JP2000290389A - 成膜装置 - Google Patents

成膜装置

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JP2000290389A
JP2000290389A JP11098658A JP9865899A JP2000290389A JP 2000290389 A JP2000290389 A JP 2000290389A JP 11098658 A JP11098658 A JP 11098658A JP 9865899 A JP9865899 A JP 9865899A JP 2000290389 A JP2000290389 A JP 2000290389A
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film
core
unwinding
winding
chamber
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JP11098658A
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Hiroshi Hayashi
弘志 林
Shunji Amano
俊二 天野
Atsuhiro Abe
淳博 阿部
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Sony Corp
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Sony Corp
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 真空槽のメインロール設置部を真空に保った
ままフィルム交換が可能な成膜装置を提供する。 【解決手段】 巻出しコア9aからフィルム14を巻出
し、このフィルム14を真空槽1内のメインロール5を
介して巻取りコア10aに巻取り、該メインロール5上
をフィルム14が通過する際にこのフィルム14上に成
膜する成膜装置において、前記メインロール5の設置部
3を真空に保ったまま巻出しコア9aおよび巻取りコア
9bの交換が可能な真空保持手段2,15を設けた。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は成膜装置に関する。
より詳しくは、真空中でフィルムに成膜を施す例えば磁
気テープ等の成膜装置に関するものである。
【0002】
【従来の技術】図18は、従来の成膜装置の説明図であ
る。従来の成膜装置は真空槽71内に巻出しコア72、
巻取りコア73、メインロール74、成膜を行うイオン
ソース75が図のように配置されている。巻出しコア7
2から巻出されたフィルム76は、ガイドロール77a
に沿ってメインロール74に移動する。フィルム76は
メインロール74通過後、ガイドロール77bに沿って
巻取りコア73に巻取られる。このフィルム76に成膜
を行う時は、排気口78より真空引きをすることによっ
て真空槽71内を真空にし、成膜の際のフィルム76へ
のダメージを軽減するためにメインロール74を冷却し
ながらフィルム76を走行させてイオンソース75等に
より成膜を行う。
【0003】巻出しコア72のフィルム76がなくなる
と成膜を中止し、メインロール74の温度を室温以上に
昇温させ、真空槽71を大気開放し、次に成膜を行うフ
ィルム76の巻かれた巻出しコア72と交換して、同様
に巻取りコア73も交換する。そして再び真空槽71内
を真空にしてメインロール74を冷却し、フィルム76
への成膜を行っていた。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記従
来の成膜装置では、フィルムを交換するたびに真空槽の
排気時間、真空槽の大気開放時間及びメインロールの冷
却昇温時間等の多大な付帯時間を要していた。フィルム
成膜時間以外にも上述のような付帯時間を要することは
装置稼働率を低下させ、フィルム成膜の生産性を害して
いた。
