JPS5886715A - 真空処理装置 - Google Patents
真空処理装置Info
- Publication number
- JPS5886715A JPS5886715A JP56186308A JP18630881A JPS5886715A JP S5886715 A JPS5886715 A JP S5886715A JP 56186308 A JP56186308 A JP 56186308A JP 18630881 A JP18630881 A JP 18630881A JP S5886715 A JPS5886715 A JP S5886715A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- film
- vacuum
- chamber
- substrate
- winding
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Classifications
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02E—REDUCTION OF GREENHOUSE GAS [GHG] EMISSIONS, RELATED TO ENERGY GENERATION, TRANSMISSION OR DISTRIBUTION
- Y02E10/00—Energy generation through renewable energy sources
- Y02E10/50—Photovoltaic [PV] energy
Landscapes
- Physical Deposition Of Substances That Are Components Of Semiconductor Devices (AREA)
- Photovoltaic Devices (AREA)
- Physical Vapour Deposition (AREA)
- Fixed Capacitors And Capacitor Manufacturing Machines (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は、蒸着やグロー処理、スパッタリングエツチン
グ等を可撓性高分子基板を巻取りながら行なう装置の改
良を目的とし、とりわけ、蒸着テープ等の機能薄膜の形
成や処理を均一に行なうとともに、装置の運転効率を高
めることの出来る装置を提供することを目的とする。
グ等を可撓性高分子基板を巻取りながら行なう装置の改
良を目的とし、とりわけ、蒸着テープ等の機能薄膜の形
成や処理を均一に行なうとともに、装置の運転効率を高
めることの出来る装置を提供することを目的とする。
従来の、真空中で基板を巻取りながら蒸着や表面処理な
どを行なう目的に使用されている大形の蒸着装置は真空
槽をいくつかの空間に分割することが行なわれていた。
どを行なう目的に使用されている大形の蒸着装置は真空
槽をいくつかの空間に分割することが行なわれていた。
それは、紙や、吸湿性の高分子フィルム等の可撓性基板
より放出されるガス、主として水の影響を蒸着する雰囲
気に及ぼさないために、かくべきを設けて、別々の真空
排気系を配するか、フィルムの前処理や後処理を同一の
槽内で例えばグロー放電にて実施するために、圧力の高
い空間を作る目的で行なわれてきた。
より放出されるガス、主として水の影響を蒸着する雰囲
気に及ぼさないために、かくべきを設けて、別々の真空
排気系を配するか、フィルムの前処理や後処理を同一の
槽内で例えばグロー放電にて実施するために、圧力の高
い空間を作る目的で行なわれてきた。
ところで本発明者は、従来と同思想の構成装置で蒸着テ
ープの製造、蒸着面の表面処理を行なってきて解決すべ
き２つの課題にぶつかった。
ープの製造、蒸着面の表面処理を行なってきて解決すべ
き２つの課題にぶつかった。
そのひとつは雰囲気の塵埃の影響特にノイズ、ドロップ
アウトに与える影響、ロット毎の特性のバラツキ等であ
る。蒸着テープに用いる基板のフィルムはその表面性が
、平均粗さで１００人程度と極めて平滑であるため、長
尺の原反を得ることが困難であることから蒸着時間以外
のロスタイムを極力減少させる必要がある。かかる点に
鑑み生産効率をあげるには、蒸着等の処理を行なう空間
