JP2554171B2 - 連続真空処理装置 - Google Patents
連続真空処理装置Info
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- JP2554171B2 JP2554171B2 JP1186148A JP18614889A JP2554171B2 JP 2554171 B2 JP2554171 B2 JP 2554171B2 JP 1186148 A JP1186148 A JP 1186148A JP 18614889 A JP18614889 A JP 18614889A JP 2554171 B2 JP2554171 B2 JP 2554171B2
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Description
【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、プラスチックフィルム、紙、鋼板等、可撓
性の基板に、真空蒸着等の真空表面処理や、内部からの
水分蒸発、溶剤蒸発等の真空処理を施す連続真空処理装
置に関する。
性の基板に、真空蒸着等の真空表面処理や、内部からの
水分蒸発、溶剤蒸発等の真空処理を施す連続真空処理装
置に関する。
紙、プラスチックフィルム、布、鋼板等の可撓性基板
を大気中から真空室へ連続的に搬入して表面処理を施す
装置が、旧来のバッチ式装置にかわり、考案されてい
る。たとえばプラスチックフィルムに真空蒸着を施す連
続真空蒸着装置を第２図に示す。
を大気中から真空室へ連続的に搬入して表面処理を施す
装置が、旧来のバッチ式装置にかわり、考案されてい
る。たとえばプラスチックフィルムに真空蒸着を施す連
続真空蒸着装置を第２図に示す。
第２図において、1,1′は走行基板（プラスチックフ
ィルム）、２は真空の蒸着室、３はガイドロール、４は
冷却ロール、５は巻取リール、６は繰出リール、７は蒸
着装置である。８はケーシング、９はシールロール、10
はシール板であって、これらケーシング８、シールロー
ル９、シール板10によって真空シール装置11が形成され
ている。12は、真空シール装置11で複数段に仕切られた
圧力室であって、真空配管13によってそれぞれ真空排気
装置14に接続されている。上記蒸着室２もこの真空排気
装置14に接続されている。
ィルム）、２は真空の蒸着室、３はガイドロール、４は
冷却ロール、５は巻取リール、６は繰出リール、７は蒸
着装置である。８はケーシング、９はシールロール、10
はシール板であって、これらケーシング８、シールロー
ル９、シール板10によって真空シール装置11が形成され
ている。12は、真空シール装置11で複数段に仕切られた
圧力室であって、真空配管13によってそれぞれ真空排気
装置14に接続されている。上記蒸着室２もこの真空排気
装置14に接続されている。
このような装置において、複数段の圧力室12と蒸着室
２は真空排気装置14によって排気され、大気圧から蒸着
室２内の圧力まで圧力が段階的に減少する。繰出リール
６から繰出された走行基板1,1′は、ガイドロール３に
誘導され、複数段の圧力室12を経て、真空の蒸着室２に
至り、同蒸着室２内に設置された冷却ロール４に巻付き
ながら蒸着装置７によって蒸着処理された後、再び上記
圧力室12を経て大気中へ搬出され、巻取リール５に巻取
られる。このような装置によれば、走行基板１を高速で
通板でき、生産性向上に非常に有効である。
２は真空排気装置14によって排気され、大気圧から蒸着
室２内の圧力まで圧力が段階的に減少する。繰出リール
６から繰出された走行基板1,1′は、ガイドロール３に
誘導され、複数段の圧力室12を経て、真空の蒸着室２に
至り、同蒸着室２内に設置された冷却ロール４に巻付き
ながら蒸着装置７によって蒸着処理された後、再び上記
圧力室12を経て大気中へ搬出され、巻取リール５に巻取
られる。このような装置によれば、走行基板１を高速で
通板でき、生産性向上に非常に有効である。
前期第２図により説明した従来の連続真空処理装置
は、大気中から真空シール装置を経て真空処理室に空気
が流入するので、真空処理上雰囲気の酸素分圧を低く抑
える必要がある場合には、そのままでは適用できず、装
置全体をシールして窒素、アルゴン等の不活性ガスを充
満させる必要があり、装置全体が大規模になる欠点があ
った。
は、大気中から真空シール装置を経て真空処理室に空気
が流入するので、真空処理上雰囲気の酸素分圧を低く抑