【0005】本発明は上記従来技術を考慮したものであ
って、真空槽を大気開放することなく効率的にフィルム
交換を可能として装置稼働率を高め生産性を向上させた
成膜装置の提供を目的とする。
【0006】
【課題を解決するための手段】前記目的を達成するた
め、本発明では、巻出しコアからフィルムを巻出し、こ
のフィルムを真空槽内のメインロールを介して巻取りコ
アに巻取り、該メインロールをフィルムが通過する際に
このフィルム上に成膜する成膜装置において、前記メイ
ンロール設置部を真空に保ったまま前記巻出しコア及び
巻取りコアの交換が可能な真空保持手段を設けたことを
特徴とする成膜装置を提供する。
【0007】この構成によれば、真空保持手段によりメ
インロール設置部を真空に保ったままフィルム交換が可
能なので、真空槽の排気や大気開放時間が不要となり、
メインロールの冷却昇温時間も不要になるため、フィル
ム交換の際の付帯時間の削減となり、装置稼働率が高ま
り生産性が向上する。
【0008】好ましい構成例においては、前記真空槽を
隔壁により2分割して、一方をフィルム交換室として前
記巻出しコア及び巻取りコアを設置し、他方を成膜室と
して前記メインロールを設置し、前記隔壁に巻出し側の
フィルム及び巻取り側のフィルムが貫通するスリットを
設けるとともに、このスリットをフィルムが挿通した状
態で密封する開閉可能なシールを備えたことを特徴とし
ている。
【0009】この構成によれば、フィルム交換時にシー
ルにより隔壁のスリットを密封して成膜室を真空に保っ
た状態でフィルム交換室を大気開放してコアを交換す
る。これにより、フィルム交換のときに大気開放するの
は巻出しコア及び巻取りコアが設置している部屋のみに
なるので、メインロール設置部における真空槽の排気や
大気開放時間が不要となり、メインロールの冷却昇温時
間も不要になるため、フィルム交換の際の付帯時間の削
減となり、生産性が高まる。
【0010】好ましい構成例においては、複数の巻出し
コア及び巻取りコアをそれぞれ所定の位置に回転移動し
て交換可能なタレット式アームを備えたことを特徴とし
ている。
【0011】この構成によれば、予め複数の巻出しコア
及び巻取りコアをアームに装着し、一対の巻出しコア及
び巻取りコアによる成膜工程が終了したら、アームを回
転して次の巻出しコア及び巻取りコアを効率よくセット
することができ、フィルム交換作業が円滑に行われる。
【0012】好ましい構成例においては、複数のメイン
ロールを備え、各メインロール上で成膜処理を施すこと
を特徴としている。
【0013】この構成によれば、1つの成膜室内に複数
のメインロールを設けることにより、膜厚の厚いコーテ
ィングを効率的に施すことができ、また、種類の異なる
膜を同一プロセスで積層することができる。
【0014】好ましい構成例においては、前記真空槽に
隣接して、前記巻出しコアを交換するための巻出しコア
交換室と、前記巻取りコアを交換するための巻取りコア
交換室とを設け、前記真空槽と前記各コア交換室との間
に真空槽を密封する扉を設けたことを特徴としている。
【0015】この構成によれば、真空槽と各コア交換室
との間の扉を閉じて真空槽を密閉状態に保ってフィルム
交換が可能となる。
【0016】
【発明の実施の形態】以下、図面を参照して本発明の実
施の形態について説明する。図1は、本発明の実施の形
態にかかる成膜装置の概略図である。金属製で箱型の真
空槽1の内部は、同じく金属製の板状の隔壁2により成
膜室3、およびフィルム交換室4の2室に分割され、そ
れぞれの部屋に真空引きするための成膜室排気口6、フ
ィルム交換室排気口7を具備している。成膜室3の内部
には金属製で円筒形のメインロール5が回転可能な構造
で設置されており、このメインロール5は内部より加熱
冷却可能な温度調節装置(図示しない)と接続されてい
る。このメインロール5の周辺にはスパッタ、CVD等
のイオンソース8が設置されている。
【0017】フィルム交換室4の内部は、円筒形の巻出
しコア9a,9bがこれら2つのコアを側面より支持可
能で、軸11廻りに回転可能な巻出しアーム30により
支持されている。巻出しアーム30は2つの巻出しコア
9a,9bをタレット式に所定の巻出し位置にセットす
る。この構造と同様に巻取りコア10a,10bも軸1
2廻りに回転可能な巻取りアーム31により支持されて
いる。巻出しコア9aの下部には、フィルム14をコア
に貼り付ける機構を持つ巻出し交換機16が、巻取りコ
ア10aの上部には、フィルム14を切断し、コアに貼
り付ける機構を持つ巻取り交換機17が設置されてい
る。
【0018】真空槽1内には、フィルムが巻出しコア9
aからメインロール5を通って巻取りコア10aに確実
に移動するようガイドロール18が数本設置されてい
る。フィルム交換室4の側面にはコア交換用の扉13が
設けられている。隔壁2にはフィルム14を通すことが
できるスリット19が2本形成されている。各スリット
19にはフィルム14がこのスリット19を挿通した状
態で成膜室3を真空状態に保持可能なシール15が備わ
る。従ってフィルム14は、巻出しコア9aより順番に
上方のスリット19、ガイドロール18、メインロール
5、ガイドロール18、および下方のスリット19を介
して巻取りコア10bで巻き取られる。
【0019】次に、この成膜装置の動作について、図1
〜図5を参照して説明する。図2〜図5は、図1の状態
に続くこの成膜装置の動作を順番に示す図であり、図2
は、巻出し及び巻取りアームを回転させているときの状
態、図3は、巻出し及び巻取りアームが180度回転し
た状態、図4は、巻出しコアのフィルムが全てなくなっ
たときの状態、図5は、フィルムを交換するときの状態
である。
【0020】フィルム14に成膜を施す時、図1に示す
ように、フィルム14の巻出し準備が完了したら真空槽
1内を真空にするため、成膜室3、フィルム交換室4に
それぞれ設けられた成膜室排気口6、フィルム交換室排
気口7より真空ポンプ(図示しない)等を用いて排気を
行い、同時にメインロール5の冷却を開始する。1×1
-2〜1×10-3Pa程度の真空度、及び−20〜−4
0℃程度のメインロール温度になり次第、フィルム14
を巻出しコア9aから巻出してメインロール5上でイオ
ンソース8により成膜を開始する。この時、シール15
は開放され、フィルム14と接触しない程度の位置に移
動してスリット19を開く。
【0021】巻出しコア9aのフィルム14がなくなる
と成膜を停止し、図2に示すように、巻出しアーム30
及び巻取りアーム31をそれぞれ所定の方向に回転させ
る。この時フィルム14は張った状態にある。両アーム
30,31を180度回転することによって巻出しコア
9aと9b、巻取りコア10aと10bの位置の交換を
行う。これにより、図3に示すように、新たな巻出しコ
ア9bが上のスリット19に対向した所定の巻出し位置
にセットされ、また新たな巻取りコア10bが下のスリ
ット19に対向した所定の巻取り位置にセットされる。
この状態で巻出し交換機16によってフィルム14を巻
出しコア9bに貼り付け、巻取り交換機17によってフ
ィルム14を巻取りコア10bに貼り付ける。
【0022】その後同様に巻取りコア9bからフィルム
14を巻出し、成膜を施して巻取りコア10bで巻き取
る。図4に示すように、巻取りコア9bのフィルム14
がなくなり次第成膜を終了して、シール15を閉じてフ
ィルム14を挟み込んだまま成膜室3を密封する。次に
図5に示すように、扉13を開いてフィルム交換室を大
気開放し、巻出しコア9a,9b及び巻取りコア10
a,10bを交換して、新たな巻出しコア9’a,9’
b、および新たな巻取りコア10’a,10’bをセッ
トする。この後、扉13を閉め、フィルム交換室4内を
真空状態にすると図1の状態に戻るので、この動作を繰
り返してフィルム14に成膜を行う。
【0023】これにより成膜室3はフィルム14を交換
する際に大気開放する必要がなくなるため、メインロー
ル5の冷却、加熱時間がなくなり、蒸着においてはルツ
ボの冷却、加熱時間、スパッタにおいてはターゲットの
加熱などの様々な付帯時間が削減されるので連続で運転
することが可能となる。また、フィルム交換室4の真空
度を成膜室3に比べて低い真空度で使用する場合はフィ