は安定な雰囲気に保持することが品質の安定化（特にロ
フト数を増した時に）にとって大切である。
アウトに与える影響、ロット毎の特性のバラツキ等であ
る。蒸着テープに用いる基板のフィルムはその表面性が
、平均粗さで１００人程度と極めて平滑であるため、長
尺の原反を得ることが困難であることから蒸着時間以外
のロスタイムを極力減少させる必要がある。かかる点に
鑑み生産効率をあげるには、蒸着等の処理を行なう空間
は安定な雰囲気に保持することが品質の安定化（特にロ
フト数を増した時に）にとって大切である。
即ち１日のうちに、幾度となく、真空破壊、真空排気の
サイクルを行なうことになるのであるが、蒸着や処理を
行なう空間は真空に保持し、フィルムの脱着のみで、蒸
着や処理をくり返す回数をできるだけ増すことが重要で
ある。
サイクルを行なうことになるのであるが、蒸着や処理を
行なう空間は真空に保持し、フィルムの脱着のみで、蒸
着や処理をくり返す回数をできるだけ増すことが重要で
ある。
本発明は以上のような点に鑑みなされたもので、以下に
図面を用いてその実施例を説明する。
図面を用いてその実施例を説明する。
第１図は本発明の一実施例を示す。図に示すように真空
槽１は固定部１Ａと可動部１Ｂ、１Ｃとから構成される
。２はゴムバッキングである。真空槽は蒸着室３と、フ
ィルム巻取室４とにスリット６を有するかくへき６によ
り分けられる。
槽１は固定部１Ａと可動部１Ｂ、１Ｃとから構成される
。２はゴムバッキングである。真空槽は蒸着室３と、フ
ィルム巻取室４とにスリット６を有するかくへき６によ
り分けられる。
蒸着室３には、フィルム７の回転支持体８と蒸発源９と
、入射角を限定するマスク１０などが配設される。
、入射角を限定するマスク１０などが配設される。
フィルム巻取室４には、回転支持体８が矢印入方向に回
転する場合は、送り出し軸１１と巻取り軸１２が配設さ
れ、スリット６の近傍にロール状ゴムシール１３が回転
軸の中心１４から出たアームに固定されている。このロ
ール状ゴムシール１３をスリットにフィルムをはさんだ
ま＼押圧することで（外部より駆動されるのが普通性わ
れる。）蒸着室３の真空を保持して、フィルム巻取室を
大気にすることができる。蒸着したフィルムをとりはず
し、新しいフィルムと巻取り軸をセットし、回転支持体
と図示せぬローラー系にかけられた状態のフィルムと接
続し、可動部１Ｃを閉として排気シ、ロール状ゴムシー
ル１３をはずしてフィルム７を一部巻取り、再度シール
し、大気圧に戻し、可動部１Ｃを開とし巻取り軸に接続
する。この後再度可動部１Ｃを閉とし、排気した後ロー
ル状ゴムシール１３をはずして、蒸着に移れば、極めて
安定した特性を各ロフト間で得ることができるのである
。
転する場合は、送り出し軸１１と巻取り軸１２が配設さ
れ、スリット６の近傍にロール状ゴムシール１３が回転
軸の中心１４から出たアームに固定されている。このロ
ール状ゴムシール１３をスリットにフィルムをはさんだ
ま＼押圧することで（外部より駆動されるのが普通性わ
れる。）蒸着室３の真空を保持して、フィルム巻取室を
大気にすることができる。蒸着したフィルムをとりはず
し、新しいフィルムと巻取り軸をセットし、回転支持体
と図示せぬローラー系にかけられた状態のフィルムと接
続し、可動部１Ｃを閉として排気シ、ロール状ゴムシー
ル１３をはずしてフィルム７を一部巻取り、再度シール
し、大気圧に戻し、可動部１Ｃを開とし巻取り軸に接続
する。この後再度可動部１Ｃを閉とし、排気した後ロー
ル状ゴムシール１３をはずして、蒸着に移れば、極めて
安定した特性を各ロフト間で得ることができるのである
。
第２図は本発明の他の実施例を示し、この場合フィルム
の切替えのだめに、真空槽の一部を開閉する操作を１度
ですませるようにしている。なお第１図と共通な要素に
は同一記号を付し重複する説明は避けることとする。
の切替えのだめに、真空槽の一部を開閉する操作を１度
ですませるようにしている。なお第１図と共通な要素に
は同一記号を付し重複する説明は避けることとする。
第２図において蒸着が終了した時、送り出し軸１１には
、殆んどフィルムは残っていない。この状態で新規フィ
ルム１６を中心軸１６のまわりに破線で示した円弧１８
に沿って回転させて、送り出し軸にセットする。
、殆んどフィルムは残っていない。この状態で新規フィ
ルム１６を中心軸１６のまわりに破線で示した円弧１８
に沿って回転させて、送り出し軸にセットする。
新規フィルムと、前回の蒸着で残ったフィルムを接続し
、残ったフィルムと、送シ出し軸の軸芯部の間をきりは
なし、新規フィルムを巻き取り軸にまきあげる。これは
簡単なロボ・ノド機構で確実に実施できる。そこでフィ
ルム移動を停止して、ロール状ゴムシール１３で、スリ
ット５を押圧して真空シールし、フィルム巻取り室を大
気にし、可動部１Ｃを開とし、蒸着されたフィルムを巻
取り軸からはずして、軸芯をセットし、フィルムを該芯
に接続して、可動部１Ｃを閉とし、真空排気し、シかる
のチ、ロール状コムシール１３をスリット６より引きは
なし、運転を開始すればよい。
、残ったフィルムと、送シ出し軸の軸芯部の間をきりは
なし、新規フィルムを巻き取り軸にまきあげる。これは
簡単なロボ・ノド機構で確実に実施できる。そこでフィ
ルム移動を停止して、ロール状ゴムシール１３で、スリ
ット５を押圧して真空シールし、フィルム巻取り室を大
気にし、可動部１Ｃを開とし、蒸着されたフィルムを巻
取り軸からはずして、軸芯をセットし、フィルムを該芯
に接続して、可動部１Ｃを閉とし、真空排気し、シかる
のチ、ロール状コムシール１３をスリット６より引きは
なし、運転を開始すればよい。
なお前記実施例では、真空槽に可動部が２ケ所ある例を
示したが、これにこだわらない。
示したが、これにこだわらない。
以上のような構造の装置は蒸着に限らず、スパッタリン
グ、イオンブレーティング等による薄膜形成は勿論、グ
ロー処理、等に於ても同様な効果を有する。
グ、イオンブレーティング等による薄膜形成は勿論、グ
ロー処理、等に於ても同様な効果を有する。
以上のように本発明は良質の真空処理を容易にしかつ装
置の稼動効率を高め、更にフィルムの巻取りのための、
駆動部等を収納する機械室の気密度をあげられる利点を
有し、フィルム巻取室側を、清浄度の高い、例えばＣ１
ａｓｓ１０００にすることが可能で、環境の塵埃の影響
を最小限にして、ドロップアウトを減らせるなどの利点
もあり、蒸着テープ製造に限らず例えば薄膜太陽電池の
製造に於ても類似の効果を呈するもので、その産業上の
価値は大である。
置の稼動効率を高め、更にフィルムの巻取りのための、
駆動部等を収納する機械室の気密度をあげられる利点を
有し、フィルム巻取室側を、清浄度の高い、例えばＣ１
ａｓｓ１０００にすることが可能で、環境の塵埃の影響
を最小限にして、ドロップアウトを減らせるなどの利点
もあり、蒸着テープ製造に限らず例えば薄膜太陽電池の
製造に於ても類似の効果を呈するもので、その産業上の
価値は大である。
第１図は本発明の一実施例である真空処理装置を示す図
、第２図は同じく本発明の他の実施例である真空処理装
置を示す図である。 １・・・・・真空槽、１Ａ・・・・・・固定部、１Ｂ、
１Ｃ・・・・・・可動部、３・・・・・・蒸着室、４・
・・・・・フィルム巻取室、５・・・・・・スリット、
６・・・・・・かく壁、７．１５・・・・・・フィルム
、８・・・・・・回転支持体、９・・・・・・蒸発源、
１１・・・・・・送り出し軌、１２・・・・・・巻取り
軸、１３・−・・・ゴムシール。
、第２図は同じく本発明の他の実施例である真空処理装
置を示す図である。 １・・・・・真空槽、１Ａ・・・・・・固定部、１Ｂ、
１Ｃ・・・・・・可動部、３・・・・・・蒸着室、４・
・・・・・フィルム巻取室、５・・・・・・スリット、
６・・・・・・かく壁、７．１５・・・・・・フィルム
、８・・・・・・回転支持体、９・・・・・・蒸発源、
１１・・・・・・送り出し軌、１２・・・・・・巻取り
軸、１３・−・・・ゴムシール。
Claims (2)
- （１）真空槽を長尺フィルム基板に真空処理を行う処理
室と、上記処理室に上記基板を供給し上記処理室で処理
された基板を巻取る基板供給巻取室とに仕切部材により
仕切るとともに、上記仕切部材に上記基板の送り出し口
と堆り出し口とをそれぞれ設け、かつ上記両日に上記基
板が通された状態において上記両日をそれぞれ真空シー
ルするだめの機構を設けたことを特徴とする真空処理装
置。 - （２）供給巻取室を開放可能に構成したことを特徴とす