える必要がある場合には、そのままでは適用できず、装
置全体をシールして窒素、アルゴン等の不活性ガスを充
満させる必要があり、装置全体が大規模になる欠点があ
った。
本発明者は、前記従来の課題を解決するために、複数
段に仕切らわれ、それぞれ排気手段に接続されて、圧力
が大気圧から段階的に減少する圧力室を有する真空シー
ル装置により、可撓性の基板を大気中から連続的に真空
処理室に導き、同真空処理室内で上記基板上に真空処理
を施した後、再び真空シール装置により連続的に大気中
に搬出する連続真空処理装置であって、上記真空シール
装置にのみ排気手段を備え、かつ上記真空処理室に不活
性ガスの供給手段を備えたことを特徴とする連続真空処
理装置を提案するものである。
段に仕切らわれ、それぞれ排気手段に接続されて、圧力
が大気圧から段階的に減少する圧力室を有する真空シー
ル装置により、可撓性の基板を大気中から連続的に真空
処理室に導き、同真空処理室内で上記基板上に真空処理
を施した後、再び真空シール装置により連続的に大気中
に搬出する連続真空処理装置であって、上記真空シール
装置にのみ排気手段を備え、かつ上記真空処理室に不活
性ガスの供給手段を備えたことを特徴とする連続真空処
理装置を提案するものである。
本発明によれば、真空処理室に供給された不活性ガス
は、複数段の圧力室のうち最終段の、真空処理室に隣接
する圧力室へ流入し、その圧力室に接続された排気手段
によって排気される。一方、真空シール装置を経て大気
中から流入した空気は、各圧力室に接続された真空排気
装置によって排気される。したがって、最後から２番目
までの各圧力室は空気雰囲気、真空処理室は不活性ガス
雰囲気、最終段の、真空処理室に隣接する圧力室は空気
と不活性ガスの混合雰囲気となる。
は、複数段の圧力室のうち最終段の、真空処理室に隣接
する圧力室へ流入し、その圧力室に接続された排気手段
によって排気される。一方、真空シール装置を経て大気
中から流入した空気は、各圧力室に接続された真空排気
装置によって排気される。したがって、最後から２番目
までの各圧力室は空気雰囲気、真空処理室は不活性ガス
雰囲気、最終段の、真空処理室に隣接する圧力室は空気
と不活性ガスの混合雰囲気となる。
第１図は本発明の一実施例を示す構成図である。この
図において、1,1′は可撓性の走行基板（たとえばプラ
スチックフィルム）、２は蒸着室、３はガイドロール、
４は冷却ロール、５は巻取リール、６は繰出リール、７
は蒸着装置である。８はケーシング、９はシールロー
ル、10はシール板であって、これらケーシング８、シー
ルロール９、シール板10によって真空シール装置11が形
成されている。12は複数段の圧力室であって、上記真空
シール装置11によって互いに仕切られており、また真空
配管13によってそれぞれ真空排気装置14に接続されてい
る。16は不活性ガス供給装置であって、蒸着室２に接続
されている。
図において、1,1′は可撓性の走行基板（たとえばプラ
スチックフィルム）、２は蒸着室、３はガイドロール、
４は冷却ロール、５は巻取リール、６は繰出リール、７
は蒸着装置である。８はケーシング、９はシールロー
ル、10はシール板であって、これらケーシング８、シー
ルロール９、シール板10によって真空シール装置11が形
成されている。12は複数段の圧力室であって、上記真空
シール装置11によって互いに仕切られており、また真空
配管13によってそれぞれ真空排気装置14に接続されてい
る。16は不活性ガス供給装置であって、蒸着室２に接続
されている。
繰出リール６から繰出された走行基板1,1′は、ガイ
ドロール３に誘導され、複数段の圧力室12を経て蒸着室
２に至り、同蒸着室２内に設置された冷却ロール４に巻
付きながら蒸着装置７によって蒸着処理された後、再び
上記圧力室12を経て大気中へ搬出され、巻取リール５に
巻取られる。
ドロール３に誘導され、複数段の圧力室12を経て蒸着室
２に至り、同蒸着室２内に設置された冷却ロール４に巻
付きながら蒸着装置７によって蒸着処理された後、再び
上記圧力室12を経て大気中へ搬出され、巻取リール５に
巻取られる。
大気中から真空シール装置11を経て流入した空気は、
各圧力室12において、それら圧力室に接続された真空排
気装置14によって排気される。したがって各圧力室12内
の圧力は、大気圧から段階的に減少する。一方、不活性
ガス供給装置16から蒸着室２に供給された窒素、アルゴ
ン等の不活性雰囲気ガスは、最終段の圧力室12aへ流入