ルム交換後の排気時間も短縮されるため、さらに付帯時
間を短縮することができる。
【0024】図6は、本発明の別の実施形態に係る成膜
装置の構成図である。この実施形態は、巻出しコア及び
巻取りコアをそれぞれ3つ備えた構成である。図示した
ように3つの巻出しコア20a,20b,20cを回転
可能なタレット式アーム22によって取り付け、それに
対応する巻取りコア21a,21b,21cも同様に取
り付ける。これによりフィルム14への成膜を1回の工
程でコア3つ分行えるので、その分のフィルム交換室4
の大気開放までの時間が長くなり、付帯時間がより削減
される。
【0025】図7は、本発明のさらに別の実施形態に係
る成膜装置の構成図である。この実施形態は、成膜手段
として蒸着方法を利用したものである。図示したよう
に、フィルム14に成膜を施す成膜手段として、スパッ
タやCVD等のイオンソースの代わりに、フィルム上に
蒸着させる金属、樹脂などの蒸発源23および電子銃、
レーザーなどの加熱装置24を設置し、金属、樹脂等の
蒸着を行う。その他の構成および作用効果は前述の図1
又は図6の実施形態と同様である。
【0026】図8は、本発明のさらに別の実施形態に係
る成膜装置の構成図である。この実施形態は、成膜室に
メインロールを2つ設置したものである。図示したよう
に成膜室3内に2つのメインロール25a,25bが設
置され、その各々が成膜手段としてイオンソース8(又
は図7のような蒸着装置)を備える。このようにメイン
ロールを2つ(またはそれ以上)備え、その各々で成膜
処理を行うことにより、膜圧の厚いコーティングや種類
の異なる膜の積層コーティングが同一プロセスで効率よ
く行われる。その他の構成および作用効果は前述の図
1、図6又は図7の実施形態と同様である。
【0027】図9は、本発明のさらに別の実施形態に係
る成膜装置の概略図である。フィルム50に成膜を施す
金属製で箱型の主真空槽51の両側面に、自動で開閉可
能な主真空槽を真空に保つ扉54a,54bが設けられ
ている。一方の扉54aの外側には金属製で箱型の巻出
し室52が設置され、他方の扉54bの外側には巻取り
室53が設置される。これら主真空槽51、巻出し室5
2および巻取り室53は、それぞれに設けられた排気口
(図示しない)より排気を行い、真空引きをすることが
可能である。
【0028】主真空槽51の内部には金属製で円筒形の
メインロール55が設置され、その両側には円筒形の巻
出しコア56aおよび巻取りコア58aが設けられる。
各コア56a,58aはこれらを回転又は固定可能な巻
出しパレット57aおよび巻取りパレット59aにより
保持される。この巻出しパレット57aは図示しない搬
送系により、巻出し室52へ出し入れ可能であり、同様
に巻取りパレット59aも巻取り室53に出し入れ可能
である。
【0029】主真空槽51内には、フィルム50をガイ
ドしてフィルムパスを形成するガイドロール60が数本
設置される。また、巻出しコア56aに接触可能な巻出
しニップロール61、および巻取りコア58aに接触可
能な巻取りニップロール62aがそれぞれ巻出しコア5
6aおよび巻取りコア58aのフィルム表面に接触して
設置される。これらのニップロール61,62aは、コ
アに巻かれたフィルム50の表面に常に接してその巻厚
の変化とともに図示しない機構により移動する。また、
巻取りコア58a付近には支点64を中心に回転可能な
カッター63が設けられている。このカッター63は巻
取りニップロール62b及び巻取りコア58a上でフィ
ルム50を切ることができる。
【0030】メインロール55の周辺にはスパッタ、C
VD、蒸着、イオンプレーティング、エッチングなどの
蒸発源やイオンソース65が設けられている。巻出し室
52の下部には主真空槽51内の巻出しコア56aと交
換するための巻出しコア56bが、巻出しパレット57
bに保持されて収容される。巻出し室52の上部にはカ
ッター66が設けられている。巻取り室53には、主真
空槽51内の巻取りコア58aと交換するための巻取り
コア58bが巻取りパレット59bに保持されて収容さ
れる。
【0031】次は、図10〜図17を参照してこの実施
形態の動作について説明する。図10〜図17は、この
実施形態の動作を順番に示す構成図であり、図10は、
成膜が終了した状態、図11は、巻出しコアを取出した
状態、図12は、巻出しコアを交換した状態、図13
は、巻出しコア側のフィルムを切断した状態、図14
は、巻取りコアを取出した状態、図15は巻取りコアを
交換した状態、図16は、巻取りコア側のフィルムを切
断するときの状態、図17は、新たなフィルムがセット
された状態を示す。
【0032】成膜プロセスは、巻出しコア56aからフ
ィルム50を巻出して、このフィルム上にメインロール
55で成膜を施し巻取りコア58aに巻き取ることによ
り行われる。図10に示すように、巻出しコア56aの
フィルムがなくなると、この成膜工程が終了する。この
状態で図11に示すように巻出し室52の扉54aを開
き、図示しない搬送系によりフィルム50がつながった
まま巻出しコア56aと巻出しパレット57aを巻取り
室52内に移動する。
【0033】次に、図12に示すように、新たな巻出し
コア56bと巻出しパレット57bを図示しない搬送系
により扉54aの開口を通して主真空槽51内に移動す
る。この巻出しコア56bを所定の位置に設置し、フィ
ルムを走行させ、粘着テープあるいは、粘着材などの粘
着手段67で古い巻出しコア56aにつながったままの
フィルム50と新たな巻出しコア56bをつなぐ。次
に、図13に示すように、古い巻出しコア56aのフィ
ルム50をカッター66で切断し、フィルムを走行させ
てフィルム50の切断端を主真空槽51内に引きこむ。
【0034】次に、図14に示すように、扉54aを閉
じて、扉54bを開け、フィルム50がつながったまま
巻取りコア58aと巻取りパレット59aを図示しない
搬送系により巻取り室53に移動する。この後図15に
示すように、新たな巻出しコア58bと巻取りパレット
59bを図示しない搬送系により主真空槽51内に移動
する。
【0035】続いて図16に示すように、巻取りコア5
8bを所定の位置に設置し、巻取りニップロール62b
を接触させ、カッター63によりフィルム50を切断す
る。次に、図17に示すように、この切断したフィルム
50を古い巻取りコア58aで巻取り、扉54bを閉め
る。この状態では、主真空槽51は真空に保持された成
膜可能状態なので成膜を行う。この成膜工程中に巻出し
室52および巻取り室53を大気開放し、古い巻出しコ
ア56aおよび巻取りコア58aを新しいコアと交換す
る。交換後、巻出し室52と巻取り室53を主真空槽5
1と同等の真空度にして次のコア交換の準備が完了す
る。
【0036】これにより主真空槽51を真空に保ったま
ま成膜工程中にコアの交換が可能となり、コア交換のた
めの付帯時間は真空中で新旧コアを交換する時間のみと
なり、大幅な付帯時間の削減となる。また、真空中で巻
取り室のコアを交換するため、成膜された膜の酸化の影
響が小さくなる。
【0037】
【発明の効果】以上説明したように、本発明において
は、メインロール設置部を真空に保ったままフィルム交
換が可能なので、真空槽の排気や大気開放時間が不要と
なり、メインロールの冷却昇温時間も不要になるため、
フィルム交換の際の付帯時間の削減となり、装置稼働率
が高まり生産性が向上し、またコストの低減が図られ
る。また真空中でコア交換ができるため、膜の酸化が防
止され、膜品質が向上して歩留りが向上する。
【図面の簡単な説明】
【図1】 本発明の実施の形態にかかる成膜装置の概略
図。
【図2】 図1の成膜装置の巻出し及び巻取りアームを
回転させたときの説明図。
【図3】 図1の装置の巻出し及び巻取りアームが18
0度回転した状態の説明図。
【図4】 図1の装置の巻出しコアのフィルムが全てな
くなった状態の説明図。
【図5】 図1の装置のフィルムを交換する状態の説明
図。
【図6】 本発明の別の実施形態に係る成膜装置の構成
説明図。
【図7】 本発明のさらに別の実施形態に係る成膜装置
の構成説明図。
【図8】 本発明のさらに別の実施形態に係る成膜装置
の構成説明図。
【図9】 本発明のさらに別の実施形態に係る成膜装置
の構成説明図。
【図10】 図9の成膜装置の成膜終了状態の説明図。
【図11】 図9の装置の巻出しコア移動状態の説明
図。
【図12】 図9の装置の巻出しコアを交換した状態の
説明図。
【図13】 図9の装置の巻出し側フィルムを切断した
状態の説明図。
【図14】 図9の装置の本発明に係る変形例の巻取り
コア移動させた説明図。
【図15】 図9の装置の巻取りコアを交換した状態の
説明図。
【図16】 図9の装置の巻取り側フィルムを切断した
状態の説明図。
【図17】 図9の装置のコア交換作業終了状態の説明
図。
【図18】 従来の成膜装置の構成説明図。
【符号の説明】
1:真空槽、2:隔壁、3:成膜室、4:フィルム交換
室、5:メインロール、6:成膜室排気口、7フィルム
交換室排気口、8:イオンソース、9a,9b:巻出し
コア、10a,10b:巻取りコア、11:軸、12:
軸、13:扉、14:フィルム、15:シール、16:
巻出し交換機、17:巻取り交換機、18:ガイドロー
ル、19:スリット、20a,20b,20c:巻出し
コア、21a,21b,21c:巻取りコア、22:タ
レット式アーム、23:蒸発源、24:加熱装置、25
a,25b:メインロール、30:巻出しアーム、3
1:巻取りアーム、50:フィルム、51:主真空槽、
52:巻出し室、53:巻取り室、54a,54b:
扉、55:メインロール、56a,56b:巻出しコ
ア、57a,57b:巻出しパレット、58a,58
b:巻取りコア、59a,59b:巻取りパレット、6
0:ガイドロール、61:巻出しニップロール、62
a,62b:巻取りニップロール、63:カッター、6
4:支点、65:イオンソース、66:カッター、6
7:粘着手段。
フロントページの続き Fターム(参考) 4F071 AA01 AG23 BC01 4K029 AA11 AA25 BD11 DA00 KA00 4K030 CA07 CA12 KA49 LA20 5D112 FA01 FB21 FB25 KK01

Claims (5)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】巻出しコアからフィルムを巻出し、 このフィルムを真空槽内のメインロールを介して巻取り
    コアに巻取り、 該メインロールをフィルムが通過する際にこのフィルム
    上に成膜する成膜装置において、 前記メインロール設置部を真空に保ったまま前記巻出し
    コア及び巻取りコアの交換が可能な真空保持手段を設け
    たことを特徴とする成膜装置。
  2. 【請求項2】前記真空槽を隔壁により2分割して、一方
    をフィルム交換室として前記巻出しコア及び巻取りコア
    を設置し、他方を成膜室として前記メインロールを設置
    し、前記隔壁に巻出し側のフィルム及び巻取り側のフィ
    ルムが貫通するスリットを設けるとともに、このスリッ
    トをフィルムが挿通した状態で密封する開閉可能なシー
    ルを備えたことを特徴とする請求項1に記載の成膜装
    置。
  3. 【請求項3】複数の巻出しコア及び巻取りコアをそれぞ
    れ所定の位置に回転移動して交換可能なタレット式アー
    ムを備えたことを特徴とする請求項1に記載の成膜装
    置。
  4. 【請求項4】複数のメインロールを備え、各メインロー
    ル上で成膜処理を施すことを特徴とする請求項1に記載
    の成膜装置。
  5. 【請求項5】前記真空槽に隣接して、前記巻出しコアを
    交換するための巻出しコア交換室と、前記巻取りコアを
    交換するための巻取りコア交換室とを設け、前記真空槽
    と前記各コア交換室との間に真空槽を密封する扉を設け
    たことを特徴とする請求項1に記載の成膜装置。
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Cited By (4)

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