る特許請求の範囲第１項記載の真空処理装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP56186308A JPS5886715A (ja) | 1981-11-19 | 1981-11-19 | 真空処理装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP56186308A JPS5886715A (ja) | 1981-11-19 | 1981-11-19 | 真空処理装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5886715A true JPS5886715A (ja) | 1983-05-24 |
Family
ID=16186048
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP56186308A Pending JPS5886715A (ja) | 1981-11-19 | 1981-11-19 | 真空処理装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS5886715A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0568470U (ja) * | 1991-08-01 | 1993-09-17 | 株式会社テラモト | モップ絞り器 |
| JP2012212873A (ja) * | 2011-03-24 | 2012-11-01 | Tokyo Electron Ltd | 電極製造装置、電極製造方法、プログラム及びコンピュータ記憶媒体 |
-
1981
- 1981-11-19 JP JP56186308A patent/JPS5886715A/ja active Pending
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0568470U (ja) * | 1991-08-01 | 1993-09-17 | 株式会社テラモト | モップ絞り器 |
| JP2012212873A (ja) * | 2011-03-24 | 2012-11-01 | Tokyo Electron Ltd | 電極製造装置、電極製造方法、プログラム及びコンピュータ記憶媒体 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| TWI519662B (zh) | A sputtering apparatus and a sputtering apparatus | |
| CN212199409U (zh) | 一种双面沉积磁控真空卷绕镀膜设备 | |
| JPS5886715A (ja) | 真空処理装置 | |
| JPS63246814A (ja) | 薄膜形成装置 | |
| JPH02141575A (ja) | 薄膜堆積装置 | |
| JPH02431B2 (ja) | ||
| JP2010095735A (ja) | 成膜装置、成膜方法およびガスバリアフィルム | |
| JPS60113428A (ja) | 半導体製造装置 | |
| JPS5935580Y2 (ja) | スパツタリング装置 | |
| JP4078580B2 (ja) | 透明導電性フィルムの製造装置 | |
| JPH06128746A (ja) | 巻取式真空処理装置 | |
| JPH0426760A (ja) | スパッタリング装置 | |
| JP2009179446A (ja) | 巻取装置および巻取部材の作製方法 | |
| JP2000290389A (ja) | 成膜装置 | |
| JP2554171B2 (ja) | 連続真空処理装置 | |
| JPH08209329A (ja) | 巻き取り式蒸着装置及びｃｖｄ装置 | |
| CN113544221B (zh) | 光学薄膜的制备方法、卷绕镀膜机和微纳米结构色晶体 | |
| JPH0220211Y2 (ja) | ||
| JPS6020320A (ja) | 真空蒸着による磁気テ−プ製作装置 | |
| JP3354591B2 (ja) | スパッタリング方法 | |
| JPH064921A (ja) | 光磁気記録媒体の製作方法及び製作装置 | |
| JPS59173268A (ja) | 薄膜形成装置 | |
| JPS59226177A (ja) | 薄膜形成装置 | |
| JP2000216094A (ja) | 薄膜製造装置 | |
| CN114774866A (zh) | 一种连续化镀膜制备系统及方法 |