し、他の圧力室と同様に真空排気装置14によって排気さ
れる。この結果、蒸着室２内は不活性ガス雰囲気に保た
れ、上流から空気が流入することがないので、蒸着処理
時に空気中の酸素による酸化で蒸着膜の品質が低下する
のを防ぐことができる。
各圧力室12において、それら圧力室に接続された真空排
気装置14によって排気される。したがって各圧力室12内
の圧力は、大気圧から段階的に減少する。一方、不活性
ガス供給装置16から蒸着室２に供給された窒素、アルゴ
ン等の不活性雰囲気ガスは、最終段の圧力室12aへ流入
し、他の圧力室と同様に真空排気装置14によって排気さ
れる。この結果、蒸着室２内は不活性ガス雰囲気に保た
れ、上流から空気が流入することがないので、蒸着処理
時に空気中の酸素による酸化で蒸着膜の品質が低下する
のを防ぐことができる。
本発明によれば、大気中から連続的に走行基板を真空
中に搬入して蒸着、スパッタリング等の真空処理を施す
連続真空処理装置においても、真空処理室内を所定の不
活性ガス雰囲気に保つことが安価にでき、酸化による処
理品質の低下を防止することができる。
中に搬入して蒸着、スパッタリング等の真空処理を施す
連続真空処理装置においても、真空処理室内を所定の不
活性ガス雰囲気に保つことが安価にでき、酸化による処
理品質の低下を防止することができる。
第１図は本発明の一実施例を示す構成図、第２図は従来
の連続真空処理装置の一例を示す構成図である。 1,1′……走行基板,2……蒸着室,3……ガイドロール,4
……冷却ロール,5……巻取リール,6……繰出リール,7…
…蒸着装置,8……ケーシング,9……シールロール,10…
…シール板,11……真空シール装置、12,12a……圧力室,
13……真空配管,14……真空排気装置,16……不活性ガス
供給装置。
の連続真空処理装置の一例を示す構成図である。 1,1′……走行基板,2……蒸着室,3……ガイドロール,4
……冷却ロール,5……巻取リール,6……繰出リール,7…
…蒸着装置,8……ケーシング,9……シールロール,10…
…シール板,11……真空シール装置、12,12a……圧力室,
13……真空配管,14……真空排気装置,16……不活性ガス
供給装置。
Claims (1)
- 【請求項１】複数段に仕切らわれ、それぞれ排気手段に
接続されて、圧力が大気圧から段階的に減少する圧力室
を有する真空シール装置により、可撓性の基板を大気中
から連続的に真空処理室に導き、同真空処理室内で上記
基板上に真空処理を施した後、再び真空シール装置によ
り連続的に大気中に搬出する連続真空処理装置であっ
て、上記真空シール装置にのみ排気手段を備え、かつ上
記真空処理室に不活性ガスの供給手段を備えたことを特
徴とする連続真空処理装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1186148A JP2554171B2 (ja) | 1989-07-20 | 1989-07-20 | 連続真空処理装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1186148A JP2554171B2 (ja) | 1989-07-20 | 1989-07-20 | 連続真空処理装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0353067A JPH0353067A (ja) | 1991-03-07 |
| JP2554171B2 true JP2554171B2 (ja) | 1996-11-13 |
Family
ID=16183222
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1186148A Expired - Fee Related JP2554171B2 (ja) | 1989-07-20 | 1989-07-20 | 連続真空処理装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2554171B2 (ja) |
-
1989
- 1989-07-20 JP JP1186148A patent/JP2554171B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0353067A (ja) | 1991-03-07 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |