の蒸着面は中空ロール
の表面で受けるように配置される。
各テンデンシーロールの回転・周速度は、冷却ロール
４上の基板の走行速度と同じになるように制御される
が、基板速度の変化や冷却ロールの速度とのずれなどが
生ずると、中空ロール21の回転が基板の走行に追従し、
小径ロール20の回転との微妙なずれはベアリング23で吸
収される。
４上の基板の走行速度と同じになるように制御される
が、基板速度の変化や冷却ロールの速度とのずれなどが
生ずると、中空ロール21の回転が基板の走行に追従し、
小径ロール20の回転との微妙なずれはベアリング23で吸
収される。
また、シールロール15a,15b,15c・・・の出側ロール
に対する走行基板の巻きつけ角度、及び出側ロールに対
する蒸着面を有する走行基板の巻きつけ角度を変化させ
て基板のバタツキを調べたところ、10度以上の巻きつけ
角度を保持すると、両基板のバタツキは実質的に問題な
らない程度まで低下することを確認された。
に対する走行基板の巻きつけ角度、及び出側ロールに対
する蒸着面を有する走行基板の巻きつけ角度を変化させ
て基板のバタツキを調べたところ、10度以上の巻きつけ
角度を保持すると、両基板のバタツキは実質的に問題な
らない程度まで低下することを確認された。
シールロール部でのリーク隙間が小さくなるため、シ
ール性能が向上する。また走行基板及び走行蒸着基板が
10度以上の巻きつき角度でシールロールへ巻きついてい
るためこれら基板のバタツキがなくなり、走行中のしわ
の発生、切断のおそれがない。
ール性能が向上する。また走行基板及び走行蒸着基板が
10度以上の巻きつき角度でシールロールへ巻きついてい
るためこれら基板のバタツキがなくなり、走行中のしわ
の発生、切断のおそれがない。
更に走行蒸着基板をシールロールへ巻き付けるにあた
り、その蒸着面側にテンデンシーロールを配設すること
により製品品質上最も重要な蒸着面へのキズを防止でき
る。
り、その蒸着面側にテンデンシーロールを配設すること
により製品品質上最も重要な蒸着面へのキズを防止でき
る。
第１図は本発明の一実施例装置の概略図、第２図は本発
明装置に使用するテンデンシーロールの一態様の概略
図、第３図は本発明の効果を示すグラフ、第４図は従来
の連続真空蒸着装置の一態様の概略図である。
明装置に使用するテンデンシーロールの一態様の概略
図、第３図は本発明の効果を示すグラフ、第４図は従来
の連続真空蒸着装置の一態様の概略図である。
Claims (1)
- 【請求項１】プラスチックフィルム等の薄膜基板を連続
的に大気中から減圧室を通して蒸着室内部の冷却ロール
に巻きつけ、該蒸着室内下部の蒸着材収納容器から上昇
する蒸気により真空蒸着を施し、該減圧室を再び通って
大気中に連続的に蒸着基板を搬出する連続真空蒸着装置
において、上記減圧室はシール装置によって多数の差圧
室に区切られ、上記蒸着室が該差圧室を介して大気中に
接続され、該各シール装置は同一直線上に並列する入側
ロール、出側ロール及び補助ロールの３本一組のシール
ロール及びその両側に若干の間隙をあけて上記直線上に
設けた１対のシールバーによって構成され、該シールロ
ールの各ロール間には隙間を設け、上記入側基板及び出
側蒸着基板は該シールロールの前後に設けたガイドロー
ルによって入側ロール及び出側ロールに10度以上の巻き
つけ角度で巻きつけて走行するように該シールロール及
び該ガイドロールを配置し、かつ出側蒸着基板の蒸着面
と接するガイドロールをテンデンシーロールとしたこと
を特徴とする連続真空蒸着装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1260159A JP2647513B2 (ja) | 1989-10-06 | 1989-10-06 | 連続真空蒸着装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1260159A JP2647513B2 (ja) | 1989-10-06 | 1989-10-06 | 連続真空蒸着装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH03122276A JPH03122276A (ja) | 1991-05-24 |
| JP2647513B2 true JP2647513B2 (ja) | 1997-08-27 |
Family
ID=17344139
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1260159A Expired - Fee Related JP2647513B2 (ja) | 1989-10-06 | 1989-10-06 | 連続真空蒸着装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2647513B2 (ja) |
Families Citing this family (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP4664637B2 (ja) * | 2004-09-22 | 2011-04-06 | 三菱重工業株式会社 | 基板冷却装置及び基板の冷却方法 |
| JP2012219322A (ja) * | 2011-04-07 | 2012-11-12 | Ulvac Japan Ltd | 巻取式成膜装置及び巻取式成膜方法 |
Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS63305142A (ja) * | 1987-06-05 | 1988-12-13 | Hitachi Ltd | 真空連続処理装置 |
| JPH01212763A (ja) * | 1988-02-22 | 1989-08-25 | Mitsubishi Heavy Ind Ltd | 連続式真空蒸着装置 |
-
1989
- 1989-10-06 JP JP1260159A patent/JP2647513B2/ja not_active Expired - Fee Related
Patent Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS63305142A (ja) * | 1987-06-05 | 1988-12-13 | Hitachi Ltd | 真空連続処理装置 |
| JPH01212763A (ja) * | 1988-02-22 | 1989-08-25 | Mitsubishi Heavy Ind Ltd | 連続式真空蒸着装置 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH03122276A (ja) | 1991-05-24 |
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Legal Events
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|---|---|---|---|
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